專利名稱：：遮光部件及其制法、使用了該遮光部件的膜及光掩模的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
：本發(fā)明涉及遮光部件、遮光部件的制作方法、紫外線吸收膜、紅外線吸收膜、光掩模、及電磁波屏蔽膜。
背景技術(shù)：
：近年來(lái)，給固體表面賦予各種功能的技術(shù)受到人們的關(guān)注。尤其是，通過(guò)用聚合物修飾固體表面，可以改變?cè)摴腆w表面的潮濕性、耐污性、黏附性、表面摩擦、細(xì)胞親和性等性質(zhì)，因此在工業(yè)領(lǐng)域中對(duì)其進(jìn)行了廣泛的研究。其中，通過(guò)利用直接結(jié)合在固體表面上的接枝聚合物而進(jìn)行的表面修飾，已經(jīng)知道具有以下的特點(diǎn)O其具有可以在固體表面與接枝聚合物之間形成牢固的結(jié)合這樣的優(yōu)點(diǎn)，ii)通過(guò)控制接枝聚合物的結(jié)構(gòu)，使該表面可以吸附各種對(duì)于該接枝聚合物具有高度親和性的物質(zhì)，進(jìn)而在表面上賦予各種功能。這樣，在通過(guò)接枝聚合物對(duì)固體表面進(jìn)行表面修飾時(shí)，例如，可以采用表面接枝聚合法，該方法為用光照射固體表面以生成活性基團(tuán)，以該活性基團(tuán)作為基礎(chǔ)，使聚合性化合物發(fā)生聚合(例如，參照Langmuir.2006，22,8571-8575)。另外，已知有這樣的遮光部件，該遮光部件具有含有微粒的層，并且可以遮擋紫外線、紅外線或者可見光。作為一種遮擋紫外線的部件，可以列舉光掩模。作為所述光掩模，例如，己知有將顏料分散于感光層內(nèi)，通過(guò)按照?qǐng)D案狀進(jìn)行掃描曝光使該感光層固化而得到的部件。已知該部件能夠以圖案狀遮擋紫外范圍的光(例如，參照日本特開2001-343734號(hào)公報(bào))。該技術(shù)存在這樣的問(wèn)題維持顏料的分散狀態(tài)是很困難的，并且，由于使用有機(jī)化合物作為遮光材料，所以耐光牢度(lightfastness)差等。另一方面，一般的遮光部件多用于制品的最外層包裝，除了遮光性能之外，也要求其具有物理學(xué)耐久性。因此，在遮光部件本身的耐久性較差的情況下，常常使用保護(hù)層等以提高其耐久性。不過(guò)，為了形成保護(hù)層，則需增加制造工序，并且成本也會(huì)提高，因此，人們希望能夠提高遮光部件本身的耐久性。艮P，人們希望得到這樣的遮光部件，該遮光部件的耐光牢度等遮光性能得到提高，同時(shí)表面硬度也較高。
發(fā)明內(nèi)容發(fā)明所要解決的問(wèn)題因此，本發(fā)明的目的在于，解決上述現(xiàn)有技術(shù)中存在的問(wèn)題并達(dá)到以下的目的。艮卩，本發(fā)明的目的之一是提供一種遮光部件，以及一種可以通過(guò)簡(jiǎn)便的工序制得該遮光部件的制作遮光部件的方法，其中所述遮光部件具有與基材具有優(yōu)異粘附性的、且耐光牢度優(yōu)異的含有金屬顆粒的膜，并且該遮光部件具有優(yōu)異的表面硬度、對(duì)各種波長(zhǎng)都具有優(yōu)異的遮光性。本發(fā)明的另外的目的是提供使用了上述遮光部件的紫外線吸收膜、紅外線吸收膜、光掩模及電磁波屏蔽膜。解決問(wèn)題所采用的手段本發(fā)明人經(jīng)過(guò)研究，結(jié)果發(fā)現(xiàn)采用以下的手段能夠解決上述問(wèn)題。艮P，本發(fā)明的制作遮光部件的方法具有以下工序(a)形成聚合物層的工序，其中在可通過(guò)曝光產(chǎn)生自由基的基材上，使具有可發(fā)生自由基聚合的不飽和部位及可吸附金屬離子或金屬鹽的部位的化合物與該基材接觸后，進(jìn)行曝光，生成直接結(jié)合在上述基材上的聚合物，由此形成聚合物層；(b)向該聚合物層中加入金屬離子或金屬鹽的工序；(C)將該金屬離子或金屬鹽中的金屬離子還原，從而析出金屬顆粒的工序，以及(d)在該金屬顆粒析出之后，對(duì)構(gòu)成上述聚合物層的聚合物中的i價(jià)金屬鹽結(jié)構(gòu)，采用選自多價(jià)金屬交聯(lián)處理、化學(xué)修飾、以及酸處理中的一種方式實(shí)施處理的工序。在本發(fā)明中，(d)工序優(yōu)選為以下的(dl)(d6)實(shí)施方式中的任意一種。(dl)實(shí)施方式為實(shí)施多價(jià)金屬交聯(lián)處理的工序，其中，采用多價(jià)金屬鹽，與構(gòu)成聚合物層的聚合物中的1價(jià)金屬鹽結(jié)構(gòu)發(fā)生交換反應(yīng)，從而通過(guò)多價(jià)金屬形成交聯(lián)結(jié)構(gòu)；(d2)實(shí)施方式為實(shí)施化學(xué)修飾的工序，其中，采用伯醇或仲醇以及催化劑，使構(gòu)成聚合物層的聚合物中的1價(jià)金屬鹽結(jié)構(gòu)發(fā)生酯化反應(yīng)，從而進(jìn)行化學(xué)修飾；(d3)實(shí)施方式為實(shí)施化學(xué)修飾的工序，其中，采用伯胺或仲胺以及催化劑，使構(gòu)成聚合物層的聚合物中的1價(jià)金屬鹽結(jié)構(gòu)發(fā)生酰胺化反應(yīng)，從而進(jìn)行化學(xué)修飾；(d4)實(shí)施方式為實(shí)施化學(xué)修飾的工序，其中，采用多元的伯醇或仲醇與催化劑，使構(gòu)成聚合物層的聚合物中的1價(jià)金屬鹽結(jié)構(gòu)發(fā)生酯化反應(yīng)及交聯(lián)反應(yīng)，從而進(jìn)行化學(xué)修飾；(d5)實(shí)施方式為實(shí)施化學(xué)修飾的工序，其中，采用多元的伯胺或仲胺與催化劑，使構(gòu)成聚合物層的聚合物中的1價(jià)金屬鹽結(jié)構(gòu)發(fā)生酰胺化反應(yīng)及交聯(lián)反應(yīng)，從而進(jìn)行化學(xué)修飾；(d6)實(shí)施方式為實(shí)施酸處理的工序，其中，將構(gòu)成聚合物層的聚合物中的1價(jià)金屬鹽結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)變?yōu)樗?。此外，在上?dl)實(shí)施方式中，優(yōu)選采用選自Ca、Zn、Cu、Fe、Al、Mg、Ni、Ba、Mn、及Co中的一種以上的金屬來(lái)形成所述通過(guò)多價(jià)金屬形成的交聯(lián)結(jié)構(gòu)。.此外，在上述(d6)實(shí)施方式中，優(yōu)選使用稀鹽酸或乙酸進(jìn)行酸處理。在本發(fā)明中，在上述的具有可發(fā)生自由基聚合的不飽和部位及可吸附金屬離子或金屬鹽的部位的化合物中，可吸附金屬離子或金屬鹽的部位特別優(yōu)選為選自羧基、磷酸基、膦酸基、及磺酸基中的一種基團(tuán)。另外，在本發(fā)明的(a)工序中，作為優(yōu)選的一種實(shí)施方式，也可以使用多種具有可發(fā)生自由基聚合的不飽和部位及可吸附金屬離子或金屬鹽的部位的化合物。此外，本發(fā)明的遮光部件是通過(guò)本發(fā)明的遮光部件的制作方法而得到的。本發(fā)明的紫外線吸收膜使用了本發(fā)明的遮光部件。本發(fā)明的紅外線吸收膜使用了本發(fā)明的遮光部件。本發(fā)明的光掩模使用了本發(fā)明的遮光部件。本發(fā)明的電磁波屏蔽膜使用了本發(fā)明的遮光部件。發(fā)明的效果根據(jù)本發(fā)明，可以提供一種遮光部件，以及一種可以通過(guò)簡(jiǎn)便的工序制得該遮光部件的制作遮光部件的方法，其中所述遮光部件具有與基材具有優(yōu)異粘附性的且耐光牢度優(yōu)異的含有金屬顆粒的膜，并且該遮光部件具有優(yōu)異的表面硬度、對(duì)各種波長(zhǎng)都具有優(yōu)異的遮光性。此外，根據(jù)本發(fā)明，還可以提供使用了上述的遮光部件的紫外線吸收膜、紅外線吸收膜、光掩模、及電磁波屏蔽膜。本發(fā)明的最佳實(shí)施方式以下，對(duì)本發(fā)明進(jìn)行詳細(xì)說(shuō)明。