本發(fā)明涉及光刻工序所使用的防護膜組件、其制造方法以及曝光方法。特別是，本發(fā)明涉及遠紫外光(Extreme Ultraviolet：EUV)光刻用的防護膜組件、其制造方法以及使用了該防護膜組件的曝光方法。

背景技術：

光刻工序中，為了防止在掩?；蛑虚g掩模上附著塵埃等，使用了在包圍掩模圖案的大小的框的一端張緊架設了防護膜的防護膜組件。在這樣的防護膜組件被安裝在掩模上的狀態(tài)下，防護膜組件內部的氣密性極其高，由于氣壓變化、溫度變化，有時薄膜的防護膜成為松弛或膨脹的狀態(tài)。這樣在防護膜失去平滑性的情況下，不僅使防護膜的光學特性變化，而且在凹凸的程度劇烈的情況下，有時防護膜與掩模接觸，或碰到收納防護膜組件的殼體的蓋而損傷防護膜。

作為解決這樣的問題的防護膜組件，例如，專利文獻1中記載了如下的防護膜組件：在防護膜組件框形成至少一個通氣孔，在通氣孔中，以不脫落到被框構件、掩模基板和防護膜包圍的空間內的方式設置有阻止塵埃等通過的過濾器構件。專利文獻2中記載了，在防護膜組件框側面的至少一部分設置有開口部，使其內面為粘著狀的防護膜組件。此外，專利文獻3中記載了，在框內部設置有空洞，捕捉通氣氣體中的異物的防護膜組件。

另一方面，對于設置有過濾器的防護膜組件，為了確實地捕捉微小的塵埃等而必須使過濾器的濾眼細，因此存在過濾器的氣體透過速度慢，到壓力差被緩和為止花費時間這樣的問題。為了解決該問題，專利文獻4中記載了下述防護膜組件：將防護膜組件框分割成內側構件和外側構件，由耐光性優(yōu)異的自然顯色陽極氧化鋁或陶瓷構成內側構件，由耐力大的鋁合金7075-T6構成外側構件，在防護膜組件框的內部設置有具有3處彎曲部的2個通氣孔，在通氣孔的內表面設置有用于吸附粉塵的粘著層。

另外，光刻的波長向短波長化發(fā)展，作為新一代的光刻技術，EUV光刻的開發(fā)推進。EUV光是指軟X射線區(qū)域或真空紫外線區(qū)域的波長的光，是指13.5nm±0.3nm左右的光線。對于光刻，圖案的析像極限為曝光波長的1/2左右，即使使用液浸法，也據(jù)說圖案的析像極限是曝光波長的1/4左右，即使使用ArF激光(波長：193nm)的液浸法，對于其曝光波長，也預想45nm左右為極限。因此，EUV光刻作為與以往的光刻相比能夠大幅微細化的革新技術而受到期待。

另一方面，EUV光對于所有物質都易于被吸收，因此，對于EUV光刻，需要使曝光裝置內為真空進行曝光。此外，對于所有物質，EUV光的折射率都接近于1，因此不能使用如以往的使用了可見光或紫外光的光刻那樣，使用透鏡和透射型光掩模的折射光學系統(tǒng)。因此，對于EUV光刻，使用反射型光掩模和鏡片的反射光學系統(tǒng)中的曝光是必要的。反射型光掩模，例如，如專利文獻5所記載的那樣，具有下述結構：在基板上具有Mo層與Si層交替地多次疊層而得的多層反射膜，在反射層上形成有吸收EUV光的吸收層。

現(xiàn)有技術文獻

專利文獻

專利文獻1：日本實公昭63-39703號公報

專利文獻2：日本特開平5-113658號公報

專利文獻3：日本特開平5-107747號公報

專利文獻4：日本特開2003-107678號公報

專利文獻5：日本特開2014-160752號公報

技術實現(xiàn)要素：

發(fā)明所要解決的問題

如上述那樣，EUV光刻與以往的光刻不同，為真空下的曝光，因此可以認為防護膜組件對光掩模的安裝不是必須的。然而漸漸明確由于為以往所沒有的微細工藝，因此防護膜組件對光掩模的安裝是必須的。然而，由于EUV光對于所有物質都易于被吸收，因此配置于防護膜組件的防護膜也需要為以往所沒有的納米級的膜。

此外，最初認為防護膜組件對光掩模的安裝不是必須的，因此現(xiàn)在開發(fā)的EUV曝光裝置中，用于對光掩模安裝防護膜組件的空間僅存在2.5mm的高度。然而，為了在曝光裝置內確保用于安裝具有5mm以上高度的以往的防護膜組件的空間，需要變更光學系統(tǒng)的設計，導致EUV光刻的開發(fā)延遲。

由于為真空下的曝光，因此設想防護膜松弛或膨脹，但受防護膜組件的設置空間的大幅限制，因此為了防止納米級的防護膜的損傷，需要確保經(jīng)由在防護膜組件的框體配置的通氣孔的充分的通氣。在通氣孔配置過濾器是必要的，但受防護膜組件的設置空間的大幅限制，因此框體所允許的高度也被大幅限制，因此過濾器對框體的配置也要求以往所沒有的設計。

本發(fā)明的目的在于解決上述問題，提供遠紫外光光刻用的防護膜組件、其制造方法以及曝光方法。

此外，遠紫外光光刻用的防護膜組件由于將非常薄的防護膜粘貼于框體，因此在粘貼于光掩模時，如果如以往那樣從框體上施加力而進行粘貼則擔心防護膜破損。因此，遠紫外光光刻用的防護膜組件需要使用專用的粘貼裝置，以非接觸方式的對光掩模的粘貼。這里所謂非接觸，是指不從框體上施加強力這樣的意思，強力的標準為以往的光掩模粘貼時被負載的1kgf左右以上。本發(fā)明除了上述課題以外，還提供能夠進行非接觸方式的對光掩模的粘貼的遠紫外光光刻用的防護膜組件、其制造方法。

用于解決課題的方法

根據(jù)本發(fā)明的一實施方式，提供一種防護膜組件，其具備：配置有防護膜的第1框體；支持上述第1框體的第2框體；貫通上述第1框體的貫通孔；以及在上述第1框體的配置有上述防護膜的面?zhèn)雀采w上述貫通孔的過濾器。

上述防護膜組件中，上述貫通孔可以貫通上述防護膜，上述過濾器可以配置在上述防護膜上。

上述防護膜組件中，上述過濾器可以與上述防護膜相鄰地配置在上述第1框體上。

上述防護膜組件中，可以以上述過濾器的上表面與上述防護膜成為同一面的方式，在上述第1框體上配置上述過濾器。

上述防護膜組件中，上述第1框體可以在與上述第2框體對置的面，具有與上述貫通孔連接的槽部，上述槽部可以通過與上述第2框體的結合而形成與上述貫通孔連接的孔，上述孔可以在上述第1框體的內側的面具有開口。

上述防護膜組件中，上述第2框體可以具有在與上述第1框體對置的面配置的第1開口、和在上述第2框體的內側的面配置的第2開口，2個上述開口可以通過在上述第2框體的內部配置的孔被連接，上述第1開口可以與上述貫通孔連接。

上述防護膜組件中，上述第2框體可以在與上述第1框體對置的面具有與上述貫通孔連接的槽部，上述槽部可以通過與上述第1框體的結合而形成與上述貫通孔連接的孔，上述孔可以在上述第2框體的內側的面具有開口。

上述防護膜組件中，上述防護膜可以對5nm以上30nm以下的波長的光具有90.0％以上的透射率，膜厚可以為20nm以上50nm以下。

上述防護膜組件中，高度可以為2mm以下。

此外，根據(jù)本發(fā)明的一實施方式，提供一種防護膜組件的制造方法，在基板上形成防護膜，除去規(guī)定位置的上述防護膜使上述基板露出，除去上述基板的一部分，使上述防護膜露出而形成第1框體，在上述規(guī)定位置形成貫通上述第1框體的貫通孔，在上述第1框體的配置有上述防護膜的面?zhèn)?，配置覆蓋上述貫通孔的過濾器，以上述第1框體側的上述貫通孔開口的方式，經(jīng)由粘接層將上述第1框體固定于第2框體。

上述防護膜組件的制造方法中，上述貫通孔可以在上述規(guī)定位置貫通上述防護膜而形成，可以在上述防護膜上配置覆蓋上述貫通孔的過濾器。

上述防護膜組件的制造方法中，可以與上述防護膜相鄰地在上述第1框體上配置上述過濾器。

上述防護膜組件的制造方法中，可以以上述過濾器的上表面與上述防護膜成為同一面的方式，在上述第1框體上配置上述過濾器。

上述防護膜組件的制造方法中，可以在上述第1框體的與上述第2框體對置的面形成與上述貫通孔連接的槽部，經(jīng)由粘接層將上述第1框體固定于第2框體，形成與上述貫通孔連接并且在上述第1框體的內側的面具有開口的孔。

上述防護膜組件的制造方法中，可以在上述第2框體的與上述第1框體對置的面形成第1開口，在上述第2框體的內側的面形成第2開口，在上述第2框體的內部形成連接2個上述開口的孔，將上述第1開口與上述貫通孔連接。

上述防護膜組件的制造方法中，可以在上述第2框體的與上述第1框體對置的面形成與上述貫通孔連接的槽部，經(jīng)由粘接層將上述第1框體固定于第2框體，形成與上述貫通孔連接并且在上述第2框體的內側的面具有開口的孔。

上述防護膜組件的制造方法中，可以將膜厚為20nm以上50nm以下的上述防護膜形成在上述基板上，上述防護膜可以對5nm以上30nm以下的波長的光具有90.0％以上的透射率。

上述防護膜組件的制造方法中，可以使高度為2mm以下。

一種曝光方法，將上述任一防護膜組件配置于光掩模的中間掩模面，將上述光掩模配置在曝光裝置的規(guī)定位置，在與上述中間掩模面具有3mm以下距離的空隙收納上述防護膜組件，在真空下，對配置有上述防護膜組件的上述光掩模照射5nm以上30nm以下的光，將從配置有上述防護膜組件的上述光掩模的上述中間掩模面射出的光照射到形成有抗蝕劑層的基材。

發(fā)明的效果

根據(jù)本發(fā)明，提供遠紫外光光刻用的防護膜組件、其制造方法以及曝光方法。此外，可以提供能夠以非接觸方式對光掩模粘貼的遠紫外光光刻用的防護膜組件、其制造方法。

附圖說明

圖1是一實施方式涉及的防護膜組件100的示意圖(立體圖)。

圖2是一實施方式涉及的防護膜組件100的圖1的線段AA’處的剖面圖。

圖3是顯示一實施方式涉及的防護膜組件100的制造工序的圖。

圖4是顯示一實施方式涉及的防護膜組件100的制造工序的圖。

圖5是一實施方式涉及的防護膜組件200的圖1的線段AA’處的剖面圖。

圖6是顯示一實施方式涉及的防護膜組件200的制造工序的圖。

圖7是顯示一實施方式涉及的防護膜組件200的制造工序的圖。

圖8是一實施方式涉及的防護膜組件300的圖1的線段AA’處的剖面圖。

圖9是顯示一實施方式涉及的防護膜組件300的制造工序的示意圖。

圖10是一實施方式涉及的防護膜組件400的圖1的線段AA’處的剖面圖。

圖11是顯示一實施方式涉及的防護膜組件400的制造工序的示意圖。

圖12是顯示一實施方式涉及的防護膜組件400的制造工序的示意圖。

圖13是一實施方式涉及的防護膜組件500的圖1的線段AA’處的剖面圖。

圖14是顯示一實施方式涉及的防護膜組件500的制造工序的示意圖。

圖15是一實施方式涉及的防護膜組件600的圖1的線段AA’處的剖面圖。

圖16是顯示一實施方式涉及的防護膜組件600的制造工序的示意圖。

圖17是一實施方式涉及的防護膜組件700的圖1的線段AA’處的剖面圖。

圖18是顯示一實施方式涉及的防護膜組件700的制造工序的示意圖。

圖19是顯示一實施方式涉及的防護膜組件700的制造工序的示意圖。

圖20是一實施方式涉及的防護膜組件800的圖1的線段AA’處的剖面圖。

圖21是一實施方式涉及的防護膜組件900的圖1的線段AA’處的剖面圖。

圖22是一實施方式涉及的防護膜組件1000的圖1的線段AA’處的剖面圖。

圖23是一實施方式涉及的防護膜組件1100所使用的第2框體1113的示意圖。

圖24是概念性示出一實施方式涉及的5000的剖面圖。

圖25是概念性示出一實施方式涉及的光掩模制造裝置6000的剖面圖。

圖26是概念性示出一實施方式涉及的光掩模制造裝置7000的剖面圖。

圖27是顯示實施方式的研究例的圖，(a)是防護膜組件1800的剖面圖，(b)是防護膜組件1900的剖面圖。

具體實施方式

在本說明書中，所謂EUV光，是指波長5nm以上30nm以下的光。EUV光的波長優(yōu)選為5nm～13.5nm程度，更優(yōu)選為13.5±0.3nm。EUV光由于對于所有物質都易于被吸收，因此在本發(fā)明中，防護膜需要為納米級的膜。本發(fā)明涉及的防護膜對5nm以上30nm以下的波長的光具有90.0％以上的透射率。本發(fā)明涉及的防護膜優(yōu)選對5nm～13.5nm程度的波長的光，更優(yōu)選對13.5±0.3nm的波長的光，具有90.0％以上的透射率。為了獲得這樣的透射率，本發(fā)明涉及的防護膜的膜厚為10nm以上100nm以下，更優(yōu)選為10nm以上50nm以下。

防護膜的EUV透射率T由下式(1)定義。

[數(shù)1]

式(1)中，I表示透射光強度，I₀表示入射光強度。對于透射光強度I和入射光強度I₀、防護膜的厚度d、密度ρ和防護膜的質量吸收系數(shù)μ，以下式(2)表示的關系成立。

[數(shù)2]

I＝I₀exp(-μρd)…(2)

