本發(fā)明涉及一種應(yīng)用于玻璃基板的光學(xué)多層薄膜，具體涉及一種防污抗反射膜，以及具有該防污抗反射膜的蓋板和采用該蓋板的電子設(shè)備。
背景技術(shù)：
：智能手機和平板電腦相比于其他顯示設(shè)備，會更加頻繁的在戶外使用，而顯示面板對外界的反射會干擾圖像的可視性。在這種情況下，常用的衡量顯示面板性能的暗室對比度并沒有實際的意義，而戶外對比度更能表征顯示面板的可視性能。戶外對比度由顯示面板的亮度和反射率決定，其亮度越大、反射率越低，戶外對比度越高。降低面板反射率最重要的部分是降低顯示面板所搭配的玻璃基板與空氣之間的界面反射，一般廣泛采用的玻璃表面的抗反射膜層具有多層薄膜結(jié)構(gòu)，通常層數(shù)越多可實現(xiàn)的反射率越低，對應(yīng)頻譜范圍也越寬。同時，玻璃基板作為面板操作時的接觸界面，其防污抗指紋的處理也非常重要。為了同時實現(xiàn)防污和抗反射功能，需要在抗反射膜層上制備一層具備防污功能的膜。然而，防污的膜層具有一定的折射率和厚度，會影響膜整體的反射光譜和抗反射性能的可靠性。目前，現(xiàn)有技術(shù)中的防污抗反射膜的抗反射性能的可靠性以及硬度等方面存在諸多問題。技術(shù)實現(xiàn)要素：本發(fā)明的目的在于提供一種具有較好的抗反射性能的防污抗反射膜。本發(fā)明一方面提供了一種防污抗反射膜，其包括抗反射膜和覆設(shè)于所述抗反射膜上的防污膜，其中，所述抗反射膜具有六層膜結(jié)構(gòu)，該六層膜以距離防污膜由遠(yuǎn)及近依次為：第一層SiNx層，第二層SiO2層，第三層SiNx層，第四層SiO2層，第五層SiNx和第六層SiO2層。優(yōu)選的，所述六層膜對應(yīng)的折射率依次定義為：n1、n2、n3、n4、n5、n6；所述六層膜的光學(xué)膜厚依次定義為：d1、d2、d3、d4、d4、d5、d6；其中，2.0≤n1＝n3＝n5≤2.2；1.4≤n2＝n4＝n6≤1.6；15nm≤d1≤25nm；25nm≤d2≤35nm；40nm≤d3≤50nm；10nm≤d4≤15nm；30nm≤d5≤40nm；70nm≤d6≤80nm。優(yōu)選的，所述防污膜的折射率為1.3～1.4；光學(xué)膜厚為15nm～30nm。優(yōu)選的，當(dāng)所述d6為一定值時，所述防污膜的光學(xué)膜厚的取值與其折射率成反比。優(yōu)選的，當(dāng)所述防污膜的折射率為一定值時，所述防污膜的光學(xué)膜厚與所述d6成反比。優(yōu)選的，所述d5的取值與n5值成反比。本發(fā)明另一方面提供了一種防污抗反射蓋板，其包括基板和覆設(shè)于所述基板上的如上述的防污抗反射膜，且所述第一層SiNx層與所述基板接觸。優(yōu)選的，所述基板為玻璃基板。優(yōu)選的，所述玻璃基板的折射率為1.45～1.55。本發(fā)明再一方面提供了一種電子設(shè)備，其包括觸摸面板，所述觸摸面板采用如上述的防污抗反射蓋板作為蓋板。本發(fā)明的防污抗反射膜，在保證了防污功能的基礎(chǔ)上，改善了抗反射性能且具有更好的硬度。附圖說明圖1為本發(fā)明實施例1的防污抗反射蓋板的剖視示意圖。圖2為本發(fā)明實施例1的防污抗反射蓋板100的反射率光譜圖。圖3為本發(fā)明實施例2的防污抗反射蓋板100的反射率光譜圖。具體實施方式以下將對本發(fā)明的實施例給出詳細(xì)的說明。盡管本發(fā)明將結(jié)合一些具體實施方式進(jìn)行闡述和說明，但需要注意的是本發(fā)明并不僅僅只局限于這些實施方式。相反，對本發(fā)明進(jìn)行的修改或者等同替換，均應(yīng)涵蓋在本發(fā)明的權(quán)利要求范圍當(dāng)中。