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防反射膜及其制造方法

文檔序號:9239939閱讀:713來源:國知局
防反射膜及其制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明設(shè)及一種防反射膜及其制造方法。更詳細(xì)而言,本發(fā)明設(shè)及一種包含干式 工藝與濕式工藝的防反射膜的制造方法及利用此種制造方法所獲得的防反射膜。
【背景技術(shù)】
[0002] 一直W來,為了防止外界光映入CRT (Cathode-Ray Tube,陰極射線管)、液晶顯示 裝置、等離子顯示面板等顯示器畫面,廣泛使用配置在顯示器畫面的表面的防反射膜。作為 防反射膜,已知例如具有由中折射率材料構(gòu)成的層、由高折射率材料構(gòu)成的層及由低折射 率材料構(gòu)成的層的多層膜。已知通過使用上述多層膜可獲得高的防反射性能(在寬帶域中 低的反射率)。上述多層膜通常是通過蒸鍛法或瓣射法等干式工藝(干式法)而形成的。 然而,干式工藝存在生產(chǎn)率差、制造成本變高的問題。
[0003] 為了解決上述問題,提出了下述方案;將干式工藝與如涂覆或涂布那樣的濕式工 藝(濕式法)進行組合所獲得的多層防反射膜(例如專利文獻1)。然而,對于W專利文獻 1為代表的到目前為止所提出的技術(shù),生產(chǎn)率及成本降低效果均不充分,所獲得的防反射膜 的光學(xué)特性也均不充分。
[0004] 然而,防反射膜的防反射性能通常是用視覺反射率Y(%)進行評價的,該視覺反 射率越低,防反射性能越優(yōu)異。然而,如果要降低視覺反射率,則存在反射色相易產(chǎn)生著色 的問題。
[0005] 如上所述,強烈期望一種兼具低的視覺反射率與著色小且接近中性的反射色相的 多層防反射膜、及可高生產(chǎn)率且低成本獲得此種膜的技術(shù)。
[0006] 現(xiàn)有技術(shù)文獻
[0007] 專利文獻
[000引專利文獻1 ;日本特開2002-243906號公報
【發(fā)明內(nèi)容】

[0009] 發(fā)明所要解決的技術(shù)問題
[0010] 本發(fā)明是為了解決上述現(xiàn)有的技術(shù)問題而作出的,其目的在于提供一種在寬帶域 中具有優(yōu)異的反射特性(低反射性)且接近中性的優(yōu)異的反射色相進而具有優(yōu)異的機械特 性的防反射膜、及可高生產(chǎn)率且低成本制造此種防反射膜的方法。
[0011] 用于解決技術(shù)問題的手段
[0012] 本發(fā)明的防反射膜具有基材和自該基材側(cè)起依次具有的中折射率層、高折射率層 及低折射率層;該基材的折射率為1. 45~1. 65的范圍;該中折射率層是通過在該基材上 涂布包含粘合劑樹脂與無機微粒的中折射率層形成用組合物并進行固化而形成的,并且 折射率為1. 67~1. 78的范圍,厚度為70皿~120皿;該高折射率層的折射率為2. 00~ 2. 60的范圍,厚度為lOnm~25nm;該低折射率層的折射率為1. 35~1. 55的范圍,厚度為 70nm~120nm。
[0013] 在一個實施方式中,上述高折射率層的厚度為10皿~20皿。
[0014] 在一個實施方式中,上述高折射率層是通過金屬氧化物或金屬氮化物的瓣射而形 成的、或者是通過一面導(dǎo)入氧使金屬氧化一面進行瓣射而形成的。
[0015] 在一個實施方式中,上述粘合劑樹脂為電離射線固化型樹脂,上述無機微粒是粒 徑為Inm~lOOnm的氧化錯粒子或氧化鐵粒子。
[0016] 根據(jù)本發(fā)明的另一方面,提供一種防反射膜的制造方法。該方法包含如下步驟: 在基材上涂布包含粘合劑樹脂與無機微粒的中折射率層形成用組合物并使其固化而形成 中折射率層;在該中折射率層上瓣射金屬氧化物或金屬氮化物、或者一面導(dǎo)入氧使金屬氧 化一面進行瓣射而形成高折射率層;及在該高折射率層上瓣射金屬氧化物或金屬氣化物而 形成低折射率層;其中,該基材的折射率為1. 45~1. 65的范圍;該中折射率層的折射率為 1. 67~1. 78的范圍,厚度為70nm~120nm;該高折射率層的折射率為2. 00~2. 60的范圍, 厚度為10皿~25皿;該低折射率層的折射率為1. 35~1. 55的范圍,厚度為70皿~120皿。
[0017] 根據(jù)本發(fā)明的又一方面,提供一種帶有防反射膜的偏振片。該帶有防反射膜的偏 振片包含上述防反射膜。
[0018] 根據(jù)本發(fā)明的再一方面,提供一種圖像顯示裝置。該圖像顯示裝置包含上述防反 射膜或上述帶有防反射膜的偏振片。