式(2)中的密度ρ為構成防護膜的物質固有的密度。此外，上述式(2)中的質量吸收系數(shù)μ如下求出。在光子的能量約大于30eV，并且光子的能量與原子的吸收端充分分離的情況下，質量吸收系數(shù)μ不依賴于原子彼此的結合狀態(tài)等。波長13.5nm的光子能量為92.5eV附近，與原子的吸收端也充分分離。因此，上述質量吸收系數(shù)μ不依賴于構成防護膜的化合物的原子彼此的結合狀態(tài)。因此，防護膜的質量吸收系數(shù)μ從構成防護膜的各元素(1，2，···，i)的質量吸收系數(shù)μ₁和各元素的質量分率W_i，由以下式(3)求出。

[數(shù)3]

μ＝μ₁W₁+μ₂W₂+…μ_iW_i…(3)

上述W_i是由W_i＝n_iA_i/Σn_iA_i求出的值。A_i是各元素i的原子量，n_i是各元素i的數(shù)。

上述式(3)中的各元素的質量吸收系數(shù)μ_i可以應用由Henke等人歸納的以下參考文獻的值。(B.L.Henke,E.M.Gullikson,and J.C.Davis,“X-Ray Interactions:Photoabsorption,Scattering,Transmission,and Reflection at E＝50-30,000eV,Z＝1-92,”At.Data Nucl.Data Tables 54,181(1993)這些數(shù)值的最新版登載于http://wwwcxro.lbl.gov/optical_constants/。)

如果防護膜的質量吸收系數(shù)μ、防護膜的密度ρ和防護膜的厚度d可以指定，則可以基于式(1)和式(2)，算出防護膜的波長13.5nm的光的透射率。另外，上述透射率也可以通過Lawrence Berkeley國立研究所的X射線光學中心的光學常數(shù)萬維網(wǎng)址來計算。

為了增厚膜厚并且提高透射率，作為上述防護膜的材質，期望使用吸收系數(shù)低的材質。具體而言，在將氫的質量吸收系數(shù)μ_i設為1來相對地表示時，期望使用由100以下的元素構成的材質。特別是，期望使用H、Be、B、C、N、O、Si、P、S、Cl、K、Ca、Sc、Br、Rb、Sr、Y、Zr、Nb、Mo、Tc、Ru等元素。

作為構成防護膜的具體的化合物，可舉出氟系聚合物、聚烯烴、聚酰亞胺等高分子化合物、釕、鎳、鋯、鈦、鉬、鈮等金屬、結晶硅(例如，單晶硅、多晶硅等)、無定形硅、類金剛石碳(DLC)、石墨、無定形碳、石墨烯、碳化硅、氮化硅等。

此外，防護膜可以包含抗氧化膜、放熱膜?？寡趸つ軌驗橛蒘iOx(x≤2)、SixNy(x/y為0.7～1.5)、SiON、SiC、Y₂O₃、YN、Mo、Ru或Rh形成的膜等。

放熱膜優(yōu)選為由熱輻射率高的材料、導熱性高的材料形成的膜。具體而言，能夠為由與抗氧化膜同樣的材料形成的膜、由Rb、Sr、Y、Zr、Nb、石墨、石墨烯形成的膜等?？寡趸ず头艧崮た梢孕纬捎诜雷o膜的一面，也可以形成于兩面。防護膜可以包含單獨1種上述元素和化合物，也可以包含2種以上。

對于以往的ArF光刻用的防護膜組件，使用由鋁、陶瓷等構成的框體，經(jīng)由粘接層將防護膜與框體粘接。然而，EUV光刻用的本發(fā)明涉及的防護膜由于為20nm以上50nm以下的非常薄的膜厚，因此難以通過粘接對框體固定。因此，通過使用半導體制造工藝，例如，通過蒸鍍在基板上形成防護膜，將基板回蝕成框形狀，從而可以使防護膜露出，獲得配置有防護膜的框體。作為本發(fā)明涉及的基板，可以使用例如，硅基板、藍寶石基板、碳化硅基板等。不限定于此，但作為基板，優(yōu)選為硅基板、藍寶石基板、碳化硅基板，更優(yōu)選為硅基板。

如上所述，由于用于對光掩模安裝防護膜組件的空間僅存在2.5mm的高度，因此為了防止防護膜的破損，防護膜組件的高度優(yōu)選為2mm以下。在通過如上述那樣的方法來形成非常薄的防護膜的情況下，難以在框體的側面形成貫通孔作為通氣口。因此，可以考慮將配置有防護膜的第1框體、與側面形成有貫通孔的第2框體分別形成，經(jīng)由粘接層而粘接的方法。關于第1框體，從防護膜的形成和操作的觀點考慮，優(yōu)選使厚度為1mm以下，但為100μm以下是困難的。此外，由于具備第1框體與第2框體的粘接層、和防護膜組件與掩模的粘接層，因此配置貫通孔的第2框體所允許的高度為1～1.5mm。然而，為了防塵而將貫通孔用過濾器覆蓋的情況下，從粘接性、操作的觀點考慮，難以將1.5mm以下的過濾器配置于第2框體的側面。

因此，可以考慮在經(jīng)由粘接層而粘接的第1框體和第2框體的側面配置2mm左右的過濾器。然而，在該情況下，發(fā)生圖27所示那樣的問題。圖27是在經(jīng)由粘接層而粘接的第1框體和第2框體的側面配置有2mm左右的過濾器的防護膜組件的示意圖，圖27(a)是通過干蝕刻而形成有第1框體的防護膜組件1800的示意圖，圖27(b)是通過濕蝕刻而形成有第1框體的防護膜組件1900的示意圖。

防護膜組件1800具備配置有防護膜1801的第1框體1811、經(jīng)由粘接層1841與第1框體1811固定的第2框體1813。在第2框體1813形成有將外側的側面與內側的側面貫通了的貫通孔1821。在經(jīng)由粘接層1841而粘接的第1框體1811和第2框體1813的側面，經(jīng)由粘接層(未圖示)而粘接覆蓋貫通孔1821的過濾器1831。此外，在第2框體1813的底面形成用于將防護膜組件1800固定于光掩模的粘接層1843，粘接層1843被襯墊1851保護，直到固定于光掩模為止。此時，在將第1框體1811與第2框體1813粘接的粘接層1841產(chǎn)生間隙1890。

此外，在這樣的過濾器的背面(粘接面)產(chǎn)生的間隙，在通過濕蝕刻而形成有第1框體的情況下變得顯著。防護膜組件1900具備配置有防護膜1901的第1框體1911、和經(jīng)由粘接層1941與第1框體1911固定了的第2框體1913。在第2框體1913形成將外側的側面與內側的側面貫通了的貫通孔1921。在經(jīng)由粘接層1941而粘接的第1框體1911和第2框體1913的側面，經(jīng)由粘接層(未圖示)而粘接覆蓋貫通孔1921的過濾器1931。此外，在第2框體1913的底面形成用于將防護膜組件1900固定于光掩模的粘接層1943，通過粘接層1943被襯墊1951保護，直到固定于光掩模為止。這里，在防護膜組件1900中，由于第1框體1911通過濕蝕刻而形成，因此如圖27(b)所示，在第1框體1911的側面發(fā)生傾斜，截面變?yōu)樘菪?。此時，第1框體1911與粘接層1941產(chǎn)生間隙1990，不能獲得過濾器1931的充分的密合性。

因此，本發(fā)明人等研究了在過濾器的背面不產(chǎn)生間隙，而獲得充分的密合性的防護膜組件的構成。以下，參照附圖來對本發(fā)明涉及的防護膜組件、其制造方法以及照射方法進行說明。但是，本發(fā)明的防護膜組件及其制造方法能夠通過多種不同方式來實施，不限定于以下所示的實施方式的記載內容來解釋。另外，本實施方式中參照的附圖中，對同一部分或具有同樣功能的部分附上同一符號，省略其重復的說明。

本發(fā)明涉及的防護膜組件，其特征在于，具備配置有防護膜的第1框體、支持第1框體的第2框體、貫通第1框體的貫通孔、和在第1框體的配置有防護膜的面?zhèn)雀采w貫通孔的過濾器。以下一邊例示具體方式，一邊說明本發(fā)明涉及的防護膜組件。

(實施方式1)

圖1是本發(fā)明的一實施方式涉及的防護膜組件100的示意圖(立體圖)。圖2是防護膜組件100的圖1的線段AA’處的剖面圖。圖2(a)是防護膜組件100的圖1的線段AA’處的剖面圖，圖2(b)是圖2(a)的局部放大圖。防護膜組件100具備配置有防護膜101的第1框體111、和支持第1框體111的第2框體113。此外，防護膜組件100具備將防護膜101與第1框體111貫通的貫通孔121、和配置在防護膜101上并覆蓋貫通孔121的過濾器131(圖2(a))。過濾器131經(jīng)由粘接層137而配置在第1框體111上的防護膜101的區(qū)域(圖2(b))。另外，圖2中，在第1框體111的與配置有防護膜101的面相反側的面具備第2框體113，但也可以在第1框體111的側面?zhèn)染邆涞?框體113。

作為防護膜101和第1框體111，可以使用上述防護膜和基板，因此省略詳細的說明。構成第1框體111的材質中，優(yōu)選為硅、藍寶石、碳化硅，更優(yōu)選為硅。作為第2框體113，優(yōu)選為對EUV光具有耐性，平坦性高，低離子溶出性的材料。此外，為了除去碳來源的污染，而使氫氣流動到曝光裝置內，因此優(yōu)選由對氫自由基具有耐性的材料構成。

第2框體113(防護膜組件框)的材質沒有特別限制，可以為防護膜組件框所使用的通常的材質。作為第2框體113的材質，具體而言，可舉出鋁、鋁合金(5000系、6000系、7000系等)、不銹鋼、硅、硅合金、鐵、鐵系合金、碳鋼、工具鋼、陶瓷、金屬-陶瓷復合材料、樹脂等。其中，鋁、鋁合金從輕量并且剛性方面考慮更優(yōu)選。此外，第2框體113可以在其表面具有保護膜。

作為保護膜，優(yōu)選為對在曝光氣氛中存在的氫自由基和EUV光具有耐性的保護膜。作為保護膜，可舉出例如，氧化被膜。氧化被膜可以通過陽極氧化等公知的方法來形成。

第1框體111與第2框體113經(jīng)由粘接層141而被固定。粘接層141的厚度優(yōu)選在可以確保第1框體111與第2框體113的充分粘接的范圍內盡可能薄，例如為10μm以上300μm以下。此外，作為粘接層141所使用的粘接劑，優(yōu)選為對EUV光具有耐性，氣體的產(chǎn)生量少的材料。此外，為了除去碳來源的污染，而將氫氣流動到曝光裝置內，因此優(yōu)選由對氫自由基具有耐性的材料構成。

在本實施方式中，“粘接劑”是指廣義的粘接劑，在“粘接劑”的概念中，也包含粘著劑。作為粘接劑，可舉出丙烯酸系樹脂粘接劑、環(huán)氧樹脂粘接劑、聚酰亞胺樹脂粘接劑、有機硅樹脂粘接劑、無機系粘接劑、雙面膠帶、有機硅樹脂粘著劑、丙烯酸系粘著劑、聚烯烴系粘著劑等。

作為與防護膜或其它防護膜組件框的粘接所使用的粘接劑，優(yōu)選為丙烯酸系樹脂粘接劑、環(huán)氧樹脂粘接劑、聚酰亞胺樹脂粘接劑、有機硅樹脂粘接劑、無機系粘接劑。作為與光掩模的粘接所使用的粘接劑，優(yōu)選為雙面膠帶、有機硅樹脂粘著劑、丙烯酸系粘著劑、聚烯烴系粘著劑。

貫通孔121將防護膜101與第1框體111貫通而配置。在從常壓(0.1MPa)減壓到曝光時的真空狀態(tài)(10^-4～10^-6Pa)時，貫通孔121形成如下的孔徑：由防護膜組件100內外的差壓引起的防護膜101的膨脹小于0.5mm的孔徑。在本實施方式中，關于貫通孔121的孔徑，考慮在減壓時貫通孔121發(fā)生的壓力損失的上限值來設定。

期望在減壓時貫通孔發(fā)生的壓力損失為1Pa以下，更期望為0.5Pa以下。這里，優(yōu)選以覆蓋貫通孔121的方式設置過濾器131，減壓時的壓力損失的大部分發(fā)生在過濾器131部分，貫通孔121幾乎不發(fā)生壓力損失。例如，以使得貫通孔121的壓力損失成為1Pa以下的方式，更優(yōu)選以成為0.1Pa左右的方式，來調整貫通孔121的尺寸和貫通孔121的孔數(shù)。

例如，在以350Pa/sec的速度減壓時，貫通孔121發(fā)生的防護膜組件100內外的壓力損失成為1Pa時的貫通孔121的直徑為400μm且孔數(shù)為4個，或直徑為300μm且孔數(shù)為40個。貫通孔121的形狀沒有特別限制，可以為圓形、橢圓形、長方形、多邊形、梯形等形狀。貫通孔的孔徑?jīng)]有特別限制，期望在第1框的強度不降低的范圍內，成為10～500μm左右。貫通孔的孔數(shù)也沒有特別限制，可以根據(jù)過濾器的長度、過濾器的寬度來選擇。在設置多個貫通孔121的情況下貫通孔121的位置、間隔沒有特別限制，但優(yōu)選為在過濾器131內等間隔地配置。

在將防護膜組件100設置于光掩模時，第1框體111的寬度影響防護膜組件100的開口率。特別是，在使用反射型掩模的EUV光刻中，EUV光相對于光掩模傾斜地入射，被反射，因此優(yōu)選第1框體111的寬度窄。因此，在本實施方式中，貫通孔121優(yōu)選與第2框體113的內側的面接近地配置。