本發(fā)明的制作遮光部件的方法具有以下工序(a)形成聚合物層的工序，其中在可通過(guò)曝光產(chǎn)生自由基的基材上，使具有可發(fā)生自由基聚合的不飽和部位及可吸附金屬離子或金屬鹽的部位的化合物與該基材接觸后，進(jìn)行曝光，生成直接結(jié)合在上述基材上的聚合物，由此形成聚合物層；(b)向該聚合物層中加入金屬離子或金屬鹽的工序；(c)將該金屬離子或金屬鹽中的金屬離子還原，從而析出金屬顆粒的工序，以及(d)在該金屬顆粒析出之后，對(duì)構(gòu)成上述聚合物層的聚合物中的1價(jià)金屬鹽結(jié)構(gòu)，采用選自多價(jià)金屬交聯(lián)處理、化學(xué)修飾、以及酸處理中的一種方式實(shí)施處理的工序。以下，對(duì)本發(fā)明的遮光部件的制作方法進(jìn)行詳細(xì)說(shuō)明。(a)工序在本工序中，在可通過(guò)曝光產(chǎn)生自由基的基材上，使具有可發(fā)生自由基聚合的不飽和部位及可吸附金屬離子或金屬鹽的部位的化合物與該基材接觸，然后進(jìn)行曝光，生成直接結(jié)合在基材上的聚合物，由此形成聚合物層。即，在本發(fā)明中，采用表面接枝聚合法來(lái)形成聚合物層。以下對(duì)本工序進(jìn)行詳細(xì)說(shuō)明。基材在本工序中，首先準(zhǔn)備可通過(guò)曝光產(chǎn)生自由基的基材。以下，對(duì)可通過(guò)曝光產(chǎn)生自由基的基材(以下，有時(shí)候簡(jiǎn)稱為"基材")進(jìn)行說(shuō)明。作為該基材，例如，可以是由諸如聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯之類的可通過(guò)曝光產(chǎn)生自由基的材料所構(gòu)成的基材，也可以是含有可通過(guò)曝光產(chǎn)生自由基的化合物的基材。更具體地說(shuō)，作為可通過(guò)曝光產(chǎn)生自由基的基材，可以列舉(1)含有低分子自由基產(chǎn)生劑的基材，(2)含有在主鏈或側(cè)鏈上具有自由基產(chǎn)生部位的高分子化合物(高分子的自由基產(chǎn)生劑)的基材，(3)將含有在側(cè)鏈上具有交聯(lián)部位及自由基產(chǎn)生部位的高分子化合物的涂覆液涂覆在支承物的表面上，干燥之后，在涂膜內(nèi)形成交聯(lián)結(jié)構(gòu)的基材，等。此外，上述(1)或(2)的基材也可以是在構(gòu)成基材的成分中直接含有自由基產(chǎn)生劑而形成的基材。另外，上述(1)或(2)的基材也可以是在任意的支承物上設(shè)置有含有自由基產(chǎn)生劑的層(含自由基產(chǎn)生劑的層)而形成的基材。這樣，在基材是由支承物和含自由基產(chǎn)生劑的層所構(gòu)成的情況中，為了提高支承物與含自由基產(chǎn)生劑的層之間的粘附性，可以設(shè)置有底涂層。此外，作為使用特殊材料的方法，存在這樣的一種基材(4)將具有自由基產(chǎn)生部位的化合物通過(guò)共價(jià)鍵結(jié)合在支承物的表面上而形成的基材。該基材在支承物的表面上結(jié)合有具有自由基產(chǎn)生部位和支承物結(jié)合部位的化合物。首先，對(duì)上述(4)的基材進(jìn)行說(shuō)明。作為可適用于該基材的、具有自由基產(chǎn)生部位及支承物結(jié)合部位的化合物，例如可以列舉具有可通過(guò)光裂解產(chǎn)生自由基的自由基產(chǎn)生部位(Y)和支承物結(jié)合部位(Q)的化合物(以下，適當(dāng)?shù)胤Q為"光裂解化合物(Q-Y)")等。此處，可通過(guò)光裂解產(chǎn)生自由基的自由基產(chǎn)生部位(以下，簡(jiǎn)稱為"聚合引發(fā)部位(Y)")含有可通過(guò)曝光裂解的單鍵這樣的結(jié)構(gòu)。作為該可通過(guò)曝光裂解的單鍵，可以列舉利用羰基的a裂解反應(yīng)或P裂解反應(yīng)、光弗萊斯重排反應(yīng)(photo-Friesrearrangement).苯乙酮酯的裂解反應(yīng)、磺酰亞胺的裂解反應(yīng)、磺酰酯的裂解反應(yīng)、N-羥基磺酰酯的裂解反應(yīng)、芐基酰亞胺的裂解反應(yīng)、活性鹵化物的裂解反應(yīng)等可以裂解的單鍵。通過(guò)這些反應(yīng)，能夠?qū)⒖赏ㄟ^(guò)曝光裂解的單鍵斷開。作為該可以通過(guò)曝光裂解的單鍵，可以列舉C-C鍵、C-N鍵、C-O鍵、C-C1鍵、N-O鍵及S-N鍵等。此外，這些含有可通過(guò)曝光裂解的單鍵的聚合引發(fā)部位(Y)，由于成為了上述特定聚合體的接枝聚合的起點(diǎn)，所以如果所述可通過(guò)曝光裂解的單鍵發(fā)生了裂解，就具有了通過(guò)該裂解反應(yīng)使自由基產(chǎn)生這樣的功能。這樣，作為具有可通過(guò)曝光裂解的單鍵、并且能夠產(chǎn)生自由基的聚合引發(fā)部位(Y)的結(jié)構(gòu)，可以列舉含有以下所示基團(tuán)的結(jié)構(gòu)。艮P，芳香族酮基、苯甲酰甲酯基、磺酰亞胺基、磺酰酯基、N-羥基磺酰酯基、芐基酰亞胺基、三氯甲基、氯代芐基等。這樣的聚合引發(fā)部位(Y)在通過(guò)曝光而裂解并產(chǎn)生自由基后，如果在該自由基的周圍存在有特定聚合體的情況下，該自由基就發(fā)揮作為接枝聚合反應(yīng)起點(diǎn)的功能，從而能夠生成接枝聚合物。因此，在使用在其表面上引入有光裂解化合物(Q-Y)的基材來(lái)生成接枝聚合物的情況中，作為施加能量的方法，需要采用可以使聚合引發(fā)部位(Y)發(fā)生裂解的波長(zhǎng)進(jìn)行曝光的方法。此外，作為支承物結(jié)合部位(Q)，可以采用這樣的反應(yīng)性基團(tuán)，該反應(yīng)性基團(tuán)能夠與在以玻璃為代表的絕緣基板的表面上所存在的官能團(tuán)(Z)進(jìn)行反應(yīng)并結(jié)合。作為該反應(yīng)性基團(tuán)，具體地說(shuō)，可以列舉以下所示的結(jié)合基團(tuán)。Q:結(jié)合基團(tuán)<formula>formulaseeoriginaldocumentpage11</formula>聚合引發(fā)部位(Y)與支承物結(jié)合部位(結(jié)合基團(tuán))(Q)可以直接連接在一起，也可以通過(guò)連結(jié)基團(tuán)而連接在一起。作為該連結(jié)基團(tuán)，可以列舉含有選自碳、氮、氧及硫中的原子的連結(jié)基。具體地說(shuō)，例如可以列舉飽和烴基、芳香基、酯基、酰胺基、脲基、醚基、氨基、磺胺基等。此外，該連結(jié)基還可以進(jìn)一步含有取代基。作為可以被引入的取代基，可以列舉烷基、垸氧基、鹵素原子等。此外，聚合引發(fā)部位(Y)和支承物結(jié)合部位(Q)可以各自存在于聚合物的側(cè)鏈上。在這種情況下，連結(jié)基團(tuán)包含聚合物的主鏈結(jié)構(gòu)并將聚合引發(fā)部位(Y)和支承物結(jié)合部位(Q)連結(jié)起來(lái)。作為具有聚合引發(fā)部位(Y)及支承物結(jié)合部位(Q)的化合物(Q-Y)的具體例子，以下雖然示出了示例化合物T1T10，同時(shí)也示出了其裂解部位，但本發(fā)明并不局限于此。<formula>formulaseeoriginaldocumentpage12</formula><formula>formulaseeoriginaldocumentpage13</formula><formula>formulaseeoriginaldocumentpage13</formula><formula>formulaseeoriginaldocumentpage13</formula><formula>formulaseeoriginaldocumentpage13</formula>作為與上述的光裂解化合物(Q-Y)相結(jié)合的支承物，例如，在采用玻璃基板的情況中，由于其材質(zhì)的原因，該材質(zhì)原本就存在有羥基等官能團(tuán)(Z)，在使光裂解化合物(Q-Y)與玻璃基板接觸后，存在于支承物表面上的官能團(tuán)(Z)就與支承物結(jié)合部位(Q)結(jié)合，從而使光裂解化合物(Q-Y)可以很容易地被引入到支承物表面上。