專利名稱：：一種鍍膜的板及其制備方法
技術領域：
：本發(fā)明涉及一種鍍膜的板，還涉及該鍍膜的板的制備方法。
背景技術：
：鍍膜的板例如玻璃板或聚碳酸酯(PC)板通?？梢杂糜诟鱾€方面，例如各種電子產品的視窗、汽車玻璃等。尤其是用于手機的視窗時，希望獲得更好的質感，以提升手機產品的價值。通常的鍍膜方法是采用物理氣相沉積，例如真空蒸鍍法和濺射法在基板上鍍覆金屬膜。真空蒸鍍法是一種常用的鍍覆技術，用于在金屬、玻璃或塑料基板上鍍覆金、銀、銅、錫、鋁、絡、鎳等金屬膜。但是如果在基板上鍍覆金屬膜，該金屬膜會阻隔或干擾手機產品的通訊信號，造成通話質量不良的缺陷。因此，需要尋求蒸鍍非金屬膜的板及其制備方法。CN1974235A中公開了一種在基材表面形成激光圖案的真空蒸鍍設備、方法及制成品，該方法包括以下步驟(a)將基材放置在真空蒸鍍設備內，進行蒸鍍作業(yè)；(b)以蒸鍍源進行多重蒸鍍，在上述基材一表面形成鍍膜層；(c)在上述基材另一表面布設圖樣層；(d)在上述基材鍍膜層印刷顏色層。所述基材為聚碳酸酯或壓克力材質；所述蒸鍍源為氧化硅及氧化鈦，以多重蒸鍍將其披覆在基材表面形成鍍膜層，所述氧化硅及氧化鈦以設定的順序及厚度予以披覆。采用該專利申請?zhí)峁┑姆椒ㄓ谜翦兊姆绞皆诨谋砻驽兩襄兡?，可以保護基材，而且通過光線在鍍膜層上折射可形成絢麗的激光圖案效果。但是，采用該專利申請所提供的方法操作較為復雜，而且不能在基材上得到具有金屬質感的鍍覆膜。
發(fā)明內容本發(fā)明的目的在于克服上述現有技術中操作復雜，并且不能在基材上得到金屬質感的鍍覆膜的缺陷，提供一種具有金屬質感的鍍膜的板，還提供了一種操作簡單的該鍍膜的板的制備方法。本發(fā)明提供了一種鍍膜的板，該鍍膜的板包括基板和附著在所述基板上的膜，其中，所述膜為0"203膜。本發(fā)明還提供了一種鍍膜的板的制備方法，該方法包括在基板上形成膜，其中，所述膜為0203膜。根據本發(fā)明提供的鍍膜的板及其制備方法，在基板上形成了金屬質感的0"203鍍覆膜，從而可以提升產品的價值。尤其是當本發(fā)明的產品用作手機的視窗時，在基板上鍍覆了0203膜，既可以使手機的視窗獲得金屬質感，又可以使手機的視窗鍍覆有電磁防護膜層，以減少手機電磁波輻射對人體的危害。同時，本發(fā)明提供的鍍膜的板的絕緣性能很好，通過百格測試鍍膜與基板的附著力為3B以上，而且鍍膜很均勻。而且本發(fā)明提供的鍍膜的板的制備方法操作簡單、方便。具體實施例方式本發(fā)明提供的鍍膜的板包括基板和附著在所述基板上的膜，其中，所述膜為&203膜。根據本發(fā)明提供的鍍膜的板，在優(yōu)選情況下，所述膜的光透過率為50-80%，更優(yōu)選為57-63%。根據本發(fā)明提供的鍍膜的板，所述基板可以為各種基板，例如為聚碳酸酯板或玻璃板。對所述基板的厚度沒有特別的限定，可以視具體的用途進行選擇，例如，當所述鍍膜的板用作手機的視窗時，所述基板的厚度可以為0.5-lmm?；迳闲纬赡?，其中，所述膜為0203膜。根據本發(fā)明提供的制備方法，所述在基板上形成膜的方法為，在真空蒸鍍的條件下，將&203顆粒加熱熔融后蒸鍍到所述基板上。根據本發(fā)明提供的制備方法，在優(yōu)選情況下，所述0"203顆粒的用量使所述膜的光透過率為50-80%，優(yōu)選為57-63%。