過濾器131期望使用由能夠防止塵埃等向固定于光掩模的防護膜組件100內流入的材料來形成，初始壓力損失為100Pa以上550Pa以下，對粒徑為0.15μm以上0.3μm以下的粒子的粒子捕集率為99.7％以上100％以下的過濾器。作為過濾器的種類，可以使用例如，ULPA過濾器(超低穿透率空氣過濾器，(Ultra Low Penetration Air Filter))。ULPA過濾器是在額定風量下對粒徑為0.15μm的粒子具有99.9995％以上的粒子捕集率，并且具有初始壓力損失為245Pa以下的性能的空氣過濾器。此外，作為過濾器131，可以使用HEPA過濾器(高效微?？諝膺^濾器，(High Efficiency Particulate Air Filter))。HEPA過濾器是在額定風量對粒徑為0.3μm的粒子具有99.97％以上的粒子捕集率，并且具有初始壓力損失為245Pa以下的性能的空氣過濾器。關于過濾器131，從確保對防護膜101的粘接性，并且確保防護膜組件100的開口率的觀點考慮，優(yōu)選使寬度為1mm以上4mm以下。

過濾器131由通氣部135和配置粘接層137的粘貼留出部133構成(圖2(b))。粘貼留出部133以包圍通氣部135的方式，配置在過濾器131的外周部。粘接層137發(fā)揮將防護膜101與通氣部135沒有間隙地粘接的作用。在與粘接層137相接的粘貼留出部137，氣體不通過。粘貼留出部137的寬度為0.2mm以上1.0mm以下。為了使通氣部135的面積大，期望粘貼留出部137的寬度盡可能細。所謂通氣部135，是指過濾器131的不與粘接層137相接的部分。氣體通過通氣部135，捕捉氣體所包含的粒子。在通氣部135，發(fā)生壓力損失，因此過濾器的換氣性能由通氣部135的換氣性能來決定。

關于過濾器131的總面積，考慮減壓時過濾器131發(fā)生的壓力損失的上限值來設定。期望減壓時在過濾器131發(fā)生的壓力損失為2Pa以下。過濾器131的長度可以通過將過濾器131的面積除以過濾器的寬度來算出。每1片過濾器的長度的范圍沒有特別限制，期望為1cm以上15cm以下的范圍，更期望為2cm以上10cm以下。

現(xiàn)在，作為EUV曝光用的防護膜組件，假定長邊152mm以下、短邊120mm以下、高度2mm以下的大小，假定350Pa/sec的減壓和加壓。為了使從常壓(0.1MPa)減壓到曝光時的真空狀態(tài)(10^-4～10^-6Pa)時、或者從真空狀態(tài)恢復到常壓時進行了加壓時的由防護膜組件100內外的差壓引起的防護膜101的膨脹小于0.5mm，過濾器131的通氣部的合計面積相對于防護膜組件100的內部體積的比率(過濾器的通氣部面積/防護膜組件內部體積)優(yōu)選為0.007mm^-1以上0.026mm^-1以下。如果該比率為0.007mm^-1以上，則減壓和加壓時通過過濾器通氣部的氣體的流速不會過快，因此防護膜組件100內外的差壓的上升被抑制，防護膜101的膨脹可以抑制到小于0.5mm。此外，由于能夠形成的通氣部135的大小的限制，如果該比率為0.026mm^-1以下，則可以充分地設置過濾器131的通氣部135和粘貼留出部137。

此外，關于過濾器的厚度(高度)，由于對光掩模安裝防護膜組件的空間僅為2.5mm，因此需要考慮使防護膜組件與過濾器的厚度(高度)的合計小于2.5mm。雖然與防護膜組件的高度有關，但厚度優(yōu)選為0.05mm以上1.0mm以下的范圍，更期望為0.1mm以上0.4mm以下。

此外，在第2框體113的底面配置有粘接層143。粘接層143為將防護膜組件100固定于光掩模的機構。粘接層143的厚度優(yōu)選在可以確保光掩模與第2框體113的充分粘接的范圍內盡可能薄，例如為10μm以上300μm以下。此外，作為粘接層143所使用的粘接劑，優(yōu)選為對EUV光具有耐性，氣體的產(chǎn)生量少的材料。此外，為了除去碳來源的污染，而將氫氣流動到曝光裝置內，因此優(yōu)選由對氫自由基具有耐性的材料構成。

作為粘接劑，可舉出丙烯酸系樹脂粘接劑、環(huán)氧樹脂粘接劑、聚酰亞胺樹脂粘接劑、有機硅樹脂粘接劑、無機系粘接劑、雙面膠帶、有機硅樹脂粘著劑、丙烯酸系粘著劑、聚烯烴系粘著劑等。粘接層143的材料與粘接層141可以相同，也可以不同。

在防護膜組件100中，包含防護膜101、第1框體111、粘接層141、第2框體113和粘接層143的高度優(yōu)選為2mm以下。如上述那樣，用于對光掩模安裝防護膜組件的空間僅存在2.5mm的高度，因此為了防止防護膜101的破損，防護膜組件100的高度優(yōu)選為2mm以下。

為了防止在使用前的防護膜組件100的粘接層143附著塵埃等，通過能夠剝離的襯墊151來保護粘接層143。

在本發(fā)明中，貫通孔121貫通防護膜101與第1框體，過濾器131配置在第1框體111上的防護膜101的區(qū)域，因此在過濾器131的背面不產(chǎn)生貫通孔121以外的空隙，可以具有充分的密合性地配置過濾器131。

(防護膜組件100的制造方法)

本實施方式涉及的防護膜組件100，例如，可以參照圖3和圖4，如下制造。另外，以下的制造工序是一例，根據(jù)需要也可以變更制造工序的順序。圖3和圖4是顯示防護膜組件100的制造工序的圖。

準備基板105，在基板105上形成防護膜101(圖3(a))。在基板105中，如上述那樣，可以使用例如，硅基板、藍寶石基板、碳化硅基板等，但不限定于此。

通過蒸鍍，以膜厚成為20nm以上50nm以下的方式，在基板105上形成防護膜101。由于EUV光相對于所有物質都易于被吸收，因此為了使防護膜101對5nm以上30nm以下的波長的光具有90.0％以上的透射率，優(yōu)選薄薄地形成。本發(fā)明涉及的防護膜101優(yōu)選對5nm～13.5nm左右的波長的光，更優(yōu)選對13.5±0.3nm的波長的光，具有90.0％以上的透射率。

通過蝕刻來除去形成貫通孔121的規(guī)定位置的防護膜101，使基板105露出(圖3(b))。對與形成有防護膜101的面相反側的基板105的面進行蝕刻，除去基板105的一部分，使防護膜101露出而形成第1框體111。此外，在除去了防護膜101的規(guī)定位置形成貫通防護膜101與第1框體111的貫通孔121(圖3(c))。

在從常壓(0.1MPa)減壓到曝光時的真空狀態(tài)(10^-4～10^-6Pa)時，貫通孔121形成如下的孔徑：由防護膜組件100內外的差壓引起的防護膜101的膨脹小于0.5mm的孔徑。在本實施方式中，由于貫通孔121被過濾器131覆蓋，因此考慮過濾器131產(chǎn)生的阻力來設定貫通孔121的孔徑。

如上述那樣，在將防護膜組件100設置于光掩模時，第1框體111的寬度影響防護膜組件100的開口率。特別是，在使用反射型掩模的EUV光刻中，EUV光相對于光掩模傾斜地入射，被反射，因此優(yōu)選第1框體111的寬度窄。因此，在本實施方式中，貫通孔121優(yōu)選與第2框體113的內側的面接近地配置。

在防護膜101上粘接覆蓋貫通孔121的過濾器131(圖3(d))。

過濾器131優(yōu)選為具有上述特性的過濾器，從確保對防護膜101的粘接性，并且確保防護膜組件100的開口率的觀點考慮，優(yōu)選使寬度為1mm以上4mm以下。粘接過濾器131的時機沒有特別限制，可以在固定于第2框體后粘貼。

另行準備第2框體113。在第2框體113的底面形成粘接層143。此外，配置保護粘接層143的襯墊151(圖4(a))。這里，可以準備形成有粘接層143的襯墊151，經(jīng)由粘接層143，將襯墊151粘貼于第2框體113的底面。

在第2框體113的上表面，形成粘接層141(圖4(b))。經(jīng)由形成的粘接層141，將第1框體111固定于第2框體113(圖4(c))。此時，以第1框體111側的貫通孔121開口的方式，經(jīng)由粘接層141將第1框體111固定于第2框體113。

由于用于對光掩模安裝防護膜組件的空間僅存在2.5mm的高度，因此在本實施方式中，優(yōu)選使包含過濾器131、防護膜101、第1框體111、粘接層141、第2框體113和粘接層143的高度為2mm以下。

在本發(fā)明中，貫通孔121貫通防護膜101與第1框體，過濾器131配置在第1框體111上的防護膜101的區(qū)域，因此在過濾器131的背面不產(chǎn)生貫通孔121以外的空隙，可以具有充分的密合性地配置過濾器131。

(實施方式2)

在實施方式1的防護膜組件100中，由于貫通孔121與第2框體113相比配置在內側，因此需要使第1框體111的寬度大于第2框體113的寬度。如上述那樣，在將防護膜組件設置于光掩模時，第1框體的寬度影響防護膜組件的開口率。在本實施方式中，對使第1框體的寬度窄同時配置貫通孔的例子進行說明。

圖5是本發(fā)明的一實施方式涉及的防護膜組件200的圖1的線段AA’處的剖面圖。防護膜組件200具備：配置有防護膜201的第1框體211、和支持第1框體211的第2框體213。此外，防護膜組件200具備：貫通防護膜201與第1框體211的貫通孔221、和配置在防護膜201上并覆蓋貫通孔221的過濾器231。

在本實施方式中，第1框體211在與第2框體213對置的面具有與貫通孔221連接的槽部225。槽部225通過與第2框體213的結合，而形成與貫通孔221連接的孔223?？?23在第1框體211的內側的面具有開口。過濾器231經(jīng)由粘接層(未圖示)而配置在第1框體211上的防護膜201的區(qū)域。

作為防護膜201、第1框體211和第2框體213，可以使用與上述的防護膜、基板和第2框體113同樣的材料，因此省略詳細的說明。

第1框體211與第2框體213經(jīng)由粘接層241而被固定。粘接層241的厚度優(yōu)選在可以確保第1框體211與第2框體213的充分粘接的范圍內盡可能薄，例如為10μm以上300μm以下。此外，粘接層241所使用的粘接劑可以使用與粘接層141同樣的粘接劑，因此省略詳細的說明。

貫通孔221貫通防護膜201與第1框體211而配置。此外，在本實施方式中，在第1框體211的與第2框體213對置的面，配置與貫通孔221連接的槽部225，從而通過槽部225與第2框體213的結合，來形成與貫通孔221連接的孔223。因此，貫通孔221和、將貫通孔221與配置于第1框體211的內側的面的開口連接的孔223是，在從常壓(0.1MPa)減壓到曝光時的真空狀態(tài)(10^-4～10^-6Pa)時，由防護膜組件200內外的差壓引起的防護膜201的膨脹小于0.5mm的孔徑。在本實施方式中，由于貫通孔221被過濾器231覆蓋，因此關于貫通孔221和孔223的孔徑，考慮減壓時貫通孔221產(chǎn)生的壓力損失的上限值來設定。

期望在減壓時貫通孔221發(fā)生的壓力損失為1Pa以下，更期望為0.5Pa以下。這里，優(yōu)選以覆蓋貫通孔221的方式設置過濾器231，減壓時的壓力損失的大部分發(fā)生在過濾器231部分，在貫通孔221，壓力損失幾乎不發(fā)生。例如，以貫通孔221的壓力損失成為1Pa以下的方式，更優(yōu)選以成為0.1Pa左右的方式，調整貫通孔221的尺寸。

例如，在以350Pa/sec的速度減壓時，如果貫通孔221的直徑為480μm和孔數(shù)為4個，則在貫通孔221發(fā)生的防護膜組件200內外的壓力損失成為1Pa以下。貫通孔221的形狀沒有特別限制，可以為圓形、橢圓形、長方形、多邊形、梯形等形狀。貫通孔221的孔徑?jīng)]有特別限制，但期望在第1框、膜的強度不降低的范圍內為10～500μm程度。貫通孔221的孔數(shù)也沒有特別限制，可以根據(jù)過濾器的長度、過濾器的寬度來選擇。

過濾器231可以使用與過濾器131同樣的過濾器，因此省略詳細的說明。關于過濾器231，從確保對防護膜201的粘接性，并且確保防護膜組件200的開口率的觀點考慮，優(yōu)選使寬度為1mm以上4mm以下。過濾器231的寬度只要納入第1框體211的寬度即可。

關于過濾器的總面積，考慮減壓時過濾器231發(fā)生的壓力損失的上限值來設定。期望減壓時過濾器231發(fā)生的壓力損失為2Pa以下。過濾器231的長度可以通過將過濾器231的面積除以過濾器231的寬度來算出。每1片過濾器的長度的范圍沒有特別限制，但期望為1cm以上15cm以下的范圍，更期望為2cm以上10cm以下。關于過濾器的厚度(高度)，由于對光掩模安裝防護膜組件的空間僅為2.5mm，因此需要考慮使防護膜組件與過濾器的厚度(高度)的合計小于2.5mm。雖然與防護膜組件的高度有關，但厚度優(yōu)選為0.05mm以上1.0mm以下的范圍，更期望為0.1mm以上0.4mm以下。

此外，在第2框體213的底面配置粘接層243。粘接層243為用于將防護膜組件200固定于光掩模的機構。粘接層243的厚度優(yōu)選在可以確保光掩模與第2框體213的充分粘接的范圍內盡可能薄，例如為10μm以上300μm以下。粘接層243所使用的粘接劑可以使用與粘接層143同樣的粘接劑，因此省略詳細的說明。

在防護膜組件200中，包含防護膜201、第1框體211、粘接層241、第2框體213和粘接層243的高度優(yōu)選為2mm以下。如上述那樣，由于用于對光掩模安裝防護膜組件的空間僅存在2.5mm的高度，因此為了防止防護膜201的破損，防護膜組件200的高度優(yōu)選為2mm以下。

