本發(fā)明涉及低摩擦構(gòu)件,特別是復(fù)印機(jī)、打印機(jī)、傳真機(jī)等電子照片裝置的定影裝置所使用的低摩擦構(gòu)件。
背景技術(shù):
就打印機(jī)、復(fù)印機(jī)、傳真機(jī)等電子照片圖像形成而言,需要一邊將形成未定影調(diào)色劑圖像的記錄紙等通過圖像定影裝置,一邊將未定影調(diào)色劑圖像加熱加壓使之在記錄紙等上定影。作為這樣的圖像定影方式,使用耐熱性樹脂制造的管狀膜的帶輥隙方式(ベルトニップ方式)是公知的。就該帶輥隙方式而言,使用以低摩擦片覆蓋表面的彈性體,使管狀膜從其內(nèi)側(cè)推壓驅(qū)動(dòng)式定影輥,從而在定影輥和管狀膜之間形成輥隙。并且,就該帶輥隙方式而言,形成調(diào)色劑圖像的記錄紙?jiān)谕ㄟ^該輥隙時(shí),將調(diào)色劑圖像在記錄紙上定影。
過去,在上述帶輥隙方式中,為了控制管狀膜與低摩擦片的摩擦系數(shù),“使用包覆氟樹脂的玻璃纖維片將彈性體的表面覆蓋”被提議(參見例如,日本特開平10-213984號(hào)公報(bào)和日本特開2001-249558號(hào)公報(bào)等)?,F(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)
專利文獻(xiàn)
專利文獻(xiàn)1:日本特開平10-213984號(hào)公報(bào)
專利文獻(xiàn)2:日本特開2001-249558號(hào)公報(bào)
技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:
發(fā)明要解決的技術(shù)問題
但是,這樣的包覆氟樹脂的玻璃纖維片比較快地裸露出玻璃纖維,失去低摩擦性。像這樣包覆氟樹脂的玻璃纖維片的低摩擦性失去的話,定影輥的驅(qū)動(dòng)轉(zhuǎn)矩變大,進(jìn)而對其它零件的負(fù)荷變大。并且,在最壞的情況下,定影裝置破損。
本發(fā)明的課題是提供即使較長期使用也不容易失去低摩擦性的低摩擦構(gòu)件。
解決技術(shù)問題的技術(shù)手段
本發(fā)明的第一方面所涉及的低摩擦構(gòu)件至少由潤滑性材料和聚酰亞胺樹脂形成。另外,該低摩擦構(gòu)件優(yōu)選為低摩擦片自身、或具有摩擦片或低摩擦涂層的構(gòu)件,無論是哪種實(shí)施方式都可以達(dá)到一樣的效果。在此情況下,低摩擦片或低摩擦涂層優(yōu)選厚度在10μm以上且200μm以下的范圍內(nèi)。而且,該低摩擦構(gòu)件的表面粗糙度Rsk為0.500以上,且潤滑性材料的表面露出率為15.0%以上。另外,本發(fā)明的第一方面所涉及的低摩擦構(gòu)件的表面粗糙度Rsk也可以在0.500以上且5.000以下的范圍內(nèi),潤滑性材料的表面露出率也可以在15.0%以上且100.0%以下的范圍內(nèi)。另外,該低摩擦構(gòu)件的表面可以完全被潤滑性材料覆蓋,也可以成為具有潤滑性材料相和耐熱性樹脂相的混合相表面。
然而,這樣的低摩擦構(gòu)件通過將中值粒徑不同的至少兩種潤滑性材料制成的粉末與聚酰亞胺樹脂或聚酰亞胺樹脂的前體混合后煅燒而得到。并且,在如上所述制作本發(fā)明所涉及的低摩擦構(gòu)件時(shí),作為中值粒徑不同的至少兩種潤滑性材料制成的粉末,優(yōu)選使用中值粒徑在10μm以上且100μm以下的范圍內(nèi)的第一潤滑性粉末和中值粒徑在0.1μm以上且5μm以下的范圍內(nèi)的第二潤滑性粉末。同時(shí),在此情況下,按照體積比計(jì)算,相對于聚酰亞胺樹脂、第一潤滑性粉末和第二潤滑性粉末的存在區(qū)域(即,至少由聚酰亞胺樹脂、第一潤滑性粉末和第二潤滑性粉末形成的區(qū)域,例如,低摩擦片、低摩擦涂層、低摩擦塊等)的總體積,優(yōu)選第一潤滑性粉末的添加比在0.1體積%以上且40體積%以下的范圍內(nèi)。另一方面,按照體積比率計(jì)算,相對于上述總體積,優(yōu)選第二潤滑性粉末的添加比在10%體積以上且80體積%以下的范圍內(nèi)。
本發(fā)明人悉心研究的結(jié)果表明,即使較長期使用具有上述特性的低摩擦構(gòu)件,也不容易失去低摩擦性。
另外,在本發(fā)明的第一方面所涉及的低摩擦構(gòu)件中,潤滑性材料優(yōu)選為氟樹脂。
同時(shí),本發(fā)明所涉及的低摩擦構(gòu)件優(yōu)選滑動(dòng)磨損試驗(yàn)(JIS K 7218)中10分鐘后的動(dòng)摩擦系數(shù)為0.1300以下。另外,該動(dòng)摩擦系數(shù)越低越優(yōu)選,然而,也可以在0.0500以上且0.1300以下的范圍內(nèi)。
同時(shí),本發(fā)明的第一方面所涉及的低摩擦構(gòu)件優(yōu)選10分鐘后的動(dòng)摩擦系數(shù)相對于初期動(dòng)摩擦系數(shù)的變化率為120%以下。另外,該動(dòng)摩擦系數(shù)的變化率越低越優(yōu)選,然而,也可以在80%以上且120%以下的范圍內(nèi)。
同時(shí),本發(fā)明的第一方面所涉及的低摩擦構(gòu)件優(yōu)選滑動(dòng)磨損試驗(yàn)(JIS K 7218)中100分鐘后的動(dòng)摩擦系數(shù)為0.1800以下。另外,該動(dòng)摩擦系數(shù)越低越優(yōu)選,然而,也可以在0.0500以上且0.1800以下的范圍內(nèi)。
同時(shí),本發(fā)明的第一方面所涉及的低摩擦構(gòu)件優(yōu)選100分鐘后的動(dòng)摩擦系數(shù)相對于初期動(dòng)摩擦系數(shù)的變化率為180%以下。另外,該動(dòng)摩擦系數(shù)的變化率越低越優(yōu)選,然而,也可以在70%以上且180%以下的范圍內(nèi)。
同時(shí),在本發(fā)明的第一方面所涉及的低摩擦構(gòu)件中,優(yōu)選表面粗糙度Rsk為0.900以上。另外,就本發(fā)明所涉及的低摩擦構(gòu)件而言,表面粗糙度Rsk也可以在0.900以上且5.000以下的范圍內(nèi)。在此情況下,在該低摩擦構(gòu)件中,優(yōu)選滑動(dòng)磨損試驗(yàn)(JIS K 7218)中10分鐘后的動(dòng)摩擦系數(shù)為小于0.1000。另外,該動(dòng)摩擦系數(shù)越低越優(yōu)選,然而,也可以在0.0500以上且小于0.1000的范圍內(nèi)。同時(shí),在此情況下,在該低摩擦構(gòu)件中,10分鐘后的動(dòng)摩擦系數(shù)相對于初期動(dòng)摩擦系數(shù)的變化率優(yōu)選為120%以下。另外,該動(dòng)摩擦系數(shù)的變化率越低越優(yōu)選,然而,優(yōu)選在80%以上且120%以下的范圍內(nèi)。同時(shí),在此情況下,在該低摩擦構(gòu)件中,優(yōu)選滑動(dòng)磨損試驗(yàn)(JIS K 7218)中100分鐘后的動(dòng)摩擦系數(shù)為小于0.1000。另外,該動(dòng)摩擦系數(shù)越低越優(yōu)選,然而,也可以在0.0500以上且小于0.1000的范圍內(nèi)。進(jìn)一步地,在此情況下,在該低摩擦構(gòu)件中,優(yōu)選100分鐘后的動(dòng)摩擦系數(shù)相對于初期動(dòng)摩擦系數(shù)的變化率為110%以下。另外,該動(dòng)摩擦系數(shù)的變化率越低越優(yōu)選,然而,也可以在70%以上且110%以下的范圍內(nèi)。
同時(shí),在本發(fā)明的第一方面所涉及的低摩擦構(gòu)件中,優(yōu)選潤滑性材料的表面露出率為35.0%以上。另外,如上所述,就本發(fā)明所涉及的低摩擦構(gòu)件而言,潤滑性材料的表面露出率也可以在35.0%以上且100.0%以下的范圍內(nèi)。在此情況下,在該低摩擦構(gòu)件中,優(yōu)選滑動(dòng)磨損試驗(yàn)(JIS K 7218)中10分鐘后的動(dòng)摩擦系數(shù)為小于0.0800。另外,該動(dòng)摩擦系數(shù)越低越優(yōu)選,然而,也可以在0.0500以上且小于0.0800的范圍內(nèi)。同時(shí),在此情況下,在該低摩擦構(gòu)件中,優(yōu)選10分鐘后的動(dòng)摩擦系數(shù)相對于初期動(dòng)摩擦系數(shù)的變化率為110%以下。另外,該動(dòng)摩擦系數(shù)的變化率越低越優(yōu)選,然而,也可以在90%以上且110%以下的范圍內(nèi)。同時(shí),在此情況下,優(yōu)選滑動(dòng)磨損試驗(yàn)(JIS K 7218)中100分鐘后的動(dòng)摩擦系數(shù)為小于0.0800。另外,該動(dòng)摩擦系數(shù)越低越優(yōu)選,然而,也可以在0.0500以上且小于0.0800的范圍內(nèi)。進(jìn)一步地,在此情況下,在該低摩擦構(gòu)件中,優(yōu)選100分鐘后的動(dòng)摩擦系數(shù)相對于初期動(dòng)摩擦系數(shù)的變化率為110%以下。另外,該動(dòng)摩擦系數(shù)的變化率越低越優(yōu)選,然而,也可以在70%以上且110%以下的范圍內(nèi)。
同時(shí),在本發(fā)明的第一方面所涉及的低摩擦構(gòu)件中,潤滑性材料的表面露出率在35.0%以上且100.0%以下的范圍內(nèi)的情況下,優(yōu)選表面粗糙度Rsk大于1.400。另外,在此情況下,表面粗糙度Rsk也可以在大于1.400且5.000以下的范圍內(nèi)。
另一方面,在本發(fā)明的第一方面所涉及的低摩擦構(gòu)件中,潤滑性材料的表面露出率在35.0%以上且100.0%以下的范圍內(nèi)的情況下,表面粗糙度Rsk優(yōu)選在0.900以上且1.400以下的范圍內(nèi)。在此情況下,優(yōu)選的是,就本發(fā)明所涉及的低摩擦構(gòu)件而言,滑動(dòng)磨損試驗(yàn)(JIS K 7218)中10分鐘后的動(dòng)摩擦系數(shù)比初期動(dòng)摩擦系數(shù)小,在同一個(gè)滑動(dòng)磨損試驗(yàn)(JIS K 7218)中100分鐘后的動(dòng)摩擦系數(shù)也比10分鐘后的動(dòng)摩擦系數(shù)小。
同時(shí),本發(fā)明的第二方面所涉及的低摩擦構(gòu)件至少由潤滑性材料和聚酰亞胺樹脂形成。另外,該低摩擦構(gòu)件優(yōu)選為低摩擦片自身、或具有摩擦片或低摩擦涂層的構(gòu)件。在此情況下,低摩擦片或低摩擦涂層優(yōu)選厚度在10μm以上且200μm以下的范圍內(nèi)。并且,該低摩擦構(gòu)件為,滑動(dòng)磨損試驗(yàn)(JIS K 7218)中10分鐘后的動(dòng)摩擦系數(shù)為0.1000以下,且10分鐘后的動(dòng)摩擦系數(shù)相對于初期動(dòng)摩擦系數(shù)的變化率在190%以下的范圍內(nèi)。