本發(fā)明的發(fā)明人經過實驗發(fā)現，蒸鍍每平方厘米的基板，使用0.0011-0.0016克的0"203顆粒即可獲得光透過率為50-80%的膜。通常情況下，采用800cm直徑的真空蒸鍍機進行蒸鍍時，所需使用的0203顆粒的量為2.2-3.2克。根據本發(fā)明提供的制備方法，所述真空蒸鍍的條件為本領域技術人員公知的，例如真空蒸鍍的真空壓力為3X10—2-7X10—2Pa。通常，在進行真空蒸鍍時，通常采用三種加熱源，即電阻加熱源、電子束加熱源和感應加熱源，用于加熱和蒸發(fā)蒸鍍材料。感應加熱源主要用于大規(guī)模涂覆儀器，因為由于高頻率的使用，它傾向于使用復雜的外圍設備。由于電子束加熱源能蒸發(fā)幾乎所有種類的材料，因此它被廣泛用于大型設備，也用于實驗薄膜的制造。電阻加熱源由于具有安裝簡單、價格便宜等特點而用于各種領域。在本發(fā)明中，將0203顆粒作為蒸鍍材料時，既可以采用電阻加熱源進行加熱，也可以采用電子束加熱源進行加熱，優(yōu)選采用電阻加熱源進行加熱。根據本發(fā)明提供的制備方法，在優(yōu)選情況下，所述將&203顆粒加熱熔融的方式為電阻加熱，所述電阻加熱的電流為210-260A。根據本發(fā)明提供的制備方法，在優(yōu)選情況下，所述將0"203顆粒加熱熔融的方式包括先在電流為210-230A下加熱0.5-3分鐘，對所述0"203顆粒進行預熔，然后再在大于該預熔電流至260A的電流下加熱。預熔的目的是對0"203顆粒緩慢加熱，防止Cr203顆粒熔融蒸發(fā)時發(fā)生噴濺，以致對產品外6觀產生不良影響，造成所形成的0203膜的不導電性能或均勻性變差，影響鍍膜的品質；根據本發(fā)明的一種優(yōu)選實施方式，在基板上進行真空蒸鍍在真空蒸鍍機中進行，具體的操作步驟如下①將<^203顆粒作為蒸鍍材料盛裝在鎢舟中，鎢舟兩端與真空蒸鍍機的真空室內電極的正、負極相連接；將裝有基板的蒸鍍鍋放入真空室內的工件架上，然后對真空室進行抽真空；②當真空室內的真空壓力達到3X10人7Xl(^Pa時，接通電阻加熱源的電流，將電流上升至210-230A，對鎢舟內的0203顆粒加熱預熔0.5-3分鐘。③再將電流上升至240-260A，當鎢舟內的&203顆粒完全熔融時，立即打開擋板開始蒸鍍，用光學膜厚儀監(jiān)控Cr203的蒸發(fā)速度保持在每秒1埃的速度。0"203蒸氣分子蒸鍍到基板表面，在基板表面形成薄膜。優(yōu)選情況下，為了對基板進行離子清洗并降低膜層的內應力，以提高膜層的致密性和附著力，在對基板鍍膜前，使用離子轟擊棒轟擊基板2-5分鐘。所述離子轟擊可以直接在所述真空蒸鍍所用真空蒸鍍機上進行，進一步在抽真空至真空室內的真空壓力達到3X10人7X10—^a之前進行。下面采用實施例的方式對本發(fā)明進行進一步詳細地描述。實施例1真空蒸鍍機采用騰勝-800ZZS箱式真空蒸鍍機采用38.71X30.95mm的玻璃板為基板，一批處理200片1、采用深圳科偉達超聲波洗凈機清洗上述200片玻璃板，然后將清洗干凈的上述玻璃板安裝到蒸鍍鍋的夾子上，放入真空室內的工件架上，工件架轉速設定為50rpm;將2.6g的0"203顆粒放入鎢舟內，鎢舟兩端與真空蒸鍍機的真空室內電極的正、負極相連接；將光學膜厚儀(廣東肇慶騰勝真空設備廠生產的TSGC-B)的波長調整為400nm，并將光量數據調整為80%;然后對真空室抽真空。