為了防止使用前的防護膜組件200的粘接層243附著塵埃等，通過能夠剝離的襯墊251來保護粘接層243。

在本發(fā)明中，貫通孔221貫通防護膜201與第1框體211，通過第1框體211的槽部225與第2框體213的結合，形成與貫通孔221連接的孔223，因此在過濾器231的背面不產(chǎn)生貫通孔221以外的空隙，可以具有充分的密合性地配置過濾器231。

(防護膜組件200的制造方法)

本實施方式涉及的防護膜組件200，例如，可以參照圖6和圖7，如下制造。另外，以下制造工序是一例，根據(jù)需要也可以變更制造工序的順序。圖6和圖7是顯示防護膜組件200的制造工序的圖。

準備基板205，在基板205上形成防護膜201(圖6(a))。對于基板205，如上述那樣，可以使用例如，硅基板、藍寶石基板、碳化硅基板等，但不限定于此。

通過蒸鍍，以膜厚成為20nm以上50nm以下的方式，在基板205上形成防護膜201。由于EUV光對于所有物質都易于被吸收，因此為了使防護膜201對5nm以上30nm以下的波長的光具有90.0％以上的透射率，優(yōu)選薄薄地形成。本發(fā)明涉及的防護膜201，優(yōu)選對于5nm～13.5nm程度的波長的光，更優(yōu)選對于13.5±0.3nm的波長的光，具有90.0％以上的透射率。

通過蝕刻來除去形成貫通孔221的規(guī)定位置的防護膜201，使基板205露出(圖6(b))。對與形成有防護膜201的面相反側的基板205的面進行蝕刻，除去基板205的一部分，在第1框體211的與第2框體213對置的面，形成與貫通孔221連接的槽部225。此外，在除去了防護膜201的規(guī)定位置，形成貫通防護膜201與第1框體211的貫通孔221(圖6(c))。

在本實施方式中，通過在第1框體211的與第2框體213對置的面，配置與貫通孔221連接的槽部225，從而通過槽部225與第2框體213的結合，來形成與貫通孔221連接的孔223。因此，貫通孔221的孔徑和孔223的大小是，在從常壓(0.1MPa)減壓到曝光時的真空狀態(tài)(10^-4～10^-6Pa)時，由防護膜組件200內外的差壓引起的防護膜201的膨脹小于0.5mm的孔徑。在本實施方式中，由于貫通孔221被過濾器231覆蓋，因此關于貫通孔221的孔徑和孔223的大小，考慮過濾器231產(chǎn)生的阻力來設定。

在防護膜201上，粘接覆蓋貫通孔221的過濾器231(圖6(d))。過濾器231優(yōu)選為具有上述特性的過濾器，從確保對防護膜201的粘接性，并且確保防護膜組件200的開口率的觀點考慮，優(yōu)選使寬度為1mm以上4mm以下。粘接過濾器231的時機沒有特別限制，可以在固定于第2框體后粘貼。

另行準備第2框體213。在第2框體213的底面形成粘接層243。此外，配置保護粘接層243的襯墊251(圖7(a))。這里，可以準備形成有粘接層243的襯墊251，經(jīng)由粘接層243，將襯墊251粘貼于第2框體213的底面。

在第2框體213的上表面，形成粘接層241(圖7(b))。經(jīng)由形成的粘接層241，將第1框體211固定于第2框體213(圖7(c))。此時，通過在與第2框體對置的面形成的槽部225與第2框體213的結合，從而形成與貫通孔221連接的孔223。

由于用于對光掩模安裝防護膜組件的空間僅存在2.5mm的高度，因此在本實施方式中，優(yōu)選使包含過濾器231、防護膜201、第1框體211、粘接層241、第2框體213和粘接層243的高度為2mm以下。

在本發(fā)明中，貫通孔221貫通防護膜201與第1框體211，通過第1框體211的槽部225與第2框體213的結合，形成與貫通孔221連接的孔223，因此在過濾器231的背面不產(chǎn)生貫通孔221以外的空隙，可以具有充分的密合性地配置過濾器231。

(實施方式3)

作為實施方式2的變形例，對實施方式3的防護膜組件300進行說明。圖8是本發(fā)明的一實施方式涉及的防護膜組件300的圖1的線段AA’處的剖面圖。實施方式3的防護膜組件300，在以下方面與實施方式2的防護膜組件200不同：對第1框體311的槽部325進行蝕刻直到與防護膜301相接的位置，形成與貫通孔321同等程度的高度的孔323。關于其它構成，與防護膜組件200同樣，因此省略詳細的說明。

在防護膜組件300中，貫通孔321貫通防護膜301與第1框體311，形成第1框體311的槽部325與第2框體313直接連結的孔323，因此透氣性大幅度提高。

(防護膜組件300的制造方法)

本實施方式涉及的防護膜組件300，例如，可以參照圖9，如下制造。另外，以下制造工序是一例，根據(jù)需要也可以變更制造工序的順序。圖9是顯示防護膜組件300的制造工序的圖。準備基板305，在基板305上形成防護膜301(圖9(a))?；?05可以使用與上述的基板205同樣的構件，因此省略詳細的說明。

通過蒸鍍，以膜厚成為20nm以上50nm以下的方式，在基板305上形成防護膜301。防護膜301的材質和構成與上述的防護膜201同樣，因此省略詳細的說明。

通過蝕刻來除去形成貫通孔321的規(guī)定位置的防護膜301，使基板305露出(圖9(b))。對與形成有防護膜301的面相反側的基板305的面進行蝕刻，除去基板305的一部分，在第1框體311的與第2框體313對置的面，一并形成貫通孔321、和與貫通孔321連接的槽部325(圖9(c))。在本實施方式中，通過該蝕刻工序，在除去了防護膜301的規(guī)定位置，與槽部325一體形成貫通防護膜301的貫通孔321。

因此，貫通孔321的孔徑和孔323的大小為，在從常壓(0.1MPa)減壓到曝光時的真空狀態(tài)(10^-4～10^-6Pa)時，由防護膜組件300內外的差壓引起的防護膜301的膨脹小于0.5mm的孔徑。在本實施方式中，由于貫通孔321被過濾器331覆蓋，因此關于貫通孔321的孔徑和孔323的大小，考慮過濾器331產(chǎn)生的阻力來設定。

在防護膜301上，粘接覆蓋貫通孔321的過濾器331(圖9(d))。過濾器331的材質和構成與上述的過濾器231同樣，因此省略詳細的說明。

另行準備第2框體313。第2框體313、粘接層341、粘接層343和襯墊351的材質和構成，與第2框體213、粘接層241、粘接層243和襯墊251相同，因此省略詳細的說明。此外，第1框體311與第2框體213的貼合的工序與上述的防護膜組件200同樣，因此省略詳細的說明。

(實施方式4)

對實施方式2的防護膜組件200的其它變形例進行說明。圖10是本發(fā)明的一實施方式涉及的防護膜組件400的圖1的線段AA’處的剖面圖。實施方式4的防護膜組件400，在以下方面與實施方式2的防護膜組件200不同：通過部分的涂布來形成在第1框體411與第2框體413之間設置的粘接層441，從而形成與貫通孔421連接并在防護膜組件400的內側開口的孔423。關于其它構成，與防護膜組件200相同，因此省略詳細的說明。

在防護膜組件400中，通過將部分地涂布而形成的粘接層441配置在第1框體411與第2框體413之間而形成孔423，從而可以將貫通防護膜401與第1框體411的貫通孔421與孔423簡便地連接。此外，由于第1框體411的寬度與第2框體413的寬度相同，因此可以使防護膜401的開口面積大。

(防護膜組件400的制造方法)

本實施方式涉及的防護膜組件400，例如，可以參照圖11，如下制造。另外，以下制造工序是一例，根據(jù)需要也可以變更制造工序的順序。圖11是顯示防護膜組件400的制造工序的圖。準備基板405，在基板405上形成防護膜401(圖11(a))?；?05可以使用與上述的基板205同樣的構件，因此省略詳細的說明。

通過蒸鍍，以膜厚成為20nm以上50nm以下的方式，在基板405上形成防護膜401。防護膜401的材質和構成與上述的防護膜201同樣，因此省略詳細的說明。

通過蝕刻而除去形成貫通孔421的規(guī)定位置的防護膜401，使基板405露出(圖11(b))。對與形成有防護膜401的面相反側的基板405的面進行蝕刻，除去基板405的一部分，在第1框體411的與第2框體413對置的面，形成貫通孔421(圖11(c))。

在防護膜401上，粘接覆蓋貫通孔421的過濾器431(圖11(d))。過濾器431材質和構成與上述的過濾器231同樣，因此省略詳細的說明。

另行準備第2框體413(圖12(a))。第2框體413、粘接層443和襯墊451的材質和構成與第2框體213、粘接層243和襯墊251同樣，因此省略詳細的說明。

在第2框體413的上表面，形成粘接層441(圖12(b))。在本實施方式中，將粘接層441部分地涂布在第2框體413的上表面，形成用于形成與貫通孔421連接的孔423的槽部445。經(jīng)由粘接層441，將第1框體411固定于第2框體413(圖12(c))。此時，通過第1框體411、第2框體413和槽部425，來規(guī)定與貫通孔421連接的孔423。另外，粘接層341的材質與粘接層241同樣，因此省略詳細的說明。

這里，貫通孔421的孔徑和孔423的大小為，在從常壓(0.1MPa)減壓到曝光時的真空狀態(tài)(10^-4～10^-6Pa)時，由防護膜組件400內外的差壓引起的防護膜401的膨脹小于0.5mm的孔徑。在本實施方式中，由于貫通孔421被過濾器431覆蓋，因此關于貫通孔421的孔徑和孔423的大小，考慮過濾器431產(chǎn)生的阻力來設定。

(實施方式5)

在實施方式1和實施方式2中，為了覆蓋貫通防護膜與第1框體的貫通孔，將過濾器配置在防護膜的上表面。然而，如上述那樣，用于對光掩模安裝防護膜組件的空間僅存在2.5mm的高度。在本實施方式中，對通過與防護膜相鄰地在第1框體上配置過濾器來降低防護膜組件的高度的例子進行說明。

圖13是本發(fā)明的一實施方式涉及的防護膜組件500的圖1的線段AA’處的剖面圖。防護膜組件500具備：配置有防護膜501的第1框體511、和支持第1框體511的第2框體513。此外，防護膜組件500具備：貫通第1框體511的貫通孔521、和在第1框體511的配置有防護膜501的面?zhèn)雀采w貫通孔521的過濾器531。在本實施方式中，過濾器531與防護膜501相鄰地配置在第1框體511上。

在本實施方式中，第1框體511在與第2框體513對置的面具有與貫通孔521連接的槽部525。槽部525通過與第2框體513的結合，形成與貫通孔521連接的孔523?？?23在第1框體511的內側的面具有開口。在本實施方式中，與防護膜501相鄰地在第1框體511上配置過濾器531。此外，優(yōu)選以過濾器531的上表面與防護膜501成為同一面的方式，配置過濾器531。過濾器531經(jīng)由粘接層(未圖示)而配置在第1框體511上的除去了防護膜501和第1框體511的一部分的區(qū)域。通過這樣將防護膜501配置于第1框體511，可以與過濾器531的厚度對應地降低防護膜組件500的高度。

作為防護膜501、第1框體511和第2框體513，可以使用與上述的防護膜101、基板105和第2框體113同樣的材料，因此省略詳細的說明。

第1框體511與第2框體513經(jīng)由粘接層541而被固定。粘接層541的厚度優(yōu)選在可以確保第1框體511與第2框體513的充分粘接的范圍內盡可能薄，例如為10μm以上300μm以下。此外，粘接層541所使用的粘接劑可以使用與粘接層141同樣的粘接劑，因此省略詳細的說明。

貫通孔521貫通第1框體511而配置在除去了防護膜501和第1框體511的一部分的區(qū)域。此外，在本實施方式中，通過在第1框體511的與第2框體513對置的面，配置與貫通孔521連接的槽部525，從而通過槽部525與第2框體513的結合，形成與貫通孔521連接的孔523。因此，貫通孔521和、將貫通孔521與配置于第1框體511的內側的面的開口連接的孔523為，在從常壓(0.1MPa)減壓到曝光時的真空狀態(tài)(10^-4～10^-6Pa)時，由防護膜組件500內外的差壓引起的防護膜501的膨脹小于0.5mm的孔徑。在本實施方式中，關于貫通孔521和孔523的孔徑，考慮減壓時貫通孔521產(chǎn)生的壓力損失的上限值來設定。

期望在減壓時貫通孔521發(fā)生的壓力損失成為1Pa以下，更期望為0.5Pa以下。這里，優(yōu)選以覆蓋貫通孔521的方式設置過濾器531，減壓時的壓力損失的大部分發(fā)生在過濾器531部分，在貫通孔521處壓力損失幾乎不發(fā)生。例如，以使得貫通孔521的壓力損失成為1Pa以下的方式，更優(yōu)選以成為0.1Pa左右的方式，調整貫通孔521的尺寸。

例如，在以350Pa/sec的速度減壓時，貫通孔521發(fā)生的防護膜組件500內外的壓力損失成為1Pa時的貫通孔521的直徑為480μm且孔數(shù)為4個。貫通孔521的形狀沒有特別限制，可以為圓形、橢圓形、長方形、多邊形、梯形等形狀。貫通孔521的孔徑?jīng)]有特別限制，但期望在第1框的強度不降低的范圍內為10～500μm程度。貫通孔521的孔數(shù)也沒有特別限制，可以根據(jù)過濾器的長度、過濾器的寬度來選擇。

過濾器531可以使用與過濾器131同樣的過濾器，因此省略詳細的說明。關于過濾器531，從確保對第1框體511的粘接性，并且確保防護膜組件500的開口率的觀點考慮，優(yōu)選使寬度為1mm以上4mm以下。過濾器531的寬度只要納入第1框體511的寬度即可。