然而,這樣的低摩擦構(gòu)件是通過將中值粒徑不同的至少兩種潤滑性材料制成的粉末與聚酰亞胺樹脂或聚酰亞胺樹脂的前體混合后煅燒而得到的。并且,在如上所述制作本發(fā)明所涉及的低摩擦構(gòu)件時(shí),作為中值粒徑不同的至少兩種潤滑性材料制成的粉末,優(yōu)選使用中值粒徑在10μm以上且100μm以下的范圍內(nèi)的第一潤滑性粉末和中值粒徑在0.1μm以上且5μm以下的范圍內(nèi)的第二潤滑性粉末。同時(shí),在此情況下,按照體積比計(jì)算,優(yōu)選相對于聚酰亞胺樹脂、第一潤滑性粉末和第二潤滑性粉末的存在區(qū)域(即,至少由聚酰亞胺樹脂、第一潤滑性粉末和第二潤滑性粉末形成的區(qū)域,例如,低摩擦片、低摩擦涂層、低摩擦塊等)的總體積,第一潤滑性粉末的添加比在0.1體積%以上且40體積%以下的范圍內(nèi)。另一方面,按照體積比率計(jì)算,相對于上述總體積,優(yōu)選第二潤滑性粉末的添加比在10體積%以上且80體積%以下的范圍內(nèi)。
同時(shí),在本發(fā)明的第二方面所涉及的低摩擦構(gòu)件中,優(yōu)選10分鐘后的動(dòng)摩擦系數(shù)相對于初期動(dòng)摩擦系數(shù)的變化率在120%以下的范圍內(nèi)。另外,該動(dòng)摩擦系數(shù)的變化率越低越優(yōu)選,然而,也可以在80%以上且120%以下的范圍內(nèi)。
同時(shí),在本發(fā)明的第二方面所涉及的低摩擦構(gòu)件中,優(yōu)選滑動(dòng)磨損試驗(yàn)(JIS K 7218)中100分鐘后的動(dòng)摩擦系數(shù)為0.1800以下。另外,該動(dòng)摩擦系數(shù)越低越優(yōu)選,然而,也可以在0.0500以上且0.1800以下的范圍內(nèi)。
同時(shí),在本發(fā)明的第二方面所涉及的低摩擦構(gòu)件中,優(yōu)選上述100分鐘后的動(dòng)摩擦系數(shù)相對于初期動(dòng)摩擦系數(shù)的變化率為180%以下。另外,該動(dòng)摩擦系數(shù)的變化率越低越優(yōu)選,然而,也可以在70%以上且180%以下的范圍內(nèi)。
同時(shí),在本發(fā)明的第二方面所涉及的低摩擦構(gòu)件中,優(yōu)選滑動(dòng)磨損試驗(yàn)(JIS K 7218)中10分鐘后的動(dòng)摩擦系數(shù)比初期動(dòng)摩擦系數(shù)小,滑動(dòng)磨損試驗(yàn)(JIS K 7218)中100分鐘后的動(dòng)摩擦系數(shù)也比前述10分鐘后的動(dòng)摩擦系數(shù)小。
同時(shí),在本發(fā)明的第二方面所涉及的低摩擦構(gòu)件中,優(yōu)選潤滑性材料是氟樹脂。
同時(shí),在本發(fā)明的第二方面所涉及的低摩擦構(gòu)件中,優(yōu)選表面粗糙度Rsk為0.500以上,且潤滑性材料的表面露出率為15.0%以上。
權(quán)利要求34至39任一項(xiàng)所記載的低摩擦構(gòu)件。另外,就本發(fā)明的第二方面所涉及的低摩擦構(gòu)件而言,表面粗糙度Rsk也可以在0.500以上且5.000以下的范圍內(nèi),潤滑性材料的表面露出率也可以在15.0%以上且100.0%以下的范圍內(nèi)。另外,該低摩擦構(gòu)件的表面可以完全被潤滑性材料覆蓋,也可以成為具有潤滑性材料相和耐熱性樹脂相的混合相表面。
并且,本發(fā)明的第三方面所涉及的圖像形成裝置配備有上述第一方面和第二方面所涉及的低摩擦構(gòu)件。另外,在此情況下,該低摩擦構(gòu)件可以作為滑動(dòng)性構(gòu)件等使用。
本發(fā)明的第四方面所涉及的低摩擦覆膜形成劑為,相對于聚酰亞胺前體溶液,添加有“中值粒徑在10μm以上且100μm以下的范圍內(nèi)的潤滑性粉末”和“中值粒徑在0.1μm以上且5μm以下的范圍內(nèi)的潤滑性粉末”的低摩擦覆膜形成劑,聚酰亞胺前體溶液至少含有上述兩種不同中值粒徑的潤滑性粉末。將該低摩擦覆膜形成劑涂布于基材或基板等之后,通過煅燒可以得到本發(fā)明的第一方面和第二方面所涉及的低摩擦構(gòu)件。
附圖說明
圖1是本發(fā)明的一種實(shí)施方式所涉及的低摩擦構(gòu)件的表面附近的結(jié)構(gòu)的示意圖。
圖2是本發(fā)明的實(shí)施方式所涉及的應(yīng)用例1所涉及的定影帶式定影裝置的縱剖面圖。
圖3是本發(fā)明的實(shí)施方式所涉及的應(yīng)用例2所涉及的加壓帶式定影裝置的縱剖面圖。
圖4是本發(fā)明的實(shí)施方式所涉及的應(yīng)用例3所涉及的彩色圖像定影裝置的縱剖面圖。
圖5是本發(fā)明的實(shí)施方式所涉及的應(yīng)用例4所涉及的彩色圖像定影裝置的縱剖面圖。
圖6是本發(fā)明的實(shí)施方式所涉及的應(yīng)用例5所涉及的帶式定影裝置的縱剖面圖。
圖7是本發(fā)明的實(shí)施方式所涉及的應(yīng)用例6所涉及的帶式定影裝置的縱剖面圖。
圖8是本發(fā)明的實(shí)施方式所涉及的應(yīng)用例7所涉及的定影帶式定影裝置的縱剖面圖。
圖9是本發(fā)明的實(shí)施方式所涉及的應(yīng)用例8所涉及的帶式定影裝置的縱剖面圖。
圖10是本發(fā)明的實(shí)施方式所涉及的應(yīng)用例9所涉及的彩色圖像定影裝置的縱剖面圖。
圖11是本發(fā)明的實(shí)施方式所涉及的應(yīng)用例10所涉及的定影帶式定影裝置的縱剖面圖。
圖12是本發(fā)明的實(shí)施方式所涉及的應(yīng)用例11所涉及的定影輥式定影裝置的縱剖面圖。
符號(hào)說明
100 定影帶式定影裝置(圖像形成裝置)
110 加壓帶式定影裝置(圖像形成裝置)
120 彩色圖像定影裝置(圖像形成裝置)
130 彩色圖像定影裝置(圖像形成裝置)
140 帶式定影裝置(圖像形成裝置)
150 帶式定影裝置(圖像形成裝置)
160 定影帶式定影裝置(圖像形成裝置)
170 帶式定影裝置(圖像形成裝置)
180 定影帶式定影裝置(圖像形成裝置)
190 定影帶式定影裝置(圖像形成裝置)
200 定影輥式定影裝置(圖像形成裝置)
LS 低摩擦構(gòu)件
MR 耐熱性樹脂
PL 大粒徑潤滑性顆粒
PS 小粒徑潤滑性顆粒
具體實(shí)施方式
以下參見附圖進(jìn)行說明。另外,圖中相同或相當(dāng)部分以同樣的符號(hào)表示,為了避免重復(fù)說明,不再反復(fù)進(jìn)行該說明。
低摩擦構(gòu)件的細(xì)節(jié)
(1)低摩擦構(gòu)件的構(gòu)成
本發(fā)明的實(shí)施方式所涉及的低摩擦構(gòu)件是例如“低摩擦片自身”、“由低摩擦片覆蓋的構(gòu)件”、“具有低摩擦涂層的構(gòu)件”等。并且,該低摩擦片和低摩擦涂層(以下簡稱“低摩擦片等”)至少由潤滑性材料和耐熱性樹脂形成。并且,該低摩擦片等兼具15%以上的潤滑性材料的表面露出率以及0.500以上的表面粗糙度Rsk。
作為構(gòu)成本發(fā)明的實(shí)施方式所涉及的低摩擦片等的耐熱性樹脂,可以列舉例如:聚酰亞胺樹脂、聚酰胺-酰亞胺樹脂、聚醚酰亞胺樹脂、聚醚砜樹脂、聚醚醚酮樹脂、酚樹脂、硅橡膠、聚亞苯基硫醚、液晶聚合物等。這些耐熱性樹脂可以單獨(dú)使用,也可以將兩種以上混合使用。另外,根據(jù)使用環(huán)境和目的,該耐熱性樹脂可以從上述選擇項(xiàng)等中酌情選擇,其中優(yōu)選為聚酰亞胺樹脂。
聚酰亞胺樹脂可以通過下述方法得到,例如:將芳香四甲酸二酐和芳香二胺在有機(jī)極性溶劑中反應(yīng),得到聚酰亞胺前體溶液,其后,將該溶液涂布,通過加熱等進(jìn)行有機(jī)極性溶劑的干燥和酰亞胺化處理。
作為芳香族四甲酸二酐,可以列舉但不限于下述芳香族四甲酸二酐:均苯四甲酸二酐、3,3′,4,4′-聯(lián)苯四甲酸二酐、3,3′,4,4′-二苯甲酮四甲酸二酐、2,3,4,4′-聯(lián)苯四甲酸二酐、2,3,6,7-萘四甲酸二酐、1,2,5,6-萘四甲酸二酐、2,2-雙(3,4-二羧基苯基)醚二酐,或它們的四甲酸酯,上述各四甲酸類的混合物等。
作為芳香族二胺,可以列舉但不限于下述芳香族二胺:對苯二胺、間苯二胺、4,4′-二氨基二苯醚、4,4′-二氨基苯甲烷、聯(lián)苯胺、3,3′-二氨基二苯甲烷、3,3′-二甲氧基聯(lián)苯胺、4,4′-二氨基二苯丙烷、2,2-雙[4(4-氨基苯氧基)苯基]丙烷等。
作為有機(jī)極性溶劑,可以列舉但不限于下述有機(jī)極性溶劑:二甲基乙酰胺、二甲基甲酰胺、N-甲基-2-吡咯烷酮、酚、鄰甲酚、間甲酚、對甲酚等。在這些有機(jī)性溶劑中,也可以混合二甲苯、己烷、甲苯等烴類(碳?xì)浠衔?等。
作為構(gòu)成本發(fā)明的實(shí)施方式所涉及的低摩擦片等的潤滑性材料,可以列舉例如:氟樹脂、石墨、二硫化鉬、氮化硼(BN)等。這些潤滑性材料可以單獨(dú)使用,也可以將兩種以上混合使用。另外,根據(jù)使用環(huán)境和目的,該潤滑性材料可以從上述選擇項(xiàng)等中酌情選擇,其中優(yōu)選為氟樹脂。因?yàn)槟p的氟樹脂在定影帶內(nèi)周面上滯留,可以起到潤滑劑的作用。
(2)低摩擦構(gòu)件的制造方法
本發(fā)明的實(shí)施方式所涉及的低摩擦片等可以通過涂布工序和形成覆膜工序進(jìn)行制作。另外,低摩擦片等的制造方法只不過是一個(gè)實(shí)例,并不是唯一的。
就涂布工序而言,將向耐熱性樹脂或耐熱性樹脂的前體的溶液添加了中值粒徑不同的至少兩種潤滑性材料制成的粉末的溶液(以下簡稱“含有不同粒徑的潤滑性粉末的耐熱性樹脂等溶液”)均勻涂布在基材或基板上。另外,作為此時(shí)的涂布方法,不受到特別限制,可以列舉下述公知的方法:旋轉(zhuǎn)涂布法、擠出涂布法、凹版涂布法、模具涂布法、狹縫涂布法、棒式涂布法、涂覆器涂布法等涂布法;柔版法等印刷法等。同時(shí),作為此時(shí)的基材的形狀,可以是:板狀、曲面狀、L字形狀、圓筒狀、圓柱狀等以及將上述形狀復(fù)合的形狀等任意形狀。另外,該基材也可以是發(fā)泡體等形式。作為基材的材質(zhì),不受到特別限制,可以使用例如:不銹鋼、鋁、鋁合金、銅、銅合金、鎳、鐵、磁性不銹鋼和鈷-鎳合金等金屬材料;硅橡膠和氟橡膠等橡膠材料;聚醚砜、聚苯硫醚、液晶聚合物、聚醚腈、聚酰亞胺、芳香族聚酰胺、聚酰胺亞胺、聚醚醚酮、聚酯和聚對苯二甲酸乙二醇酯等樹脂材料;導(dǎo)電陶瓷、石墨(黑鉛)、導(dǎo)電碳和金屬粉等導(dǎo)電材料;絕緣陶瓷(玻璃)等絕緣材料。
