專利名稱：一種彩膜顯影機的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及液晶面板制造領域，尤其涉及一種彩膜顯影機。
背景技術：
液晶面板制造領域中，彩膜顯影機主要應用在彩色濾光片R、G、B制程中，其可以對基板面內光阻進行顯影?，F(xiàn)有技術中彩膜顯影機的結構主要由顯影槽9組成，如圖3所示，相對于水平面T傾斜一定角度的顯影槽9可以將顯影基板固定在一定角度進行顯影,傾斜的基板利于基板表面顯影液的顯影和下流，防止因為基板的彎曲造成顯影液殘留，減少因液體流動不暢造·
上述結構的彩膜顯影機因結構設計不合理，存在如下缺陷
在基板進行顯影時，基板上方的顯影噴嘴對基板上的光阻噴灑顯影液，顯影液會沿著傾斜的基板由上至下的向下流。由于下流的顯影液仍舊具有較強的顯影能力，在下流的過程中會一直與基板上的光阻發(fā)生化學反應，造成整個基板面內顯影程度的不均勻，致使基板靠上邊緣部分與靠下邊緣部分面內RGB制程的顯影大小呈現(xiàn)較大差異，一定程度上影響廣品的品質。

發(fā)明內容
本發(fā)明所要解決的技術問題在于，提供一種彩膜顯影機，可以減少發(fā)生基板在通過顯影槽顯影時因為顯影液由上至下的流動對傾斜基板上光阻造成顯影不均的情況；增強了基板顯影的均勻性；改善面內制程均勻程度，縮小差異性，提升產品的品質。為了解決上述技術問題，本發(fā)明的實施例提供了一種彩膜顯影機，用于在液晶面板制造中對基板面內光阻進行均勻顯影，包括顯影槽，所述顯影槽包括分別相對于水平面設置傾斜的第一顯影槽和第二顯影槽；所述第一顯影槽和所述第二顯影槽相對于所述水平面傾斜的傾斜方向相反。優(yōu)選的，所述第一顯影槽相對于所述水平面的傾斜角的角度范圍在0° -90°之間；所述第二顯影槽相對于所述水平面的傾斜角的角度范圍在90° -180°之間。優(yōu)選的，所述第一顯影槽相對于所述水平面的傾斜角的角度范圍在5° -10°之間；所述第二顯影槽相對于所述水平面的傾斜角的角度范圍在170° -175°之間。優(yōu)選的，所述第一顯影槽相對于所述水平面的傾斜角與所述第二顯影槽相對于所述水平面的傾斜角互補。優(yōu)選的，所述彩膜顯影機還包括用于在所述第一顯影槽和所述第二顯影槽間進行傳送的傳送機構；所述傳送機構可相對于水平面設置旋轉傾斜。優(yōu)選的，所述第一顯影槽和所述第二顯影槽上分別安裝有所述傳送機構。優(yōu)選的，所述第一顯影槽和/或所述第二顯影槽連接設置用于去除所述基板表面殘留顯影液的清洗裝置。
優(yōu)選的，所述基板通過所述第一顯影槽經所述清洗裝置后，由所述傳動裝置傳送至所述第二顯影槽。本發(fā)明所提供的彩膜顯影機，由于設置了相對于水平面傾斜的第一顯影槽和第二顯影槽，兩顯影槽相對于水平面傾斜的傾斜方向相反。使得基板通過顯影槽顯影時相互抵消因為顯影液由上至下的流動對傾斜基板上光阻造成的差異性。增強了基板顯影的均勻性；改善面內制程均勻程度，縮小差異性，提升產品的品質。


為了更清楚地說明本發(fā)明實施例或現(xiàn)有技術中的技術方案，下面將對實施例或現(xiàn)有技術描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實施例，對于本領域普通技術人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖?！DI是本發(fā)明實施例的彩膜顯影機的顯影槽的截面結構示意 圖2是本發(fā)明實施例的彩膜顯影機的結構框 圖3是現(xiàn)有技術中彩膜顯影機的顯影槽的截面結構示意圖。
具體實施例方式下面參考附圖對本發(fā)明的優(yōu)選實施例進行描述。本發(fā)明實施例提供了一種彩膜顯影機，用于在液晶面板制造中對基板面內光阻進行均勻顯影，其包括用于對基板進行固定的顯影槽，所述顯影槽包括相對于水平面設置傾斜的第一顯影槽11和第二顯影槽12 ；
