本發(fā)明涉及反射膜
技術領域：
，尤其涉及一種應用于小尺寸的鍍銀型反射膜及其制備方法。
背景技術：
：背光模組主要由反射膜、擴散膜和增亮膜構成，其發(fā)展趨勢在提高其性能的基礎上更趨于輕薄。目前反射膜一般為多孔的白色聚酯薄膜，通過控制薄膜中心泡孔的大小和密度來提高反射率。通常，白色反射膜反射率到達97％后即難以繼續(xù)提高，且在使用過程中易出先白點。用鍍銀型反射膜代替小尺寸設備中的聚酯反射膜可以解決這一問題。在鍍銀型反射膜中，由于聚酯薄膜表面的粗糙度較高，使鍍銀層與聚酯薄膜之間的附著力較低，在反射膜使用過程中，易出現(xiàn)鍍銀層表面不平整以及鍍銀層和聚酯薄膜層分離的現(xiàn)象，導致反射膜的反射率降低。技術實現(xiàn)要素：為了解決現(xiàn)有鍍銀型反射膜中聚酯薄膜的表面粗糙度高，鍍銀層與聚酯薄膜層的附著力低的問題，本發(fā)明提供一種含有鈦過渡層的鍍銀型反射膜及其制備方法。該反射膜反射率較高，能夠到達99％以上，且鈦過渡層和鍍銀層與聚酯薄膜的附著力較高。為了解決上述技術問題，本發(fā)明提供下述技術方案：本發(fā)明提供一種鍍銀型反射膜，所述反射膜依次包括聚酯薄膜層、鈦過渡層、鍍銀層(也稱銀鍍層)和樹脂保護層(簡稱保護層)。進一步的，所述鍍銀反射膜由聚酯薄膜層、鈦過渡層、鍍銀層和樹脂保護層組成。進一步的，所述的鍍銀型反射膜中，所述鈦過渡層位于聚酯薄膜層的上表面；所述鍍銀層位于鈦過渡層的上表面；所述樹脂保護層位于鍍銀層的上表面。所述聚酯薄膜層經(jīng)過真空濺射刻蝕，表面粗糙度低。進一步的，所述聚酯薄膜層是透明基材層。進一步的，所述聚酯薄膜層不具有反射功能。進一步的，所述聚酯薄膜層選自現(xiàn)有的透明聚酯薄膜。進一步的，所述聚酯薄膜層為長陽科技OS系列透明聚酯薄膜。進一步的，所述樹脂保護層是透明樹脂薄膜。進一步的，所述樹脂保護層是聚乙烯薄膜。進一步的，所述聚酯薄膜層的厚度為50-200μm。進一步的，所述聚酯薄膜層的厚度為75-200μm。進一步的，所述聚酯薄膜層的厚度為75-100μm。進一步的，所述的鍍銀型反射膜中，所述鈦過渡層厚度為0.2-2μm，所述鍍銀層的厚度為0.5-2μm，所述保護層厚度為1-10μm。進一步的，所述的鍍銀型反射膜中，所述鈦過渡層采用真空濺射的方法，將鈦濺鍍在聚酯薄膜層的一個表面上。進一步的，所述的鍍銀型反射膜中，所述鍍銀層采用真空濺射的方法，將銀濺鍍在鈦過渡層的表面上。進一步的，所述的鍍銀型反射膜中，所述鈦過渡層厚度為0.8-1.4μm，所述鍍銀層的厚度為1.5-1.8μm。進一步的，所述保護層厚度為1-2μm。本發(fā)明還提供一種所述的鍍銀型反射膜的制備方法，所述制備方法包括下述步驟：(1)準備聚酯薄膜層；(2)在聚酯薄膜層的上表面進行真空濺射刻蝕處理；(3)在步驟(2)得到的聚酯薄膜層的上表面濺射金屬鈦，形成鈦過渡層；(4)在鈦過渡層的上表面濺射金屬銀，形成鍍銀層；(5)將樹脂薄膜復合到鍍銀層的表面，形成樹脂保護層，得到所述的鍍銀型反射膜。進一步的，所述的鍍銀型反射膜的制備方法中，所述步驟(2)中的真空濺射刻蝕方法如下：在真空濺射室的靶材中安放99.99％的鈦靶，保證濺射室的真空度小于1×10-2Pa，使用Ar氣作為濺射氣體，Ar氣氣壓為0.3-0.7Pa，使用射頻電源，將聚脂薄膜上的偏壓加到-200V，對聚酯薄膜刻蝕20-120s。上述真空濺射刻蝕步驟降低了聚酯薄膜的表面粗糙度。優(yōu)選的，Ar氣氣壓為0.5Pa，對聚酯薄膜刻蝕30s。