就形成覆膜工序而言,將在涂布工序中的基材上或基板上的涂布液膜加熱、煅燒而形成覆膜。另外,在此,通過從基板剝離覆膜得到低摩擦片。其后,該低摩擦片也可以通過粘接劑等粘貼在所要求的構(gòu)件上。同時(shí),具有低摩擦涂層的構(gòu)件可以不從基材剝離覆膜直接得到而將其直接使用。
并且,推測如上所述得到的低摩擦片等具有基本上如圖4所示的結(jié)構(gòu)。但是,在潤滑性材料是氟樹脂等在形成覆膜工序中通過加熱、煅燒會(huì)熔化(熔融)的材料的情況下,推測具有更為復(fù)雜的結(jié)構(gòu)。另外,圖1中,符號(hào)LS表示低摩擦構(gòu)件,符號(hào)PL表示大粒徑潤滑性粉末,符號(hào)PS表示小粒徑潤滑性粉末,符號(hào)MR表示耐熱性樹脂(基體樹脂)。
低摩擦構(gòu)件的特性
本發(fā)明的實(shí)施方式所涉及的低摩擦構(gòu)件具有0.500以上的表面粗糙度Rsk,同時(shí)具有15.0%以上的潤滑性材料的表面露出率。該低摩擦構(gòu)件兼具這兩種特性,從而與以前的包覆氟樹脂的玻璃纖維片相比,顯示出優(yōu)異的動(dòng)摩擦特性。
在本發(fā)明的實(shí)施方式所涉及的低摩擦構(gòu)件中,特別優(yōu)選兼具0.900以上且1.400以下的范圍內(nèi)的表面粗糙度Rsk和35.0%以上的潤滑性材料的表面露出率的低摩擦構(gòu)件。因?yàn)榫邆湓撎匦缘牡湍Σ翗?gòu)件,不僅顯示出0.0800以下的初期動(dòng)摩擦系數(shù),而且在摩擦磨損加速試驗(yàn)中,隨著時(shí)間的流逝,動(dòng)摩擦系數(shù)具有逐漸變低的趨勢。
同時(shí),在本發(fā)明的實(shí)施方式所涉及的低摩擦構(gòu)件中,優(yōu)選兼具大于1.400的表面粗糙度Rsk和35.0%以上的潤滑性材料的表面露出率的低摩擦構(gòu)件。因?yàn)榫邆湓撎匦缘牡湍Σ翗?gòu)件,不僅顯示出0.0800以下的初期動(dòng)摩擦系數(shù),而且在摩擦磨損加速試驗(yàn)中,顯示出時(shí)間上極為穩(wěn)定的動(dòng)摩擦系數(shù)。
進(jìn)一步地,在本發(fā)明的實(shí)施方式所涉及的低摩擦構(gòu)件中,優(yōu)選兼具大于1.000的表面粗糙度Rsk和在15.0%以上且小于35.0%的范圍內(nèi)的潤滑性材料的表面露出率的低摩擦構(gòu)件。因?yàn)榫邆湓撎匦缘牡湍Σ翗?gòu)件,不僅顯示出在0.0800以上且小于0.1000的范圍內(nèi)的初期動(dòng)摩擦系數(shù),而且在摩擦磨損加速試驗(yàn)中,顯示出時(shí)間上極為穩(wěn)定的動(dòng)摩擦系數(shù)。
最后,在本發(fā)明的實(shí)施方式所涉及的低摩擦構(gòu)件中,優(yōu)選兼具在0.500以上且1.000以下的范圍內(nèi)的表面粗糙度Rsk和在15.0%以上且小于35.0%的范圍內(nèi)的潤滑性材料的表面露出率的低摩擦構(gòu)件。因?yàn)榫邆湓撎匦缘牡湍Σ翗?gòu)件,顯示出0.0800以下的初期動(dòng)摩擦系數(shù),在摩擦磨損加速試驗(yàn)中具有動(dòng)摩擦系數(shù)在長時(shí)間內(nèi)上升的趨勢,而在短時(shí)間內(nèi)顯示出極為穩(wěn)定的動(dòng)摩擦系數(shù)。
低摩擦構(gòu)件的應(yīng)用例
(1)應(yīng)用例1
本發(fā)明的實(shí)施方式所涉及的低摩擦構(gòu)件可以用于如圖2所示的定影帶式定影裝置100。如圖2所示,該定影帶式定影裝置100主要由定影帶101、導(dǎo)帶件102、加熱器103、熱敏電阻104和加壓輥105構(gòu)成。如圖2所示,在定影帶101的內(nèi)側(cè)設(shè)置有導(dǎo)帶件102,通過該導(dǎo)帶件102保持定影帶101的形狀。同時(shí),如圖2所示,在該定影帶式定影裝置100中,在定影帶101的內(nèi)側(cè)下部設(shè)置加熱器103,使加熱器103夾在導(dǎo)帶件102上。另外,在該加熱器103的上面配置有熱敏電阻104,加熱器103和熱敏電阻104都與控制裝置(未圖示)連接?;趶臒崦綦娮?04輸出的溫度數(shù)據(jù),控制裝置控制加熱器103的發(fā)熱溫度。如圖2所示,加壓輥105是在帶芯棒107上形成橡膠層106的輥,隔著定影帶101被推壓在加熱器103上。并且,如圖2表示,形成了未定影調(diào)色劑圖像Tn的記錄紙PP依次被送入定影帶101和加壓輥105之間,通過由加熱器103加熱的定影帶101將未定影調(diào)色劑依次加熱熔融,在記錄紙上未定影調(diào)色劑圖像Tn通過輥隙N得以定影(在圖2中,符號(hào)Th表示已定影的調(diào)色劑圖像)。
在如上所述的定影帶式定影裝置100中,本發(fā)明可以適用于導(dǎo)帶件102和加熱器103。例如,在導(dǎo)帶件102的與定影帶101接觸的面上,可以考慮設(shè)置本發(fā)明所涉及的低摩擦涂層或者粘貼本發(fā)明所涉及的低摩擦片。同時(shí),在優(yōu)良導(dǎo)熱材料上設(shè)置本發(fā)明所涉及的低摩擦涂層或者粘貼本發(fā)明所涉及的低摩擦片之后,也可以將此優(yōu)良導(dǎo)熱材料安裝在加熱器103的下面,使此低摩擦片等與定影帶101的內(nèi)周面接觸。
(2)應(yīng)用例2
本發(fā)明的實(shí)施方式所涉及的低摩擦構(gòu)件也可以應(yīng)用于如圖3所示的加壓帶式定影裝置110。如圖3所示,該加壓帶式定影裝置110主要由定影輥111、鹵素?zé)艏訜崞?12、加壓帶113和推壓結(jié)構(gòu)114構(gòu)成。定影輥是在帶芯棒111a上形成了橡膠層111b的輥。鹵素?zé)艏訜崞?12是加熱源,如圖3所示,其設(shè)置在定影輥111的內(nèi)部。同時(shí),如圖3所示,推壓結(jié)構(gòu)114主要由推壓墊114a、推壓墊支承構(gòu)件114b、施力構(gòu)件114c和支承臺(tái)114d構(gòu)成,設(shè)置在加壓帶113的內(nèi)側(cè)。如圖3所示,支承臺(tái)114d隔著施力構(gòu)件114c與推壓墊支承構(gòu)件114b連接。并且,如圖3所示,推壓墊114a安裝在此推壓墊支承構(gòu)件114b的前端部。并且,該推壓結(jié)構(gòu)114通過施力構(gòu)件114c的施力,從加壓帶113的內(nèi)側(cè)將推壓墊114a向加壓帶113推壓,將加壓帶113壓接在定影輥111上。就該加壓帶式定影裝置110而言,如上所述形成輥隙N。并且,如圖3所示,形成未定影調(diào)色劑圖像Tn的記錄紙PP依次被送入定影輥111與加壓帶113之間,通過由鹵素?zé)艏訜崞?12加熱的定影輥111將未定影調(diào)色劑依次加熱熔融,在記錄紙PP上的未定影調(diào)色劑圖像Tn通過輥隙N得以定影。
在這樣的加壓帶式定影裝置110中,本發(fā)明可以適用于推壓墊114a。例如,在推壓墊114a的與加壓帶113接觸的面上,可以考慮設(shè)置本發(fā)明所涉及的低摩擦涂層或者粘貼本發(fā)明所涉及的低摩擦片。
(3)應(yīng)用例3
本發(fā)明的實(shí)施方式所涉及的低摩擦構(gòu)件也可以應(yīng)用于如圖4所示的彩色圖像定影裝置120。如圖4所示,該彩色圖像定影裝置120主要由驅(qū)動(dòng)支承輥121、加熱器121a、從動(dòng)支承輥122、定影帶123、加壓輥124、加熱器124a和推壓結(jié)構(gòu)125構(gòu)成。如圖4所示,驅(qū)動(dòng)支承輥121在離從動(dòng)支承輥122一定距離的位置與從動(dòng)支承輥122相對設(shè)置。并且,如圖4所示,定影帶123橋接在驅(qū)動(dòng)支承輥121和從動(dòng)支承輥122上。同時(shí),如圖4所示,在該定影帶123的內(nèi)側(cè)的驅(qū)動(dòng)支承輥121與從動(dòng)支承輥122之間的空間的下部,設(shè)置推壓結(jié)構(gòu)125。如圖4所示,加壓輥124隔著定影帶123與推壓結(jié)構(gòu)125相對設(shè)置。加熱器122a設(shè)置在從動(dòng)支承輥122的內(nèi)部,加熱器124a設(shè)置在加壓輥124的內(nèi)部。推壓結(jié)構(gòu)125具有與應(yīng)用例2的推壓結(jié)構(gòu)114一樣的結(jié)構(gòu),如圖4所示,由推壓墊125a、推壓墊支承構(gòu)件125b、施力構(gòu)件(未圖示)和支承臺(tái)(未圖示)構(gòu)成。支承臺(tái)隔著施力構(gòu)件與推壓墊支承構(gòu)件125b連接。并且,在此推壓墊支承構(gòu)件125b的前端部安裝推壓墊125a。并且,該推壓結(jié)構(gòu)125通過施力構(gòu)件的施力,從定影帶123的內(nèi)側(cè)將推壓墊125a向定影帶123推壓,將定影帶123壓接在加壓輥124上。就該彩色圖像定影裝置120而言,如上所述形成輥隙N。并且,如圖4所示,形成未定影調(diào)色劑圖像的記錄紙PP依次被送入定影帶123和加壓輥124之間,通過由加熱器122a加熱的定影帶123和由加熱器124a加熱的加壓輥124,未定影調(diào)色劑依次加熱熔融,在記錄紙PP上未定影調(diào)色劑圖像Tn通過輥隙N得以定影。
在這樣的彩色圖像定影裝置120中,本發(fā)明可以適用于推壓墊125a。例如,在推壓墊125a的與加壓輥124接觸的面上,可以考慮設(shè)置本發(fā)明所涉及的低摩擦涂層或者粘貼本發(fā)明所涉及的低摩擦片。
(4)應(yīng)用例4