關于過濾器531的總面積，考慮減壓時過濾器531發(fā)生的壓力損失的上限值來設定。期望減壓時過濾器531發(fā)生的壓力損失成為2Pa以下。過濾器531的長度可以通過將過濾器531的面積除以過濾器531的寬度來算出。每1片過濾器的長度的范圍沒有特別限制，但期望為1cm以上15cm以下的范圍，更期望為2cm以上10cm以下。關于過濾器的厚度(高度)，由于對光掩模安裝防護膜組件的空間僅為2.5mm，因此需要考慮使防護膜組件與過濾器的厚度(高度)的合計小于2.5mm。雖然與防護膜組件的高度有關，但厚度優(yōu)選為0.05mm以上1.0mm以下的范圍，更期望為0.1mm以上0.4mm以下。

此外，在第2框體513的底面配置粘接層543。粘接層543為用于將防護膜組件500固定于光掩模的機構。粘接層543的厚度優(yōu)選在可以確保光掩模與第2框體513的充分粘接的范圍內盡可能薄，例如為10μm以上300μm以下。粘接層543所使用的粘接劑可以使用與粘接層143同樣的粘接劑，因此省略詳細的說明。

在防護膜組件500中，由于以過濾器531的上表面與防護膜501成為同一面的方式配置過濾器，因此包含防護膜501、第1框體511、粘接層541、第2框體513和粘接層543的高度優(yōu)選為2mm以下。如上述那樣，用于對光掩模安裝防護膜組件的空間僅存在2.5mm的高度，因此為了防止防護膜501的破損，防護膜組件500的高度優(yōu)選為2mm以下。

為了防止使用前的防護膜組件500的粘接層543附著塵埃等，通過能夠剝離的襯墊551來保護粘接層543。

在本發(fā)明中，在除去了防護膜501和第1框體511的一部分的區(qū)域，貫通孔521貫通第1框體511，通過第1框體511的槽部525與第2框體513的結合，形成與貫通孔521連接的孔523，因此在過濾器531的背面不產(chǎn)生貫通孔521以外的空隙，可以具有充分的密合性地配置過濾器531。此外，在本發(fā)明中，通過與防護膜501相鄰地在第1框體511上配置過濾器531，從而可以降低防護膜組件500的高度。此外，通過以過濾器531的上表面與防護膜501成為同一面的方式，配置過濾器531，從而可以與過濾器531的厚度對應地，將防護膜組件500的高度抑制得低。

(防護膜組件500的制造方法)

本實施方式涉及的防護膜組件500，例如，可以參照圖14，如下制造。另外，以下制造工序是一例，根據(jù)需要也可以變更制造工序的順序。圖14是顯示防護膜組件500的制造工序的圖。準備基板505，在基板505上形成防護膜501(圖14(a))。對于基板505，如上述那樣，可以使用例如，硅基板、藍寶石基板、碳化硅基板等。不限定于此，作為基板，優(yōu)選為硅基板、藍寶石基板、碳化硅基板，更優(yōu)選為硅基板。

通過蒸鍍，以膜厚成為20nm以上50nm以下的方式，在基板505上形成防護膜501。由于EUV光對于所有物質都易于被吸收，因此為了使防護膜301對5nm以上30nm以下的波長的光具有90.0％以上的透射率，優(yōu)選薄薄地形成。本發(fā)明涉及的防護膜501優(yōu)選對于5nm～13.5nm程度的波長的光，更優(yōu)選對于13.5±0.3nm的波長的光，具有90.0％以上的透射率。

通過蝕刻來除去形成貫通孔521的規(guī)定位置的防護膜501和基板505的一部分，使基板505露出(圖14(b))。對與形成有防護膜501的面相反側的基板505的面進行蝕刻，除去基板505的一部分，使防護膜501露出而在第1框體511的與第2框體513對置的面，形成與貫通孔521連接的槽部525。此外，在除去了防護膜501和基板505的一部分的規(guī)定位置，形成貫通防護膜501與第1框體511的貫通孔521(圖14(c))。

在本實施方式中，通過在第1框體511的與第2框體513對置的面，配置與貫通孔521連接的槽部525，從而通過槽部525與第2框體513的結合，形成與貫通孔521連接的孔523。因此，貫通孔521的孔徑和孔523的大小為，在從常壓(0.1MPa)減壓到曝光時的真空狀態(tài)(10^-4～10^-6Pa)時，由防護膜組件500內外的差壓引起的防護膜501的膨脹小于0.5mm的孔徑。在本實施方式中，由于貫通孔521被過濾器531覆蓋，因此關于貫通孔521的孔徑和孔523的大小，考慮過濾器531產(chǎn)生的阻力來設定。

在除去了防護膜501和基板505的一部分的區(qū)域，粘接覆蓋貫通孔521的過濾器531(圖14(d))。過濾器531優(yōu)選為具有上述特性的過濾器，從確保對第1框體511的粘接性，并且確保防護膜組件500的開口率的觀點考慮，優(yōu)選使寬度為1mm以上4mm以下。粘接過濾器531的時機沒有特別限制，可以在固定于第2框體后粘貼。

關于過濾器531的總面積，考慮減壓時過濾器531發(fā)生的壓力損失的上限值來設定。期望減壓時過濾器531發(fā)生的壓力損失成為2Pa以下。過濾器531的長度可以通過將過濾器的面積除以過濾器531的寬度來算出。每1片過濾器的長度的范圍沒有特別限制，期望為1cm以上15cm以下的范圍，更期望為2cm以上10cm以下。關于過濾器的厚度(高度)，由于對光掩模安裝防護膜組件的空間僅為2.5mm，因此需要考慮使防護膜組件與過濾器的厚度(高度)的合計小于2.5mm。雖然與防護膜組件的高度有關，但厚度優(yōu)選為0.05mm以上1.0mm以下的范圍，更期望為0.1mm以上0.4mm以下。

另行與實施方式1同樣地，準備第2框體513。在第2框體513的底面形成粘接層543。此外，配置保護粘接層543的襯墊551。這里，可以準備形成有粘接層543的襯墊551，經(jīng)由粘接層543，將襯墊551粘貼于第2框體513的底面。

在第2框體513的上表面，形成粘接層541。經(jīng)由形成的粘接層541，將第1框體511固定于第2框體513。此時，通過形成于與第2框體513對置的面的槽部525與第2框體513的結合，從而形成了與貫通孔521連接的孔523。

由于用于對光掩模安裝防護膜組件的空間僅存在2.5mm的高度，因此在本實施方式中，以過濾器531的上表面與防護膜501成為同一面的方式配置過濾器，因而包含防護膜501、第1框體511、粘接層541、第2框體513和粘接層543的高度優(yōu)選為2mm以下。

在本發(fā)明中，在除去了防護膜501和第1框體511的一部分的區(qū)域，貫通孔521貫通第1框體511，通過第1框體511的槽部525與第2框體513的結合，形成與貫通孔521連接的孔523，因此在過濾器531的背面不產(chǎn)生貫通孔521以外的空隙，可以具有充分的密合性地配置過濾器531。此外，在本發(fā)明中，通過與防護膜501相鄰地在第1框體511上配置過濾器531，從而可以降低防護膜組件500的高度。此外，通過以過濾器531的上表面與防護膜501成為同一面的方式，配置過濾器531，從而可以與過濾器531的厚度對應地，將防護膜組件500的高度抑制得低。

(實施方式6)

作為實施方式5的變形例，對實施方式6的防護膜組件600進行說明。圖15是本發(fā)明的一實施方式涉及的防護膜組件600的圖1的線段AA’處的剖面圖。實施方式6的防護膜組件600在以下方面與實施方式5的防護膜組件500不同：在將第1框體611的槽部625進行蝕刻直到與防護膜601相接的位置，形成與貫通孔621同等程度的高度的孔623。關于其它構成，與防護膜組件500同樣，因此省略詳細的說明。

在防護膜組件600中，在除去了防護膜601和第1框體611的一部分的區(qū)域，貫通孔621貫通第1框體611，通過第1框體611的槽部625與第2框體613的結合，形成與貫通孔621連接的孔623，因此在過濾器631的背面不產(chǎn)生貫通孔621以外的空隙，可以具有充分的密合性地配置過濾器631。此外，在本發(fā)明中，通過與防護膜601相鄰地在第1框體611上配置過濾器631，從而可以降低防護膜組件600的高度。此外，通過以過濾器631的上表面與防護膜601成為同一面的方式，配置過濾器631，從而可以與過濾器631的厚度對應地，將防護膜組件600的高度抑制得低。進一步，在防護膜組件600中，貫通孔621貫通防護膜601與第1框體611，形成第1框體611的槽部625與第2框體613直接連結的孔623，因此透氣性大幅度提高。

(防護膜組件600的制造方法)

本實施方式涉及的防護膜組件600，例如，可以參照圖16，如下制造。另外，以下制造工序是一例，根據(jù)需要也可以變更制造工序的順序。圖16是顯示防護膜組件600的制造工序的圖。準備基板605，在基板605上形成防護膜601(圖16(a))。基板605可以使用與上述基板505同樣的構件，因此省略詳細的說明。

通過蒸鍍，以膜厚成為20nm以上50nm以下的方式，在基板605上形成防護膜601。防護膜601的材質和構成與上述的防護膜501同樣，因此省略詳細的說明。

通過蝕刻來除去形成貫通孔621的規(guī)定位置的防護膜601和基板605的一部分，使基板605露出(圖16(b))。對與形成有防護膜601的面相反側的基板605的面進行蝕刻，除去基板605的一部分，在第1框體611的與第2框體613對置的面，一并形成貫通孔621、和與貫通孔621連接的槽部625(圖16(c))。在本實施方式中，通過該蝕刻工序，在除去了防護膜601的規(guī)定位置，與槽部625一體形成貫通防護膜601的貫通孔621。

因此，貫通孔621的孔徑和孔623的大小為，在從常壓(0.1MPa)減壓到曝光時的真空狀態(tài)(10^-4～10^-6Pa)時，由防護膜組件600內外的差壓引起的防護膜601的膨脹小于0.5mm的孔徑。在本實施方式中，由于貫通孔621被過濾器631覆蓋，因此關于貫通孔621的孔徑和孔623的大小，考慮過濾器631產(chǎn)生的阻力來設定。

在除去了防護膜601和基板605的一部分的區(qū)域，粘接覆蓋貫通孔621的過濾器631(圖16(d))。過濾器631的材質和構成與上述的過濾器531同樣，因此省略詳細的說明。

另行準備第2框體613。第2框體613、粘接層641、粘接層643和襯墊651的材質和構成與第2框體513、粘接層541、粘接層543和襯墊551同樣，因此省略詳細的說明。此外，第1框體611與第2框體613的貼合的工序與上述的防護膜組件500同樣，因此省略詳細的說明。

(實施方式7)

在實施方式2～6的防護膜組件中，將與貫通孔連接的槽部形成于第1框體而形成孔。在本實施方式中，對在第2框體形成與貫通孔連接的孔的例子進行說明。

圖17是本發(fā)明的一實施方式涉及的防護膜組件700的圖1的線段AA’處的剖面圖。防護膜組件700具備：配置有防護膜701的第1框體711、和支持第1框體711的第2框體713。此外，防護膜組件700具備：貫通防護膜701與第1框體711的貫通孔721、和配置在防護膜701上并覆蓋貫通孔721的過濾器731。

在本實施方式中，第2框體713具有在與第1框體711對置的面配置的第1開口723、和在第2框體713的內側的面配置的第2開口725，2個開口通過在第2框體713的內部配置的孔727被連接，第1開口723與貫通孔721連接。過濾器731經(jīng)由粘接層(未圖示)而配置在第1框體711上的防護膜701的區(qū)域。

作為防護膜701、第1框體711和第2框體713，可以使用與上述的防護膜101、基板105和第2框體113同樣的材料，因此省略詳細的說明。

第1框體711與第2框體713經(jīng)由粘接層741而被固定。粘接層741的厚度優(yōu)選在可以確保第1框體711與第2框體713的充分粘接的范圍內盡可能薄，例如為10μm以上300μm以下。此外，粘接層741所使用的粘接劑可以使用與粘接層141同樣的粘接劑，因此省略詳細的說明。

貫通孔721貫通防護膜701與第1框體711而配置。此外，在本實施方式中，具有在第2框體713的與第1框體711對置的面配置的第1開口723、和在第2框體713的內側的面配置的第2開口725，2個開口通過在第2框體713的內部配置的孔727被連接，第1開口723與貫通孔721連接。因此，貫通孔721的孔徑和、在貫通孔721與第2框體713的內部配置的孔727的孔徑為，在從常壓(0.1MPa)減壓到曝光時的真空狀態(tài)(10^-4～10^-6Pa)時，由防護膜組件700內外的差壓引起的防護膜701的膨脹小于0.5mm的孔徑。在本實施方式中，貫通孔421和孔427的孔徑考慮減壓時貫通孔721發(fā)生的壓力損失的上限值來設定。

期望減壓時貫通孔721發(fā)生的壓力損失成為1Pa以下，更期望為0.5Pa以下。這里，優(yōu)選以覆蓋貫通孔721的方式設置過濾器731，減壓時的壓力損失的大部分發(fā)生在過濾器731部分，在貫通孔721處壓力損失幾乎不發(fā)生。例如，以使得貫通孔721的壓力損失成為1Pa以下的方式，更優(yōu)選以成為0.1Pa左右的方式，調整貫通孔721的尺寸。

例如，在以350Pa/sec的速度減壓時，貫通孔721發(fā)生的防護膜組件400內外的壓力損失成為1Pa時的貫通孔721的直徑為500μm且孔數(shù)為4個。貫通孔721的形狀沒有特別限制，可以為圓形、橢圓形、長方形、多邊形、梯形等形狀。貫通孔721的孔徑?jīng)]有特別限制，期望在第1框的強度不降低的范圍內為10～500μm程度。貫通孔721的孔數(shù)也沒有特別限制，可以根據(jù)過濾器的長度、過濾器的寬度來選擇。

過濾器731可以使用與過濾器131同樣的過濾器，因此省略詳細的說明。關于過濾器731，從確保對防護膜701的粘接性，并且確保防護膜組件700的開口率的觀點考慮，優(yōu)選使寬度為1mm以上4mm以下。過濾器731的寬度只要納入第1框體711的寬度即可。