另外，為了更好的說明本發(fā)明，在下文的具體實施方式中給出了眾多的具體細(xì)節(jié)。本領(lǐng)域技術(shù)人員將理解，沒有這些具體細(xì)節(jié)，本發(fā)明同樣可以實施。在另外一些實例中，對于大家熟知的結(jié)構(gòu)和部件未作詳細(xì)描述，以便于凸顯本發(fā)明的主旨。實施例1如圖1所示，防污抗反射蓋板100包括基板1和覆設(shè)于基板1上的防污抗反射膜2。基板1可以使用玻璃基板或諸如PC、PMMA、PET等塑料基板。防污抗反射膜2包括抗反射膜20和覆設(shè)于抗反射膜20上的防污膜27。抗反射膜20具有六層膜結(jié)構(gòu)，該六層膜以距離防污膜27由遠(yuǎn)及近依次為第一層SiNx層21，第二層SiO2層22，第三層SiNx層23，第四層SiO2層24，第五層SiNx層25和第六層SiO2層26。關(guān)于SiNx層(第一、三、五層)，可以通過改變x的值(調(diào)節(jié)含氮量)來獲得不同折射率。x的取值與該材料的折射率直接相關(guān)，可以根據(jù)所選擇的折射率來確定x的值。六層膜對應(yīng)的折射率依次定義為：n1、n2、n3、n4、n5、n6；所述六層膜的光學(xué)膜厚依次定義為：d1、d2、d3、d4、d4、d5、d6；其中，2.0≤n1＝n3＝n5≤2.2；1.4≤n2＝n4＝n6≤1.6；15nm≤d1≤25nm；25nm≤d2≤35nm；40nm≤d3≤50nm；10nm≤d4≤15nm；30nm≤d5≤40nm；70nm≤d6≤80nm。防污膜27的折射率為1.3～1.4；光學(xué)膜厚為15nm～30nm。當(dāng)d6為一定值時，防污膜的光學(xué)膜厚的取值與其折射率成反比。如此可以使得防污膜與d6相匹配，得到抗反射特性更佳的膜層。即，當(dāng)d6一定時，防污膜27的折射率越大，其光學(xué)膜厚的取值越小。如此可以使得防污膜與d6相匹配，得到抗反射特性更佳的膜層。例如：當(dāng)d6為70nm時：防污膜27的折射率為1.38，其光學(xué)膜厚為25nm；防污膜27的折射率為1.45，其光學(xué)膜厚為23nm；當(dāng)d6為80nm時：防污膜27的折射率為1.38，其光學(xué)膜厚為14nm；防污膜27的折射率為1.45，其光學(xué)膜厚為13nm。當(dāng)防污膜27的折射率為一定值時，防污膜27的光學(xué)膜厚與d6成反比。例如，當(dāng)防污膜27的折射率為1.38，光學(xué)膜厚等于20nm時，d6為74nm；光學(xué)膜厚等于14nm時，d6為80nm。d5的取值與n5值成反比。如此可以使得防污膜與d5相匹配，得到抗反射特性更佳的膜層。例如，當(dāng)d5等于34nm時，n5等于1.55；當(dāng)d5等于36nm時，n5等于1.46。在本實施例中，基板1為玻璃基板，使用折射率為1.51的康寧玻璃切割強化后制作成待鍍膜的玻璃基板。防污抗反射蓋板100的基板以及各層鍍膜的折射率以及厚度如下表一所示：表一膜層折射率厚度防污膜層1.3825nm第六層SiO21.570nm第五層SiNx2.1535nm第四層SiO21.510nm第三層SiNx2.1543nm第二層SiO21.529nm第一層SiNx2.1519nm玻璃基板1.51在實施例1的抗反射膜2結(jié)構(gòu)中，第一層至第六層均采用反應(yīng)濺射方法制備，濺射靶材為Si，分別通入氧氣和氮氣反應(yīng)生成SiO2和SiNx。在本實施例中，防污膜27采用電子束蒸發(fā)方法制備獲得。參見圖2，為實施例1的防污抗反射蓋板100的反射率光譜圖。