專利名稱：真空鍍膜用離子轟擊板機(jī)構(gòu)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及真空鍍膜領(lǐng)域，尤其是真空鍍膜中，采用離子轟擊基材進(jìn)行基材改性和清洗的機(jī)構(gòu)，具體地說(shuō)是一種真空鍍膜用離子轟擊板機(jī)構(gòu)。
技術(shù)背景
目前，在真空鍍膜領(lǐng)域，國(guó)內(nèi)外一般采用吹風(fēng)、粘塵的方式對(duì)基材進(jìn)行清洗，然后采用噴涂或浸涂的方式對(duì)基材進(jìn)行表面改性。這種大氣環(huán)境下的化學(xué)改性方法，容易對(duì)基材產(chǎn)生表面缺陷，而且污染環(huán)境。在真空鍍膜工藝中一般沒(méi)有采用過(guò)陽(yáng)極離子板的設(shè)備和機(jī)構(gòu)，當(dāng)基材運(yùn)行速度較快的情況下，鍍膜時(shí)，由于濺射能量的有限，容易造成膜層和基材的附著力不是太好。因此影響鍍膜產(chǎn)品的質(zhì)量和產(chǎn)量
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是針對(duì)傳統(tǒng)的基材改性和清洗中所存在的容易對(duì)基材產(chǎn)生表面缺陷，污染環(huán)境和膜層與基材的附著力不好的問(wèn)題，提出一種設(shè)計(jì)結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，安裝方便的真空鍍膜用離子轟擊板機(jī)構(gòu)。
本發(fā)明的技術(shù)方案是一種真空鍍膜用離子轟擊板機(jī)構(gòu)，它包括電源、與電源陰極相連的充氣管、與電源陽(yáng)極相連的冷卻水管和絕緣件，所述的冷卻水管與充氣管相對(duì)設(shè)置，待轟擊基材從冷卻水管和充氣管間的夾隙中通過(guò)，進(jìn)行離子轟擊，所述的充氣管的一端為進(jìn)氣口，充氣管上與待轟擊基材相對(duì)的一面設(shè)有若干個(gè)出氣口，所述的充氣管和冷卻水管的兩端夾裝絕緣件。
本發(fā)明的陽(yáng)極與陰極采用不銹鋼板材。
本發(fā)明的冷卻水管的兩端分別為進(jìn)水口和出水口，進(jìn)水口和出水口串接，循環(huán)冷卻。
本發(fā)明的充氣管中充入氬氣。
本發(fā)明的若干個(gè)出氣口均勻的布置在充氣管上。
本發(fā)明的各出氣口的孔徑均為0. 5mm，各出氣口的間隔為30mm。
本發(fā)明的絕緣件為聚四氟絕緣件。
本發(fā)明的有益效果本發(fā)明通過(guò)物理方法對(duì)基材表面改性，提高基材于膜層的附著力，改善品質(zhì)。
本發(fā)明的設(shè)計(jì)結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，安裝方便；能保證鍍件基材的清潔、干燥，避免底涂層出現(xiàn)麻點(diǎn)、附著力差等缺點(diǎn)。
本發(fā)明的工作壓力0. I-IPa ；工作電壓幾百-1000V 電流200-800mA。


圖1是本發(fā)明的結(jié)構(gòu)示意圖。
其中1、進(jìn)氣管；2、冷卻水管；3、進(jìn)氣口 ；4、出氣口 ； 5、進(jìn)水口 ；6、出水口 ；7、絕緣件；8、基材。
具體實(shí)施方式
下面結(jié)合附圖和實(shí)施例對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步的說(shuō)明。
如圖1所示，一種真空鍍膜用離子轟擊板機(jī)構(gòu)，它包括電源、與電源陰極相連的充氣管1、與電源陽(yáng)極相連的冷卻水管2和絕緣件7，所述的冷卻水管2與充氣管1相對(duì)設(shè)置， 待轟擊基材8從冷卻水管2和充氣管1間的夾隙中通過(guò)，進(jìn)行離子轟擊，所述的充氣管1的一端為進(jìn)氣口 3，充氣管1上與待轟擊基材8相對(duì)的一面設(shè)有若干個(gè)出氣口 4，所述的充氣管1和冷卻水管2的兩端夾裝絕緣件7。
本發(fā)明的陽(yáng)極與陰極采用不銹鋼板材。