2、當真空室內的真空度達到lPa時，將離子轟擊棒接通電源，并向真空室內充入空氣，使真空室中的真空度保持在4.0Pa，使用離子轟擊棒對安裝固定好的玻璃板離子轟擊3分鐘。3、繼續(xù)將真空室抽真空至6.0X10—2Pa，此時接通電阻加熱源的電流，將電流上升至220A，對鎢舟內的0203顆粒加熱預熔1.5分鐘。4、再將電阻加熱源的電流上升至250A，當鎢舟內的0"203顆粒完全熔融時，立即打開擋板開始蒸鍍，用光學膜厚儀監(jiān)控&203的蒸發(fā)速度保持在每秒l埃的速度。當膜厚儀的光量數據從80%緩慢降到45%時，立即關閉擋板，并切斷電源。最終得到鍍覆有0"203膜的鍍膜的板，該鍍膜具有金屬質感，并具有反射效果。實施例2真空蒸鍍機采用騰勝-800ZZS箱式真空蒸鍍機采用120mmX190mm的聚碳酸酯(PC)板為基板，一批處理8片1、采用深圳科偉達超聲波洗凈機清洗上述8片PC板，然后將清洗干凈的上述PC板用耐高溫膠貼在蒸鍍鍋的底部，放入真空室內的工件架上，工件架轉速設定為50rpm;將2.8g的0"203顆粒放入鎢舟內，鎢舟兩端與真空蒸鍍機的真空室內電極的正、負極相連接；將光學膜厚儀(廣東肇慶騰勝真空設備廠生產的TSGC-B)的波長調整為400nm，并將光量數據調整為80%;然后對真空室抽真空。2、當真空室內的真空度達到1Pa時，將離子轟擊棒接通電源，并向真空室內充入空氣，使真空室中的真空度保持在5.0Pa，使用離子轟擊棒對安裝固定好的玻璃板離子轟擊2分鐘。3、繼續(xù)將真空室抽真空至3.0X10—2Pa，此時接通電阻加熱源的電流，將電流上升至210A，對鎢舟內的0"203顆粒加熱預熔3分鐘。4、再將電阻加熱源的電流上升至260A，當鎢舟內的0"203顆粒完全熔融時，立即打開擋板開始蒸鍍，用光學膜厚儀監(jiān)控&203的蒸發(fā)速度保持在每秒l埃的速度。當膜厚儀的光量數據從80%緩慢降到45%時，立即關閉擋板，并切斷電源。最終得到鍍覆有&203膜的鍍膜的板，該鍍膜具有金屬質感，并具有反射效果。實施例3真空蒸鍍機采用騰勝-800ZZS箱式真空蒸鍍機采用38.71X30.95mm的玻璃板為基板，一批處理200片1、采用深圳科偉達超聲波洗凈機清洗上述200片玻璃板，然后將清洗干凈的上述玻璃板安裝到蒸鍍鍋的夾子上，放入真空室內的工件架上，工件架轉速設定為50rpm;將2.2g的0"203顆粒放入鎢舟內，鎢舟兩端與真空蒸鍍機的真空室內電極的正、負極相連接；將光學膜厚儀(廣東肇慶騰勝真空設備廠生產的TSGC-B)的波長調整為400nm，并將光量數據調整為80%;然后對真空室抽真空。2、當真空室內的真空度達到lPa時，將離子轟擊棒接通電源，并向真空室內充入空氣，使真空室中的真空度保持在4.0Pa，使用離子轟擊棒對安裝固定好的玻璃板離子轟擊2分鐘。3、繼續(xù)將真空f、:抽真空至7.0X10—2Pa，此時接通電阻加熱源的電流，將電流上升至230A，對鎢舟內的Cr203顆粒加熱預熔1分鐘。4、再將電阻加熱源的電流上升至260A，當鎢舟內的0"203顆粒完全熔融時，立即打開擋板斤始蒸鍍，用光學膜厚儀監(jiān)控0"203的蒸發(fā)速度保持在每秒l埃的速度。當膜厚儀的光量數據從80%緩慢降到45%時，立即關閉擋板，并切斷電源。最終得到鍍覆有0"203膜的鍍膜的板，該鍍膜具有金屬質感，并具有反射效果。性能測試1、測試表面電阻用兆歐表各在250V、500V和1000V的三個檔位上，測量樣品上的任意兩點間的表面電阻，表面電阻在400兆歐以上為通過。