本發(fā)明的實(shí)施方式所涉及的低摩擦構(gòu)件也可以應(yīng)用于如圖5所示的彩色圖像定影裝置130。如圖5所示,該彩色圖像定影裝置130主要由定影輥131、鹵素?zé)艏訜崞鱄、加壓帶132、推壓結(jié)構(gòu)133、固定器134、固定器135、框架136、導(dǎo)帶件137和油墊138構(gòu)成。如圖5所示,定影輥131主要由帶芯棒131a、彈性層131b和脫模層131c構(gòu)成。并且,如圖5所示,在該定影輥131的內(nèi)部中央,內(nèi)置鹵素?zé)艏訜崞鱄。如圖5所示,推壓結(jié)構(gòu)133主要由推壓墊133a、基材板金133b、基材構(gòu)件133c、壓縮彈簧133d和分離構(gòu)件133e構(gòu)成。在基材構(gòu)件133c的背面,配置有壓縮彈簧133d。分離構(gòu)件133e是為了提高已定影的記錄紙PP的從定影輥131的分離性能的構(gòu)件,保持在固定器134、固定器135中。如圖5所示,固定器134主要保持推壓墊133a、基材板金133b、基材構(gòu)件133c、壓縮彈簧133d和分離構(gòu)件133e。固定器134、固定器135由在中央配置的金屬制的框架136保持。另外,固定器135也起到加壓帶132的導(dǎo)向構(gòu)件的作用。如圖5所示,導(dǎo)帶件137配置在加壓帶132的內(nèi)周面與推壓墊133a之間、以及在加壓帶132的內(nèi)周面與分離構(gòu)件133E之間。另外,如圖5所示,該導(dǎo)帶件137一端固定于框架136。并且,該導(dǎo)帶件137與加壓帶132的內(nèi)周面滑動(dòng)接觸。油墊138由海綿等形成,含有由硅油等形成的潤滑劑。并且,該油墊138保持于固定器135,被壓接在加壓帶132的內(nèi)周面上。并且,推壓結(jié)構(gòu)133通過壓縮彈簧133d的施力,從加壓帶132的內(nèi)側(cè)將推壓墊133a向?qū)Ъ?37推壓,將加壓帶132壓接在定影輥131上。就該彩色圖像定影裝置130而言,如上所述形成輥隙N。并且,如圖5所示,形成未定影調(diào)色劑圖像Tn的記錄紙PP依次被送入定影輥131和加壓帶132之間,通過由鹵素?zé)艏訜崞鱄加熱的定影輥131將未定影調(diào)色劑依次加熱熔融,在記錄紙PP上未定影調(diào)色劑圖像Tn通過輥隙N得以定影。
在這樣的彩色圖像定影裝置130中,本發(fā)明可以適用于導(dǎo)帶件137。例如,在導(dǎo)帶件137的外面即與加壓帶132接觸的面上,可以考慮設(shè)置本發(fā)明所涉及的低摩擦涂層或者粘貼本發(fā)明所涉及的低摩擦片。
應(yīng)用例5
本發(fā)明的實(shí)施方式所涉及的低摩擦構(gòu)件也可以應(yīng)用于如圖6所示的帶式定影裝置140。如圖6所示,該帶式定影裝置140主要由定影帶結(jié)構(gòu)141和加壓帶結(jié)構(gòu)142構(gòu)成。
如圖6所示,定影帶結(jié)構(gòu)141主要由定影側(cè)驅(qū)動(dòng)輥141a、電機(jī)M1、定影側(cè)從動(dòng)輥141b、定影帶141c、定影側(cè)推壓裝置141d、定影側(cè)潤滑劑供給構(gòu)件141e和鹵素?zé)艏訜崞?41f構(gòu)成。如圖6所示,定影側(cè)驅(qū)動(dòng)輥141a與電機(jī)M1連接,由電機(jī)M1旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)。如圖6所示,定影帶141c橋接在定影側(cè)驅(qū)動(dòng)輥141a和定影側(cè)從動(dòng)輥141b上。定影側(cè)從動(dòng)輥141b由定影側(cè)驅(qū)動(dòng)輥141a驅(qū)動(dòng)的定影帶141c驅(qū)動(dòng)。另外,該定影側(cè)從動(dòng)輥141b內(nèi)置鹵素?zé)艏訜崞?41f。定影側(cè)推壓裝置141d具有與應(yīng)用例2的推壓結(jié)構(gòu)114一樣的結(jié)構(gòu),由推壓墊(未圖示)、推壓墊支承構(gòu)件(未圖示)、施力構(gòu)件(未圖示)和支承臺(tái)(未圖示)構(gòu)成。支承臺(tái)隔著施力構(gòu)件連接在推壓墊支承構(gòu)件上。并且,在此推壓墊支承構(gòu)件的前端部安裝推壓墊。并且,該定影側(cè)推壓裝置141d通過施力構(gòu)件的施力,從定影帶141c的內(nèi)側(cè)將推壓墊推壓在定影帶141c上,將定影帶141c與加壓帶142c壓接。定影側(cè)潤滑劑供給構(gòu)件141e是與應(yīng)用例4的油墊138一樣的構(gòu)件,由海綿等形成,并且含有由硅油等形成的潤滑劑。并且,如圖6所示,該定影側(cè)潤滑劑供給構(gòu)件141e被壓接在定影帶141c的內(nèi)周面。
如圖6所示,加壓帶結(jié)構(gòu)142主要由加壓側(cè)驅(qū)動(dòng)輥142a、電機(jī)M2、加壓側(cè)從動(dòng)輥142b、加壓帶142c、加壓側(cè)推壓裝置142d和加壓側(cè)潤滑劑供給構(gòu)件142e構(gòu)成。如圖6所示,加壓側(cè)驅(qū)動(dòng)輥142a與電機(jī)M2連接,由電機(jī)M2旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)。另外,如圖6所示,該加壓側(cè)驅(qū)動(dòng)輥142a與定影側(cè)驅(qū)動(dòng)輥141a相鄰配置。如圖6所示,加壓帶142c橋接在加壓側(cè)驅(qū)動(dòng)輥142a和加壓側(cè)從動(dòng)輥142b上。并且,如圖6所示,該加壓帶142c部分地與定影帶141c相鄰配置。加壓側(cè)從動(dòng)輥142b由加壓側(cè)驅(qū)動(dòng)輥142a驅(qū)動(dòng)的加壓帶142c驅(qū)動(dòng)。加壓側(cè)推壓裝置142d具有與應(yīng)用例2的推壓結(jié)構(gòu)114一樣的結(jié)構(gòu),由推壓墊(未圖示)、推壓墊支承構(gòu)件(未圖示)、施力構(gòu)件(未圖示)和支承臺(tái)(未圖示)構(gòu)成。支承臺(tái)隔著施力構(gòu)件與推壓墊支承構(gòu)件連接。并且,在此推壓墊支承構(gòu)件的前端部安裝推壓墊。并且,該加壓側(cè)推壓裝置142d通過施力構(gòu)件的施力,從加壓帶142c的內(nèi)側(cè)將推壓墊推壓在加壓帶142c上,將加壓帶142c壓接在定影帶141c上。另外,如圖6所示,該加壓側(cè)推壓裝置142d與定影側(cè)推壓裝置141d相對配置。因此,可以說,該加壓側(cè)推壓裝置142d與定影側(cè)推壓裝置141d協(xié)同將加壓帶142c與定影帶141c壓接。就該帶式定影裝置140而言,如上所述形成輥隙N。加壓側(cè)潤滑劑供給構(gòu)件142e是與應(yīng)用例4的油墊138一樣的構(gòu)件,由海綿等形成,并且含有由硅油等形成的潤滑劑。并且,如圖6所示,該加壓側(cè)潤滑劑供給構(gòu)件142e壓接在加壓帶142c的內(nèi)周面。
并且,如圖6所示,形成未定影調(diào)色劑圖像的記錄紙PP依次被送入定影帶141c與加壓帶142c之間,通過由鹵素?zé)艏訜崞鱄加熱的定影側(cè)從動(dòng)輥141b將未定影調(diào)色劑依次加熱熔融,在記錄紙PP上未定影調(diào)色劑圖像通過輥隙N得以定影。
在這樣的帶式定影裝置140中,本發(fā)明可以適用于定影側(cè)推壓裝置141d和加壓側(cè)推壓裝置142d的推壓墊。例如,在推壓墊的與定影帶141c接觸的面上以及在推壓墊的與加壓帶142c接觸的面上,可以考慮設(shè)置本發(fā)明所涉及的低摩擦涂層或者粘貼本發(fā)明所涉及的低摩擦片。
應(yīng)用例6
本發(fā)明的實(shí)施方式所涉及的低摩擦構(gòu)件也可以應(yīng)用于如圖7所示的帶式定影裝置150。如圖7所示,該帶式定影裝置150主要由定影輥151、鹵素?zé)艏訜崞鱄m、加壓輥152、鹵素?zé)艏訜崞鱄p、轉(zhuǎn)向輥153、加壓帶154、導(dǎo)向件155、溫度傳感器156、溫度調(diào)節(jié)電路157、齒輪結(jié)構(gòu)158、加壓墊159和低摩擦片LF構(gòu)成。如圖7所示,定影輥151為下述定影輥:在鋁圓筒管的金屬芯151a的表面設(shè)置由硅橡膠制的彈性層151b,進(jìn)一步地,在此彈性層151b的表面設(shè)置氟樹脂的耐熱脫模層151c。并且,如圖7所示,該定影輥151內(nèi)置鹵素?zé)艏訜崞鱄m。另外,如圖7所示,與該定影輥151相對,設(shè)置溫度傳感器156。該溫度傳感器156檢測定影輥151的表面溫度。并且,如圖7所示,該溫度傳感器156與溫度調(diào)節(jié)電路157連接。溫度調(diào)節(jié)電路157將溫度傳感器156的輸出進(jìn)行反饋,進(jìn)行鹵素?zé)艏訜崞鱄m的開-關(guān)控制,將定影輥151的表面溫度控制在一定范圍內(nèi)。齒輪結(jié)構(gòu)13通過使定影輥151和加壓輥152一起旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng),以與定影輥151的旋轉(zhuǎn)速度相等的速度旋轉(zhuǎn)加壓帶154。如圖7所示,加壓輥152內(nèi)置鹵素?zé)艏訜崞鱄p。在加壓輥152的表面附近設(shè)置溫度傳感器(未圖示)。該溫度傳感器檢測加壓輥152的表面溫度。并且,該溫度傳感器與溫度調(diào)節(jié)電路157連接。溫度調(diào)節(jié)電路157將溫度傳感器的輸出進(jìn)行反饋,進(jìn)行鹵素?zé)艏訜崞鱄p的開-關(guān)控制,將加壓輥152的表面溫度控制在一定范圍內(nèi)。轉(zhuǎn)向輥153擔(dān)負(fù)著賦予加壓帶154帶轉(zhuǎn)向功能和帶張力功能,使加壓帶154在寬度方向的一定位置穩(wěn)定地循環(huán)旋轉(zhuǎn)。如圖7所示,加壓帶154架設(shè)在加壓輥152和轉(zhuǎn)向輥153上。加壓輥152通過的兩端部彈簧結(jié)構(gòu)(未圖示)向定影輥151施力,與定影輥151協(xié)作夾住加壓帶154。即,如圖7所示,定影輥151被壓接在加壓帶154上。其結(jié)果,在加壓帶154與定影輥1之間形成輥隙N。并且,就該帶式定影裝置150而言,將從導(dǎo)向件155傳遞過來的記錄紙PP一邊由定影輥151和加壓帶154夾持運(yùn)送,一邊經(jīng)加熱區(qū)域Kn通過輥隙N。并且,在該記錄紙PP通過輥隙N時(shí),在記錄紙PP上,調(diào)色劑圖像得以定影。如圖7所示,加壓墊159插入輥隙N附近的加壓輥152與加壓帶154的間隙。加壓墊159通過在支承板159a上粘接彈性層159b構(gòu)成。另外,在進(jìn)入加壓帶154與加壓輥152的間隙的加壓墊159的彈性層159b的前端部,為了在加熱區(qū)域Kn不產(chǎn)生無加壓部,設(shè)置為將金屬制的棒159c一體化植入。如圖7所示,低摩擦片LF在加壓墊159的棒159c部折返,連續(xù)覆蓋向定影輥151的推壓面以及與加壓輥152的接觸面。另外,該低摩擦片LF的折返部的前端配置為使得該折返部朝著因加壓輥152而形成的定影輥151的加壓部以銳角狀進(jìn)入。
在這樣的帶式定影裝置150中,本發(fā)明可以適用于低摩擦片LF。
應(yīng)用例7