進一步的，所述的鍍銀型反射膜的制備方法中，所述步驟(3)中的濺射金屬鈦的方法如下：在真空濺射室的靶材中安放99.99％的鈦靶，保證濺射室的真空度小于1×10-2Pa，使用Ar氣作為濺射氣體，Ar氣氣壓為0.3-0.7Pa，使用中頻電源，將聚酯薄膜上的偏壓設置為-30V，在刻蝕后的聚酯薄膜上沉積金屬鈦，形成鈦過渡層。優(yōu)選的，Ar氣氣壓為0.5Pa。進一步的，所述的鍍銀型反射膜的制備方法中，所述步驟(4)中的濺射金屬銀的方法如下：在真空濺射室的靶材中安放99.99％的銀靶，保證濺射室的真空度小于1×10-2Pa，使用Ar氣作為濺射氣體，Ar氣氣壓為0.3-0.7Pa，使用中頻電源，將聚酯薄膜上的偏壓設置為-30V，在上述鈦過渡層上沉積金屬銀，形成鍍銀層。優(yōu)選的，Ar氣氣壓為0.5Pa。進一步的，采用干式覆膜方式，將保護層樹脂薄膜，通過90℃加熱通道和熱壓，復合到上述方法制備出的鍍銀層上，收卷。本發(fā)明提供的鍍銀型反射膜中，鈦過渡層降低了聚酯薄膜層表面的粗糙度，提高了銀鍍層與聚酯薄膜層的附著力，從而提高了反射膜的反射率。反射膜在使用一段時間后，不會出現(xiàn)鍍銀層表面不平整以及鍍銀層和聚酯薄膜層分離的現(xiàn)象，反射率不會下降。與現(xiàn)有鍍銀反射膜相比，本發(fā)明提供的鍍銀型反射膜反射率較高，鈦過渡層和鍍銀層與聚酯薄膜的附著力較高。而且，該反射膜保護層的表面粗糙度低于100nm。附圖說明圖1為本發(fā)明提供的一種鍍銀型反射膜的結構示意圖。其中1是保護層，2是鍍銀層，3是鈦過渡層，4是聚酯薄膜層。具體實施方式為了更易理解本發(fā)明的結構及所能達成的功能特征和優(yōu)點，下文將本發(fā)明的較佳的實施例，并配合圖式做詳細說明如下：如圖1所示，本發(fā)明提供的鍍銀型反射膜包括聚酯薄膜層1，鈦過渡層2，鍍銀層3和保護層4。本發(fā)明提供的鍍銀型反射膜的制備方法包括以下步驟：(1)準備聚酯薄膜層；(2)在真空濺射室的靶材中安放99.99％的鈦靶，保證濺射室的真空度小于1×10-2Pa，使用Ar氣作為濺射氣體，Ar氣氣壓為0.5Pa，使用射頻電源，將聚脂薄膜上的偏壓加到-200V，將聚酯薄膜進行刻蝕30s處理，降低表面粗糙度。(3)在真空濺射室的靶材中安放99.99％的鈦靶，保證濺射室的真空度小 于1×10-2Pa，使用Ar氣作為濺射氣體，Ar氣氣壓為0.5Pa，使用中頻電源，將聚酯薄膜上的偏壓設置為-30V，在刻蝕后的聚酯薄膜上沉積鈦過渡層。(4)在真空濺射室的靶材中安放99.99％的銀靶，保證濺射室的真空度小于1×10-2Pa，使用Ar氣作為濺射氣體，Ar氣氣壓為0.5Pa，使用中頻或直流電源，將聚酯薄膜上的偏壓設置為-30V，在上述鈦過渡層上沉積鍍銀層。(5)采用干式覆膜方式，將保護層薄膜，通過90℃加熱通道和熱壓，復合到上述方法制備出的鍍銀層上，收卷。按照上述方法制備得到鍍銀型反射膜，其各項性能測試方法如下：反射率：按照GB/T3979-2008標準，采用Hunterlab公司制造的ColorQuestXE分光測色儀，在D65光源條件下，通過積分球d/8°結構測試其反射率，反射率數(shù)據(jù)為400-700nm每隔10nm的波長的反射率的加權平均值，權值對應D65光源的能量分布曲線。附著力：按照ASTMD3359標準，采用百格刀，用于均勻劃出一定規(guī)格尺寸的方格，使用3M思高系列測試膠帶，通過評定方格內涂膜的完整程度來評定涂膜對基材附著程度，以‘級’表示。