專利名稱：鍍制楔形膜用補(bǔ)正板的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
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本實(shí)用新型涉及一種光學(xué)鏡片鍍膜用輔助裝置，尤其是一種可有效利用基 板支架面積、增加單次蒸鍍鏡片裝載數(shù)量、減少蒸鍍時(shí)間、削弱膜層柱狀結(jié)構(gòu) 化傾向、取消膜厚梯度最大值限制的鍍制楔形膜用補(bǔ)正板。
技術(shù)背景-
液晶投影儀光學(xué)系統(tǒng)中的藍(lán)光反射分光鏡片和綠光反射分光膜均因光路設(shè) 計(jì)的需要而要求鍍制楔形膜，楔形膜即薄膜厚度隨鏡片的不同位置而按照一定 的梯度發(fā)生變化的薄膜。目前，在真空蒸發(fā)鍍膜工藝中鍍制楔形膜都是利用膜 厚與鏡片(基板)與蒸發(fā)源的距離平方成反比的規(guī)律，而將光學(xué)基板傾斜放置 在沿水平方向旋轉(zhuǎn)的基板支架上，存在著下述缺點(diǎn)
1. 基板裝載數(shù)量少
為避免基板傾斜而產(chǎn)生的陰影效應(yīng)，在基板支架圓周方向和徑向上的基板
間距必須加大，導(dǎo)致基板支架的面積利用率只有20% 30%，基板裝載數(shù)量少， 工作效率低。
2. 鍍膜時(shí)間加長(zhǎng)
相對(duì)于基板平放時(shí)的膜厚增長(zhǎng)速率，基板傾斜放置時(shí)膜厚增長(zhǎng)速率減小到 sina倍(a :基板傾斜放置的傾斜角)。
3. 膜層柱狀結(jié)構(gòu)化傾向明顯，膜強(qiáng)度變?nèi)酢?br> 4. 膜厚梯度存在最大值限制(45°傾斜放置時(shí)的膜厚梯度為最大值)。 發(fā)明內(nèi)容-
本實(shí)用新型是為了解決現(xiàn)有技術(shù)所存在的上述技術(shù)問題，而提供一種有效 利用基板支架面積、增加單次蒸鍍鏡片裝載數(shù)量、減少蒸鍍時(shí)間、削弱膜層柱 狀結(jié)構(gòu)化傾向、取消膜厚梯度最大值限制的鍍制楔形膜用補(bǔ)正板。
本實(shí)用新型的技術(shù)解決方案是 一種鍍制楔形膜用補(bǔ)正板，其特征在于 有基片1，在基片1上設(shè)有角形切口 2。
所述的基片1為弧面板。
所述角形切口 2的至少一角邊為弧形。
本實(shí)用新型固定于基板支架前，蒸鍍的膜厚與旋轉(zhuǎn)基板透過角形切口而面 對(duì)蒸鍍?cè)吹臅r(shí)間成正比，因此基板只要平放(而無需傾斜)于基板支架上即可。 克服了現(xiàn)有技術(shù)所存在的缺點(diǎn)，具有可有效利用基板支架面積、增加單次蒸鍍 鏡片裝載數(shù)量、減少蒸鍍時(shí)間、削弱膜層柱狀結(jié)構(gòu)化傾向、取消膜厚梯度最大 值限制等優(yōu)點(diǎn)。

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圖1是本實(shí)用新型實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖。
圖2是圖1的俯視圖。
圖3是本實(shí)用新型實(shí)施例的使用狀態(tài)示意圖。
具體實(shí)施方式
下面將結(jié)合附圖說明本實(shí)用新型的具體實(shí)施方式
。如圖1、 2所示 一種鍍 制楔形膜用補(bǔ)正板，有基片1，在基片1上設(shè)有角形切口 2，角形切口的數(shù)量根 據(jù)基板支架上徑向上的光學(xué)基板數(shù)量而定，使每一個(gè)角形切口與旋轉(zhuǎn)基板支架
3上每個(gè)同心圓上的光學(xué)基板4相對(duì)應(yīng)，角形切口的兩角邊可以是直線或至少
一角邊為弧形，曲率可根據(jù)楔形膜傾斜量要求而定?；?的面形基本與基板 支架面形相同，可為平面板或弧面。
使用時(shí)將本實(shí)用新型實(shí)施例固定在基板支架的前面而不隨基板支架旋轉(zhuǎn)， 角形切口位于距離蒸發(fā)源相對(duì)較近的一側(cè)，蒸鍍?cè)诨迳系哪ず駥㈦S旋轉(zhuǎn)基板 透過角形切口而面對(duì)蒸鍍?cè)吹臅r(shí)間不同呈梯度變化，形成符合要求的楔形膜。
權(quán)利要求1.一種鍍制楔形膜用補(bǔ)正板，其特征在于有基片(1)，在基片(1)上設(shè)有角形切口(2)。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的鍍制楔形膜用補(bǔ)正板，其特征在于所述的基 片(1)為弧面。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的鍍制楔形膜用補(bǔ)正板，其特征在于所述 角形切口 (2)的至少一角邊為弧形。
專利摘要本實(shí)用新型公開一種鍍制楔形膜用補(bǔ)正板，有基片(1)，在基片(1)上設(shè)有角形切口(2)。使用時(shí)將其固定于基板支架前，蒸鍍的膜厚與旋轉(zhuǎn)基板透過角形切口而面對(duì)蒸鍍?cè)吹臅r(shí)間成正比，因此基板只要平放(而無需傾斜)于基板支架上即可?？朔爽F(xiàn)有技術(shù)所存在的缺點(diǎn)，具有可有效利用基板支架面積、增加單次蒸鍍鏡片裝載數(shù)量、減少蒸鍍時(shí)間、削弱膜層柱狀結(jié)構(gòu)化傾向、取消膜厚梯度最大值限制等優(yōu)點(diǎn)。
文檔編號(hào)G02B1/10GK201199268SQ20082001303
公開日2009年2月25日 申請(qǐng)日期2008年5月21日 優(yōu)先權(quán)日2008年5月21日
發(fā)明者單巨臣, 趙陽昆, 壯 陳 申請(qǐng)人:中國(guó)華錄·松下電子信息有限公司