本發(fā)明的實(shí)施方式所涉及的低摩擦構(gòu)件也可以應(yīng)用于如圖8所示的定影帶式定影裝置160。如圖8所示,該定影帶式定影裝置160主要由加壓輥161和定影帶模塊162構(gòu)成。定影帶模塊162配備有定影帶162a、推壓墊162b、導(dǎo)帶件162c、鹵素?zé)艏訜崞鱄L、驅(qū)動(dòng)支承輥162d、從動(dòng)支承輥162e、姿勢矯正輥162f、輔助輥162g和保持構(gòu)件162h。如圖8所示,加壓輥161被配置為推壓定影帶162a。并且,在加壓輥161與定影帶162a接觸的區(qū)域形成輥隙N。定影帶162a形成環(huán)狀(無端狀),由在其內(nèi)部配置的推壓墊162b和驅(qū)動(dòng)支承輥162d自由旋轉(zhuǎn)地支承。推壓墊162b配備前夾持構(gòu)件FP和剝離夾持構(gòu)件RP,由保持構(gòu)件162h支承。前夾持構(gòu)件FP沿著加壓輥161的外周形狀構(gòu)成凹形,配置在輥隙N的入口側(cè)。并且,該前夾持構(gòu)件FP起著確保輥隙N的長度的作用。剝離夾持構(gòu)件RP相對于加壓輥161的外周面構(gòu)成突出的形狀,配置在輥隙N的出口側(cè)。并且,該剝離夾持構(gòu)件RP在輥隙N的出口區(qū)域,在加壓輥161上產(chǎn)生局部變形,起著使定影后的記錄紙PP容易從加壓輥161剝離的作用。并且,該推壓墊162b隔著導(dǎo)帶件162c將定影帶162a向加壓輥161推壓。同時(shí),在該推壓墊162b附近配備鹵素?zé)艏訜崞鱄P。該鹵素?zé)艏訜崞鱄L從內(nèi)周面?zhèn)燃訜岫ㄓ皫?62a。導(dǎo)帶件162c是所謂的低摩擦片,配置在定影帶162a與推壓墊162b之間。在驅(qū)動(dòng)支承輥162d上橋接定影帶162a。并且,該驅(qū)動(dòng)支承輥162d在與推壓墊162b不同的位置支承定影帶162a。同時(shí),該驅(qū)動(dòng)支承輥162d內(nèi)置鹵素?zé)艏訜崞鱄L,從內(nèi)部加熱定影帶162a。從動(dòng)支承輥162e配置為與從推壓墊162b至驅(qū)動(dòng)支承輥162d之間的定影帶162a的外周面接觸,規(guī)定定影帶162a的環(huán)行路線。并且,該從動(dòng)支承輥162e內(nèi)置定鹵素?zé)艏訜崞鱄L,從外側(cè)加熱定影帶162a。姿勢矯正輥162f是例如鋁的圓柱狀輥,配置為與從驅(qū)動(dòng)支承輥162d至推壓墊162b之間的定影帶162a的內(nèi)周面接觸,矯正從驅(qū)動(dòng)支承輥162d至推壓墊162b的定影帶162a的姿勢。另外,在姿勢矯正輥162f附近,配置有測定定影帶162a的端部位置的端部位置測定結(jié)構(gòu)(未圖示)。并且,在該姿勢矯正輥162f上,設(shè)置有根據(jù)端部位置測定結(jié)構(gòu)的測定結(jié)果使定影帶162a的軸方向的抵接位置進(jìn)行變位的軸變位結(jié)構(gòu)(未圖示)。這些結(jié)構(gòu)對定影帶162a的姿勢進(jìn)行矯正。輔助輥162g配置為與從推壓墊162b至從動(dòng)支承輥162e之間的定影帶162a的內(nèi)周面接觸,在輥隙N的下游側(cè),從定影帶162a的內(nèi)周面向定影帶162a賦予張力。
在這樣的定影帶式定影裝置160中,本發(fā)明可以適用于導(dǎo)帶件162c。例如,在導(dǎo)帶件162c的外面即與定影帶162a接觸的面上,可以考慮設(shè)置本發(fā)明所涉及的低摩擦涂層或者粘貼本發(fā)明所涉及的低摩擦片。
(8)應(yīng)用例8
本發(fā)明的實(shí)施方式所涉及的低摩擦構(gòu)件也可以應(yīng)用于如圖9所示的帶式定影裝置170。如圖9所示,該帶式定影裝置170主要由定影帶結(jié)構(gòu)171、加壓帶結(jié)構(gòu)172、感應(yīng)加熱裝置173和控制裝置174構(gòu)成。
如圖9所示,定影帶結(jié)構(gòu)171主要由定影帶171a、加熱輥171b、定影輥171c、電機(jī)M、定影墊171d和低摩擦片171e構(gòu)成。定影帶171a是由基層、彈性層和脫模層三層形成的環(huán)狀的帶狀體,如圖9所示,由加熱輥171b和定影輥171c拉緊橋接。另外,為了可以感應(yīng)加熱,該定影帶171a的基層由SUS合金、鎳、鐵、磁性不銹鋼、鈷-鎳合金等金屬形成。加熱輥171b是鐵制的中空輥,在帶式定影裝置170的左右側(cè)板之間自由旋轉(zhuǎn)地樞軸支承。同時(shí),該加熱輥171b也具有作為給予定影帶171a拉力的張力輥的功能。定影輥171c是在鐵合金制的帶芯棒上,作為彈性層設(shè)置硅橡膠層的高滑動(dòng)性彈性輥,與加熱輥171b一樣,在帶式定影裝置170的左右側(cè)板之間自由旋轉(zhuǎn)地樞軸支承。該定影輥171c作為驅(qū)動(dòng)輥由電機(jī)M借助驅(qū)動(dòng)齒輪列(未圖示)輸入驅(qū)動(dòng)力,在箭頭的順時(shí)針方向以規(guī)定的速度旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)。并且,定影輥171c被旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)的話,通過定影輥171c的硅橡膠表面和定影帶171a的內(nèi)側(cè)的聚酰亞胺層的摩擦,該定影帶171a與定影輥171c一起旋轉(zhuǎn)。定影墊171d是為了使定影帶171a向加壓帶172a推壓的構(gòu)件,被支承在帶式定影裝置170的左右側(cè)板之間。如圖9所示,低摩擦片171e設(shè)置在定影墊171d與定影帶171a的內(nèi)周面之間。
如圖9所示,加壓帶結(jié)構(gòu)172主要由加壓帶172a、張力輥172b、加壓輥172c、加壓墊172d和低摩擦片172e構(gòu)成。加壓帶172a是與定影帶171a具有同樣結(jié)構(gòu)的帶,如圖9所示,加壓帶172a通過張力輥172b和加壓輥172c進(jìn)行拉緊橋接。該加壓帶172a與定影帶171a從動(dòng)旋轉(zhuǎn)。張力輥172b是在鐵合金制的帶芯棒上設(shè)置硅海綿層的輥,在帶式定影裝置170的左右側(cè)板之間自由旋轉(zhuǎn)地樞軸支承。加壓輥172c是鐵合金制的剛性低滑動(dòng)輥,在帶式定影裝置170的左右側(cè)板之間自由旋轉(zhuǎn)地樞軸支承。并且,該加壓輥172c的旋轉(zhuǎn)軸的左右兩端側(cè)通過加壓結(jié)構(gòu)(未圖示)向定影輥171c加壓(參見箭頭F)。其結(jié)果,定影帶171a與加壓帶172a之間形成輥隙N。并且,如圖9所示,在定影帶171a與加壓帶172a之間,形成未定影調(diào)色劑圖像Tn的記錄紙PP依次被送入,通過被加熱的定影帶171a,未定影調(diào)色劑依次被加熱熔融,在記錄紙上未定影調(diào)色劑圖像Tn在輥隙N得以定影(在圖2中,符號(hào)Th表示已定影的調(diào)色劑圖像)。加壓墊172d是為了將加壓帶172a向定影帶171a推壓的構(gòu)件,被支承在帶式定影裝置170的左右側(cè)板之間。并且,該加壓墊172d通過加壓結(jié)構(gòu)(未圖示)對定影墊171d加壓(參見箭頭G)。其結(jié)果,就該帶式定影裝置170而言,得到寬的輥隙N。如圖9所示,低摩擦片172e設(shè)置在加壓墊172d和加壓帶172a的內(nèi)周面之間。
如圖9所示,感應(yīng)加熱裝置173主要由感應(yīng)線圈173a、勵(lì)磁芯173b和線圈架173c構(gòu)成。感應(yīng)線圈173a是將利茲線扁平卷成橢圓形后的感應(yīng)線圈并配置在勵(lì)磁芯173b中。勵(lì)磁芯173b由鐵氧體、被稱為坡莫合金的高磁導(dǎo)率且殘留磁速密度低的材料形成。線圈架173c保持感應(yīng)線圈173a和勵(lì)磁芯173b。
如圖9所示,控制裝置174主要由控制電路部174a、勵(lì)磁電路174b和溫度檢測元件TH構(gòu)成。如圖9所示,控制電路部174a與電機(jī)M連接,在實(shí)施圖像形成時(shí)驅(qū)動(dòng)電機(jī)M。并且,驅(qū)動(dòng)電機(jī)M的話,定影輥171c被旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)。其結(jié)果,定影帶171a在相同方向被旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)。另外,定影帶171a的周速度是比記錄紙PP的輸送速度僅僅慢一點(diǎn)的周速。同時(shí),該控制電路部174a控制從勵(lì)磁電路174b向感應(yīng)線圈173a供給的電力,使定影帶171a的表面溫度保持一定。勵(lì)磁電路174b獲得電力供給的話,與此時(shí)的電能相應(yīng)的高頻電流流過感應(yīng)加熱裝置173的感應(yīng)線圈173a。并且,如上所述,在感應(yīng)加熱裝置173的感應(yīng)線圈173a流過高頻電流時(shí),定影帶171a的基層感應(yīng)發(fā)熱,定影帶171a被加熱。溫度檢測元件TH是例如熱敏電阻,檢測定影帶171a的表面溫度。并且,與被該溫度檢測元件TH檢測到的定影帶171a的表面溫度相關(guān)的信號(hào)被輸入至控制電路部174a??刂齐娐凡?74a基于該信號(hào),控制從勵(lì)磁電路174b向感應(yīng)線圈173a供給的電力。
在如上所述的帶式定影裝置170中,本發(fā)明可以適用于低摩擦片171e、低摩擦片172e、定影墊171d和加壓墊172d。另外,在本發(fā)明適用于定影墊171d和加壓墊172d的情況下,也可以省略低摩擦片171e、低摩擦片172e。在此情況下,可以考慮在定影墊171d的與定影帶171a接觸的面上設(shè)置本發(fā)明所涉及的低摩擦涂層或者粘貼本發(fā)明所涉及的低摩擦片,以及在加壓墊172d的與加壓帶172a接觸的面上設(shè)置本發(fā)明所涉及的低摩擦涂層或者粘貼本發(fā)明所涉及的低摩擦片。
(9)應(yīng)用例9