關于過濾器731的總面積，考慮減壓時過濾器731發(fā)生的壓力損失的上限值來設定。期望減壓時過濾器731發(fā)生的壓力損失為2Pa以下。過濾器731的長度可以通過將過濾器731的面積除以過濾器731的寬度來算出。每1片過濾器的長度的范圍沒有特別限制，期望為1cm以上15cm以下的范圍，更期望為2cm以上10cm以下。

此外，在第2框體713的底面配置粘接層743。粘接層743是用于將防護膜組件700固定于光掩模的機構。粘接層743的厚度優(yōu)選在可以確保光掩模與第2框體713的充分粘接的范圍內盡可能薄，例如為10μm以上300μm以下。粘接層743所使用的粘接劑可以使用與粘接層143同樣的粘接劑，因此省略詳細的說明。

在防護膜組件700中，包含防護膜701、第1框體711、粘接層741、第2框體713和粘接層743的高度優(yōu)選為2mm以下。如上述那樣，由于用于對光掩模安裝防護膜組件的空間僅存在2.5mm的高度，因此為了防止防護膜701的破損，防護膜組件700的高度優(yōu)選為2mm以下。

為了防止使用前的防護膜組件700的粘接層743附著塵埃等，通過能夠剝離的襯墊751來保護粘接層743。

在本實施方式中，貫通孔721貫通防護膜701與第1框體711，與配置于第2框體713的孔727連接，因此在過濾器731的背面不產(chǎn)生貫通孔721以外的空隙，可以具有充分的密合性地配置過濾器731。此外，在本實施方式中，在第2框體713形成孔727，因此與第1框體相比可以更容易地加工。

(防護膜組件700的制造方法)

本實施方式涉及的防護膜組件700，例如，可以參照圖18和圖19，如下制造。另外，以下制造工序是一例，根據(jù)需要也可以變更制造工序的順序。圖18和圖19是顯示防護膜組件700的制造工序的圖。準備基板705，在基板705上形成防護膜701(圖18(a))。在基板705上，如上述那樣，可以使用例如，硅基板、藍寶石基板、碳化硅基板等，但不限定于此。

通過蒸鍍，以膜厚成為20nm以上50nm以下的方式，在基板705上形成防護膜701。由于EUV光對于所有物質都易于被吸收，因此為了使防護膜701對5nm以上30nm以下的波長的光具有90.0％以上的透射率，優(yōu)選薄薄地形成。本發(fā)明涉及的防護膜701優(yōu)選對于5nm～13.5nm左右的波長的光，更優(yōu)選對于13.5±0.3nm的波長的光，具有90.0％以上的透射率。

通過蝕刻來除去形成貫通孔721的規(guī)定位置的防護膜701，使基板705露出(圖18(b))。對與形成有防護膜701的面相反側的基板705的面進行蝕刻，在除去了防護膜701的規(guī)定位置，形成貫通防護膜701與第1框體711的貫通孔721(圖18(c))。

在本實施方式中，在第2框體713的與第1框體711對置的面形成第1開口723，在第2框體713的內側的面形成第2開口725，在第2框體713的內部形成連接2個開口的孔727，將第1開口723與貫通孔721連接。因此，貫通孔721的孔徑和孔727的大小為，在從常壓(0.1MPa)減壓到曝光時的真空狀態(tài)(10^-4～10^-6Pa)時，由防護膜組件700內外的差壓引起的防護膜701的膨脹小于0.5mm的孔徑。在本實施方式中，由于貫通孔721被過濾器731覆蓋，因此關于貫通孔721的孔徑和孔727的大小，考慮過濾器731產(chǎn)生的阻力來設定。

在防護膜701上粘接覆蓋貫通孔721的過濾器731(圖18(d))。過濾器731優(yōu)選為具有上述特性的過濾器，從確保對防護膜701的粘接性，并且確保防護膜組件700的開口率的觀點考慮，優(yōu)選使寬度為1mm以上4mm以下。粘接過濾器731的時機沒有特別限制，可以在固定于第2框體后粘貼。

另行準備第2框體713。在本實施方式中，在第2框體713的與第1框體711對置的面形成第1開口723，在第2框體713的內側的面形成第2開口725，在第2框體713的內部形成連接2個開口的孔727(圖19(a))。

此外，在第2框體713的底面形成粘接層743。進一步，配置保護粘接層743的襯墊751(圖19(b))。這里，可以準備形成有粘接層743的襯墊751，經(jīng)由粘接層743，將襯墊751粘貼于第2框體713的底面。

在第2框體713的上表面形成粘接層741(圖19(c))。經(jīng)由形成的粘接層741，將第1框體711固定于第2框體713(圖19(d))。此時，在貫通孔721連接第1開口723，貫通孔721與孔727形成通氣口。

由于用于對光掩模安裝防護膜組件的空間僅存在2.5mm的高度，因此在本實施方式中，優(yōu)選使包含過濾器731、防護膜701、第1框體711、粘接層741、第2框體713和粘接層743的高度為2mm以下。

在本實施方式中，貫通孔721貫通防護膜701與第1框體711，與配置于第2框體713的孔727連接，因此可以在過濾器731的背面不產(chǎn)生貫通孔721以外的空隙，具有充分的密合性地配置過濾器731。此外，在本實施方式中，由于在第2框體713形成孔727，因此與第1框體相比可以更容易地加工。

(實施方式8)

作為實施方式7的變形例，顯示防護膜組件800。圖20是本發(fā)明的一實施方式涉及的防護膜組件800的圖1的線段AA’處的剖面圖。防護膜組件800具備：配置有防護膜801的第1框體811、和支持第1框體811的第2框體813。此外，防護膜組件800具備：貫通防護膜801與第1框體811的貫通孔821、和配置在防護膜801上并覆蓋貫通孔821的過濾器831。

在本實施方式中，第2框體813在與第1框體811對置的面具有與貫通孔821連接的槽部825，槽部825通過與第1框體811的結合，形成與貫通孔821連接的孔823，孔823在第2框體813的內側的面具有開口。過濾器831經(jīng)由粘接層(未圖示)而配置在第1框體811上的防護膜801的區(qū)域。

作為防護膜801、第1框體811和第2框體813，可以使用與上述的防護膜101、基板105和第2框體113同樣的材料，因此省略詳細的說明。

第1框體811與第2框體813經(jīng)由粘接層841而被固定。粘接層841的厚度優(yōu)選在可以確保第1框體811與第2框體813的充分的粘接的范圍內盡可能薄，例如為10μm以上300μm以下。此外，粘接層841所使用的粘接劑可以使用與粘接層141同樣的粘接劑，因此省略詳細的說明。

貫通孔821貫通防護膜801和第1框體811而配置。此外，在本實施方式中，在第2框體813的與第1框體811對置的面，具有與貫通孔821連接的槽部825，槽部825通過與第1框體811的結合，形成與貫通孔821連接的孔823，孔823在第2框體813的內側的面具有開口。因此，貫通孔821的孔徑和、通過槽部825與第1框體811的結合而形成的孔823的大小為，在從常壓(0.1MPa)減壓到曝光時的真空狀態(tài)(10^-4～10^-6Pa)時，由防護膜組件800內外的差壓引起的防護膜801的膨脹小于0.5mm的孔徑。在本實施方式中，關于貫通孔821的孔徑和孔823的大小，考慮減壓時貫通孔產(chǎn)生的壓力損失的上限值來設定。

期望減壓時貫通孔821發(fā)生的壓力損失成為1Pa以下，更期望為0.5Pa以下。這里，優(yōu)選以覆蓋貫通孔821的方式設置過濾器831，減壓時的壓力損失的大部分發(fā)生在過濾器831部分，在貫通孔821處壓力損失幾乎不發(fā)生。例如，以使得貫通孔821的壓力損失成為1Pa以下的方式，更優(yōu)選以成為0.1Pa左右的方式，調整貫通孔821的尺寸。

例如，在以350Pa/sec的速度減壓時，貫通孔821發(fā)生的防護膜組件800內外的壓力損失成為1Pa時的貫通孔821的直徑為480μm且孔數(shù)為4個。貫通孔821的形狀沒有特別限制，可以為圓形、橢圓形、長方形、多邊形、梯形等形狀。貫通孔821的孔徑?jīng)]有特別限制，但期望在第1框的強度不降低的范圍內為10～500μm程度。貫通孔821的孔數(shù)也沒有特別限制，可以根據(jù)過濾器的長度、過濾器的寬度來選擇。

過濾器831可以使用與過濾器131同樣的過濾器，因此省略詳細的說明。關于過濾器831，從確保對防護膜801的粘接性，并且確保防護膜組件800的開口率的觀點考慮，優(yōu)選使寬度為1mm以上4mm以下。過濾器831的寬度只要納入第1框體811的寬度即可。

關于過濾器831的總面積，考慮減壓時過濾器831發(fā)生的壓力損失的上限值來設定。期望減壓時過濾器831發(fā)生的壓力損失為2Pa以下。過濾器831的長度可以通過將過濾器831的面積除以過濾器831的寬度來算出。每1片過濾器的長度的范圍沒有特別限制，期望為1cm～15cm的范圍，更期望為2cm～10cm。

此外，在第2框體813的底面配置粘接層843。粘接層843為用于將防護膜組件800固定于光掩模的機構。粘接層843的厚度優(yōu)選在可以確保光掩模與第2框體813的充分粘接的范圍內盡可能薄，例如為10μm以上300μm以下。粘接層843所使用的粘接劑可以使用與粘接層143同樣的粘接劑，因此省略詳細的說明。

在防護膜組件800中，包含過濾器831、防護膜801、第1框體811、粘接層841、第2框體813和粘接層843的高度優(yōu)選為2mm以下。如上述那樣，由于用于對光掩模安裝防護膜組件的空間僅存在2.5mm的高度，因此為了防止防護膜801的破損，因此優(yōu)選防護膜組件800的高度為2mm以下。

為了防止使用前的防護膜組件800的粘接層843附著塵埃等，通過能夠剝離的襯墊851來保護粘接層843。

在本實施方式中，貫通孔821貫通防護膜801與第1框體811，與通過形成于第2框體813的槽部825與第1框體811的結合而形成的孔823連接，因此在過濾器831的背面不產(chǎn)生貫通孔821以外的空隙，可以具有充分的密合性地配置過濾器831。此外，在本實施方式中，由于在第2框體813形成槽部825，因此與第1框體相比可以更容易地加工。

(防護膜組件800的制造方法)

防護膜組件800的制造方法的制造方法，在第2框體813形成槽部825方面，與防護膜組件700的制造方法不同。在本實施方式中，在第2框體813的與第1框體811對置的面，形成與貫通孔821連接的槽部825，經(jīng)由粘接層841將第1框體811固定于第2框體813，形成與貫通孔821連接并且在第2框體813的內側的面具有開口的孔823。其它制造工序與防護膜組件700同樣，因此省略詳細的說明。

此外，在上述實施方式7和8的防護膜組件中，能夠組合實施方式5和6中說明的以過濾器的上表面與防護膜成為同一面的方式配置過濾器的實施方式，這對于本區(qū)域技術人員而言是顯而易見的。本發(fā)明涉及的防護膜組件中，包含這樣的方式。

(實施方式9)

對于將實施方式5中說明的與防護膜501相鄰地在第1框體511上配置過濾器531的構成、和實施方式7的具備孔727的第2框體713組合而得的例子進行說明。

圖21是本發(fā)明的一實施方式涉及的防護膜組件900的圖1的線段AA’處的剖面圖。防護膜組件900具備：配置有防護膜901的第1框體911、和支持第1框體911的第2框體913。此外，防護膜組件900具備貫通第1框體911的貫通孔921、和在第1框體911的配置有防護膜901的面?zhèn)扰c防護膜901相鄰并覆蓋貫通孔921的過濾器931。此外，優(yōu)選以過濾器931的上表面與防護膜901成為同一面的方式，配置過濾器931。過濾器931經(jīng)由粘接層(未圖示)而配置在第1框體911上的防護膜901的區(qū)域。

第2框體913具有在與第1框體911對置的面配置的第1開口923、和在第2框體913的內側的面配置的第2開口925，2個開口通過在第2框體913的內部配置的孔927被連接，第1開口923與貫通孔921連接。其它構成與實施方式5和7中說明的構成同樣，因此省略詳細的說明。

在本實施方式中，由于貫通孔921貫通第1框體911，與配置于第2框體913的孔927連接，因此在過濾器931的背面不產(chǎn)生貫通孔921以外的空隙，可以具有充分的密合性地配置過濾器931。在本實施方式中，由于在第2框體913形成孔927，因此與第1框體相比可以更容易地加工。此外，通過將防護膜901配置于第1框體911，可以與過濾器931的厚度對應地降低防護膜組件900的高度。

(防護膜組件900的制造方法)

防護膜組件900的制造方法的制造方法，直到在第1框體911的與第2框體913對置的面，形成貫通孔921的工序，與實施方式5同樣，因此省略詳細的說明。在第1框體911不形成與貫通孔921連接的槽部，這一點與實施方式5不同。此外，在第2框體913的與第1框體911對置的面形成第1開口923，在第2框體913的內側的面形成第2開口925，在第2框體913的內部形成連接2個開口的孔927，將第1開口923與貫通孔921連接。其它制造工序與防護膜組件700同樣，因此省略詳細的說明。

(實施方式10)

對于將實施方式5中說明的與防護膜501相鄰地在第1框體511上配置過濾器531的構成、與實施方式8的具備孔823的第2框體813組合而得的例子進行說明。

圖22是本發(fā)明的一實施方式涉及的防護膜組件1000的圖1的線段AA’處的剖面圖。防護膜組件1000具備：配置有防護膜1001的第1框體1011、和支持第1框體1011的第2框體1013。此外，防護膜組件1000具備：貫通第1框體1011的貫通孔1021、和在第1框體1011的配置有防護膜1001的面?zhèn)扰c防護膜1001相鄰并覆蓋貫通孔1021的過濾器1031。此外，優(yōu)選以過濾器1031的上表面與防護膜1001成為同一面的方式，配置過濾器1031。過濾器1031經(jīng)由粘接層(未圖示)而配置于第1框體1011上的防護膜1001的區(qū)域。