此外，在使用樹脂基板作為支承物的情況中，對(duì)支承物的表面實(shí)施電暈處理、輝光放電處理、等離子體處理等表面處理，以產(chǎn)生羥基、羧基等，從而使該官能團(tuán)(Z)與光裂解化合物(Q-Y)的支承物結(jié)合部位(Q)發(fā)生結(jié)合。作為使光裂解化合物(Q-Y)與存在于支承物表面上的官能團(tuán)<formula>formulaseeoriginaldocumentpage14</formula>(Z)發(fā)生結(jié)合的具體方法，可以采用下述的方法將光裂解化合物(Q-Y)溶解或分散在甲苯、己垸、丙酮等適當(dāng)?shù)娜軇┲?，再將該溶液或分散液涂覆在支承物表面上的方法，或者再將支承物浸漬在溶液或分散液中的方法。通過(guò)這些方法，可以得到引入有光裂解化合物(Q-Y)的基材表面。此時(shí)，溶液中或分散液中的光裂解化合物(Q-Y)的濃度優(yōu)選為0.01質(zhì)量％30質(zhì)量％，特別優(yōu)選為0.1質(zhì)量％15質(zhì)量％。接觸時(shí)的液溫優(yōu)選為0'C10(TC。接觸時(shí)間優(yōu)選為1秒50小時(shí)，更優(yōu)選為10秒10小時(shí)。此外，在這種情況下，具有可產(chǎn)生自由基能力的上述化合物也可以與后述的增敏劑共存。在本發(fā)明中，作為可適用于(4)的基材的、具有自由基產(chǎn)生部位及支承物結(jié)合部位的化合物，除了上述的光裂解化合物(Q-Y)以外，也可以采用如下所示的具有作為自由基產(chǎn)生部位的烯屬不飽和鍵的化合物(示例化合物Tll)。在本發(fā)明中，作為在上述(1)的基材中可使用的低分子自由基產(chǎn)生劑，例如可以使用苯乙酮類、二苯甲酮類、米歇勒酮(Michler'sketone)、苯甲酰基苯甲酸酯(benzoylbenzoate)、苯偶姻類、a-酰月虧基酉旨(a-acyloximeester)、一硫化四甲基秋蘭姆(tetramethylthiurammonosulfide)、三氯甲基三嗪等三嗪類、及噻噸酮等公知的自由基產(chǎn)生劑。此外，通常用作光酸產(chǎn)生劑的硫鎗鹽和碘鎗鹽等在光照射下也可以起到自由基產(chǎn)生劑的作用，因此，它們也可以用于本發(fā)明。此外，作為在上述(2)的基材中所采用的高分子自由基產(chǎn)生劑，可以使用日本特開平9-77891號(hào)公報(bào)第段或日本特開平10-45927號(hào)公報(bào)第段中記載的在側(cè)鏈上具有活性羰基的高分子化合物等。在這類高分子自由基產(chǎn)生劑中，優(yōu)選那些在側(cè)鏈上具有自由基產(chǎn)生部位的高分子化合物。在本說(shuō)明書中高分子的分子量，除非另有規(guī)定以外，均指重均分子量(Mw)。此外，高分子自由基產(chǎn)生劑的分子量?jī)?yōu)選為0.1萬(wàn)30萬(wàn)，從合成時(shí)的制造可控性的角度考慮，更優(yōu)選為0.3萬(wàn)10萬(wàn)。這些低分子自由基產(chǎn)生劑和高分子自由基產(chǎn)生劑的含量，可以根據(jù)基材的種類、所希望的接枝聚合物的生成量等進(jìn)行適當(dāng)?shù)剡x擇。一般來(lái)說(shuō)，在使用低分子自由基產(chǎn)生劑的情況中，相對(duì)于基材的總固形物或含有自由基產(chǎn)生劑的層，其含量?jī)?yōu)選為0.1質(zhì)量％40質(zhì)量％。此外，在使用高分子自由基產(chǎn)生劑的情況中，相對(duì)于基材的總固形物或含有自由基產(chǎn)生劑的層，其含量?jī)?yōu)選為1.0質(zhì)量％50質(zhì)具體地說(shuō)，上述(3)的基材是這樣一種基材在任意的支承物表面上，通過(guò)交聯(lián)反應(yīng)使側(cè)鏈上連有具有聚合引發(fā)能力的官能團(tuán)和可交聯(lián)基團(tuán)的聚合物固化后形成聚合引發(fā)層。通過(guò)對(duì)這樣的聚合引發(fā)層加熱或曝光從而產(chǎn)生自由基。關(guān)于這樣的聚合引發(fā)層的形成方法，例如在日本特開2004-123837公報(bào)中有詳細(xì)記載，這樣的聚合引發(fā)層也可適用于本發(fā)明的基材中。在上述的各基材中，為了提高感光度，各種具有自由基產(chǎn)生部位的化合物優(yōu)選與增敏劑合用。增敏劑在曝光后成為激發(fā)狀態(tài)，通過(guò)對(duì)自由基產(chǎn)生部位產(chǎn)生作用(例如，能量轉(zhuǎn)移、電子轉(zhuǎn)移等)，可以促進(jìn)自由基的產(chǎn)生。對(duì)于在本發(fā)明中可使用的增敏劑沒有特別的限制，可根據(jù)在生成接枝聚合物時(shí)所采用的曝光波長(zhǎng)，從公知的增敏劑中進(jìn)行適當(dāng)?shù)剡x擇。作為增敏劑的具體例子，可以列舉公知的多環(huán)芳香族類(例如，芘)、茈、苯并菲)、咕噸類(例如，熒光素、曙紅、赤蘚紅(erythrosine)、羅丹明(rhodamine)B、孟加拉玫瑰紅(rosebengal))、菁類(例如，口引噪碳菁(indocarbocyanine)、硫碳著(thiacarbocyanine)、氧碳菁)、份菁類(例如，份菁、碳份菁)、噻嗪類(例如，硫堇、亞甲基藍(lán)、甲苯胺藍(lán))、吖啶類(例如，吖啶橙、氯黃素(chloroflavin)、吖啶黃)、蒽醌類(例如，蒽醌)、方鑰類(例如，方鑰(squalium))、吖啶酮類(例如，吖啶酮、氯吖啶酮、N-甲基吖啶酮、N-丁基吖啶酮、N-丁基-氯吖啶酮等)、香豆素類(例如，3-(2-苯并呋喃甲?；?benzofuroyl))-7-二乙基氨基香豆素、3-(2-苯并呋喃甲酰基)-7-(l-吡咯垸基)香豆素、3-苯甲酰基-7-二乙基氨基香豆素、3-(2-甲氧基苯甲?；?-7-二乙基氨基香豆素、3-(4-二甲基氨基苯甲酰基)-7-二乙基氨基香豆素、3,3'-羰基雙(5，7-二正丙氧基香豆素)、3,3，-羰基雙(7-二乙基氨基香豆素)、3-苯甲酰基-7-甲氧基香豆素、3-(2-呋喃甲?；?-7-二乙基氨基香豆素、3-(4-二乙基氨基肉桂酰基)-7-二乙基氨基香豆素、7-甲氧基-3-(3-吡啶基羰基)香豆素、3-苯甲酰基-5,7-二丙氧基香豆素等。除此之外，還可以列舉日本特開平5-19475號(hào)公報(bào)、日本特開平7-271028號(hào)公報(bào)、日本特開2002-363206號(hào)公報(bào)、日本特開2002-363207號(hào)公報(bào)、日本特開2002-363208號(hào)公報(bào)、日本特開2002-363209號(hào)公報(bào)等中記載的香豆素化合物等)。作為自由基產(chǎn)生部位(聚合引發(fā)劑)和增敏劑的組合，例如可以列舉日本特開2001-305734號(hào)公報(bào)的段中記載的電子轉(zhuǎn)移型引發(fā)體系，即，[(l)供電子型引發(fā)劑及增敏色素、(2)受電子型引發(fā)劑及增敏色素、(3)供電子型引發(fā)劑、增敏色素及受電子型引發(fā)劑(三元引發(fā)體系)]等組合。更具體地說(shuō)，優(yōu)選列舉三嗪類的聚合引發(fā)劑與在360nm700nm的波長(zhǎng)范圍有最大吸收的增敏劑的組合。作為其他的增敏劑，可以列舉具有堿性核的增敏劑、具有酸性核的增敏劑、具有熒光增白劑的增敏劑等。下面依次對(duì)其進(jìn)行說(shuō)明。對(duì)于具有堿性核的增敏劑沒有特別的限制，只要其是分子內(nèi)具有堿性核的色素即可?？筛鶕?jù)在生成接枝聚合物時(shí)所采用的曝光波長(zhǎng)(例如，可見光、可見光激光等)進(jìn)行適當(dāng)?shù)剡x擇。在本發(fā)明中，由于采用360nm700nm的波長(zhǎng)的激光進(jìn)行曝光，所以增敏劑的最大吸收波長(zhǎng)優(yōu)選為700nm以下，更優(yōu)選為500nm以下，特別優(yōu)選為450nm以下。作為上述具有堿性核的色素，例如可以列舉菁類色素、半菁類色素、苯乙烯類色素、鏈菁(streptocyanine)類色素等。上述各色素也包括二聚型、三聚型、多聚型的色素等。