通過膠帶測試后切口的邊緣完全光滑，格子邊緣沒有任何剝落，ASTM等級為5B；在切口的相交處有小片剝落，劃格區(qū)內實際破損不超過5％，ASTM等級為4B；切口的邊緣和/或相交處有被剝落，其面積大于5％，但不到15％，ASTM等級為3B；沿切口邊緣有部分剝落或整大片剝落，及/或者部分格子被整片剝落。被剝落的面積超過15％，但不到35％，ASTM等級為2B；切口邊緣大片剝落/或者一些方格部分或全部剝落，其面積大于劃格區(qū)的35％，但不超過65％，ASTM等級為1B；超過65％的ASTM等級為0B.實施例中使用的聚酯薄膜層為長陽科技OS系列透明聚酯薄膜。實施例1本發(fā)明提供的鍍銀型反射膜，所述反射膜依次包括聚酯薄膜層、鈦過渡層、鍍銀層和樹脂保護層。其中，聚酯薄膜層的厚度為75μm，鈦過渡層的 厚度為0.2μm，鍍銀層的厚度為1.5μm，保護層為聚乙烯薄膜，厚度為1μm。所得鍍銀型反射膜相關性能見表1、表2和表3。實施例2本發(fā)明提供的鍍銀型反射膜，所述反射膜依次包括聚酯薄膜層、鈦過渡層、鍍銀層和樹脂保護層。其中，聚酯薄膜層的厚度為75μm，鈦過渡層的厚度為0.4μm，鍍銀層的厚度為1.5μm，保護層為聚乙烯薄膜，厚度為1μm。所得鍍銀型反射膜相關性能見表1、表2和表3。實施例3本發(fā)明提供的鍍銀型反射膜，所述反射膜依次包括聚酯薄膜層、鈦過渡層、鍍銀層和樹脂保護層。其中，聚酯薄膜層的厚度為75μm，鈦過渡層的厚度為0.6μm，鍍銀層的厚度為1.5μm，保護層為聚乙烯薄膜，厚度為1μm。所得鍍銀型反射膜相關性能見表1、表2和表3。實施例4本發(fā)明提供的鍍銀型反射膜，所述反射膜依次包括聚酯薄膜層、鈦過渡層、鍍銀層和樹脂保護層。其中，聚酯薄膜層的厚度為75μm，鈦過渡層的厚度為0.8μm，鍍銀層的厚度為1.5μm，保護層為聚乙烯薄膜，厚度為1μm。所得鍍銀型反射膜相關性能見表1、表2和表3。實施例5本發(fā)明提供的鍍銀型反射膜，所述反射膜依次包括聚酯薄膜層、鈦過渡層、鍍銀層和樹脂保護層。其中，聚酯薄膜層的厚度為75μm，鈦過渡層的厚度為1.0μm，鍍銀層的厚度為1.5μm，保護層為聚乙烯薄膜，厚度為2μm。所得鍍銀型反射膜相關性能見表1、表2和表3。實施例6本發(fā)明提供的鍍銀型反射膜，所述反射膜依次包括聚酯薄膜層、鈦過渡層、鍍銀層和樹脂保護層。其中，聚酯薄膜層的厚度為75μm，鈦過渡層的厚度為1.2μm，鍍銀層的厚度為1.5μm，保護層為聚乙烯薄膜，厚度為 1.5μm。所得鍍銀型反射膜相關性能見表1、表2和表3。實施例7本發(fā)明提供的鍍銀型反射膜，所述反射膜依次包括聚酯薄膜層、鈦過渡層、鍍銀層和樹脂保護層。其中，聚酯薄膜層的厚度為75μm，鈦過渡層的厚度為1.4μm，鍍銀層的厚度為1.6μm，保護層為聚乙烯薄膜，厚度為1μm。所得鍍銀型反射膜相關性能見表1、表2和表3。實施例8本發(fā)明提供的鍍銀型反射膜，所述反射膜依次包括聚酯薄膜層、鈦過渡層、鍍銀層和樹脂保護層。其中，聚酯薄膜層的厚度為75μm，鈦過渡層的厚度為1.6μm，鍍銀層的厚度為1.5μm，保護層為聚乙烯薄膜，厚度為1μm。所得鍍銀型反射膜相關性能見表1、表2和表3。實施例9本發(fā)明提供的鍍銀型反射膜，所述反射膜依次包括聚酯薄膜層、鈦過渡層、鍍銀層和樹脂保護層。其中，聚酯薄膜層的厚度為75μm，鈦過渡層的厚度為1.8μm，鍍銀層的厚度為1.5μm，保護層為聚乙烯薄膜，厚度為1μm。