一種負性光刻膠及其制備方法、使用方法
【專利摘要】本發(fā)明實施例提供了一種負性光刻膠及其制備方法、使用方法，涉及光刻膠領(lǐng)域，可以降低生產(chǎn)成本，廣泛應用于實際生產(chǎn)中。所述制備方法包括：按照質(zhì)量配比，將1～90份的含羥基或羧基的成膜樹脂，1～99份的含硅乙烯基醚化合物以及0.5～15份的交聯(lián)劑，溶解在能夠溶解上述物質(zhì)的有機溶劑中。
【專利說明】一種負性光刻膠及其制備方法、使用方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及光刻膠領(lǐng)域，尤其涉及一種負性光刻膠及其制備方法、使用方法。
【背景技術(shù)】
[0002]光刻膠是大規(guī)模集成電路工業(yè)中進行光刻過程的關(guān)鍵功能材料。光刻膠經(jīng)紫外光照射后，發(fā)生一系列化學反應，使得曝光前后光刻膠在顯影液中的溶解速率產(chǎn)生變化，再經(jīng)過顯影、堅膜、蝕刻和去膜等過程就能夠?qū)⑻囟ǖ母呔葓D形轉(zhuǎn)移到待加工的基板表面。
[0003]隨著大規(guī)模集成電路工業(yè)的飛速發(fā)展，集成電路產(chǎn)品及品種的多樣化，光刻工藝的不斷改進，對光刻工藝過程中使用的關(guān)鍵材料，特別是光刻膠的要求更高，種類及性能更多樣化、專業(yè)化。
[0004]現(xiàn)有的技術(shù)，在光刻膠的制作過程中，需要先將含硅丙烯酸酯類單體與不含硅單體聚合形成含硅聚合物作為成膜樹脂，該聚合反應困難，產(chǎn)率有限，故此類含硅成膜樹脂成本較高，大大限制其實際使用。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]本發(fā)明的實施例提供一種負性光刻膠及其制備方法、使用方法，可以降低生產(chǎn)成本，廣泛應用于實際生產(chǎn)中。
[0006]為達到上述目的，本發(fā)明的實施例采用如下技術(shù)方案:
[0007]一種負性光刻膠的制備方法，包括:
[0008]按照質(zhì)量配比，將I?90份的含羥基或羧基的成膜樹脂，I?99份的含硅乙烯基醚化合物，0.1?15份的交聯(lián)劑，溶解在能夠溶解上述物質(zhì)的有機溶劑中。
[0009]可選的，所述含羥基的成膜樹脂包括:含酚羥基的成膜樹脂。
[0010]可選的，所述方法還包括:按照所述質(zhì)量配比，加入光產(chǎn)酸劑以及染料共0.1?10份。
[0011]可選的，按照所述質(zhì)量配比，所述有機溶劑為200-400份。
[0012]可選的，所述方法包括:
[0013]按照質(zhì)量配比，將I?5份的含酚羥基或含羧基的成膜樹脂，5?9份的含硅乙烯基醚化合物，0.2?0.5份的交聯(lián)劑，以及光產(chǎn)酸劑和染料共0.5?0.8份溶解在300?340份的有機溶劑中。
[0014]可選的，所述交聯(lián)劑的結(jié)構(gòu)簡式包括:
[0015]
【權(quán)利要求】
1.一種負性光刻膠的制備方法,其特征在于,包括: 按照質(zhì)量配比，將I~90份的含羥基或羧基的成膜樹脂，I~99份的含硅乙烯基醚化合物，0.1~15份的交聯(lián)劑，溶解在能夠溶解上述物質(zhì)的有機溶劑中。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備方法，其特征在于，所述含羥基的成膜樹脂包括:含酚羥基的成I吳樹脂。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的制備方法，其特征在于，所述方法還包括:按照所述質(zhì)量配比，加入光產(chǎn)酸劑以及染料共0.1~10份。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備方法，其特征在于，按照所述質(zhì)量配比，所述有機溶劑為200-400 份。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的制備方法，其特征在于，所述方法包括: 按照質(zhì)量配比，將I~5份的含酚羥基或含羧基的成膜樹脂，5~9份的含硅乙烯基醚化合物，0.2~0.5份的交聯(lián)劑，以及光產(chǎn)酸劑和染料共0.5~0.8份溶解在300~340份的有機溶劑中。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備方法，其特征在于，所述交聯(lián)劑的結(jié)構(gòu)簡式包括:
7.根據(jù)權(quán)利要求2所述的制備方法，其特征在于，所述含羧基的成膜樹脂包括:側(cè)鏈上含有羧基的線性酚醛類樹脂、含有羧基的聚丙烯酸酯類樹脂和聚乙烯醇縮醛羧酸酐酯化樹脂中的至少一種。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的制備方法，其特征在于，所述側(cè)鏈上含有羧基的線性酚醛類樹脂的結(jié)構(gòu)通式為:
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備方法，其特征在于，所述含硅乙烯基醚化合物的結(jié)構(gòu)通式為:
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備方法，其特征在于，所述的光產(chǎn)酸劑包括鎗鹽類、芳茂鐵類、硫酸肟鹽類或三嗪類光產(chǎn)酸劑中的至少一種。
11.一種負性光刻膠，其特征在于，按照質(zhì)量配比，所述負性光刻膠包括:1~90份的含羥基或羧基的成膜樹脂，I~99份的含硅乙烯基醚化合物，0.1~15份的交聯(lián)劑，以及能夠溶解上述物質(zhì)的有機溶劑。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的負性光刻膠，其特征在于，按照所述質(zhì)量配比，所述有機溶劑為200-400份。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的負性光刻膠，其特征在于，按照所述質(zhì)量配比，所述負性光刻膠還包括:光產(chǎn)酸劑以及染料共0.1~10份。
14.一種負性光刻膠的使用方法,其特征在于,包括: 將權(quán)利要求11-13任一項所述的負性光刻膠形成在待處理的基板上； 使所述負性光刻膠中的含羥基或羧基的成膜樹脂，與含硅乙烯基醚化合物反應，生成含硅醚化物光刻膠薄膜； 進行曝光，在光產(chǎn)酸劑的作用下，使得曝光區(qū)域的含硅醚化物中的S1-OR基團優(yōu)先與交聯(lián)劑發(fā)生交聯(lián)反應； 在堿性顯影液中顯影，形成顯影圖像。
【文檔編號】G03F7/075GK103809378SQ201410037970
【公開日】2014年5月21日 申請日期:2014年1月26日 優(yōu)先權(quán)日:2014年1月26日
【發(fā)明者】汪建國, 胡合合 申請人:京東方科技集團股份有限公司