此外，這些色素中，優(yōu)選菁類色素、半菁類色素、苯乙烯類色素，更優(yōu)選菁類色素、半菁類色素。在上述具有堿性核的色素為菁類色素的情況中，次甲基的數(shù)目?jī)?yōu)選為一個(gè)，在上述具有堿性核的色素為半菁類色素的情況中，次甲基的數(shù)目?jī)?yōu)選為5個(gè)以下。此外，在上述具有堿性核的色素為苯乙烯類色素的情況中，當(dāng)具有苯胺母核時(shí)，次甲基鏈的數(shù)目?jī)?yōu)選為4個(gè)以下。作為堿性核，例如可以列舉詹姆斯(James)編著的"照相過(guò)程的原理(TheTheoryofthePhotographicProcess)"(第4版，麥克米倫出版社，1977年)中第8章"增敏色素與減敏色素"中所定義的堿性核，作為具體例子，可以列舉美國(guó)專利第3,567,719號(hào)、第3,575,869號(hào)、第3,804,634號(hào)、第3,837,862號(hào)、第4,002,480號(hào)、第4,925,777號(hào)、日本特開平3-167546號(hào)等中記載的堿性核。上述堿性核例如優(yōu)選為苯并噁唑核、苯并噻唑核及假n引哚核等。此外，上述堿性核優(yōu)選為被芳香基團(tuán)取代的堿性核、或者3環(huán)以上的稠環(huán)堿性核。這里，作為堿性核的稠環(huán)數(shù)目，例如，苯并噁唑核的稠環(huán)數(shù)目為2，萘并噁唑核的稠環(huán)數(shù)目是3。此外，苯并噁唑核即使被苯基所取代，其稠環(huán)數(shù)目依然為2。作為3環(huán)以上的稠環(huán)堿性核，只要其是由3環(huán)以上的環(huán)稠和而形成的多環(huán)稠環(huán)型雜環(huán)堿性核即可，但優(yōu)選為3環(huán)稠環(huán)型雜環(huán)和4環(huán)稠環(huán)型雜環(huán)。作為3環(huán)稠環(huán)型雜環(huán)的例子，可以列舉萘并[2,3-d]噁唑、萘并[1,2-d]噁唑、萘并[2,l-d]噁唑、萘并[2，3-d]噻唑、萘并[l,2-d]噻唑、萘并[2,l-d]噻唑、萘并[2,3-d]咪唑、萘并[l,2-d]咪唑、萘并[2,l-d]咪唑、萘并[2,3-d]硒唑、萘并[l,2-d]硒唑、萘并[2,l-d]硒唑、吲哚并[5,6-d]噁唑、吲哚并[6,5-d]噁唑、吲哚并[2,3-d]噁唑、吲哚并[5,6-d]噻唑、吲哚并[6，5-d]噻唑、吲哚并[2,3-d]噻哇、苯并呋喃并[5，6-d]噁唑、苯并呋喃并[6,5-d]噁唑、苯并呋喃并[2，3-d]噁唑、苯并呋喃并[5,6-d]噻唑、苯并呋喃并[6,5-d]噻唑、苯并呋喃并[2，3-d]噻唑、苯并噻喃并[5,6-d]噁唑、苯并噻喃并[6,5-d]噁唑、苯并噻喃并[2，3-d]噁唑等。作為4環(huán)稠環(huán)型雜環(huán)的例子，可以列舉蒽并[2，3-d]噁唑、蒽并[1,2-d]噁唑、蒽并[2，l-d]噁唑、蒽并[2,3-d]噻唑、蒽并[l，2-d]噻唑、菲并[2，l-d]噻唑、菲并[2，3-d]咪唑、蒽并[l,2-d]咪唑、蒽并[2,l-d]咪唑、蒽并[2,3-d]硒唑、菲并[l,2-d]硒唑、菲并[2，l-d]硒唑、咔唑并[2,3-d]噁唑、咔唑并[3,2-d]噁唑、二苯并呋喃并[2,3-d]噁唑、二苯并呋喃并[3,2-d]噁唑、咔唑并[2,3-d]噻唑、咔唑并[3,2-d]噻唑、二苯并呋喃并[2,3-d]噻唑、二苯并呋喃并[3,2-d]噻唑、苯并呋喃并[5,6-d]噁唑、二苯并噻喃并[2，3-d]噁唑、二苯并噻喃并[3,2-d]噁唑、四氫咔唑并[6,7-d]噁唑、四氫咔唑并[7,6-d]噁唑、二苯并噻喃并[2,3-d]噻唑、二苯并噻喃并[3，2-d]噻唑、四氫咔唑并[6，7-d]噻唑等。作為3環(huán)以上的稠環(huán)堿性核的更優(yōu)選例子，可以列舉萘并[2,3-d]噁唑、萘并[l,2-d]噁唑、萘并[2,l-d]噁唑、萘并[2,3-d]噻唑、萘并[l,2-d]噻唑、萘并[2,l-d]噻唑、B引哚并[5,6-d]噁唑、吲哚并[6,5-d]噁唑、口引哚并[2,3-d]噁唑、吲哚并[5,6-d]噻唑、吲哚并[2,3-d]噻唑、苯并呋喃并[5，6-d]噁唑、苯并呋喃并[6,5-d]噁唑、苯并呋喃并[2,3-d]噁唑、苯并呋喃并[5,6-d]噻唑、苯并呋喃并[2，3-d]噻唑、苯并噻喃并[5,6-d]噁唑、蒽并[2,3-d]噁唑、蒽并[l,2-d]噁唑、蒽并[2,3-d]噻唑、蒽并[l，2-d]噻唑、咔唑并[2,3-d]噁唑、咔唑并[3,2-d]噁唑、二苯并呋喃并[2,3-d]噁唑、二苯并呋喃并[3,2-d]噁唑、咔唑并[2,3-d]噻唑、咔唑并[3,2-d]噻唑、二苯并呋喃并[2,3-d]噻唑、二苯并呋喃并[3，2-d]噻唑、二苯并噻喃并[2,3-d]噁唑、二苯并噻喃并[3,2-d]噁唑。特別優(yōu)選的是，萘并[2,3-d]噁唑、萘并[l,2-d]噁唑、萘并[2,3-d]噻唑、吲哚并[5,6-d]噁唑、吲哚并[6,5-d]噁唑、吲哚并[5,6-d]噻唑、苯并呋喃并[5,6-d]噁唑、苯并呋喃并[5,6-d]噻唑、苯并呋喃并[2,3-d]噻唑、苯并噻喃并[5,6-d]噁唑、昨唑并[2,3-d]噁唑、咔唑并[3,2-d]噁唑、二苯并呋喃并[2,3-d]噁唑、二苯并呋喃并[3,2-d]噁唑、昨唑并[2，3-d]噻唑、咔唑并[3，2-d]噻唑、二苯并呋喃并[2,3-d]噻唑、二苯并呋喃并[3,2-d]噻唑、二苯并噻喃并[2,3-d]噁唑、二苯并噻喃并[3，2-d]噁唑。此外，作為上述堿性核，可以列舉如下所示的堿性雜環(huán)。<formula>formulaseeoriginaldocumentpage21</formula>其中，R表示氫原子、脂肪族基團(tuán)或芳香族基團(tuán)。下面對(duì)具有酸性核的增敏劑進(jìn)行說(shuō)明。對(duì)于該種增敏劑沒有特別的限制，只要其是具有酸性核的色素即可，可以根據(jù)所用的曝光波長(zhǎng)進(jìn)行適當(dāng)?shù)剡x擇。具體地說(shuō)，例如可以列舉份菁色素、3核份菁色素、4核份菁色素、若丹菁色素、氧醇(oxonol)色素等，其中優(yōu)選為份菁色素、若丹菁色素，更優(yōu)選為份菁色素。作為上述酸性核，例如可以列舉詹姆斯(James)編著的"照相過(guò)程的原理(TheTheoryofthePhotographicProcess)"(第4版，麥克米倫出版社，1977年)的第8章"增敏色素與減敏色素"中所定義的、美國(guó)專利第3,567,719號(hào)、第3，575，869號(hào)、第3,804,634號(hào)、第3,837,862號(hào)、第4,002,480號(hào)、第4,925,777號(hào)、日本特開平3-167546號(hào)等中記載的酸性核。當(dāng)上述酸性核為非環(huán)式時(shí)，次甲基鍵的末端優(yōu)選為丙二腈、垸基磺酰基乙腈、氰基甲基苯并呋喃酮、氰基甲基苯基酮、丙二酸酯、及被?；被谆〈耐惖然钚詠喖谆衔锏鹊幕鶊F(tuán)。當(dāng)形成上述酸性核所需的原子組成環(huán)狀的時(shí)候，優(yōu)選形成含有碳、氮及硫族元素(chalcogen)(典型的是，氧、硫、硒和碲)原子的5員或6員含氮雜環(huán)。作為上述含氮雜環(huán)，例如可以列舉2-吡唑啉-5-酮、吡唑烷-3，5-二酮、咪唑啉-5-酮、乙內(nèi)酰脲、2-硫代乙內(nèi)酰脲、4-硫代乙內(nèi)酰脲、2-亞氨基噁唑垸-4-酮、2-噁唑啉-5-酮、2-硫代噁唑啉-2，4-二酮、異噁唑啉-5-酮、2-噻唑啉-4-酮、噻唑垸-4-酮、噻唑垸-2,4-二酮、若丹寧、噻唑烷-2，4-二硫酮、異若丹寧、茚滿-1,3-二酮、噻吩-3-酮、噻吩-3-酮-l,l-二氧化物、吲哚啉-2-酮、吲哚啉-3-酮、2-氧代吲哚鎗、3-氧代吲哚鑰、5,7-二氧代-6,7-二氫噻唑并[3,2-a]嘧啶、環(huán)己垸-l,3-二酮、3,4-二氫異喹啉-4-酮、1,3-二氧六環(huán)-4,6-二酮、巴比妥酸(barbituricacid)、2-硫代巴比妥酸、色滿-2,4-二酮、吲唑啉_2-酮、吡啶并[l,2-a]嘧啶-l，3-二酮、吡唑并[l,5-b]喹唑啉酮、吡唑并[l,5-a]苯并咪唑、吡唑并吡啶酮、1,2，3,4-四氫喹啉-2,4-二酮、3-氧代-2,3-二氫苯并[d]噻吩-U-二氧化物、3-二氰基次甲基-2,3-二氫苯并[d]噻吩-l,l-二氧化物的核等。