本發(fā)明的冷卻水管2的兩端分別為進(jìn)水口 5和出水口 6，進(jìn)水口 5和出水口 6串接，循環(huán)冷卻。
本發(fā)明的充氣管1中充入氬氣；若干個(gè)出氣口 4均勻的布置在充氣管1上；各出氣口 4的孔徑均為0. 5mm，各出氣口 4的間隔為30mm。
本發(fā)明的絕緣件7為聚四氟絕緣件。
具體實(shí)施時(shí)陽(yáng)極與陰極用不銹鋼板材制作，在其內(nèi)部導(dǎo)入循環(huán)冷卻水，陰極朝基材一面布入氬氣充氣管，管上每隔30mm用激光鉆0. 5mm出氣孔，陰陽(yáng)極間用聚四氟絕緣材料間隔，采用陽(yáng)離子對(duì)于基材進(jìn)行改性，提高基材于膜層的附著力，改善品質(zhì)。
本發(fā)明未涉及部分均與現(xiàn)有技術(shù)相同或可采用現(xiàn)有技術(shù)加以實(shí)現(xiàn)。
權(quán)利要求
1.一種真空鍍膜用離子轟擊板機(jī)構(gòu)，其特征是它包括電源、與電源陰極相連的充氣管(1)、與電源陽(yáng)極相連的冷卻水管(2)和絕緣件(7)，所述的冷卻水管(2)與充氣管(1)相對(duì)設(shè)置，待轟擊基材(8)從冷卻水管(2)和充氣管(1)間的夾隙中通過(guò)，進(jìn)行離子轟擊，所述的充氣管(1)的一端為進(jìn)氣口(3)，充氣管(1)上與待轟擊基材(8)相對(duì)的一面設(shè)有若干個(gè)出氣口(4)，所述的充氣管(1)和冷卻水管(2)的兩端夾裝絕緣件(7)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空鍍膜用離子轟擊板機(jī)構(gòu)，其特征是所述電源的陽(yáng)極與陰極采用不銹鋼板材。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空鍍膜用離子轟擊板機(jī)構(gòu)，其特征是所述的冷卻水管(2)的兩端分別為進(jìn)水口(5)和出水口(6)，進(jìn)水口(5)和出水口(6)串接，循環(huán)冷卻。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空鍍膜用離子轟擊板機(jī)構(gòu)，其特征是所述的充氣管(1)中充入的氣體為氬氣。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空鍍膜用離子轟擊板機(jī)構(gòu)，其特征是所述的若干個(gè)出氣口(4)均勻的布置在充氣管(1)上。
6.根據(jù)權(quán)利要求1、5所述的真空鍍膜用離子轟擊板機(jī)構(gòu)，其特征是所述的各出氣口(4)的孔徑均為0. 5mm，各出氣口(4)的間隔為30mm。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空鍍膜用離子轟擊板機(jī)構(gòu)，其特征是所述的絕緣件(7)為聚四氟絕緣件。
全文摘要
一種真空鍍膜用離子轟擊板機(jī)構(gòu)，它包括電源、與電源陰極相連的充氣管(1)、與電源陽(yáng)極相連的冷卻水管(2)和絕緣件(7)，所述的冷卻水管(2)與充氣管(1)相對(duì)設(shè)置，待轟擊基材(8)從冷卻水管(2)和充氣管(1)間的夾隙中通過(guò)，進(jìn)行離子轟擊，所述的充氣管(1)的一端為進(jìn)氣口(3)，充氣管(1)上與待轟擊基材(8)相對(duì)的一面設(shè)有若干個(gè)出氣口(4)，所述的充氣管(1)和冷卻水管(2)的兩端夾裝絕緣件(7)。本發(fā)明通過(guò)物理方法對(duì)基材表面改性，提高基材于膜層的附著力，改善品質(zhì)。其設(shè)計(jì)結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，安裝方便；能保證鍍件基材的清潔、干燥，避免底涂層出現(xiàn)麻點(diǎn)、附著力差等缺點(diǎn)。
文檔編號(hào)H01J37/305GK102568990SQ20121006755
公開日2012年7月11日 申請(qǐng)日期2012年3月14日 優(yōu)先權(quán)日2012年3月14日
發(fā)明者曹俊, 朱殿榮 申請(qǐng)人:無(wú)錫康力電子有限公司