[0019] 發(fā)明的效果
[0020] 根據(jù)本發(fā)明,通過在中折射率層的形成時使用濕式工藝、及使高折射率層的厚度 與W往相比明顯變薄,從而可高生產(chǎn)率且低成本獲得防反射膜。并且,根據(jù)本發(fā)明, 通過使各層的折射率與厚度最佳化,從而可獲得在寬帶域中具有優(yōu)異的反射特性(低反射 性)且接近中性的優(yōu)異的反射色相、進而具有優(yōu)異的機械特性的防反射膜。
【附圖說明】
[0021] 圖1是本發(fā)明的一個實施方式的防反射膜的概略截面圖。
【具體實施方式】
[0022] W下參照【附圖說明】本發(fā)明的優(yōu)選的實施方式,但本發(fā)明并不限定于該些實施方 式。另外,為了易于觀察,附圖中的各層等的長度、厚度等與實際的縮小比例尺并不相同。
[0023] A.防反射膜的整體構(gòu)成
[0024] 圖1是本發(fā)明的一個實施方式的防反射膜的概略截面圖。防反射膜100具有基材 10和自基材10側(cè)起依次具有的中折射率層20、根據(jù)需要的密接層30、高折射率層40及低 折射率層50?;牡恼凵渎驶癁?. 45~1. 65的范圍。中折射率層是通過在基材上涂布包 含粘合劑樹脂與無機微粒的中折射率層形成用組合物并進行固化而形成的。中折射率的折 射率riM為1. 67~1. 78的范圍,厚度為70皿~120皿。高折射率層的折射率nH為2. 00~ 2. 60的范圍,厚度為lOnm~25nm。低折射率層的折射率化為1. 35~1. 55的范圍,厚度為 70nm~120nm。在本發(fā)明中,高折射率層的厚度與W往相比明顯變薄。已知,高折射率層代 表性地是通過佩2〇5等金屬氧化物的瓣射而形成的,但此種瓣射速度非常慢。因此,通過使 高折射率層的厚度變薄,可大幅地提高防反射膜整體的生產(chǎn)效率。進而,通過利用濕式工藝 形成中折射率層,從而可進一步提高生產(chǎn)效率,可進一步降低制造成本。其結(jié)果,根據(jù)本發(fā) 明,可ww高生產(chǎn)率且低成本獲得防反射膜。并且,根據(jù)本發(fā)明,通過使各層的折射率與厚 度最佳化,可獲得在寬帶域中具有優(yōu)異的反射性能(低反射性)的防反射膜。
[0025] 在一個實施方式中,防反射膜100的基材的折射率化、中折射率層的折射率riM及高 折射率層的折射率riH滿足下述式(1)。其中,基材的折射率ns、中折射率層的折射率n"及 局折射率層的折射率%具有nH〉nM〉nS的關(guān)系;
[0026]
[0027]如果將式(1)中左邊的左側(cè)〇1廠1)/(咕+1)設(shè)為Ri、左邊的右側(cè)的平方根的式設(shè)為R2,則Ri是指高折射率層的固有的反射率,R2是指在基材上層疊有光學(xué)膜厚為^/4的中折 射率層時的反射率。(R1-R2)越大,越可使高折射率層的膜厚變薄,并且可獲得所期望的 反射率。因此,在本發(fā)明中,化一R2)優(yōu)選為0.02W上,更優(yōu)選為0.03W上?;籖2)的 上限例如為0. 2。
[002引防反射膜的反射色相在CIE-L油表色系統(tǒng)中優(yōu)選為0《a*《15、-20《b*《0, 更優(yōu)選為0《《10、-15《《0。根據(jù)本發(fā)明,通過使各層的折射率最佳化,從而除 上述效果W外,也可獲得具有接近中性的優(yōu)異的反射色相的防反射膜。
[0029] 防反射膜的視覺反射率Y越低越優(yōu)選,優(yōu)選為1. 0 %W下,更優(yōu)選為0. 7 %W下,進 一步優(yōu)選為〇.5%W下。如上所述,根據(jù)本發(fā)明,多層防反射膜可兼具低的視覺反射率(優(yōu) 異的防反射特性)與著色小的接近中性的反射色相(優(yōu)異的反射色相)。
[0030] W下,對構(gòu)成防反射膜的各層詳細(xì)地進行說明。
[003UA-1.基材
[0032] 只要可獲得本發(fā)明的效果,基材10就可由任意的適當(dāng)?shù)臉渲?gòu)成。具體而言, 基材10可為具有透明性的樹脂膜。作為構(gòu)成膜的樹脂的具體例子,可列舉出;聚締姪系樹 脂(例如聚己締、聚丙締)、聚醋系樹脂(例如聚對苯二甲酸己二醇醋、聚蒙二甲酸己二醇 醋)、聚酷胺系樹脂(例如巧龍-6、巧龍-66)、聚苯己締樹脂、聚氯己締樹脂、聚酷亞胺樹脂、 聚己締醇樹脂、己締-己締醇樹脂、(甲基)丙締酸樹脂、(甲基)丙締膳樹脂、纖維素系樹 脂(例如=己酷纖維素、二己酷纖維素、賽踰汾)?;目蔀閱我粚樱部蔀槎鄠€樹脂膜的層 疊體,也可
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