從該圖中可以看出，在400～700nm波長的光的照射下，本發(fā)明實施例1的防污抗反射蓋板100平均反射率<1％，相較于現(xiàn)有的玻璃蓋板(平均反射率4.25％)下降了3.5％。實施例1的防污抗反射蓋板100的硬度測試及結(jié)果如下：測試條件：用9H的三菱測試鉛筆芯，以750gf壓力，鉛筆芯與待測表面的夾角為45°，在待測位置劃5筆,每筆長20mm，測試樣品數(shù)量：3pcs。測試程序：1)對待測表面目檢，保證無刮花，劃痕，起泡、裂口、脫落，刮傷等異常；2)取MITSU-BISHIUNI測試鉛筆，用削筆刀，只削去木頭，留下完整的無損傷的圓柱形鉛筆芯大約3mm；3)將鉛筆芯頭部在400目砂紙上以90°磨制成光滑平面,且邊緣沒有碎屑和缺口,每次使用鉛筆前都需重復(fù)此步驟；4)將待測樣品放在水平、穩(wěn)固的表面上，將磨制好的鉛筆插入測試儀器，鉛筆芯頭部與待測表面成45°角接觸；5)施加在鉛筆芯頭部的壓力為750g，通過測試儀器推動鉛筆直線前進(jìn)劃待測表面20mm；6)重復(fù)步驟3)～5),共測試5次(測試位置采用平行5條線，線距>3mm，測試線之間不進(jìn)行干涉即可)；7)測試完成后，用軟布或者橡皮輕輕擦拭清潔后，檢查測試表面。測試結(jié)果：經(jīng)測試后，防污抗反射蓋板100表面不可見擦傷或刮破。實施例1的防污抗反射蓋板100的膜層附著力測試及結(jié)果如下：用20x20mm面積鋼絲絨球在防污抗反射蓋板100上，以每分鐘來回40次并施力1000g對膜層進(jìn)行2000/4000/10000/15000/20000次的來回摩擦。經(jīng)摩擦后，進(jìn)行水滴角測試。測試結(jié)果表明：防污抗反射蓋板100的表面有很好的疏水特性，并且通過多次摩擦進(jìn)行驗證發(fā)現(xiàn)該膜層具有很好的防刮特性，20000次摩擦后其水滴角雖然降低，但肉眼不可視膜層刮傷。實施例2實施例2的防污抗反射蓋板的膜層結(jié)構(gòu)與圖1所示近似，故未示出。實施例2的防污抗反射蓋板，與實施例1的相比，僅各層鍍膜的折射率以及厚度不同，具體如表二所示：表二膜層折射率厚度第七層防污膜層1.3515nm[0052]第六層SiO21.578nm第五層SiNx2.0540nm第四層SiO21.510nm第三層SiNx2.0543nm第二層SiO21.529nm第一層SiNx2.0519nm玻璃基板1.51參見圖3，為實施例2的防污抗反射蓋板的反射率光譜圖。從該圖中可以看出，在400～700nm波長的光的照射下，本發(fā)明實施例1的防污抗反射蓋板100平均反射率<1％，相較于現(xiàn)有的玻璃蓋板(平均反射率4.25％)下降了3.5％。本發(fā)明實施例1和2的防污抗反射蓋板可以適用于制作觸摸面板，例如智能手機或平板電腦等電子設(shè)備的觸摸面板。應(yīng)當(dāng)理解，雖然本說明書按照實施方式加以描述，但并非每個實施方式僅包含一個獨立的技術(shù)方案，說明書的這種敘述方式僅僅是為清楚起見，本領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)將說明書作為一個整體，各實施方式中的技術(shù)方案也可以經(jīng)適當(dāng)組合，形成本領(lǐng)域技術(shù)人員可以理解的其他實施方式。上文所列出的一系列的詳細(xì)說明僅僅是針對本發(fā)明的可行性實施方式的具體說明，它們并非用以限制本發(fā)明的保護(hù)范圍，凡未脫離本發(fā)明技藝精神所作的等效實施方式或變更均應(yīng)包含在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。當(dāng)前第1頁1 2 3