本發(fā)明的實(shí)施方式所涉及的低摩擦構(gòu)件也可以應(yīng)用于如圖10所示的彩色圖像定影裝置180。如圖10所示,該彩色圖像定影裝置180由定影帶181、鹵素?zé)艏訜崞鱄La、拉伸輥182、導(dǎo)帶件SDa、加壓輥183和溫度傳感器TS1構(gòu)成。定影帶181是由基層、彈性層和脫模層三層構(gòu)成的環(huán)狀的帶狀體,如圖10所示,該定影帶181由拉伸輥182和導(dǎo)帶件SDa拉伸橋接。如圖10所示,拉伸輥182主要由圓筒狀金屬管182a、橡膠輥層182b和脫模層182c三層構(gòu)成。同時(shí),該拉伸輥182內(nèi)置鹵素?zé)艏訜崞鱄La。如圖10所示,導(dǎo)帶件SDa主要由支承體PBa、橡膠構(gòu)件GMa和低摩擦片SDp構(gòu)成。支承體PBa是大致長方體形的塊狀體。橡膠構(gòu)件GMa設(shè)置為覆蓋支承體PBa。低摩擦片SDp以在橡膠構(gòu)件GMa的周圍纏繞的狀態(tài)通過螺絲Ne擰緊在支承體PBa上。如圖10所示,加壓輥183是由金屬管183a、橡膠輥層183b兩層構(gòu)成的所謂半硬輥,隔著定影帶181向拉伸輥182和導(dǎo)帶件SDa推壓。其結(jié)果,在拉伸輥182和導(dǎo)帶件SDa與加壓輥183之間形成輥隙N。并且,如圖10所示,在定影帶181和加壓輥183之間,形成未定影調(diào)色劑圖像Tn的記錄紙PP依次被送入的話,通過由鹵素?zé)艏訜崞鱄La加熱的定影帶181使未定影調(diào)色劑依次加熱熔融,記錄紙上未定影調(diào)色劑圖像Tn通過輥隙N得以定影。溫度傳感器TS1鄰接拉伸輥182設(shè)置,向控制裝置(未圖示)傳送溫度信息。并且,控制裝置基于該溫度信息控制向鹵素?zé)艏訜崞鱄La的電力供給,調(diào)節(jié)其加熱溫度。
在如上所述的彩色圖像定影裝置180中,本發(fā)明可以適用于低摩擦片SDp。另外,在橡膠構(gòu)件GMa的表面設(shè)置本發(fā)明所涉及的低摩擦涂層也可以得到同樣的效果。
(10)應(yīng)用例10
本發(fā)明的實(shí)施方式所涉及的低摩擦構(gòu)件也可以應(yīng)用于如圖11所示的定影帶式定影裝置190。如圖11所示,該定影帶式定影裝置190主要由定影帶模塊191和加壓輥192構(gòu)成。如圖11所示,定影帶模塊191主要由定影帶191a、驅(qū)動(dòng)支承輥191b、姿勢矯正輥191c、低摩擦片191d、推壓墊191e、保持構(gòu)件191f、輔助輥191g、從動(dòng)支承輥191h和鹵素?zé)艏訜崞鱄L構(gòu)成。定影帶191a形成環(huán)狀,由在其內(nèi)部設(shè)置的驅(qū)動(dòng)支承輥191b、姿勢矯正輥191c、推壓墊191e和輔助輥191g自由旋轉(zhuǎn)地支承。驅(qū)動(dòng)支承輥191b是由電機(jī)(未圖示)旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)的輥,通過在兩端部設(shè)置的施力構(gòu)件將定影帶191a向外側(cè)推壓。同時(shí),如圖11所示,該驅(qū)動(dòng)支承輥191b內(nèi)置鹵素?zé)艏訜崞鱄L。由該鹵素?zé)艏訜崞鱄L從內(nèi)側(cè)加熱定影帶191a。姿勢矯正輥191c是起著控制定影帶191a的蛇行的作用的輥。在姿勢矯正輥191c附近,配置測定定影帶191a的端部位置的端部位置測定結(jié)構(gòu)(省略圖示)。同時(shí),在姿勢矯正輥191c上,設(shè)置例如根據(jù)端部位置測定結(jié)構(gòu)的測定結(jié)果對定影帶191a的軸方向上的抵接位置進(jìn)行變位的軸變位結(jié)構(gòu)(省略圖示)。如圖11所示,推壓墊191e將定影帶191a從其內(nèi)面向加壓輥192推壓。如圖11所示,低摩擦片191d通過固定構(gòu)件(未圖示)固定于推壓墊89上。其結(jié)果,該低摩擦片191d設(shè)置在定影帶191a和推壓墊191e之間。保持構(gòu)件191f保持推壓墊191e。從動(dòng)支承輥191h與驅(qū)動(dòng)支承輥191b一樣,內(nèi)置鹵素?zé)艏訜崞鱄L。通過該鹵素?zé)艏訜崞鱄L從外側(cè)加熱定影帶191a。加壓輥192是例如由金屬制的輥192a、彈性層192b和脫模層(未圖示)三層形成的輥,被自由旋轉(zhuǎn)地支承。并且,該加壓輥192通過彈簧等施壓手段(未圖示),在推壓墊191e卷回的位置向定影帶191a推壓。其結(jié)果,由定影帶191a和加壓輥192形成輥隙N。通過該輥隙N,在記錄紙PP被加壓的同時(shí),被加熱的調(diào)色劑圖像(未圖示)得以定影。因此,伴隨定影帶191a向箭頭E方向移動(dòng),加壓輥192隨定影帶191a從動(dòng),成為向箭頭F方向旋轉(zhuǎn)。
在如上所述的定影帶式定影裝置190中,本發(fā)明可以適用于低摩擦片191d。同時(shí),在推壓墊191e的表面,通過設(shè)置本發(fā)明所涉及的低摩擦涂層,也可以得到同樣的效果。
(11)應(yīng)用例11
本發(fā)明的實(shí)施方式所涉及的低摩擦構(gòu)件也可以適用于如圖12所示的定影輥式定影裝置200。如圖12所示,該定影輥式定影裝置200主要由定影輥201、加壓輥202和外部加熱裝置203構(gòu)成。定影輥201是由不銹鋼制的帶芯棒201a、彈性層201b和脫模層201c三層形成的輥。加壓輥202是由不銹鋼制的帶芯棒202a、彈性層202b和脫模層202c三層形成的輥,在與定影輥201設(shè)置為軸平行的同時(shí),壓接在定影輥201上。因此,在定影輥201與加壓輥202之間形成輥隙N。并且,將負(fù)載有未定影調(diào)色劑圖像Tn的記錄紙PP導(dǎo)入該輥隙N的話,該未定影調(diào)色劑圖像Tn在記錄紙PP上得以定影。如圖12所示,外部加熱裝置203主要由陶瓷加熱器203a、絕熱支架固定器203b、金屬支架203c、溫度檢測單元203d和低摩擦片203e構(gòu)成,從表面?zhèn)燃訜岫ㄓ拜?01。陶瓷加熱器203a是公知的陶瓷加熱器。絕熱支架固定器203b在使陶瓷加熱器203a絕熱的同時(shí)支承陶瓷加熱器203a的姿勢。金屬支架203c支撐絕熱支架固定器203b。溫度檢測元件203d設(shè)置在陶瓷加熱器203a的定影輥側(cè)的面的對面。如圖12所示,低摩擦片203e設(shè)置在定影輥201和陶瓷加熱器203a之間。另外,該低摩擦片203e設(shè)置為包裹絕熱支架固定器203b,由金屬支架203c固定在絕熱支架固定器203b上。
在這樣的定影輥式定影裝置200中,本發(fā)明可以適用于低摩擦片203e。同時(shí),在陶瓷加熱器203a的底面,通過設(shè)置本發(fā)明所涉及的低摩擦涂層,也可以得到同樣的效果。
實(shí)施例
實(shí)施例和比較例
接著,使用實(shí)施例和比較例對本發(fā)明進(jìn)行具體說明。另外,本實(shí)施例只不過是本發(fā)明的一個(gè)實(shí)例,本發(fā)明不受到這些實(shí)施例的限定。
實(shí)施例1
1.低摩擦片的制作
(1)聚酰亞胺前體溶液的制備
將3,3′,4,4′-聯(lián)苯四甲酸二酐(BPDA)100g和對苯二胺(PPD)39g在N-甲基-2-吡咯烷酮(NMP)630g中反應(yīng),得到聚酰亞胺前體溶液。
(2)含有不同粒徑的氟樹脂顆粒的聚酰亞胺前體溶液的制備
所得到的聚酰亞胺前體溶液的固體成分為18.1質(zhì)量%。接著,將兩種PTFE粉末添加至聚酰亞胺前體溶液,使相對于最終得到的低摩擦片,中值粒徑40.0μm的聚四氟乙烯(以下簡稱“PTFE”)粉末和中值粒徑0.3μm的PTFE粉末分別為30質(zhì)量%(22體積%)和45質(zhì)量%(30體積%),然后,通過將加入了此PTFE粉末的聚酰亞胺前體溶液充分?jǐn)嚢?,將兩種PTFE粉末分散在聚酰亞胺前體溶液中,得到含有不同粒徑的氟樹脂顆粒的聚酰亞胺前體溶液。
(3)低摩擦片的制作
在脫模劑處理過的鏡面的不銹鋼板(長500mm,寬300mm,厚3mm)上,將上述含有不同粒徑的氟樹脂顆粒的聚酰亞胺前體溶液使用棒涂法進(jìn)行涂布。接著,將此具有涂布液膜的不銹鋼板放入120℃的烤箱加熱60分鐘,使涂布液膜干燥后,經(jīng)40分鐘將烤箱溫度升溫至200℃,保持同樣溫度20分鐘。接下來,為了進(jìn)行最終酰亞胺化處理,將烤箱溫度設(shè)定為250℃,將干燥涂膜加熱10分鐘后,經(jīng)15分鐘升溫至345℃,在同樣溫度下加熱10分鐘。并且,在烤箱冷卻至室溫(25℃)后,從烤箱取出上述不銹鋼板。最后,從不銹鋼板剝下涂膜,得到低摩擦片。
2.低摩擦片的特性
(1)厚度
使用千分尺測定上述低摩擦片的厚度,其厚度為40μm。
(2)表面粗糙度Rsk的測定
使用表面粗糙度計(jì)Surfcorder SE500(日本小坂研究所株式會(huì)社制)測定上述低摩擦片的空氣側(cè)表面的表面粗糙度Rsk,為1.248。另外,此時(shí)的測定條件如下。
·傳送速度:0.1mm/s
·標(biāo)準(zhǔn):JIS2001/ISO97
·截止波長:λc=0.800mm
·測定長度:2.500mm
(3)PTFE的表面露出率的測定
使用搭載能量分散X射線分光裝置的低真空掃描型電子顯微鏡SEMEDX3TypeN(日本日立科學(xué)系統(tǒng)株式會(huì)社制)得到低摩擦片的空氣側(cè)表面的100倍的掃描型電子顯微鏡像后,通過能量分散X射線分光裝置,測定其掃描型電子顯微鏡像的多個(gè)位置上的特性X射線。并且,通過此特征X射線的峰面積,算出氟元素的含量比(采用:F(氟原子)+O(氧原子)+C(碳原子)=100%)即PTFE的表面露出率。另外,本實(shí)施例所涉及的低摩擦片的空氣側(cè)表面中的PTFE的表面露出率為62.1%。
(4)動(dòng)摩擦系數(shù)的測定
使用摩擦磨損試驗(yàn)機(jī)EFM-III-EN(日本オリエンテック株式會(huì)社制),遵照滑動(dòng)磨損試驗(yàn)方法(JIS K 7218)的A法測定上述低摩擦片的動(dòng)摩擦系數(shù),初期動(dòng)摩擦系數(shù)為0.0594,試驗(yàn)開始10分鐘后的動(dòng)摩擦系數(shù)為0.0581,試驗(yàn)開始100分鐘后的動(dòng)摩擦系數(shù)為0.0532。同時(shí),將10分鐘后的動(dòng)摩擦系數(shù)和100分鐘后的動(dòng)摩擦系數(shù)分別除以初期動(dòng)摩擦系數(shù)再乘以100,求出動(dòng)摩擦系數(shù)的經(jīng)時(shí)變化率,10分鐘后的動(dòng)摩擦系數(shù)的變化率為97.8%,100分鐘后的動(dòng)摩擦系數(shù)的變化率為89.6%。另外,此時(shí)的測定條件如下。該測定條件為通常的定影裝置的耐久性評(píng)價(jià)中充分的加速條件(比通常的定影裝置更為嚴(yán)酷的條件)。