此外，作為上述酸性核，可以列舉如下所示的化合物(酸性雜環(huán)等)。其中，R表示氫原子、脂肪族基團(tuán)或芳香族基團(tuán)。接下來(lái)對(duì)具有熒光增白劑的增敏劑進(jìn)行說(shuō)明。已知作為"熒光性白化劑"(fluorescentwhiteningagent)的熒光增白劑是一種無(wú)色的或弱著色的化合物，其能夠吸收波長(zhǎng)為紫外短波可見光區(qū)的300nm450nm附近的光，并且可以發(fā)出波長(zhǎng)為400nm500nm附近的熒光。Ullmann'sEncyclopediaofIndustrialChemistry,SixthEdition,ElectronicRelease,Wiley-VCH1998中描述了熒光增白劑的物理原理及化學(xué)性質(zhì)。基本上，適合的熒光增白劑含有由碳環(huán)式的核或雜環(huán)式的核而形成的Tl-電子體系。對(duì)于本實(shí)施方案中的增敏劑沒有特別的限制，可以根據(jù)形成接枝聚合物時(shí)所采用的曝光波長(zhǎng)、曝光手段(例如，可見光、紫外線激光、或可見光激光等)，進(jìn)行適當(dāng)?shù)剡x擇。熒光增白劑優(yōu)選為具有非離子性核的化合物。上述非離子性核優(yōu)選為選自芪核、二苯乙烯基苯核、二苯乙烯基聯(lián)苯核及二乙烯基芪核中的至少一種的核。對(duì)于上述具有非離子性核的化合物沒有特別的限制，可以根據(jù)目的進(jìn)行適當(dāng)?shù)剡x擇。作為該化合物，可以列舉吡唑啉類、三嗪類、芪類、二苯乙烯基苯類、二苯乙烯基聯(lián)苯類、二乙烯基芪類、三嗪基氨基芪類、均二苯乙烯基三唑類、均二苯乙烯基萘并三唑類、雙三唑基芪類、苯并噁唑類、雙苯基苯并噁唑類、均二苯乙烯基苯并噁唑類、雙苯并噁唑類、呋喃類、苯并呋喃類、雙苯并咪唑類、二苯基吡唑啉類、二苯基噁二唑類、萘酰亞胺類、咕噸類、喹諾酮類、芘類及1,3,5-三嗪基衍生物等。其中，優(yōu)選為具有選自苯乙烯基、苯并噁唑基、苯并噻唑基中的至少一種基團(tuán)的化合物，特別優(yōu)選為二苯乙烯基苯類、二苯乙烯基聯(lián)苯類、或者由乙烯基、芳香環(huán)基、或雜環(huán)基所形成的2價(jià)連結(jié)基團(tuán)而連結(jié)的雙苯并噁唑類、雙苯并噻唑類，等。此外，上述熒光增白劑可以具有取代基。該取代基可以列舉脂肪族基團(tuán)、芳香族基團(tuán)、雜環(huán)基、羧基、磺基、氰基、鹵原子(例如，氟原子、氯原子、溴原子)、羥基、碳原子數(shù)為30以下的烷氧基羰基(例如，甲氧基羰基、乙氧基羰基、芐氧基羰基)、碳原子數(shù)為30以下的烷基磺酰氨基羰基、芳基磺酰氨基羰基、烷基磺?；?、芳基磺酰基、碳原子數(shù)為30以下的酰基氨基磺酰基、碳原子數(shù)為30以下的垸氧基(例如，甲氧基、乙氧基、芐氧基、苯氧基乙氧基、苯乙基氧基等)、碳原子數(shù)為30以下的烷基硫基(例如，甲基硫基、乙基硫基、甲基硫代乙基硫代乙基等)、碳原子數(shù)為30以下的芳氧基(例如，苯氧基、對(duì)-甲苯氧基、l-萘氧基、2-萘氧基等)、硝基、碳原子數(shù)為30以下的烷基、垸氧基羰基氧基、芳氧基羰基氧基、碳原子數(shù)為30以下的酰氧基(例如，乙酰氧基、丙酰氧基等)、碳原子數(shù)為30以下的?；?例如，乙?；⒈；?、苯甲酰基等)、氨基甲?；?例如，氨基甲?；?、N,N-二甲基氨基甲酰基、嗎啉基羰基、哌啶基羰基等)、氨磺?；?例如，氨磺?；?、N,N-二甲基氨磺?；徇酋；?、哌啶基磺酰基等)、碳原子數(shù)為30以下的芳基(例如，苯基、4-氯苯基、4-甲基苯基、a-萘基等)、取代的氨基(例如，氨基、烷基氨基、二烷基氨基、芳基氨基、二芳基氨基、?；被?、取代的脲基、取代的膦?；鹊?。作為上述的各個(gè)代表性的熒光增白劑的例子，例如可以列舉大河原編著的"色素">K7-7夕，，(講談社)第84145頁(yè)、第432439頁(yè)中記載的各種物質(zhì)。對(duì)于上述的三嗪類化合物沒有特別的限制，可以根據(jù)目的進(jìn)行適當(dāng)?shù)剡x擇。作為上述三嗪類化合物的例子，可以列舉亞乙基雙三聚氰胺、亞丙基-l,3-雙三聚氰胺、N,N，-二環(huán)己基亞乙基雙三聚氰胺、N,N，-二甲基亞乙基雙三聚氰胺、-雙[4,6-二(二甲基氨基)-1,3,5-三嗪基]乙二胺、N,N，-雙(4,6-二哌啶基-l,3,5-三嗪基)乙二胺、N,N，-雙[4，6-二(二甲基氨基)-l,3,5-三嗪基]-N,N'-二甲基乙二胺等。下列結(jié)構(gòu)式(1)(7)示出代表性的熒光增白劑的例子。<formula>formulaseeoriginaldocumentpage27</formula>結(jié)構(gòu)式(l)<formula>formulaseeoriginaldocumentpage27</formula>結(jié)構(gòu)(2)<formula>formulaseeoriginaldocumentpage27</formula>結(jié)構(gòu)式(3)<formula>formulaseeoriginaldocumentpage27</formula>結(jié)構(gòu)式(3)<formula>formulaseeoriginaldocumentpage27</formula>結(jié)構(gòu)式(5)<formula>formulaseeoriginaldocumentpage27</formula>結(jié)構(gòu)式(6)<formula>formulaseeoriginaldocumentpage27</formula>結(jié)構(gòu)式(7)相對(duì)于各種具有自由基產(chǎn)生部位的化合物，這些增敏劑的含量?jī)?yōu)選為5質(zhì)量％200質(zhì)量％左右。對(duì)于構(gòu)成可用于本發(fā)明中的基材的材料沒有特別的限制，只要該材料具有與遮光部件相應(yīng)的物理性質(zhì)、或者是與上述(1)(4)中的自由基產(chǎn)生機(jī)制相對(duì)應(yīng)的材料即可。作為該構(gòu)成材料，可以是有機(jī)材料、無(wú)機(jī)材料、或者有機(jī)材料與無(wú)機(jī)材料形成的復(fù)合材料中的任意一種。作為上述(1)及(2)中的基材的材料，可以使用由PET、聚丙烯、聚酰亞胺、丙烯酸類樹脂等形成的塑性材料。此外，作為在上述(1)、(2)及(3)的基材中所用的支承物的材料，可以采用由PET、聚丙烯、聚酰亞胺、丙烯酸類樹脂等形成的塑性材料，或者玻璃、石英、ITO等無(wú)機(jī)材料。此外，在上述(4)的基材的情況中，作為與具有自由基產(chǎn)生部位及支承物結(jié)合部位的化合物相結(jié)合的支承物，優(yōu)選采用玻璃、石英、ITO、有機(jī)硅樹脂、環(huán)氧樹脂等表面上具有羥基的各種支承物。此外，由通過(guò)電暈處理等表面處理從而在表面上可產(chǎn)生羥基或羧基等的由PET、聚丙烯、聚酰亞胺、環(huán)氧樹脂、丙烯酸類樹脂、聚氨酯等形成的塑性材料作為優(yōu)選的支承物。此外，在支承物為玻璃基板的情況中，例如可以采用硅玻璃基板、無(wú)堿玻璃基板、石英玻璃基板以及在玻璃基材的表面上形成有ITO的基板等。對(duì)于基材(支承物)的厚度沒有特別的限制，可以根據(jù)使用目的進(jìn)行適當(dāng)?shù)剡x擇。一般來(lái)說(shuō)，厚度為10pm10cm左右。具有可發(fā)生自由基聚合的不飽和部位及可吸附金屬離子或金屬鹽的部位的化合物(特定聚合性化合物)接下來(lái)，在上述的可通過(guò)曝光產(chǎn)生自由基的基材上，使具有可發(fā)生自由基聚合的不飽和部位及可吸附金屬離子或金屬鹽的部位的化合物與該基材相接觸。以下，對(duì)本發(fā)明中的具有可發(fā)生自由基聚合的不飽和部位及可吸附金屬離子或金屬鹽的部位的化合物(以下，有時(shí)候簡(jiǎn)稱為"特定聚合性化合物")進(jìn)行說(shuō)明。