第2框體1013在與第1框體1011對置的面具有與貫通孔1021連接的槽部1025，槽部1025通過與第1框體1011的結合，形成與貫通孔1021連接的孔1023，孔1023在第2框體1013的內側的面具有開口。其它構成與實施方式5和8中說明的構成同樣，因此省略詳細的說明。

在本實施方式中，由于貫通孔1021貫通第1框體1011，與通過形成于第2框體1013的槽部1025與第1框體1011的結合而形成的孔1023連接，因此在過濾器1031的背面不產(chǎn)生貫通孔1021以外的空隙，可以具有充分的密合性地配置過濾器1031。此外，在本實施方式中，由于在第2框體1013形成槽部1025，因此與第1框體相比可以更容易地加工。此外，通過將防護膜1001配置于第1框體1011，從而可以與過濾器1031的厚度對應地降低防護膜組件1000的高度。

(防護膜組件1000的制造方法)

防護膜組件1000的制造方法的制造方法，直到在第1框體1011的與第2框體1013對置的面形成貫通孔1021的工序，與實施方式5同樣，因此省略詳細的說明。在第1框體1011不形成與貫通孔1021連接的槽部，這一點與實施方式5不同。此外，在第2框體1013的與第1框體1011對置的面，形成與貫通孔1021連接的槽部1025，經(jīng)由粘接層1041將第1框體1011固定于第2框體1013，形成與貫通孔1021連接并且在第2框體1013的內側的面具有開口的孔1023。其它制造工序與防護膜組件800同樣，因此省略詳細的說明。

在上述的實施方式中，由于本發(fā)明涉及的防護膜組件的防護膜的膜厚為20nm以上50nm以下的以往所沒有的薄的膜，因此如以往的防護膜組件那樣用手固定于光掩模是困難的。因此，需要使用專用的粘貼裝置，以非接觸方式的對光掩模的粘貼。在本實施方式中，對將非接觸方式的對光掩模的粘貼機構設置于第2框體的例子進行說明。

圖23是本發(fā)明的一實施方式涉及的防護膜組件1100所使用的第2框體1113的示意圖，上側的圖是第2框體1113的上表面?zhèn)鹊牧Ⅲw圖，下側的圖是第2框體1113的底面?zhèn)鹊牧Ⅲw圖。防護膜組件1100具備：配置有防護膜1101的第1框體1111、和支持第1框體1111的第2框體1113。此外，防護膜組件1100具備：貫通防護膜1101與第1框體1111的貫通孔1121、和覆蓋貫通孔1121的過濾器1131。過濾器1131經(jīng)由粘接層(未圖示)而配置在配置有防護膜1101的第1框體1111的面。

在第2框體1113上表面設置有槽1114。在本實施方式中，從第2框體1113的上表面(厚度方向)看到的槽1114的形狀成為沿著第2框體1113的形狀繞一圈的無端形狀。

第2框體1113具有貫通孔1114A和貫通孔1114B。貫通孔1114A和貫通孔1114B分別貫通槽1114的底面與第2框體1113的外側的面之間。

這里，貫通孔1114A和1114B可以分別貫通槽1114的側面與第2框體1113的外側的面之間。此外，貫通孔1114A和1114B的任一者可以省略。即，第2框體1113中，對1個槽(槽1114)連接2個貫通孔(貫通孔1114A和1114B)，但本實施方式不限定于該形態(tài)。在本實施方式中，只要對1個槽(槽1114、槽1116)，連接至少1個貫通孔即可。

此外，如圖23所示，在第2框體1113的與上表面相反側的底面，設置有槽1116。在本實施方式中，槽1116的形狀也與槽1114的形狀同樣地，從厚度方向觀察時成為沿著第2框體1113的形狀繞一圈的無端形狀。

第2框體1113具有貫通孔1116A和貫通孔1116B。貫通孔1116A和貫通孔1116B分別貫通槽1116的底面與第2框體1113的外側的面之間。關于貫通孔1116A和1116B的變形，與貫通孔1114A和1114B的變形同樣。

第2框體1113適合于將防護膜1101與第1框體1111固定(支持)而制作防護膜組件1100的用途。對于第2框體1113，在成為與第1框體1111的對置面的上表面設置槽1114，并且設置有與該槽1114連接的貫通孔1114A和1114B。因此，在第2框體1113固定第1框體1111時，通過貫通孔1114A和1114B而將槽1114的內部(例如通過真空泵等排氣機構)減壓，可以對第2框體1113與第1框體1111之間的壓力進行減壓。通過該減壓，可以在第2框體1113與第1框體1111之間使彼此推壓的力起作用，因此可以不與第2框體1113和第1框體1111的正面和背面(即，第2框體1113的上表面和底面、以及第1框體1111的配置有防護膜1101的面和第1框體1111的底面)接觸，而將兩者固定。

第2框體1113與第1框體1111的固定經(jīng)由粘接層1141來進行。通過進行減壓，可以經(jīng)由粘接層1141將第2框體1113與防護膜1101推壓，因此可以將第2框體1113與第1框體1111牢固地固定。

另外，關于其它構成，與實施方式1中說明的構成同樣，因此省略詳細的說明。此外，在圖23中，對與實施方式1所示的第1框體111同樣的構成的第1框體1111進行了說明，但本實施方式也可以應用于實施方式2～8所示那樣的與第1框體卡合的第2框體。

(防護膜組件1100的制造方法)

本實施方式的防護膜組件1100的制造方法的基本工序與實施方式1同樣。與實施方式1同樣地，形成第1框體1111。

另行準備第2框體1113。在第2框體1113的上表面形成槽1114，并且形成貫通槽1114的側面與第2框體1113的外側的面之間的貫通孔1114A和1114B。同樣地，在第2框體1113的底面形成槽1116，并且形成貫通槽1116的側面與第2框體1113的外側的面之間的貫通孔1116A和1116B。

在第2框體1113的底面形成粘接層1143。此時，以在第2框體1113的底面設置的槽1116不被粘接層1143覆蓋的方式，形成粘接層1143。此外，配置保護粘接層1143的襯墊1151。這里，可以準備形成有粘接層1143的襯墊1151，經(jīng)由粘接層1143，將襯墊1151粘貼于第2框體1113的底面。

在第2框體1113的上表面形成粘接層1141。此時，以第2框體1113的上表面設置的槽1114不被粘接層1141覆蓋的方式，形成粘接層1141。經(jīng)由粘接層1141，將第1框體1111固定于第2框體1113。由于用于對光掩模安裝防護膜組件的空間僅存在2.5mm的高度，因此在本實施方式中，優(yōu)選使第2框體1113的高度與在第2框體1113的下表面配置的粘接層1143的高度的合計為2mm以下。

將第1框體1111固定于第2框體1113的工序，例如，使用圖24所示的防護膜組件制造裝置5000來進行。防護膜組件制造裝置5000具備：真空室5100、在真空室5100內配置的載置臺5200、用于向真空室5100供給氣體的供給管5110、和用于將真空室5100內的氣體排出到真空室5100外的排出管5120A和5120B。排出管5120A和5120B的在真空室5100外的端部(未圖示)與真空泵等排氣機構(未圖示)連接。

在真空室5100內的載置臺5200上，載置第2框體1113。具體而言，以第2框體1113的襯墊1151與載置臺5200相接的方式載置。而且在第2框體1113的粘接層1141上，配置防護膜1101與第1框體1111的復合構件。

作為一例，作為復合構件，使用了作為硅晶片(例如8英寸硅晶片)的第1框體1111、與作為多晶硅膜(p-Si膜)的防護膜1101的復合構件。在復合構件的規(guī)定位置，設置有用于切割成第1框體1111的規(guī)定尺寸的切口C1和C2。第1框體1111優(yōu)選在與第2框體1113的貼合前，切割成規(guī)定尺寸(以下，將該操作也稱為“裁切”)。

此外，排出管5120A和5120B分別在真空室5100內具有端部。這些端部可以分別與用于對第2框體1113的槽1114的內部進行減壓的2個貫通孔1114A和1114B連接。

以下，說明使用了上述防護膜組件制造裝置5000的防護膜組件的制造方法的例子。首先，在真空室5100內的載置臺5200上，載置第2框體1113，在第2框體1113的上方配置第1框體1111。在該階段，以粘接劑層1131不與第1框體1111接觸的方式配置。

接下來，通過公知的機構，進行第2框體1113與第1框體1111的定位。通過定位，通過被第2框體1113包圍的開口部，以第1框體1111嵌入的方式配置。接下來，將排出管5120A和5120B各自的端部分別與用于對第2框體1113(框主體)的槽1114的內部進行減壓的2個貫通孔1114A和1114B連接。

接下來，通過上述裁切，將第1框體1111與防護膜1101的復合構件在切口C1和C2切割成與第2框體1113相同尺寸。

接下來，通過從供給管910向真空室5100內供給氣體，對真空室5100內加壓。同時地，通過使與排出管5120A和5120B的在真空室5100外的端部連接的真空泵(未圖示)工作，通過排出管5120A和5120B、以及第2框體1113的2個貫通孔1114A和1114B，對在第2框體1113的上表面設置的槽1114的內部進行減壓。關于加壓和減壓的程度，以由真空室5100內的整體壓力、與槽1114的內部壓力之差(差壓)產(chǎn)生的第1框體1111與第2框體1113之間的彼此推壓的力(施加于第2框體1113整體的力)例如成為2N左右的方式調整。通過上述差壓，在第1框體1111與第2框體1113之間產(chǎn)生彼此推壓的力，第2框體1113的粘接層1141與第1框體1111被粘接。

如以上那樣操作，可以不與第1框體1111和第2框體1113的正面和背面接觸，而將兩者粘接。另外，上述各操作的順序也能夠適當替換。

(防護膜組件對光掩模的配置方法)

本實施方式的防護膜組件對光掩模的配置方法，具有下述工序：將第2框體1113的至少與支持配置有防護膜1101的第1框體1111的面相反側的面設置有槽1116的本實施方式的防護膜組件1100、和光掩模以第2框體1113的設置有槽1116的面與光掩模對置的方式配置的配置工序；以及通過貫通孔1116A和1116B對槽1116的內部進行減壓，將防護膜組件1100和光掩模固定的固定工序。

根據(jù)本實施方式的防護膜組件對光掩模的配置方法，通過槽1116的內部的減壓，可以在防護膜組件1100與光掩模之間使彼此推壓的力起作用，因此可以不與防護膜組件1100和光掩模的正面和背面接觸，而將兩者固定。

在本實施方式的防護膜組件對光掩模的配置方法中，固定工序中的減壓優(yōu)選在防護膜組件1100和光掩模在加壓氣氛下被配置的狀態(tài)下進行。根據(jù)該方式，可以使配置防護膜組件1100和光掩模的整體氣氛的壓力、與槽1116的內部壓力之差(差壓)更大，因此可以使防護膜組件1100和光掩模之間的彼此推壓的力更大。因此，可以將兩者更容易地固定。

防護膜組件1100與光掩模之間的彼此推壓的力(施加于第2框體1113整體的力)優(yōu)選為1N以上，更優(yōu)選為2N以上。防護膜組件1100與光掩模之間的彼此推壓的力(施加于第2框體1113整體的力)進一步優(yōu)選為10N以上，特別優(yōu)選為20N以上。防護膜組件1100與光掩模之間的彼此推壓的力(施加于第2框體1113整體的力)的上限沒有特別限制，但從生產(chǎn)率等方面考慮，例如為500N，優(yōu)選為400N。

接下來，參照圖25對本實施方式的防護膜組件對光掩模的配置方法的一例進行說明。但是，本實施方式的防護膜組件對光掩模的配置方法不受該一例的限定。圖25是概念性示出適合于本實施方式的防護膜組件對光掩模的配置方法的光掩模制造裝置的一例的剖面圖。

圖25所示的光掩模制造裝置6000具備：真空室6100、用于向真空室6100供給氣體的供給管6110、和用于將真空室6100內的氣體排出到真空室6100外的排出管6120A和6120B。排出管6120A和6120B的在6100外的端部(未圖示)與真空泵等排氣機構(未圖示)連接。

在真空室6100內，配置光掩模6500。作為光掩模6500，使用包含支持基板、在該支持基板上疊層的反射層、和在反射層上形成的吸收體層的光掩模。光掩模6500在真空室6100內，以正面(光照射面；即，設置有反射層和吸收體層的一側的面)成為上，以背面(光照射面的相反側的面；即，支持基板側的面)成為下的方式配置。

而且在光掩模6500的反射層和吸收層的上方，配置除去了襯墊1151的防護膜組件1100。具體而言，防護膜組件1100的粘接層1143側沿與光掩模6500的正面(光照射面)對置的方向配置。

此外，排出管6120A和6120B分別在真空室6100內具有端部。這些端部可以分別與在第2框體1113的底面設置的用于對槽1116的內部進行減壓的2個貫通孔連接。

以下，說明使用了光掩模制造裝置6000對光掩模配置防護膜組件的方法的例子。首先，準備除去襯墊1151而獲得的防護膜組件1100。接下來，在真空室6100內，將光掩模6500沿以正面(光照射面)成為上的方向配置。此時，為了使光掩模6500的正面和背面不附著異物，例如，以僅支持光掩模6500的側面等，機械、夾具、手等不與光掩模6500的正面和背面接觸的方式配置。

接下來，將防護膜組件1100配置于光掩模6500的上方。此時，為了不在防護膜組件1100的膜面附著異物，例如，以僅支持第2框體1113的側面(外周面)等，機械、夾具、手等不與防護膜組件1100的膜面接觸的方式配置。此外，在該階段，以粘接層1143與光掩模6500不接觸的方式配置。接下來，通過公知的機構，進行防護膜組件1100與光掩模6500的定位。

