專利名稱：板材蝕刻處理設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型為一種板材蝕刻處理設(shè)備，尤其是一種利用文氏管原理吸 入空氣以幫助蝕刻反應(yīng)，并避免有毒氣體外泄的板材蝕刻處理設(shè)備。
背景技術(shù)：
蝕刻制程為形成電路板、晶圓等的過程中很重要的一環(huán)，其是將一板 材上未被光阻遮蔽的薄膜去除的步驟，而在蝕刻反應(yīng)中會使用蝕刻液與薄 膜反應(yīng)，由于蝕刻液與薄膜產(chǎn)生氧化反應(yīng)，因此在反應(yīng)中通常會加入氧化 劑，如雙氧水等來幫助反應(yīng)。
不過特別需要注意的是，該蝕刻液為有毒液體，所以一般的板材蝕刻 處理設(shè)備皆放置于一密閉的空間中，以避免由蝕刻液所蒸發(fā)的有毒氣體外 泄至外界環(huán)境中，而影響操作人員的健康。 —
然而，由于該板材蝕刻處理設(shè)備設(shè)置于密閉的空間，因此環(huán)境中缺乏 氧氣，所以在蝕刻液中需要添加大量的氧化劑，以便反應(yīng)的進行。然而， 大量的氧化劑會造成制作成本上的負擔(dān)，因此若能在蝕刻時通入些許氧 氣，則可減少氧化劑的使用量，以節(jié)省成本。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明人有鑒于既有的板材蝕刻處理設(shè)備為避免有毒氣體外泄，所以 會被設(shè)置于缺乏氧氣的密死循環(huán)境中，故需在蝕刻液中加入大量的氧化 劑，造成成本上的負擔(dān)，影響板材蝕刻的情形，故經(jīng)過不斷的嘗試與努力 后，終于創(chuàng)作出此板材蝕刻處理設(shè)備。
本實用新型之目的在于提供一種利用文氏管原理吸入空氣并避免有 毒氣體外泄的板材蝕刻處理設(shè)備。
為達上述目的，本實用新型之板材蝕刻處理設(shè)備，其包括 一蝕刻處理槽，其內(nèi)部分設(shè)一板材輸送裝置以及一蝕刻液噴射裝置； 一回收裝置，其包括一輸出管、 一輸入管以及設(shè)置于該輸出管和輸入 管之間的一加壓管，該輸出管連通于該蝕刻處理槽的槽底，該輸入管連通于該蝕刻處理槽的蝕刻液噴射裝置，而該加壓管的管徑小于該輸出管的管 徑，且該加壓管之側(cè)壁設(shè)有一進氣口 。
由于蝕刻液從該蝕刻液噴射裝置噴出且與板材反應(yīng)后，會落入槽底， 再由該回收裝置將該蝕刻液送回該蝕刻處理槽的槽底內(nèi)，并可再由一管線 將含有空氣的蝕刻液送入蝕刻液噴射裝置中，故能重復(fù)使用蝕刻液，而本 實用新型在回收裝置的輸出管和輸入管之間設(shè)置一加壓管，且該加壓管的 管徑小于該輸出管，因此當(dāng)蝕刻液自輸入管流入加壓管時，蝕刻液的流速 增加而會產(chǎn)生負壓，使得外界的空氣由該進氣口進入該板材蝕刻處理設(shè)備 中，所以通過外界空氣中所含之氧氣的加入，使得氧化劑的添加量減少， 以減少蝕刻所耗費的成本。


圖1為本實用新型的示意圖。
圖2為本實用新型控制管的部分立體圖。 圖3為本實用新型的實施狀態(tài)示意圖。
具體實施方式
請參看圖l所示，本實用新型之板材蝕刻處理設(shè)備，其包括 一蝕刻處理槽10，.