對(duì)于本發(fā)明中所采用的特定聚合性化合物的形態(tài)不限定，只要其是具有可發(fā)生自由基聚合的不飽和部位和可吸附金屬離子或金屬鹽的部位的化合物即可，可以采用單體、大分子單體、或具有聚合性基團(tuán)的高分子化合物中的任意一種。這里，作為可吸附金屬離子或金屬鹽的部位(以下，適當(dāng)?shù)胤Q為"金屬吸附部位")，例如為極性基團(tuán)。在該極性基團(tuán)中，優(yōu)選親水性基團(tuán)，更具體地說(shuō)，可以列舉磺酸基、羧基、磷酸基、膦酸基等帶有負(fù)電荷的官能團(tuán)。其中，從對(duì)金屬離子或金屬鹽的吸附能力的角度考慮，優(yōu)選為羧基、膦酸基。作為可用于本發(fā)明的特定聚合性化合物之一的單體，例如可以列舉(甲基)丙烯酸或其堿金屬鹽及胺鹽、衣康酸或其堿金屬鹽及胺鹽、苯乙烯磺酸或其堿金屬鹽及胺鹽、(甲基)丙烯酸2-磺基乙酯或其堿金屬鹽及胺鹽、2-丙烯酰胺基-2-甲基丙磺酸或其堿金屬鹽及胺鹽、磷酰氧基聚氧化亞乙基二醇單(甲基)丙烯酸酯或其堿金屬鹽及胺鹽、聚氧化亞乙基二醇單(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸2-羥乙酯、(甲基)丙烯酰胺、N-單羥甲基(甲基)丙烯酰胺、N-二羥甲基(甲基)丙烯酰胺、烯丙基胺或其鹵化氫酸鹽、N-乙烯基吡咯垸酮、乙烯基咪唑、乙烯基吡啶、乙烯基噻吩、苯乙烯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸正丁酯等具有碳原子數(shù)為124的垸基的(甲基)丙烯酸酯等。作為本發(fā)明中可使用的特定聚合性化合物之一的大分子單體，可以采用公知的方法由上述單體制得。作為本實(shí)施方案中使用的大分子單體的制造方法，例如在平成1年9月20日74t'一^一出版社(IPCInc.)發(fā)行的"7夕口乇77—O化學(xué)i工業(yè)"(編輯者山下雄也)的第2章"7夕口乇乂7—0合成"中提出了各種制造方法。這種有用的大分子單體的重均分子量?jī)?yōu)選為50050萬(wàn)，特別優(yōu)選為10005萬(wàn)。作為本發(fā)明中可采用的特定聚合性化合物之一的高分子化合物是指分子中引入有金屬吸附部位及具有可發(fā)生自由基聚合的不飽和部位(聚合性基團(tuán))的聚合物。該聚合物至少在末端或側(cè)鏈上具有聚合性基團(tuán)，更優(yōu)選在側(cè)鏈上具有聚合性基團(tuán)，進(jìn)一步優(yōu)選在末端和側(cè)鏈上均具有聚合性基團(tuán)。這種有用的高分子化合物的重均分子量?jī)?yōu)選為50050萬(wàn)，尤其優(yōu)選為10005萬(wàn)。作為具有金屬吸附部位及聚合性基團(tuán)的高分子化合物的合成方法，可以列舉下述方法i)使具有金屬吸附部位的單體與具有聚合性基團(tuán)的單體發(fā)生共聚的方法；ii)使具有金屬吸附部位的單體與具有聚合性基團(tuán)前體的單體發(fā)生共聚，然后通過(guò)堿等的處理以引入聚合性基團(tuán)的方法；iii)使具有金屬吸附部位的聚合物與具有聚合性基團(tuán)的單體發(fā)生反應(yīng)，以引入聚合性基團(tuán)的方法。從適于合成的角度考慮，優(yōu)選的合成方法為ii)使具有金屬吸附部位的單體與具有聚合性基團(tuán)前體的單體發(fā)生共聚，然后通過(guò)堿等的處理以引入聚合性基團(tuán)的方法；iii)使具有金屬吸附部位的聚合物與具有聚合性基團(tuán)的單體發(fā)生反應(yīng)，以引入聚合性基團(tuán)的方法。作為上述i)及ii)的合成方法中所采用的具有金屬吸附部位的單體，例如可以列舉(甲基)丙烯酸或其堿金屬鹽及胺鹽、衣康酸或其堿金屬鹽及胺鹽，更具體地說(shuō)，可以列舉，(甲基)丙烯酸2-羥乙酯、(甲基)丙烯酰胺、N-單羥甲基(甲基)丙烯酰胺、N-二羥甲基(甲基)丙烯酰胺、烯丙基胺或其鹵化氫酸鹽、3-乙烯基丙酸或其堿金屬鹽及胺鹽、乙烯基磺酸或其堿金屬鹽及胺鹽、(甲基)丙烯酸2-磺基乙酯、2-丙烯酰胺基-2-甲基丙磺酸、酸性磷酰氧基聚氧化亞乙基二醇單(甲基)丙烯酸酯、苯乙烯基磺酸鈉、乙烯基安息香酸等。一般來(lái)說(shuō)，可以使用具有羧基、磺酸基、磷酸基等官能團(tuán)的單體。作為可以與上述具有金屬吸附部位的單體共聚的、并具有聚合性基團(tuán)的單體，可以列舉(甲基)丙烯酸烯丙酯、甲基丙烯酸2-烯丙基氧基乙酯。此外，作為在上述ii)的合成方法中所采用的具有聚合性基團(tuán)前體的單體，可以使用甲基丙烯酸2-(3-氯-l-羰基丙氧基)乙酯或日本特開2003-335814號(hào)公報(bào)中記載的化合物(i-li-60)，其中，特別優(yōu)選下述化合物(i-l)?；衔?i-l)此外，利用與上述iii)的合成方法中所采用的具有金屬吸附部位的聚合物中的羧基、氨基或它們的鹽、羥基及環(huán)氧基等官能團(tuán)的反應(yīng)以引入聚合性基團(tuán)時(shí)，所采用的具有聚合性基團(tuán)的單體，可以列舉(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯酸縮水甘油酯、烯丙基縮水甘油基醚、(甲基)丙烯酸2-異氰酰基乙酯等。在上述ii)的合成方法中，使具有金屬吸附部位的單體與具有聚合性基團(tuán)前體的單體發(fā)生共聚后，通過(guò)堿等的處理以引入聚合性基團(tuán)的方法，例如可以采用日本特開2003-335814號(hào)公報(bào)中記載的方法。在(a)工序中，為了達(dá)到使曝光靈敏度提高和控制膜的物理性質(zhì)的目的，可以將多種上述特定聚合性化合物合用，此外，上述特定聚合性化合物也可以和與該特定聚合性化合物不同的、但具有可發(fā)生自由基聚合的不飽和部位的化合物(以下，稱為"其他聚合性化合物")合用。此時(shí)，對(duì)于合用化合物的組合沒有特別的限制，可以根據(jù)目的進(jìn)行適當(dāng)?shù)剡x擇。在本發(fā)明中，優(yōu)選的實(shí)施方案是，以特定聚合性化合物即具有金屬吸附部位和聚合性基團(tuán)的高分子化合物作為主要的聚合性化合物；與此相對(duì)，低分子單體作為其他聚合性化合物而合用。在本發(fā)明中，所謂"低分子單體"是指分子量在600以下的單體。作為該低分子單體，只要滿足其具有一個(gè)以上的可發(fā)生自由基聚合的不飽和部位(聚合性基團(tuán))、而且分子量在上述范圍內(nèi)這樣的條件即可。該低分子單體可以是作為上述的特定聚合性化合物之一的單體，也可以是常用的自由基聚合性化合物。以下對(duì)低分子單體進(jìn)行更具體地說(shuō)明。對(duì)于低分子單體中的聚合性基團(tuán)沒有特別的限制，只要是常用的自由基聚合性化合物中的聚合性基團(tuán)均可以使用。例如，可以列舉(甲基)丙烯酰基、(甲基)丙烯酰胺基、苯乙烯基等。其中，優(yōu)選的是，選擇與所述主要的聚合性化合物的自由基聚合性相近的聚合性基團(tuán)。例如，在所述主要的聚合性化合物具有(甲基)丙烯?；那闆r中，優(yōu)選采用也具有(甲基)丙烯?；牡头肿訂误w。此外，關(guān)于低分子單體中的聚合性基團(tuán)，只要分子內(nèi)具有一個(gè)以上的該基團(tuán)即可，但是從使用的廣泛性、安全性、自由基聚合性的角度考慮，聚合性基團(tuán)的數(shù)量?jī)?yōu)選為26個(gè)，更優(yōu)選為24個(gè)。此外，對(duì)于低分子單體中除了聚合性基團(tuán)以外的其它結(jié)構(gòu)沒有特別的限制，該其它結(jié)構(gòu)為通過(guò)調(diào)整分子的長(zhǎng)度或選擇所引入的官能團(tuán)從而可以控制低分子單體的物理性質(zhì)的部位。在選擇低分子單體時(shí)，從該低分子單體與所合用的所述主要的聚合性化合物(具有金屬吸附部位及聚合性基團(tuán)的高分子化合物)的相容性考慮，優(yōu)選它們?cè)跇O性、親/疏水性等方面具有相似的結(jié)構(gòu)。例如，在使用上述的具有金屬吸附部位及聚合性基團(tuán)的高分子化合物時(shí)，優(yōu)選的是，低分子單體也具有上述的金屬吸附部位。