技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明提供一種曝光裝置，其用于將電路圖形投影于涂有光刻膠的硅片上，所述曝光裝置包括曝光系統(tǒng)、運(yùn)動臺系統(tǒng)、測量系統(tǒng)、對準(zhǔn)系統(tǒng)及傳輸系統(tǒng)，所述曝光系統(tǒng)用于將電路圖形投影于所述硅片上，所述運(yùn)動臺系統(tǒng)用于承載掩模版和硅片，并具備快速步進(jìn)、定位及微調(diào)能力，所述測量系統(tǒng)用于測量工件臺及掩模臺長行程的相對運(yùn)動距離，所述對準(zhǔn)系統(tǒng)用于測量所述掩模版、掩模臺和工件臺三者之間的相對位置，所述傳輸系統(tǒng)用于所述掩模版及硅片的交換工作，本發(fā)明提供的曝光裝置在增大曝光視場、減小框架穩(wěn)定時(shí)間、提高產(chǎn)率等方面提供了一些解決方案，以提高曝光裝置的曝光精度，增加曝光裝置的曝光效率。

技術(shù)研發(fā)人員：葛黎黎;王天明
受保護(hù)的技術(shù)使用者：上海微電子裝備有限公司
文檔號碼：201210587429
技術(shù)研發(fā)日：2012.12.28
技術(shù)公布日：2017.02.22