其內(nèi)部包括一板材輸送裝置以及一蝕刻液噴射裝 置，該板材輸送裝置包括一上滾輪組11以及一下滾輪組12,該上、下滾 輪組11、 12各包括復(fù)數(shù)平行排列且具有滾輪112、 122的上、下桿體111、 121,以承載并運送板材40，該蝕刻液噴射裝置包括復(fù)數(shù)上噴射管13以 及復(fù)數(shù)下噴射管14，該上噴射管13可設(shè)置于該上滾輪組11的上方，且 較佳的是平行間隔設(shè)置于該上桿體11之間，而該下噴射管14可設(shè)置于下 滾輪組12之下方，且較佳的是平行間隔設(shè)置于該下桿體121之間，該等 上、下噴射管13、 14各具有復(fù)數(shù)噴嘴131、 141,該蝕刻處理槽10之槽 底容納有由該蝕刻液噴射裝置噴出且剩余的蝕刻液15，且該蝕刻處理槽 IO之槽底設(shè)有一含泵的管線，其孝通至該等上、下噴射管13、 14,以將 槽底的蝕刻液輸送至該等上、下噴射管13、 14,以重復(fù)利用該蝕刻液；
一回收裝置，其包括一輸出管21、 一輸入管23以及設(shè)置于該輸出管 21和輸入管23之間的一加壓管22,該輸出管21連通于該蝕刻處理槽10 的槽底且具有一泵211,以將該蝕刻處理槽10槽底的蝕刻液15抽出，該輸入管23連通于該蝕刻處理槽10的槽底，以令管線再將蝕刻液15自該 輸入管23送至該蝕刻處理槽10的上、下噴射管13、 14，而該加壓管22 的管徑小于該輸出管21的管徑，且該加壓管22的管壁設(shè)有一進氣口 221;
一閥門裝置30,請附加參看圖2所示，其以一連接管31連接于該加 壓管22的進氣口 221，該閥門裝置30包括一垂直設(shè)置的控制管32，該控 制管32之一端具有連通于該連接管31的開口 33，另端則形成有一氣體 入口 34,而該控制管32內(nèi)部具有一隔板35，該隔板35中央穿設(shè)有一氣 體通道36，且該隔板35面對該氣體入口 34之一表面設(shè)有復(fù)數(shù)抵掣凸塊 37，在該隔板35與氣體入口 34之間設(shè)有一阻擋塊38，以在空氣未進入 該閥門裝置30前堵處該氣體入口 34，避免蝕刻液流出或者有毒氣體逸出， 而在氣體進入該閥門裝置30后被該等抵掣凸塊37卡抵。
其中，該加壓管22的管徑除了小于該輸出管21的管徑，尚可小于該 輸入管23的管徑，以令進入加壓管22中流速遽增的蝕刻液15再降低流 速，再運送至該蝕刻處理槽10的槽底。
請參看圖3所示，當(dāng)板材4 0進入該板材蝕刻處理設(shè)備后，會經(jīng)由上、 下滾輪組12的運送，朝一方向前進，此時蝕刻液15會從該蝕刻液噴射裝 置噴往板材40,以進行蝕刻反應(yīng)，并且會有蝕刻液15落入槽底，再利用 泵211將蝕刻液15從蝕刻處理槽10之槽底抽入輸出管21中并輸送至加 壓管22內(nèi)，由于該加壓管22的管徑小于該輸出管21,因此會產(chǎn)生的負 壓會將該閥門裝置30中的阻擋塊38會往上牽引，直到卡抵于抵掣凸塊 37,此時空氣即可從該閥門裝置3Q的氣體入口 34進入，并經(jīng)過隔板35 的氣體通道36,由連接管31進入進氣口 221，再隨著蝕刻液15 —起流入 輸入管23，并再分別運送至該蝕刻處理槽10的槽底，并經(jīng)由管線輸送至 上、下噴射管13、 14，以再利用含有空氣的蝕刻液15進行蝕刻反應(yīng)。
而當(dāng)泵211不作用時，即蝕刻液不在回收裝置中流動時，該阻擋塊 38則會因重力而掉落，以堵住該氣體入口 34,避免蝕刻處理槽10中的有 毒氣體外泄。
再者，若有操作不當(dāng)或回收裝置故障時，則蝕刻液會經(jīng)由該連接管 31流至控制管32中，此時勢必會將阻擋塊38往下壓掣，而使得阻擋塊 38堵住該氣體入口 34,因此該阻擋塊38亦可防止蝕刻液溢出，并且操作 人員能夠觀察到該阻擋塊38堵住該氣體入口 34,而及時停止運作，以進 行維修，因此該閥門裝置30能夠防止在該板材蝕刻處理設(shè)備中的液體以及氣體外漏，并且能夠讓操作人員知道該板材蝕刻處理設(shè)備的運作是否正 常，因此其是一種具有多項功能的良好設(shè)計。