金屬吸附部位的例子有極性基團(tuán)。在該極性基團(tuán)中，優(yōu)選為酸基或羥基等親水性基團(tuán)，更具體地說(shuō)，可以列舉磺酸基、羧基、磷酸基、膦酸基等帶有負(fù)電荷的官能團(tuán)。其中，從對(duì)金屬離子或金屬鹽的吸附能力的角度考慮，優(yōu)選為羧基、膦酸基。通過(guò)引入這樣的金屬吸附部位，能夠使可吸附的金屬量增加，從而使所得到的遮光部件的遮光能力得以提咼°以下示出了本發(fā)明中的低分子單體的具體例子，但本發(fā)明并不局限于此。<formula>formulaseeoriginaldocumentpage33</formula>在本發(fā)明中，以具有金屬吸附部位及聚合性基團(tuán)的高分子化合物作為主要的聚合性化合物，相對(duì)于此，在合用低分子單體的情況中，相對(duì)于所述主要的聚合性化合物，該低分子單體的添加量?jī)?yōu)選為1質(zhì)量％100質(zhì)量％，更優(yōu)選為10質(zhì)量％80質(zhì)量％，進(jìn)一步優(yōu)選為30質(zhì)量％70質(zhì)量％。采用這些聚合性化合物(包括特定聚合性化合物和低分子單體)形成聚合物層時(shí)，將該聚合性化合物以單體或者以分散或溶解于溶劑中的狀態(tài)與基材表面相接觸。作為該接觸方法，可以通過(guò)將基材浸漬在含有聚合性化合物的液狀組合物中來(lái)進(jìn)行接觸，但是從處理性和制造效率的角度考慮，優(yōu)選的是這樣的方法，在基材表面上，采用使該聚合性化合物以本身的形式直接與基材接觸，或者涂覆含有聚合性化合物的液狀組合物從而形成涂膜的方法，進(jìn)一步將該涂膜干燥，由此在基材表面上形成含有聚合性化合物的層(接枝聚合物前體層)。此處，對(duì)于可用于含有聚合性化合物的液狀組合物中的溶劑沒有特別的限定，只要其能夠溶解或者分散聚合性化合物即可，優(yōu)選為水、水溶性溶劑等水性溶劑，也可以在這些溶劑的混合物或溶劑中進(jìn)一步添加表面活性劑。作為可以使用的溶劑，可以列舉甲醇、乙醇、丙醇、乙二醇、甘油、丙二醇單甲醚等醇類溶劑，乙酸等的酸，丙酮、環(huán)己酮等酮類溶劑，甲酰胺、二甲基乙酰胺等酰胺類溶劑等。此外，根據(jù)需要可以向該液狀組合物中添加表面活性劑，只要該表面活性劑可以溶解在溶劑中即可。作為此類表面活性劑，可以列舉正十二烷基苯磺酸鈉等陰離子型表面活性劑、正十二烷基三甲基氯化銨等陽(yáng)離子型表面活性劑、以及壬基酚聚氧乙烯醚(作為市售品，例如有花王株式會(huì)社生產(chǎn)的二"7Ay>(EMULGEN)910等)、聚氧乙烯失水山梨醇單月桂酸酯(作為市售品，例如有商品名"吐溫(TWEEN)20"等)、聚氧乙烯月桂基醚等非離子型表面活性劑等。此外，在含有聚合性化合物的液狀組合物中也可以含有自由基產(chǎn)生劑。作為該自由基產(chǎn)生劑，可以采用與上述的基材中含有的自由基產(chǎn)生劑相同的自由基產(chǎn)生劑。此外，根據(jù)需要，在含有聚合性化合物的液狀組合物中也可以含有增敏劑。作為該增敏劑，可以采用與上述的基材中含有的增敏劑相同的增敏劑。在使用將含有聚合性化合物的液狀組合物涂覆在基材表面上從而形成涂膜的方法的情況中，從能夠得到足夠的涂覆膜的角度考慮，以換算為固形物計(jì)，涂覆量?jī)?yōu)選為0.1g/m210g/m2，特別優(yōu)選為0.5g/m25g/m2。此外，在形成接枝聚合物前體層的情況中，其厚度優(yōu)選為0.01pm20(im，更優(yōu)選為0.05[im10pm，進(jìn)一步優(yōu)選為0.1(im5fim。曝光然后，如上所述使聚合性化合物與基材表面接觸后，通過(guò)進(jìn)行曝光，生成直接結(jié)合在基材上的聚合物(接枝聚合物)。另外，由于在基材的曝光區(qū)域生成接枝聚合物，所以如果對(duì)基材進(jìn)行全面曝光，那么在基材的整個(gè)表面上都生成接枝聚合物。而如果對(duì)基材進(jìn)行圖案曝光，那么只在基材的對(duì)應(yīng)于該圖案的區(qū)域中生成接枝聚合物。由此，本工序中的曝光可以依照所制作的遮光部件的遮光部分的形狀來(lái)進(jìn)行。以下，對(duì)全面曝光及按圖案曝光進(jìn)行說(shuō)明。關(guān)于全面曝光及按圖案進(jìn)行曝光，為了生成與基材結(jié)合的聚合物(接枝聚合物)而進(jìn)行的曝光，不管是何種形式的光，只要能夠作用于基材中的自由基產(chǎn)生劑和自由基產(chǎn)生部位等，從而產(chǎn)生自由基即可。具體地說(shuō)，優(yōu)選采用360nm700nm波長(zhǎng)的光。而且，從增敏劑的選擇、以及激光曝光裝置等的制造的角度考慮，更優(yōu)選360nm550nm波長(zhǎng)的光。在全面曝光時(shí)，可以使用由激光光源進(jìn)行的全面掃描曝光、或使用高壓汞燈等的恒定光進(jìn)行的全面掃描曝光。此外，在按圖案進(jìn)行曝光時(shí)，優(yōu)選使用由激光進(jìn)行的掃描曝光、或通過(guò)光掩模而進(jìn)行的圖像狀曝光。此外，例如也可以采用陰極射線管(CRT)進(jìn)行掃描曝光。在該圖像狀曝光中使用的陰極射線管，可以使用在根據(jù)需要的光譜區(qū)域中能夠發(fā)光的各種發(fā)光體。例如，可以使用紅色發(fā)光體、綠色發(fā)光體、藍(lán)色發(fā)光體中的任意一種或兩種以上混合使用。光譜區(qū)域不僅限于上述的紅色、綠色及藍(lán)色，也可以使用發(fā)出黃色、橙色、紫色光的熒光體?？梢允褂酶鞣N激光束按圖案進(jìn)行曝光。例如，作為圖案曝光，優(yōu)選采用使用單色高密度光(氣體激光、發(fā)光二極管、半導(dǎo)體激光等激光，半導(dǎo)體激光、或者以半導(dǎo)體激光為激勵(lì)光源的固體激光與非線性光學(xué)晶體組合而成的二次諧波發(fā)光光源(Second-HarmonicGeneration:SHG)等)的掃描曝光方式。此外，也可以使用KrF準(zhǔn)分子激光、ArF準(zhǔn)分子激光、F2激光等。由本發(fā)明所形成的圖案分辨率受曝光條件的制約。換言之，在為了形成結(jié)合在基材上的聚合物而進(jìn)行的圖案曝光過(guò)程中，通過(guò)施加高精度的圖案曝光，能夠形成與曝光相對(duì)應(yīng)的高精度的圖案。作為形成高精度的圖案的曝光方法，可以列舉采用光學(xué)系統(tǒng)的光束掃描曝光、采用掩模的曝光等。只要根據(jù)所希望獲得的圖案的分辨率來(lái)選擇曝光方法即可。作為高精度的圖案曝光，具體地說(shuō)，可以列舉采用i線步進(jìn)器(i-linestepper)、g線步進(jìn)器、KrF步進(jìn)器、ArF步進(jìn)器之類的步進(jìn)器曝光等。本發(fā)明中的"圖案"是指通過(guò)向基材上的任意位置施加能量而形成的浮雕(relief)像。該圖案可以根據(jù)用途來(lái)適當(dāng)?shù)貨Q定。采用以上方法所得到的結(jié)合有聚合物的基材，通過(guò)進(jìn)行溶劑浸漬或用溶劑清洗等處理以除去殘留的均聚物等，從而得以精制。具體地說(shuō)，可以列舉采用水或丙酮進(jìn)行清洗并干燥等。從除去均聚物等的角度考慮，也可以采用超聲波等方法。精制之后的基材，其表面上殘留的均聚物已被完全除去，只剩下與基材牢固結(jié)合的聚合物。還有，在本發(fā)明中，除了上述的方法以外，也可以采用以下的方法在所希望的基材區(qū)域中生成與基材結(jié)合的聚合物。艮P，在基材為具有可通過(guò)光裂解產(chǎn)生自由基的自由基產(chǎn)生部位并具有支承物結(jié)合部位的化合物與支承物相結(jié)合這樣的基材(即，上述的(4)中的基材)的情況中，所述方法包括以下工序?qū)υ摶倪M(jìn)行圖案曝光，從而使曝光區(qū)域中的該自由基產(chǎn)生部位失活的工序(以下，稱為"失活工序")；以及，在該基材上使聚合性化合物與基材接觸后，進(jìn)行全面曝光，使在進(jìn)行前述圖案曝光時(shí)在未曝光區(qū)域中殘留的該自由基產(chǎn)生部位發(fā)生光裂解，引發(fā)自由基聚合，生成直接結(jié)合在上述基材上的聚合物，進(jìn)而形成聚合物層的工序(以下，稱為"聚合物層形成工序")。