·對偶材料:KAPTON-H(注冊商標(biāo))(美國杜邦公司制造)
·試驗(yàn)荷重:10kgf(5kg/cm2)
·滑動(dòng)速度:首先,試驗(yàn)開始時(shí)以0.020m/s(20mm/s)的速度,一邊使對偶材料相對于低摩擦片滑動(dòng),一邊測定初期動(dòng)摩擦系數(shù)。接著,從試驗(yàn)開始時(shí)起,至10分鐘后的下一次測定開始時(shí)為止,以0.500m/s(500mm/s)的速度,使對偶材料相對于低摩擦片滑動(dòng)。接著,從試驗(yàn)開始10分鐘時(shí)起,以0.020m/s(20mm/s)的速度,一邊使對偶材料相對于低摩擦片滑動(dòng),一邊測定10分鐘后的動(dòng)摩擦系數(shù)。接著,從試驗(yàn)開始時(shí)起,至100分鐘后的下一次測定開始時(shí)為止,以0.500m/s(500mm/s)的速度,使對偶材料相對于低摩擦片滑動(dòng)。最后,從試驗(yàn)開始經(jīng)過100分鐘的時(shí)間點(diǎn)起,以0.020m/s(20mm/s)的速度,一邊使對偶材料滑動(dòng),一邊測定100分鐘后的動(dòng)摩擦系數(shù)。
·潤滑劑:スミテックF943(日本住礦株式會(huì)社制)
(5)綜合評(píng)價(jià)
對于本實(shí)施例以及以下后續(xù)的實(shí)施例和比較例,基于以下表1所示的評(píng)價(jià)標(biāo)準(zhǔn)進(jìn)行綜合評(píng)價(jià),本實(shí)施例所涉及的低摩擦片的綜合評(píng)價(jià)為“A”。
實(shí)施例2
在“(2)含有不同粒徑的氟樹脂顆粒的聚酰亞胺前體溶液的制備”中,除了將中值粒徑0.3μm的PTFE粉末替換為中值粒徑1.0μm的PTFE粉末以外,與實(shí)施例1一樣操作,得到低摩擦片,測定其特性。
通過本實(shí)施例得到的低摩擦片的厚度為40μm,表面粗糙度Rsk為1.236,PTFE的表面露出率為57.5%。同時(shí),動(dòng)摩擦系數(shù)測定初期的動(dòng)摩擦系數(shù)為0.0642,測定開始時(shí)起10分鐘后的動(dòng)摩擦系數(shù)為0.0612,測定開始時(shí)起100分鐘后的動(dòng)摩擦系數(shù)為0.0603。同時(shí),10分鐘后的動(dòng)摩擦系數(shù)的變化率為95.3%,100分鐘后的動(dòng)摩擦系數(shù)的變化率為93.9%。并且,上述低摩擦片的綜合評(píng)價(jià)為“A”。
實(shí)施例3
在“(2)含有不同粒徑的氟樹脂顆粒的聚酰亞胺前體溶液的制備”中,除了將中值粒徑0.3μm的PTFE粉末添加至聚酰亞胺前體溶液,使相對于最終得到的低摩擦片,中值粒徑0.3μm的PTFE粉末為67.5質(zhì)量%(45體積%)以外,與實(shí)施例1一樣操作,得到低摩擦片,測定其特性。
通過本實(shí)施例得到的低摩擦片的厚度為40μm,表面粗糙度Rsk為1.346,PTFE的表面露出率為83.9%。同時(shí),動(dòng)摩擦系數(shù)測定初期的動(dòng)摩擦系數(shù)為0.0651,測定開始時(shí)起10分鐘后的動(dòng)摩擦系數(shù)為0.0650,測定開始時(shí)起100分鐘后的動(dòng)摩擦系數(shù)為0.0628。同時(shí),10分鐘后的動(dòng)摩擦系數(shù)的變化率為99.8%,100分鐘后的動(dòng)摩擦系數(shù)的變化率為96.5%。并且,上述低摩擦片的綜合評(píng)價(jià)為“A”。
實(shí)施例4
在“(2)含有不同粒徑的氟樹脂顆粒的聚酰亞胺前體溶液的制備”中,除了將中值粒徑40μm的PTFE粉末替換為中值粒徑19.5μm的PTFE粉末以外,與實(shí)施例1一樣操作,得到低摩擦片,測定其特性。
通過本實(shí)施例得到的低摩擦片的厚度為20μm,表面粗糙度Rsk為0.966,PTFE的表面露出率為67.3%。同時(shí),動(dòng)摩擦系數(shù)測定初期的動(dòng)摩擦系數(shù)為0.0673,測定開始時(shí)起10分鐘后的動(dòng)摩擦系數(shù)為0.0649,測定開始時(shí)起100分鐘后的動(dòng)摩擦系數(shù)為0.0534。同時(shí),10分鐘后的動(dòng)摩擦系數(shù)的變化率為96.4%,100分鐘后的動(dòng)摩擦系數(shù)的變化率為79.3%。并且,上述低摩擦片的綜合評(píng)價(jià)為“A”。
實(shí)施例5
在“(2)含有不同粒徑的氟樹脂顆粒的聚酰亞胺前體溶液的制備”中,除了將中值粒徑0.3μm的PTFE粉末添加至聚酰亞胺前體溶液,使相對于最終得到的低摩擦片,中值粒徑0.3μm的PTFE粉末為30質(zhì)量%(22體積%)以外,與實(shí)施例1一樣操作,得到低摩擦片,測定其特性。
通過本實(shí)施例得到的低摩擦片的厚度為40μm,表面粗糙度Rsk為1.223,PTFE的表面露出率為46.8%。同時(shí),動(dòng)摩擦系數(shù)測定初期的動(dòng)摩擦系數(shù)為0.0685,測定開始時(shí)起10分鐘后的動(dòng)摩擦系數(shù)為0.0664,測定開始時(shí)起100分鐘后的動(dòng)摩擦系數(shù)為0.0631。同時(shí),10分鐘后的動(dòng)摩擦系數(shù)的變化率為96.9%,100分鐘后的動(dòng)摩擦系數(shù)的變化率為92.1%。并且,上述低摩擦片的綜合評(píng)價(jià)為“A”。
實(shí)施例6
在“(2)含有不同粒徑的氟樹脂顆粒的聚酰亞胺前體溶液的制備”中,除了將中值粒徑0.3μm的PTFE粉末添加至聚酰亞胺前體溶液,使相對于最終得到的低摩擦片,中值粒徑0.3μm的PTFE粉末為45質(zhì)量%(30體積%),替換為將中值粒徑6.2μm的PTFE粉末添加至聚酰亞胺前體溶液,使相對于最終得到的低摩擦片,中值粒徑6.2μm的PTFE粉末為60質(zhì)量%(40體積%)以外,與實(shí)施例1一樣操作,得到低摩擦片,測定其特性。
通過本實(shí)施例得到的低摩擦片的厚度為40μm,表面粗糙度Rsk為1.332,PTFE的表面露出率為39.8%。同時(shí),動(dòng)摩擦系數(shù)測定初期的動(dòng)摩擦系數(shù)為0.0799,測定開始時(shí)起10分鐘后的動(dòng)摩擦系數(shù)位0.0786,測定開始時(shí)起100分鐘后的動(dòng)摩擦系數(shù)為0.0782。同時(shí),10分鐘后的動(dòng)摩擦系數(shù)的變化率為98.4%,100分鐘后的動(dòng)摩擦系數(shù)的變化率為97.9%。并且,上述低摩擦片的綜合評(píng)價(jià)為“A”。
實(shí)施例7
在“(2)含有不同粒徑的氟樹脂顆粒的聚酰亞胺前體溶液的制備”中,除了將中值粒徑0.3μm的PTFE粉末添加至聚酰亞胺前體溶液,使相對于最終得到的低摩擦片,中值粒徑0.3μm的PTFE粉末為45質(zhì)量%(30體積%),替換為將中值粒徑3.5μm的PTFE粉末添加至聚酰亞胺前體溶液,使相對于最終得到的低摩擦片,中值粒徑3.5μm的PTFE粉末為67.5質(zhì)量%(45體積%)以外,與實(shí)施例1一樣操作,得到低摩擦片,測定其特性。
通過本實(shí)施例得到的低摩擦片的厚度為40μm,表面粗糙度Rsk為1.430,PTFE的表面露出率為80.1%。同時(shí),動(dòng)摩擦系數(shù)測定初期的動(dòng)摩擦系數(shù)為0.0669,測定開始時(shí)起10分鐘后的動(dòng)摩擦系數(shù)為0.0672,測定開始時(shí)起100分鐘后的動(dòng)摩擦系數(shù)為0.0656。同時(shí),10分鐘后的動(dòng)摩擦系數(shù)的變化率為100.4%,100分鐘后的動(dòng)摩擦系數(shù)的變化率為98.1%。并且,上述低摩擦片的綜合評(píng)價(jià)為“B”。
實(shí)施例8
在“(2)含有不同粒徑的氟樹脂顆粒的聚酰亞胺前體溶液的制備”中,將中值粒徑40.0μm的PTFE粉末添加至聚酰亞胺前體溶液,使相對于最終得到的低摩擦片,中值粒徑40.0μm的PTFE粉末為13.6質(zhì)量%(10體積%),進(jìn)一步地,將中值粒徑0.3μm的PTFE粉末添加至聚酰亞胺前體溶液,使相對于最終得到的低摩擦片,中值粒徑0.3μm的PTFE粉末為45質(zhì)量%(30體積%)替換為將中值粒徑1.0μm的PTFE粉末添加至聚酰亞胺前體溶液,使相對于最終得到的低摩擦片,中值粒徑1.0μm的PTFE粉末為30質(zhì)量%(22體積%)以外,與實(shí)施例1一樣操作,得到低摩擦片,測定其特性。
通過本實(shí)施例得到的低摩擦片的厚度為40μm,表面粗糙度Rsk為2.215,PTFE的表面露出率為45.5%。同時(shí),動(dòng)摩擦系數(shù)測定初期的動(dòng)摩擦系數(shù)為0.0740,測定開始時(shí)起10分鐘后的動(dòng)摩擦系數(shù)為0.0743,測定開始時(shí)起100分鐘后的動(dòng)摩擦系數(shù)為0.0670。同時(shí),10分鐘后的動(dòng)摩擦系數(shù)的變化率為100.4%,100分鐘后的動(dòng)摩擦系數(shù)的變化率為90.5%。并且,上述低摩擦片的綜合評(píng)價(jià)為“B”。
實(shí)施例9
在“(2)含有不同粒徑的氟樹脂顆粒的聚酰亞胺前體溶液的制備”中,除了將中值粒徑40.0μm的PTFE粉末添加至聚酰亞胺前體溶液,使相對于最終得到的低摩擦片,中值粒徑40.0μm的PTFE粉末為13.6質(zhì)量%(10體積%),以此方式將上述PTFE粉末添加至聚酰亞胺前體溶液,并且進(jìn)一步地將中值粒徑0.3μm的PTFE粉末替換為中值粒徑1.0μm的PTFE粉末以外,與實(shí)施例1一樣操作,得到低摩擦片,測定其特性。
通過本實(shí)施例得到的低摩擦片的厚度為40μm,表面粗糙度Rsk為2.398,PTFE的表面露出率為57.5%。同時(shí),動(dòng)摩擦系數(shù)測定初期的動(dòng)摩擦系數(shù)為0.0635,測定開始時(shí)起10分鐘后的動(dòng)摩擦系數(shù)為0.0676,測定開始時(shí)起100分鐘后的動(dòng)摩擦系數(shù)為0.0686。同時(shí),10分鐘后的動(dòng)摩擦系數(shù)的變化率為106.5%,100分鐘后的動(dòng)摩擦系數(shù)的變化率為108.0%。并且,上述低摩擦片的綜合評(píng)價(jià)為“B”。
實(shí)施例10