所以通過外界空氣中所含之氧氣的加入，使得蝕刻液15中的氧化劑 添加量得以減少，故節(jié)省成本。
權(quán)利要求1. 一種板材蝕刻處理設(shè)備，其特征在于，包括一蝕刻處理槽，其內(nèi)部分設(shè)一板材輸送裝置以及一蝕刻液噴射裝置；一回收裝置，其包括一輸出管、一輸入管以及設(shè)置于該輸出管和輸入管之間的一加壓管，該輸出管連通于該蝕刻處理槽的槽底，該輸入管亦連通于該蝕刻處理槽的蝕刻液噴射裝置，而該加壓管的管徑小于該輸出管的管徑，且該加壓管之側(cè)壁設(shè)有一進氣口。
2. 如權(quán)利要求1所述的板材蝕刻處理設(shè)備，其特征在于，其尚設(shè)有 一閥門裝置，其以 一連接管連接于該加壓管的進氣口 。
3. 如權(quán)利要求2所述的板材蝕刻處理設(shè)備，其特征在于，該閥門裝 置包括一垂直設(shè)置的控制管，該控制管之一端具有連通于該連接管的開 口，另端則形成有一氣體入口，而該控制管內(nèi)部具有一隔4反，該隔板中央 穿設(shè)有一氣體通道，且該隔板面對該氣體入口之一表面設(shè)有復(fù)數(shù)抵掣凸 塊，在該隔板與氣體入口之間設(shè)有一阻擋塊。
4. 如權(quán)利要求l、 2或3所述的板材蝕刻處理設(shè)備，其特征在于，該 加壓管的管徑亦小于該輸入管的管徑，且該輸出管以及該輸入管皆設(shè)有 泵。
5. 如權(quán)利要求l、 2或3所述的板材蝕刻處理設(shè)備，其特征在于，該 板材輸送裝置包括一上滾輪組以及一下滾輪組，該上、下滾輪組各包括復(fù) 數(shù)平行排列且具有滾輪的上、下桿體，該蝕刻液噴射裝置包括復(fù)數(shù)上噴射 管以及復(fù)數(shù)下噴射管。
6. 如權(quán)利要求4所述的板材蝕刻處理設(shè)備，其特征在于，該板材輸 送裝置包括一上滾輪組以及一下滾輪組，該上、下滾輪組各包括復(fù)數(shù)平行 排列且具有滾輪的上、下桿體，該蝕刻液噴射裝置包括復(fù)數(shù)上噴射管以及 復(fù)數(shù)下噴射管。
7. 如權(quán)利要求5所述的板材蝕刻處理設(shè)備，其特征在于，該上噴射 管設(shè)置于該上滾輪組的上方，該下噴射管設(shè)置于下滾輪組之下方。
8. 如權(quán)利要求5所述的板材蝕刻處理設(shè)備，其特征在于，該上噴射 管平行間隔設(shè)置于該上桿體之間，該下噴射管平行間隔設(shè)置于該下桿體之間。
9. 如權(quán)利要求6所述的板材蝕刻處理設(shè)備，其特征在于，該上噴射管設(shè)置于該上滾輪組的上方，該下噴射管設(shè)置于下滾輪組之下方。
10.如權(quán)利要求6所述的板材蝕刻處理設(shè)備，其特征在于，該上噴射 管平行間隔設(shè)置于該上桿體之間，該下噴射管平行間隔設(shè)置于該下桿體之 間。
專利摘要本實用新型是一種板材蝕刻處理設(shè)備，其包括一蝕刻處理槽以及一回收裝置，該蝕刻處理槽內(nèi)部設(shè)有一板材輸送裝置以及一蝕刻液噴射裝置，該回收裝置包括一輸出管、一輸入管以及設(shè)置于該輸出管和輸入管之間的一加壓管，該輸出管連通于該蝕刻處理槽的槽底，該輸入管連通于該蝕刻處理槽內(nèi)的蝕刻液噴射裝置，而該加壓管的管徑小于該輸出管的管徑，讓蝕刻液由輸入管流入該加壓管時流速增加，因而會產(chǎn)生負壓，使得外界的空氣由該進氣口進入該板材蝕刻處理設(shè)備中，故可讓氧化劑的添加量減少。
文檔編號G03F7/30GK201242660SQ20082015154
公開日2009年5月20日 申請日期2008年8月1日 優(yōu)先權(quán)日2008年8月1日
發(fā)明者徐美華 申請人:徐美華