所得鍍銀型反射膜相關性能見表1、表2和表3。實施例10本發(fā)明提供的鍍銀型反射膜，所述反射膜依次包括聚酯薄膜層、鈦過渡層、鍍銀層和樹脂保護層。其中，聚酯薄膜層的厚度為75μm，鈦過渡層的厚度為2.0μm，鍍銀層的厚度為1.5μm，保護層為聚乙烯薄膜，厚度為1μm。所得鍍銀型反射膜相關性能見表1、表2和表3。實施例11本發(fā)明提供的鍍銀型反射膜，所述反射膜依次包括聚酯薄膜層、鈦過渡層、鍍銀層和樹脂保護層。其中，聚酯薄膜層的厚度為75μm，鈦過渡層的厚度為0.8μm，鍍銀層的厚度為0.5μm，保護層為聚乙烯薄膜，厚度為1μm。所得鍍銀型反射膜相關性能見表1、表2和表3。實施例12本發(fā)明提供的鍍銀型反射膜，所述反射膜依次包括聚酯薄膜層、鈦過渡層、鍍銀層和樹脂保護層。其中，聚酯薄膜層的厚度為75μm，鈦過渡層的厚度為0.8μm，鍍銀層的厚度為0.75μm，保護層為聚乙烯薄膜，厚度為1μm。所得鍍銀型反射膜相關性能見表1、表2和表3。實施例13本發(fā)明提供的鍍銀型反射膜，所述反射膜依次包括聚酯薄膜層、鈦過渡層、鍍銀層和樹脂保護層。其中，聚酯薄膜層的厚度為75μm，鈦過渡層的厚度為0.8μm，鍍銀層的厚度為1μm，保護層為聚乙烯薄膜，厚度為1μm。所得鍍銀型反射膜相關性能見表1、表2和表3。實施例14本發(fā)明提供的鍍銀型反射膜，所述反射膜依次包括聚酯薄膜層、鈦過渡層、鍍銀層和樹脂保護層。其中，聚酯薄膜層的厚度為75μm，鈦過渡層的厚度為0.8μm，鍍銀層的厚度為1.25μm，保護層為聚乙烯薄膜，厚度為1μm。所得鍍銀型反射膜相關性能見表1、表2和表3。實施例15本發(fā)明提供的鍍銀型反射膜，所述反射膜依次包括聚酯薄膜層、鈦過渡層、鍍銀層和樹脂保護層。其中，聚酯薄膜層的厚度為100μm，鈦過渡層的厚度為0.8μm，鍍銀層的厚度為1.8μm，保護層為聚乙烯薄膜，厚度為1μm。所得鍍銀型反射膜相關性能見表1、表2和表3。實施例16本發(fā)明提供的鍍銀型反射膜，所述反射膜依次包括聚酯薄膜層、鈦過渡層、鍍銀層和樹脂保護層。其中，聚酯薄膜層的厚度為200μm，鈦過渡層的厚度為0.8μm，鍍銀層的厚度為2μm，保護層為聚乙烯薄膜，厚度為10μm。所得鍍銀型反射膜相關性能見表1、表2和表3。實施例17本發(fā)明提供的鍍銀型反射膜，所述反射膜依次包括聚酯薄膜層、鈦過渡層、鍍銀層和樹脂保護層。其中，聚酯薄膜層的厚度為150μm，鈦過渡層的厚度為0.8μm，鍍銀層的厚度為2μm，保護層為聚乙烯薄膜，厚度為5μm。所得鍍銀型反射膜相關性能見表1、表2和表3。表1實施例1-17所得鍍銀型反射膜的保護層表面的粗糙度測試結果實施例123456789粗糙度(nm)4634361514610929實施例1011121314151617粗糙度(nm)2236284037167880表2實施例1-17所得鍍銀型反射膜的附著力測試表表3實施例1-17所得鍍銀型反射膜的反射率測試結果。由上述實施例的測試結果可以得出，本發(fā)明提供的鍍銀型反射膜具有較高的反射率，較高的附著力，反射膜的表面粗糙度較低。其中，實施例4、5、6、7和實施例15提供的鍍銀型反射膜具有更高的反射率(高于99.5％)。以上所述，僅為本發(fā)明的較佳實施例而已，并非用于限定本發(fā)明的保護范圍。凡是根據(jù)本
發(fā)明內容所做的均等變化與修飾，均涵蓋在本發(fā)明的專利范圍內。當前第1頁1 2 3