所述第一顯影槽11和所述第二顯影槽12分別相對于所述水平面傾斜的傾斜方向相反。參見圖1，該結構的彩膜顯影機，通過設置兩傾斜方向相反的顯影槽，可以使顯影基板在顯影工序中不至于一直處于一端側被較強顯影的狀態(tài)。該使面內均勻顯影的結構是通過如下方式實施的
顯影基板在經過傾斜的第一顯影槽11時，位于第一顯影槽11上方的顯影噴嘴對基板上光阻噴灑顯影液，由于噴灑在基板上的顯影液會沿著傾斜的基板由上至下的向下流，而下流的顯影液仍舊具有較強的顯影能力，在下流的過程中不斷的與基板上的光阻發(fā)生化學反應，造成傾斜基板靠近傾斜頂緣的部分a相比傾斜底緣的部分b的顯影程度要差。緊接著，顯影基板通過第二顯影槽12,由于第二顯影槽12的傾斜方向與第一顯影槽11的傾斜方向相反，顯影液噴灑在上述顯影程度較強的b端側，沿著第二顯影槽12傾斜的方向由上至下的向下流，原本顯影程度差的部分得到了顯影的加強，進而使得面內的顯影情況趨于均勻。上述實施方式中，兩顯影槽11、12相對于水平面傾斜的傾斜方向相反是指兩顯影槽相對于水平面的傾斜角設置在不同的取值范圍中，致使兩顯影槽相對于水平面的傾斜角分別取值在銳角和鈍角的兩種取值范圍中形成相對于水平面相反的傾斜方向。例如在一種實施方式中，第一顯影槽11相對于水平面L的傾斜角α為取值在0° -90°之間的銳角的角度范圍，而第二顯影槽12相對于水平面L的傾斜角β為取值在90° -180°之間的鈍角的角度范圍。在優(yōu)選的實施方式中，第一顯影槽11相對于所述水平面的傾斜角α與所述第二顯影槽12相對于所述水平面的傾斜角β互補。例如第一顯影槽11相對于水平面L的傾斜角α取值為5° (或在5° -10°之間任意取值)，第二顯影槽12相對于水平面L的傾斜角β取值為175° (或在170° -175°之間任意取值)。將兩傾斜角設置互補的作用是由于位于兩顯影槽上的顯影噴嘴噴出顯影液的參數(shù)和條件相同，設置互補的傾斜角，進而使兩顯影槽相對于水平面L具有相同的坡度，顯影液在兩顯影槽上的流速近似相同，從而保證兩段顯影槽的顯影效果相近似，進而使基板面內的顯影情況趨于均勻。
· 彩膜顯影機包括用于在第一顯影槽11和第二顯影槽12間進行傳送的傳送機構。如圖2所示，傳送機構可以將顯影基板由第一顯影槽11傳動至第二顯影槽12進行顯影工序。優(yōu)選的實施方式中，第一顯影槽11和第二顯影槽12上也分別安裝有傳送機構，該傳送機構可相對于水平面設置旋轉傾斜。實施中，傳送機構可保持與傾斜角α或傾斜角β相同的傾斜角度，通過其自身的旋轉，可將顯影基板帶入第一顯影槽11，之后再將基板傳動至第二顯影槽12并進入。本發(fā)明的彩膜顯影機的另一種實施方式中，可以設置分別與第一顯影槽11和/或所述第二顯影槽12相接連的清洗裝置。清洗裝置主要由水洗槽/風刀段組成，通過水洗槽/風刀段的處理可以將基板表面殘留的液體除去，為后續(xù)的處理工序做好準備。以下以兩顯影槽相對于水平面L相反的傾斜方向為例，其中，第一顯影槽11相對于水平面L的傾斜角α取值為5°，第二顯影槽12相對于水平面L的傾斜角β取值為175°，說明本發(fā)明彩膜顯影機對基板面內光阻進行均勻顯影的過程
需顯影的基板在傳送機構的帶入下進入第一顯影槽11，位于第一顯影槽11上方的顯影噴嘴對基板上光阻噴灑顯影液。噴灑在基板上的顯影液會沿著傾斜的基板由上至下的向下流，而下流的顯影液仍舊具有較強的顯影能力，在下流的過程中不斷的與基板上的光阻發(fā)生化學反應，使基板靠近顯影槽傾斜頂緣的部分a相比傾斜底緣的部分b的顯影程度要差或顯影稍有不足。緊接著，基板進入水洗槽/風刀段進行處理，基板表面殘留的液體除去后，再由傳送機構帶入到第二顯影槽12上。由于第二顯影槽12的傾斜方向與第一顯影槽11的傾斜方向相反，基板顯影程度較強的b端側位于第二顯影槽12如圖所示較高的位置，顯影液噴灑在其上沿著第二顯影槽12傾斜的方向由上至下的向下流。在下流的過程中顯影液不斷的與基板上的光阻發(fā)生化學反應，原本顯影程度差的a端側部分得到了顯影的加強。