2、測試鍍膜的附著力采用百格實驗來測試。用劃格器在鍍膜表面上劃100個1毫米X1毫米的正方形格。用美國3M公司型號為600的透明膠帶平整粘結在方格上，然后以45°角迅速揭起膠帶，觀察鍍膜的劃痕邊緣處是否有脫落。如沒有任何脫落為5B，脫膜量在0-5面積％之間為4B，脫膜量在5-15面積。/。之間為3B，脫膜量在15-35面積y。之間為2B，脫膜量在35-65面積％之間為1B，脫膜量在65面積％以上為0B。3、測試鍍膜的光透過率采用UNICWFJ-2100型可見分光光度計，以546.1nm波長測量光透過率。4、測試鍍膜的均勻性用UNICWFJ-2100型可見分光光度計測量一個基板上平均分布的5個點的光透過率。公差為±3%以內為合格。將實施例l-2所得到的產品按照上述測試方法進行性能測試，所得到的結果列于表l中。表l<table>tableseeoriginaldocumentpage11</column></row><table>從上述實施例l-3所得到的產品及表1的數據可以看出，本發(fā)明提供的鍍膜的板絕緣性能很好，鍍膜與基板的附著力很好，鍍膜很均勻。而且本發(fā)明提供的鍍膜的板具有金屬質感，并具有反射效果，同時制備方法操作簡單、方便。權利要求1、一種鍍膜的板，該鍍膜的板包括基板和附著在所述基板上的膜，其特征在于，所述膜為Cr2O3膜。2、根據權利要求1所述的鍍膜的板，其中，所述膜的光透過率為50-80%。3、根據權利要求2所述的鍍膜的板，其中，所述膜的光透過率為57-63%。4、根據權利要求1所述的鍍膜的板，其中，所述基板為聚碳酸酯板或玻璃板。5、一種權利要求1所述的鍍膜的板的制備方法，該方法包括在基板上形成膜，其特征在于，所述膜為0203膜。6、根據權利要求5所述的制備方法，其中，所述在基板上形成膜的方法為，在真空蒸鍍的條件下，將0"203顆粒加熱熔融后蒸鍍到所述基板上。7、根據權利要求6所述的制備方法，其中，基于每平方厘米的基板，所使用的&203顆粒的量為0.0011-0.0016克。8、根據權利要求6所述的制備方法，其中，所述真空蒸鍍的真空壓力為3X10-2-7X10-2Pa。9、根據權利要求6所述的制備方法，其中，所述將Cr203顆粒加熱熔融的方式為電阻加熱，所述電阻加熱的電流為210-260A。10、根據權利要求9所述的制備方法，其中，所述將0203顆粒加熱熔融的方式包括先在電流為210-230A下加熱0.5-3分鐘，對所述Cr203顆粒進行預熔，然后再在大于該預熔電流至260A的電流下加熱。全文摘要本發(fā)明提供了一種鍍膜的板，該鍍膜的板包括基板和附著在所述基板上的膜，其中，所述膜為Cr₂O₃膜。本發(fā)明還提供了一種鍍膜的板的制備方法，該方法包括在基板上形成膜，其中，所述膜為Cr₂O₃膜。根據本發(fā)明提供的鍍膜的板及其制備方法，在基板上形成了金屬質感的Cr₂O₃鍍覆膜，從而可以提升產品的價值。同時，本發(fā)明提供的鍍膜的板的絕緣性能很好，通過百格測試鍍膜與基板的附著力為3B以上，而且鍍膜很均勻。而且本發(fā)明提供的鍍膜的板的制備方法操作簡單、方便。文檔編號B32B5/14GK101456269SQ200710198728公開日2009年6月17日申請日期2007年12月10日優(yōu)先權日2007年12月10日發(fā)明者陳樹名申請人:比亞迪股份有限公司