接下來，將排出管6120A和6120B各自的端部分別與用于對第2框體1113的底側的槽1116的內部進行減壓的2個貫通孔分別連接。接下來，通過從供給管6110向真空室6100內供給氣體，將真空室內加壓。同時，通過使與排出管6120A和6120B的在真空室6100外的端部連接的真空泵(未圖示)工作，通過排出管6120A和6120B、以及第2框體1113的2個貫通孔1116A和1116B，對在第2框體1113的底面設置的槽1116的內部進行減壓。關于加壓和減壓的程度，以由真空室6100內的整體壓力、與槽1116的內部壓力之差(差壓)而產(chǎn)生的防護膜組件1100與光掩模6500之間的彼此推壓的力(施加于第2框體1113整體的力)成為例如2N左右的方式調整。通過上述差壓，防護膜組件1100與光掩模6500之間產(chǎn)生彼此推壓的力，防護膜組件1100的粘接層1143與光掩模6500被粘接。

如以上那樣操作，可以不與防護膜組件1100和光掩模6500的正面和背面接觸，而將兩者粘接。由此，可以一邊抑制異物對防護膜組件1100和光掩模6500的附著，一邊將兩者粘接。另外，上述各操作的順序也能夠適當替換。

(防護膜組件對光掩模的配置方法的變形例)

在上述的防護膜組件對光掩模的配置方法中，將第1框體1111與第2框體1113粘接而形成防護膜組件1100后，配置于光掩模6500。然而，本發(fā)明涉及的防護膜組件對光掩模的配置方法不限定于此，也能夠替換順序。作為一例，對將第2框體配置于光掩模后，對第2框體粘接第1框體而使防護膜組件完成的例子進行說明。

在本實施方式中，具有：將在與支持配置有防護膜1101的第1框體1111的面相反側的面設置有槽1116的第2框體1113、和光掩模以第2框體1113的設置有槽1116的面與光掩模對置的方式配置的配置工序；通過貫通孔1116A和1116B對槽1116的內部進行減壓，從而將防護膜組件1100與光掩模固定的固定工序；將配置有防護膜1101的第1框體1111固定于第2框體1113的工序。

另外，如實施方式9中說明地那樣，第2框體1113支持配置有防護膜1101的第1框體1111。此外，第2框體1113具備：在上表面設置的槽1114、貫通槽1114的底面與第2框體1113的外側的面之間的貫通孔1114A和貫通孔1114B、在與上表面相反側的底面設置的槽1116、和貫通槽1116的底面與第2框體1113的外側的面之間的貫通孔1116A和貫通孔1116B。

根據(jù)本實施方式的防護膜組件對光掩模的配置方法，通過槽1116的內部的減壓，可以在第2框體1113與光掩模之間使彼此推壓的力起作用，因此可以不與第2框體1113和光掩模的正面和背面接觸，經(jīng)由粘接層1143，將兩者固定。

在本實施方式的防護膜組件對光掩模的配置方法中，第2框體1113的固定工序中的減壓優(yōu)選在第2框體1113和光掩模在加壓氣氛下被配置的狀態(tài)下進行。根據(jù)該方式，可以使配置第2框體1113和光掩模的整體氣氛的壓力、與槽1116的內部壓力之差(差壓)更大，因此可以使第2框體1113和光掩模之間的彼此推壓的力更大。因此，可以將兩者更容易地固定。

第2框體1113與光掩模之間的彼此推壓的力優(yōu)選為1N以上，更優(yōu)選為2N以上。第2框體1113與光掩模之間的彼此推壓的力進一步優(yōu)選為10N以上，特別優(yōu)選為20N以上。第2框體1113與光掩模之間的彼此推壓的力的上限沒有特別限制，但從生產(chǎn)率等方面考慮，例如為500N，優(yōu)選為400N。

此外，通過貫通孔1114A和1114B將槽1114的內部(通過例如真空泵等排氣機構)減壓，從而可以將第2框體1113與第1框體1111之間的壓力減壓。通過該減壓，可以在第2框體1113與第1框體1111之間使彼此推壓的力起作用，因此可以不與第2框體1113和第1框體1111的正面和背面(即，第2框體1113的上表面和底面、以及第1框體1111的配置有防護膜1101的面和第1框體1111的底面)接觸，而將兩者固定。

第2框體1113與第1框體1111的固定經(jīng)由粘接層1141而進行。通過減壓，可以經(jīng)由粘接層1141而推壓第2框體1113與防護膜，因此可以將第2框體1113與第1框體1111牢固地固定。

接下來，參照圖26說明本實施方式的防護膜組件對光掩模的配置方法的變形例。但是，本實施方式的防護膜組件對光掩模的配置方法不受該一例的限定。圖26是概念性示出適合于本實施方式的防護膜組件對光掩模的配置方法的光掩模制造裝置7000的一例的剖面圖。

圖26所示的光掩模制造裝置7000具備：真空室7100、用于向真空室7100供給氣體的供給管7110、用于將真空室7100內的氣體排出到真空室7100外的排出管7120A和7120B、以及排出管7220A和7220B。排出管7120A和7120B、與排出管7220A和7220B的在真空室7100外的端部(未圖示)與真空泵等排氣機構(未圖示)連接。

在真空室7100內，配置光掩模7500。作為光掩模7500，使用包含支持基板、在該支持基板上疊層的反射層、以及在反射層上形成的吸收體層的光掩模。光掩模7500在真空室7100內，以正面(光照射面；即，設置有反射層和吸收體層的一側的面)成為上，以背面(光照射面的相反側的面；即，支持基板側的面)成為下的方式配置。

而且在光掩模7500的反射層和吸收層的上方配置除去了襯墊1151的第2框體1113。具體而言，第2框體1113的粘接層1143側沿與光掩模7500的正面(光照射面)對置的方向配置。

此外，排出管7120A和7120B分別在真空室7100內具有端部。這些端部分別可以與用于將在第2框體1113的底面設置的槽1116的內部進行減壓的2個貫通孔連接。

以下，說明使用了光掩模制造裝置7000的防護膜組件對光掩模的配置方法的例子。首先，準備除去襯墊1151而獲得的第2框體1113。接下來，在真空室7100內，將光掩模7500沿以正面(光照射面)成為上的方向配置。此時，為了不使異物附著于光掩模7500的正面和背面，例如，以僅支持光掩模7500的側面等，機械、夾具、手等不與光掩模7500的正面和背面接觸的方式配置。

接下來，將第2框體1113配置于光掩模7500的上方。在該階段，以粘接層1143與光掩模7500不接觸的方式配置。接下來，通過公知的機構，進行第2框體1113與光掩模7500的定位。

接下來，將排出管7120A和7120B各自的端部分別與用于將第2框體1113的底側的槽1116的內部進行減壓的2個貫通孔連接。接下來，通過從供給管7110向真空室7100內供給氣體，將真空室7100內加壓。同時，通過使與排出管7120A和7120B的在真空室7100外的端部連接的真空泵(未圖示)工作，通過排出管7120A和7120B、以及第2框體1113的2個貫通孔1116A和1116B，將在第2框體1113的底面設置的槽1116的內部進行減壓。關于加壓和減壓的程度，以由真空室7100內的整體壓力、與槽1116的內部壓力之差(差壓)產(chǎn)生的第2框體1113與光掩模7500之間的彼此推壓的力成為例如2N左右的方式調整。通過上述差壓，在第2框體1113與光掩模7500之間產(chǎn)生彼此推壓的力，防護膜組件1100的粘接層1143與光掩模7500被粘接。(圖26(a))

接下來，在第2框體1113的上方配置第1框體1111。在該階段，以粘接層1141與第1框體1111不接觸的方式配置。進一步，通過公知的機構，進行第2框體1113與第1框體1111的定位。通過定位，通過被第2框體1113包圍的開口部，以第1框體1111嵌入的方式配置。接下來，將排出管7220A和7220B各自的端部與將第2框體1113(框主體)的槽1114的內部進行減壓的2個貫通孔1114A和1114B分別連接。

接下來，通過從供給管7110向真空室7100內供給氣體，將真空室7100內加壓。同時，使與排出管7220A和7220B的在真空室7100外的端部連接的真空泵(未圖示)工作，通過排出管7220A和7220B、以及第2框體1113的2個貫通孔1114A和1114B，將在第2框體1113的上表面設置的槽1114的內部進行減壓。加壓和減壓的程度，以由真空室7100內的整體壓力、與槽1114的內部壓力之差(差壓)產(chǎn)生的第1框體1111與第2框體1113之間的彼此推壓的力(施加于第2框體1113整體的力)成為例如2N左右的方式調整。通過上述差壓，在第1框體1111與第2框體1113之間產(chǎn)生彼此推壓的力，第2框體1113的粘接層1141與第1框體1111被粘接(圖26(b))。

通過上述裁切，將第1框體1111與防護膜1101的復合構件在切口C1和C2切割成與第2框體1113相同尺寸。

如以上那樣操作，可以不與防護膜組件1100和光掩模7500的正面和背面接觸，而將兩者粘接。由此，可以抑制異物對防護膜組件1100和光掩模7500的附著，同時將兩者粘接。另外，上述各操作的順序也能夠適當替換。

(曝光方法)

使用上述實施方式涉及的防護膜組件，可以實現(xiàn)利用遠紫外光光刻進行的微細加工。將本發(fā)明涉及的防護膜組件配置于光掩模的中間掩模面，將光掩模配置于曝光裝置的規(guī)定位置，在與中間掩模面具有3mm以下距離的空隙收納防護膜組件，在真空下，對配置有防護膜組件的光掩模照射5nm以上30nm以下的光，將從配置有防護膜組件的光掩模的中間掩模面射出的光照射到形成有抗蝕劑層的基材，從而可以在抗蝕劑上使圖案曝光。

本發(fā)明涉及的防護膜組件的防護膜是膜厚為20nm以上50nm以下的以往所沒有的薄的膜，因此如以往的防護膜組件那樣用手固定于光掩模是困難的。因此，需要使用專用的粘貼裝置，非接觸方式的粘貼。

將粘貼了本發(fā)明涉及的防護膜組件的光掩模配置于曝光裝置的規(guī)定位置，在與中間掩模面具有3mm以下，特別是2.5mm距離的空隙收納防護膜組件。

在曝光裝置內導入形成有抗蝕劑層的基材，使曝光裝置內為10^-4～10^-6Pa左右的真空狀態(tài)。此時，空氣從粘貼于光掩模的本發(fā)明涉及的防護膜組件內流出。如上述那樣，本發(fā)明涉及的防護膜組件中，作為第2框體，使用截面具有L字形狀的構件，使過濾器的高度與第2框體的高度大致相等，從而在過濾器的背面不產(chǎn)生貫通孔以外的空隙，具有充分的密合性地配置過濾器，因此防護膜不被損傷，可以使防護膜組件內為真空狀態(tài)。

然后，對配置有防護膜組件的光掩模照射5nm以上30nm以下的EUV光。光掩模從中間掩模面向下層形成多層反射膜，因此入射到中間掩模面的EUV光通過多層反射膜反射，反映了在中間掩模面的吸收體形成有的圖案的EUV光從中間掩模面透過防護膜組件而射出。

將從光掩模的中間掩模面射出的光照射到形成有抗蝕劑層的基材，從而可以在抗蝕劑上使圖案曝光。由此，實現(xiàn)以往所沒有的微細加工。

符號的說明

100：防護膜組件，101：防護膜，105：基板、111：第1框體，113：第2框體，121：貫通孔，131：過濾器，133：粘貼留出部，135：通氣部，137：粘接層，141：粘接層，143：粘接層，151：襯墊，

200：防護膜組件，201：防護膜，205：基板、211：第1框體，213：第2框體，221：貫通孔，223：孔，225：槽部，231：過濾器，243：粘接層，251：襯墊，

300：防護膜組件，301：防護膜，305：基板、311：第1框體，313：第2框體，321：貫通孔，331：過濾器，341：粘接層，343：粘接層，351：襯墊，

400：防護膜組件，401：防護膜，405：基板、411：第1框體，413：第2框體，421：貫通孔，431：過濾器，441：粘接層，443：粘接層，451：襯墊，

500：防護膜組件，501：防護膜，505：基板、511：第1框體，513：第2框體，521：貫通孔，523：孔，525：槽部，531：過濾器，543：粘接層，551：襯墊，

600：防護膜組件，601：防護膜，605：基板、611：第1框體，613：第2框體，621：貫通孔，623：第1開口，625：第2開口，627：孔，631：過濾器，643：粘接層，651：襯墊，

700：防護膜組件，701：防護膜，705：基板、711：第1框體，713：第2框體，721：貫通孔，723：第1開口，725：第2開口，727：孔，731：過濾器，743：粘接層，751：襯墊，

800：防護膜組件，801：防護膜，805：基板、811：第1框體，813：第2框體，821：貫通孔，823：孔，831：過濾器，841：粘接層，843：粘接層，851：襯墊，

900：防護膜組件，901：防護膜，911：第1框體，913：第2框體，921：貫通孔，923：孔，931：過濾器，941：粘接層，943：粘接層，951：襯墊，

1000：防護膜組件，1001：防護膜，1011：第1框體，1013：第2框體，1021：貫通孔，1023：孔，1031：過濾器，1041：粘接層，1043：粘接層，1051：襯墊，

1100：防護膜組件，1101：防護膜，1111：第1框體，1113：第2框體，1121：貫通孔，1131：過濾器，1141：粘接層，1143：粘接層，1151：襯墊，

5000：防護膜組件制造裝置，5100：真空室，5200：載置臺，5110：供給管，5120A：排出管，5120B：排出管，

6000：光掩模制造裝置，6100：真空室，6110：供給管，6120A：排出管，6120B：排出管，6500：光掩模，

7000：光掩模制造裝置，7100：真空室，7110：供給管，7120A：排出管，7120B：排出管，7220A：排出管，7220B：排出管，7500：光掩模，

1800：防護膜組件，1801：防護膜，1811：第1框體，1813：第2框體，1821：貫通孔，1831：過濾器，1841：粘接層，1843：粘接層，1851：襯墊，1890：間隙，1900：防護膜組件，1901：防護膜，1911：第1框體，1913：第2框體，1921：貫通孔，1919：粘接層，1943：粘接層，1951：襯墊，1990：間隙。