1.一種防護(hù)膜組件，其特征在于，具備：
配置有防護(hù)膜的第1框體；
支持所述第1框體的第2框體；
貫通所述第1框體的貫通孔；以及
在所述第1框體的配置有所述防護(hù)膜的面?zhèn)雀采w所述貫通孔的過濾器。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的防護(hù)膜組件，其特征在于，所述貫通孔貫通所述防護(hù)膜，
所述過濾器配置在所述防護(hù)膜上。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的防護(hù)膜組件，其特征在于，所述過濾器與所述防護(hù)膜相鄰地配置在所述第1框體上。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的防護(hù)膜組件，其特征在于，以所述過濾器的上表面與所述防護(hù)膜成為同一面的方式，在所述第1框體上配置所述過濾器。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的防護(hù)膜組件，其特征在于，所述第1框體在與所述第2框體對(duì)置的面，具有與所述貫通孔連接的槽部，
所述槽部通過與所述第2框體的結(jié)合而形成與所述貫通孔連接的孔，
所述孔在所述第1框體的內(nèi)側(cè)的面具有開口。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的防護(hù)膜組件，其特征在于，所述第2框體具有在與所述第1框體對(duì)置的面配置的第1開口、和在所述第2框體的內(nèi)側(cè)的面配置的第2開口，
2個(gè)所述開口通過在所述第2框體的內(nèi)部配置的孔被連接，
所述第1開口與所述貫通孔連接。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的防護(hù)膜組件，其特征在于，所述第2框體在與所述第1框體對(duì)置的面具有與所述貫通孔連接的槽部，
所述槽部通過與所述第1框體的結(jié)合而形成與所述貫通孔連接的孔，
所述孔在所述第2框體的內(nèi)側(cè)的面具有開口。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的防護(hù)膜組件，其特征在于，所述防護(hù)膜對(duì)13.5nm的波長的光具有90.0％以上的透射率，膜厚為20nm以上50nm以下。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的防護(hù)膜組件，其特征在于，高度為2mm以下。
10.一種防護(hù)膜組件的制造方法，其特征在于，在基板上形成防護(hù)膜，
除去規(guī)定位置的所述防護(hù)膜以使所述基板露出，
除去所述基板的一部分，使所述防護(hù)膜露出而形成第1框體，在所述規(guī)定位置形成貫通所述第1框體的貫通孔，
在所述第1框體的配置有所述防護(hù)膜的面?zhèn)?，配置覆蓋所述貫通孔的過濾器，
以所述第1框體側(cè)的所述貫通孔開口的方式，經(jīng)由粘接層將所述第1框體固定于第2框體。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的防護(hù)膜組件的制造方法，其特征在于，所述貫通孔在所述規(guī)定位置貫通所述防護(hù)膜而形成，
在所述防護(hù)膜上，配置覆蓋所述貫通孔的過濾器。
12.根據(jù)權(quán)利要求10所述的防護(hù)膜組件的制造方法，其特征在于，與所述防護(hù)膜相鄰地在所述第1框體上配置所述過濾器。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的防護(hù)膜組件的制造方法，其特征在于，以所述過濾器的上表面與所述防護(hù)膜成為同一面的方式，在所述第1框體上配置所述過濾器。
14.根據(jù)權(quán)利要求10所述的防護(hù)膜組件的制造方法，其特征在于，在所述第1框體的與所述第2框體對(duì)置的面，形成與所述貫通孔連接的槽部，
經(jīng)由粘接層將所述第1框體固定于第2框體，形成與所述貫通孔連接并且在所述第1框體的內(nèi)側(cè)的面具有開口的孔。
15.根據(jù)權(quán)利要求10所述的防護(hù)膜組件的制造方法，其特征在于，在所述第2框體的與所述第1框體對(duì)置的面形成第1開口，
在所述第2框體的內(nèi)側(cè)的面形成第2開口，
在所述第2框體的內(nèi)部形成連接2個(gè)所述開口的孔，
將所述第1開口與所述貫通孔連接。
16.根據(jù)權(quán)利要求10所述的防護(hù)膜組件的制造方法，其特征在于，在所述第2框體的與所述第1框體對(duì)置的面，形成與所述貫通孔連接的槽部，
經(jīng)由粘接層將所述第1框體固定于第2框體，形成與所述貫通孔連接并且在所述第2框體的內(nèi)側(cè)的面具有開口的孔。
17.根據(jù)權(quán)利要求10所述的防護(hù)膜組件的制造方法，其特征在于，將膜厚為20nm以上50nm以下的所述防護(hù)膜形成在所述基板上，
所述防護(hù)膜對(duì)13.5nm的波長的光具有90.0％以上的透射率。
18.根據(jù)權(quán)利要求10所述的防護(hù)膜組件的制造方法，其特征在于，使高度為2mm以下。
19.一種曝光方法，其特征在于，將權(quán)利要求1所述的防護(hù)膜組件配置于光掩模的中間掩模面，
將所述光掩模配置在曝光裝置的規(guī)定位置，在與所述中間掩模面具有3mm以下距離的空隙收納所述防護(hù)膜組件，
在真空下，對(duì)配置有所述防護(hù)膜組件的所述光掩模照射13.5nm的光，
將從配置有所述防護(hù)膜組件的所述光掩模的所述中間掩模面射出的光照射到形成有抗蝕劑層的基材。