由于位于兩顯影槽上的顯影噴嘴噴出顯影液的參數(shù)和條件相同，設置互補的傾斜角，使得兩顯影槽相對于水平面L具有相同的坡度，顯影液在兩顯影槽上的流速近似相同，從而保證兩段顯影槽的顯影效果相近似，進而使基板面內的顯影情況趨于均勻。最后，基板在傳送機構的帶動下進入水洗槽/風刀段進行處理，基板表面殘留的液體被除去。本發(fā)明的彩膜顯影機的其它實施方式中，兩顯影槽相對于水平面的傾斜角可以是互補關系的其它取值，只要滿足相對于所述水平面傾斜的傾斜方向相反即可；也可不設置清洗裝置，通過其它的方式提升產品的品質；在兩段顯影槽上方的設置的噴嘴噴灑顯影液的參數(shù)和條件不同時，可以通過改變兩顯影槽相對于水平面的傾斜角的角度使兩段顯影槽的顯影效果相近。實施本發(fā)明的彩膜顯影機，由于設置了相對于水平面傾斜的第一顯影槽和第二顯影槽，兩顯影槽相對于水平面傾斜的傾斜方向相反。使得基板通過顯影槽顯影時減少因為顯影液由上至下的流動對傾斜基板上光阻造成的顯影差異。增強了基板顯影的均勻性；改善面內制程均勻程度，縮小差異性，提升產品的品質。以上所揭露的僅為本發(fā)明較佳實施例而已，當然不能以此來限定本發(fā)明之權利范圍，因此等同變化，仍屬本發(fā)明所涵蓋的范圍。·
權利要求
1.一種彩膜顯影機，用于在液晶面板制造中對基板面內光阻進行均勻顯影，包括顯影槽，其特征在于，所述顯影槽包括分別相對于水平面設置傾斜的第一顯影槽(11)和第二顯影槽(12); 所述第一顯影槽(11)和所述第二顯影槽(12)相對于所述水平面傾斜的傾斜方向相反。
2.如權利要求I所述的彩膜顯影機，其特征在于，所述第一顯影槽(11)相對于所述水平面的傾斜角(α)的角度范圍在0° -90°之間； 所述第二顯影槽(12)相對于所述水平面的傾斜角(β)的角度范圍在90° -180°之 間。
3.如權利要求2所述的彩膜顯影機，其特征在于，所述第一顯影槽(11)相對于所述水平面的傾斜角(α)的角度范圍在5° -10°之間； 所述第二顯影槽(12)相對于所述水平面的傾斜角(β)的角度范圍在170° -175°之間。
4.如權利要求I-3任一項所述的彩膜顯影機，其特征在于，所述第一顯影槽(11)相對于所述水平面的傾斜角(α )與所述第二顯影槽(12)相對于所述水平面的傾斜角(β )互補。
5.如權利要求I所述的彩膜顯影機，其特征在于，所述彩膜顯影機還包括用于在所述第一顯影槽(11)和所述第二顯影槽(12)間進行傳送的傳送機構； 所述傳送機構可相對于水平面設置旋轉傾斜。
6.如權利要求5所述的彩膜顯影機，其特征在于，所述第一顯影槽(11)和所述第二顯影槽(12)上分別安裝有所述傳送機構。
7.如權利要求5或6所述的彩膜顯影機，其特征在于，所述第一顯影槽(11)和/或所述第二顯影槽(12)連接設置用于去除所述基板表面殘留顯影液的清洗裝置。
8.如權利要求7所述的彩膜顯影機，其特征在于，所述基板通過所述第一顯影槽(11)經所述清洗裝置后，由所述傳動裝置傳送至所述第二顯影槽(12)。
9.如權利要求8所述的彩膜顯影機，其特征在于，所述第一顯影槽(11)相對于所述水平面的傾斜角(α )與所述第二顯影槽(12)相對于所述水平面的傾斜角(β )互補。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種彩膜顯影機，用于在液晶面板制造中對基板面內光阻進行均勻顯影，包括顯影槽，所述顯影槽包括分別相對于水平面設置傾斜的第一顯影槽和第二顯影槽；所述第一顯影槽和所述第二顯影槽相對于所述水平面傾斜的傾斜方向相反。實施本發(fā)明的彩膜顯影機，使得基板通過顯影槽顯影時可以相互抵消因為顯影液由上至下的流動對傾斜基板上光阻造成的顯影不均；增強了基板顯影的均勻性；改善面內制程均勻程度，縮小差異性，提升產品的品質。
文檔編號G03F7/30GK102789141SQ20121028604
公開日2012年11月21日 申請日期2012年8月13日 優(yōu)先權日2012年8月13日
發(fā)明者胡立巍 申請人:深圳市華星光電技術有限公司