在“(2)含有不同粒徑的氟樹脂顆粒的聚酰亞胺前體溶液的制備”中,除了將中值粒徑0.3μm的PTFE粉末添加至聚酰亞胺前體溶液,使相對于最終得到的低摩擦片,中值粒徑0.3μm的PTFE粉末為75質(zhì)量%(50體積%)以外,與實(shí)施例1一樣操作,得到低摩擦片,測定其特性。
通過本實(shí)施例得到的低摩擦片的厚度為40μm,表面粗糙度Rsk為1.506,PTFE的表面露出率為89.5%。同時(shí),動(dòng)摩擦系數(shù)測定初期的動(dòng)摩擦系數(shù)為0.0708,測定開始時(shí)起10分鐘后的動(dòng)摩擦系數(shù)為0.0728,測定開始時(shí)起100分鐘后的動(dòng)摩擦系數(shù)為0.0742。同時(shí),10分鐘后的動(dòng)摩擦系數(shù)的變化率為102.8%,100分鐘后的動(dòng)摩擦系數(shù)的變化率為104.8%。并且,上述低摩擦片的綜合評(píng)價(jià)為“B”。
實(shí)施例11
在“(2)含有不同粒徑的氟樹脂顆粒的聚酰亞胺前體溶液的制備”中,除了將中值粒徑40.0μm的PTFE粉末添加至聚酰亞胺前體溶液,使相對于最終得到的低摩擦片,中值粒徑40.0μm的PTFE粉末為30質(zhì)量%(22體積%),替換為將中值粒徑10.0μm的PTFE粉末添加至聚酰亞胺前體溶液,使相對于最終得到的低摩擦片,中值粒徑10.0μm的PTFE粉末為13.6質(zhì)量%(10體積%),進(jìn)一步地,將中值粒徑0.3μm的PTFE粉末添加至聚酰亞胺前體溶液,使相對于最終得到的低摩擦片,中值粒徑0.3μm的PTFE粉末為30質(zhì)量%(22體積%)以外,與實(shí)施例1一樣操作,得到低摩擦片,測定其特性。
通過本實(shí)施例得到的低摩擦片的厚度為10μm,表面粗糙度Rsk為2.380,PTFE的表面露出率為44.6%。同時(shí),動(dòng)摩擦系數(shù)測定初期的動(dòng)摩擦系數(shù)為0.0745,測定開始時(shí)起10分鐘后的動(dòng)摩擦系數(shù)為0.0743,測定開始時(shí)起100分鐘后的動(dòng)摩擦系數(shù)為0.0744。同時(shí),10分鐘后的動(dòng)摩擦系數(shù)的變化率為99.7%,100分鐘后的動(dòng)摩擦系數(shù)的變化率99.9%。并且,上述低摩擦片的綜合評(píng)價(jià)為“B”。
實(shí)施例12
在“(2)含有不同粒徑的氟樹脂顆粒的聚酰亞胺前體溶液的制備”中,除了將中值粒徑0.3μm的PTFE粉末添加至聚酰亞胺前體溶液,使相對于最終得到的低摩擦片,中值粒徑0.3μm的PTFE粉末為45質(zhì)量%(30體積%),替換為將中值粒徑6.2μm的PTFE粉末添加至聚酰亞胺前體溶液,使相對于最終得到的低摩擦片,中值粒徑6.2μm的PTFE為30質(zhì)量%(22體積%)以外,與實(shí)施例1一樣操作,得到低摩擦片,測定其特性。
通過本實(shí)施例得到的低摩擦片的厚度為40μm,表面粗糙度Rsk為2.287,PTFE的表面露出率為28.6%。同時(shí),動(dòng)摩擦系數(shù)測定初期的動(dòng)摩擦系數(shù)為0.0823,測定開始時(shí)起10分鐘后的動(dòng)摩擦系數(shù)為0.0834,測定開始時(shí)起100分鐘后的動(dòng)摩擦系數(shù)為0.0824。同時(shí),10分鐘后的動(dòng)摩擦系數(shù)的變化率為101.3%,100分鐘后的動(dòng)摩擦系數(shù)的變化率為100.1%。并且,同低摩擦的綜合評(píng)價(jià)為“C”。
實(shí)施例13
在“(2)含有不同粒徑的氟樹脂顆粒的聚酰亞胺前體溶液的制備”中,除了將中值粒徑0.3μm的PTFE粉末替換為中值粒徑6.2μm的PTFE粉末以外,與實(shí)施例1一樣操作,得到低摩擦片,測定其特性。
通過本實(shí)施例得到的低摩擦片的厚度為40μm,表面粗糙度Rsk為1.500,PTFE的表面露出率為33.0%。同時(shí),動(dòng)摩擦系數(shù)測定初期的動(dòng)摩擦系數(shù)為0.0820,測定開始時(shí)起10分鐘后的動(dòng)摩擦系數(shù)為0.0843,測定開始時(shí)起100分鐘后的動(dòng)摩擦系數(shù)為0.0831。同時(shí),10分鐘后的動(dòng)摩擦系數(shù)的變化率為102.8%,100分鐘后的動(dòng)摩擦系數(shù)的變化率為101.3%。并且,同低摩擦的綜合評(píng)價(jià)為“C”。
實(shí)施例14
在“(2)含有不同粒徑的氟樹脂顆粒的聚酰亞胺前體溶液的制備”中,除了將中值粒徑0.3μm的PTFE粉末添加至聚酰亞胺前體溶液,使相對于最終得到的低摩擦片,中值粒徑0.3μm的PTFE粉末為13.6質(zhì)量%(10體積%)以外,與實(shí)施例1一樣操作,得到低摩擦片,測定其特性。
通過本實(shí)施例得到的低摩擦片的厚度為40μm,表面粗糙度Rsk為1.106,PTFE的表面露出率為19.4%。同時(shí),動(dòng)摩擦系數(shù)測定初期的動(dòng)摩擦系數(shù)為0.0847,測定開始時(shí)起10分鐘后的動(dòng)摩擦系數(shù)為0.0847,測定開始時(shí)起100分鐘后的動(dòng)摩擦系數(shù)為0.0850。同時(shí),10分鐘后的動(dòng)摩擦系數(shù)的變化率為100.0%,100分鐘后的動(dòng)摩擦系數(shù)的變化率為100.4%。并且,同低摩擦的綜合評(píng)價(jià)為“C”。
實(shí)施例15
在“(2)含有不同粒徑的氟樹脂顆粒的聚酰亞胺前體溶液的制備”中,除了將中值粒徑0.3μm的PTFE粉末添加至聚酰亞胺前體溶液,使相對于最終得到的低摩擦片,中值粒徑0.3μm的PTFE粉末為45質(zhì)量%(30體積%),替換為將中值粒徑3.5μm的PTFE粉末添加至聚酰亞胺前體溶液,使相對于最終得到的低摩擦片,中值粒徑3.5μm的PTFE粉末為13.6質(zhì)量%(10體積%)以外,與實(shí)施例1一樣操作,得到低摩擦片,測定其特性。
通過本實(shí)施例得到的低摩擦片的厚度為40μm,表面粗糙度Rsk為1.190,PTFE的表面露出率為18.4%。同時(shí),動(dòng)摩擦系數(shù)測定初期的動(dòng)摩擦系數(shù)為0.0923,測定開始時(shí)起10分鐘后的動(dòng)摩擦系數(shù)為0.0911,測定開始時(shí)起100分鐘后的動(dòng)摩擦系數(shù)為0.0921。同時(shí),10分鐘后的動(dòng)摩擦系數(shù)的變化率為98.7%,100分鐘后的動(dòng)摩擦系數(shù)的變化率99.8%。并且,同低摩擦的綜合評(píng)價(jià)為“C”。
實(shí)施例16
在“(2)含有不同粒徑的氟樹脂顆粒的聚酰亞胺前體溶液的制備”中,除了將中值粒徑40.0μm的PTFE粉末替換為中值粒徑100.0μm的PTFE粉末,進(jìn)一步地,將中值粒徑0.3μm的PTFE粉末添加至聚酰亞胺前體溶液,使相對于最終得到的低摩擦片,中值粒徑0.3μm的PTFE粉末為45質(zhì)量%(30體積%)替換為將中值粒徑3.0μm的PTFE粉末添加至聚酰亞胺前體溶液,使相對于最終得到的低摩擦片,中值粒徑3.0μm的PTFE粉末為13.6質(zhì)量%(10體積%)以外,與實(shí)施例1一樣操作,得到低摩擦片,測定了此特性。
通過本實(shí)施例得到的低摩擦片的厚度為195μm,表面粗糙度Rsk為0.530,PTFE的表面露出率為20.6%。同時(shí),動(dòng)摩擦系數(shù)測定初期的動(dòng)摩擦系數(shù)為0.0747,測定開始時(shí)起10分鐘后的動(dòng)摩擦系數(shù)為0.0779,測定開始時(shí)起100分鐘后的動(dòng)摩擦系數(shù)為0.1600。同時(shí),10分鐘后的動(dòng)摩擦系數(shù)的變化率為104.3%,100分鐘后的動(dòng)摩擦系數(shù)的變化率214.2%。并且,上述低摩擦片的綜合評(píng)價(jià)為“D”。
比較例1
在“(2)含有不同粒徑的氟樹脂顆粒的聚酰亞胺前體溶液的制備”中,除了不添加中值粒徑40.0μm的PTFE粉末并且將中值粒徑0.3μm的PTFE粉末添加至聚酰亞胺前體溶液,使相對于最終得到的低摩擦片,中值粒徑0.3μm的PTFE粉末為30質(zhì)量%(22體積%)以外,與實(shí)施例1一樣操作,得到低摩擦片,測定其特性。
通過本比較例得到的低摩擦片的厚度為40μm,表面粗糙度Rsk為-0.848,PTFE的表面露出率為39.6%。同時(shí),動(dòng)摩擦系數(shù)測定初期的動(dòng)摩擦系數(shù)為0.1042,測定開始時(shí)起10分鐘后的動(dòng)摩擦系數(shù)為0.1074,測定開始時(shí)起100分鐘后的動(dòng)摩擦系數(shù)為0.1442。同時(shí),10分鐘后的動(dòng)摩擦系數(shù)的變化率為103.1%,100分鐘后的動(dòng)摩擦系數(shù)的變化率為138.4%。比較例2
在“(2)含有不同粒徑的氟樹脂顆粒的聚酰亞胺前體溶液的制備”中,除了不添加中值粒徑40.0μm的PTFE粉末并且將中值粒徑0.3μm的PTFE粉末替換為中值粒徑1.0μm的PTFE粉末以外,與實(shí)施例1一樣操作,得到低摩擦片,測定其特性。
通過本比較例得到的低摩擦片的厚度為40μm,表面粗糙度Rsk為-0.624,PTFE的表面露出率為37.1%。同時(shí),動(dòng)摩擦系數(shù)測定初期的動(dòng)摩擦系數(shù)為0.1084,測定開始時(shí)起10分鐘后的動(dòng)摩擦系數(shù)為0.1085,測定開始時(shí)起100分鐘后的動(dòng)摩擦系數(shù)為0.1500。同時(shí),10分鐘后的動(dòng)摩擦系數(shù)的變化率為100.1%,100分鐘后的動(dòng)摩擦系數(shù)的變化率為138.4%。
根據(jù)上述結(jié)果,對于各綜合評(píng)價(jià)的表面粗糙度Rsk和PTFE的表面露出度,判明似乎具有表3所示的關(guān)系。
表3
工業(yè)實(shí)用性
本發(fā)明所涉及的低摩擦構(gòu)件具有即使較長期使用也不容易失去低摩擦性的特征,可以利用作為復(fù)印機(jī)、打印機(jī)、傳真機(jī)等電子照相裝置的定影裝置的一個(gè)構(gòu)件,特別是介于從管狀膜的內(nèi)側(cè)將管狀膜向配合構(gòu)件(加壓輥或定影輥等)推壓的推壓構(gòu)件與其管狀膜之間的滑動(dòng)性構(gòu)件。