在上述失活工序中，對(duì)于己經(jīng)引入有光裂解化合物(Q-Y)的基材，預(yù)先對(duì)不想在其中生成與基材相結(jié)合的聚合物的區(qū)域進(jìn)行圖案曝光，從而使曝光區(qū)域中的自由基產(chǎn)生部位(Y)發(fā)生光裂解，從而使其失去自由基產(chǎn)生能力，這樣，在基材的表面上就形成了自由基可產(chǎn)生區(qū)域和自由基產(chǎn)生能力失活區(qū)域。此處，該失活工序中所用的圖案曝光，可以使用前述的圖案曝光方法。然后，在聚合物層形成工序中，在形成有自由基可產(chǎn)生區(qū)域和自由基產(chǎn)生能力失活區(qū)域的基材表面上，使聚合性化合物與該基材表面接觸后，進(jìn)行全面曝光，只在自由基可產(chǎn)生區(qū)域中生成結(jié)合在上述基材上的聚合物，其結(jié)果是，形成了圖案狀的聚合物層。此外，作為使聚合性化合物與基材表面相接觸的方法，可以采用將基材浸漬在含有聚合性化合物的液狀組合物中的方法。從處理性和制造效率的角度考慮，優(yōu)選是這樣進(jìn)行的，采用使聚合性化合物以本身形式直接與基材表面接觸，或?qū)⒑芯酆闲曰衔锏囊籂罱M合物涂覆在基材表面上以形成涂膜的方法，并進(jìn)一步將該涂膜干燥，從而在基材表面上形成接枝聚合物前體層。通過(guò)以上的方法，生成直接結(jié)合在基材上的聚合物(接枝聚合物)，并形成由該聚合物所構(gòu)成的聚合物層。聚合物層的涂覆量?jī)?yōu)選為0.1g/n^2.0g/m、更優(yōu)選為0.3g/m21.0g/m2，最優(yōu)選為0.5g/m21.0g/m2。(b)工序在本工序中，向由上述的(a)工序所形成的聚合物層中加入金屬閨子或^!屬鹽。更具體地說(shuō)，在本工序中，將下述的金屬離子或金屬鹽，根據(jù)其極性，通過(guò)離子性作用而吸附在構(gòu)成聚合物層的聚合物所具有的金屬吸附部位(特別優(yōu)選為離子性基團(tuán))上。金屬離子及金屬鹽首先，對(duì)本工序中所用的金屬離子及金屬鹽進(jìn)行說(shuō)明。在本發(fā)明中，對(duì)于金屬鹽沒有特別的限制，但是由于要將其加入到接枝聚合物的生成區(qū)域中，所以只要該金屬鹽能夠溶解于合適的溶劑中，并可被解離為金屬離子和堿基(陰離子)即可。可以列舉M(N03)n、MCln、M2/n(S04)、M3/n(P04)(M表示n價(jià)的金屬原子)、氯金酸鈉等。此外，作為金屬離子，可以采用由上述的金屬鹽解離形成的金屬離子。作為其具體例子，可以列舉例如，Ag、Au、Cu、Al、Ni、Co、Fe、Pd、Cr，其中，優(yōu)選Ag、Cu、Cr。不僅可以使用一種金屬鹽或金屬離子，也可以根據(jù)需要將多種金屬鹽或金屬離子合用。此外，為了獲得所希望的遮光性，也可以預(yù)先將多種材料混合后使用。添加金屬離子及金屬鹽的方法在將金屬離子或金屬鹽添加到聚合物層時(shí)，(1)在聚合物具有離子性基團(tuán)的情況中，采用將金屬離子吸附到該離子性基團(tuán)上的方法。在該情況中，將上述的金屬鹽溶解在適當(dāng)?shù)娜軇┲?，將含有解離后的金屬離子的溶液涂覆在聚合物層形成區(qū)域，或者，將形成有聚合物層的基材浸漬在該溶液中。通過(guò)將該基材與含有金屬離子的溶液接觸，使金屬離子通過(guò)離子作用而吸附在上述離子性基團(tuán)上。從可以使該吸附能夠充分進(jìn)行的角度考慮，與基材接觸的溶液中金屬離子的濃度優(yōu)選為1質(zhì)量％50質(zhì)量％，更優(yōu)選為1質(zhì)量％20質(zhì)量％。此外，接觸時(shí)間優(yōu)選為10秒至24小時(shí)左右，更優(yōu)選為l分鐘至180分鐘左右。在將金屬離子或金屬鹽添加到聚合物層中時(shí)，(2)在聚合物中含有諸如聚乙烯基吡咯烷酮之類的、對(duì)金屬鹽具有高度親和性的結(jié)構(gòu)的情況中，將上述的金屬鹽做成微粒狀后直接附著到該聚合物層上；或者，利用可以使金屬鹽得以分散的適當(dāng)?shù)娜軇?，配制成分散液，并將該分散液涂覆在聚合物層形成區(qū)域；或者，將形成有聚合物層的基材浸漬在該溶液中。在構(gòu)成聚合物層的聚合物具有作為金屬吸附部位的親水性基團(tuán)的情況中，由于聚合物層具有高度的保水性，優(yōu)選的是，利用該高保水性，將分散有金屬鹽的分散液滲入到接枝聚合物膜中。從能夠使分散液的滲入充分進(jìn)行的角度考慮，與接枝聚合物膜接觸的分散液中金屬鹽的濃度優(yōu)選為1質(zhì)量％50質(zhì)量％，更優(yōu)選為1質(zhì)量％20質(zhì)量%。此外，接觸時(shí)間優(yōu)選為10秒至24小時(shí)左右，更優(yōu)選為l分鐘至180分鐘左右。在將金屬離子或金屬鹽添加到聚合物層時(shí)，(3)在聚合物具有親水性基團(tuán)的情況中，將分散有金屬鹽的分散液或者將溶解有金屬鹽的溶液涂覆在聚合物層形成區(qū)域，或者，將形成有聚合物層的基材浸漬在該分散液或溶液中。在本方法中，與上述相同，也可以利用聚合物層具有高度的保水性，將分散液或溶液滲入到接枝聚合物膜中。從能夠使該分散液或溶液的滲入能夠充分進(jìn)行的角度考慮，與接枝聚合物膜接觸的分散液中金屬離子的濃度或金屬鹽的濃度優(yōu)選為1質(zhì)量％50質(zhì)量％，更優(yōu)選為1質(zhì)量°/。20質(zhì)量％。此外，接觸時(shí)間優(yōu)選為10秒至24小時(shí)左右，更優(yōu)選為1分鐘至180分鐘左右。尤其是，根據(jù)(3)的方法，不管聚合物所具有的金屬吸附部位的特性如何，都可以加入所希望的金屬離子或金屬鹽。(c)工序在本工序中，將上述的(b)工序所形成的金屬離子或金屬鹽中的金屬離子還原，從而析出金屬顆粒。通過(guò)使金屬離子或金屬鹽中的金屬離子還原，使金屬單質(zhì)(金屬顆粒)析出，從而金屬顆粒分散在聚合物層的內(nèi)部和上部中，形成含有金屬顆粒的膜。此處，所析出的金屬顆粒，由于吸附在聚合物的金屬吸附部位上，因此使基材與金屬顆粒(含有金屬顆粒的膜)之間具有優(yōu)異的粘附性。此外，由于未發(fā)現(xiàn)所析出的金屬顆粒存在如同由有機(jī)化合物所構(gòu)成的遮光材料那樣發(fā)生的光老化現(xiàn)象，因此也具有優(yōu)異的耐光牢度。此外，從提高遮光性的角度考慮，析出的金屬顆粒的體積平均粒徑優(yōu)選為5nm500nm。還原劑接下來(lái)，對(duì)用于將存在于聚合物層中的金屬離子或金屬鹽中的金屬離子還原的還原劑進(jìn)行說(shuō)明。對(duì)于本發(fā)明中所采用的還原劑沒有特別的限制，只要其能夠還原金屬離子從而析出金屬顆粒即可。作為還原劑的例子，可以列舉甲醛、二烷基胺硼垸、乙醛酸、亞磷酸鹽、肼類等。其中，從可以均勻地控制所析出的金屬顆粒的粒徑的角度考慮，優(yōu)選采用選自甲醛、及二烷基胺硼垸中的至少一種化合物。此外，在二垸基胺硼烷中，特別優(yōu)選二甲基胺硼烷。上述還原劑由于在堿性條件下具有強(qiáng)的還原能力，所以優(yōu)選與氫氧化鈉、氫氧化鉀等堿金屬鹽合用。作為加入上述還原劑的方法，可以列舉例如，將金屬離子或金屬鹽添加在形成有聚合物層的基材表面上，水洗以除去多余的金屬鹽、金屬離子，然后將具有該表面的基材浸漬在離子交換水等水中，并向其中添加還原劑的方法；或者，在該基材表面上直接涂覆或滴加預(yù)定濃度的還原劑水溶液的方法，等。而且，相對(duì)于金屬離子，還原劑的添加量?jī)?yōu)選使用等當(dāng)量以上的過(guò)剩量，更優(yōu)選10倍當(dāng)量以上的添加量。此外，本工序中，優(yōu)選在對(duì)金屬離子具有高還原能力的狀態(tài)下使用還原劑。具體地說(shuō)，上述的還原劑優(yōu)選在氧化還原電位顯示出較大負(fù)值(絕對(duì)值大的負(fù)值)的強(qiáng)堿水溶液中使用，尤其優(yōu)選在pH為12以上的強(qiáng)堿水溶液中使用。還有，由于同樣的理由，本工序中，優(yōu)選的是，采用氧化還原電位為-2.0VvsNHE以上、-0.5VvsNHE以下的還原劑溶液將金屬離子或金屬鹽中的金屬離子還原。這里，對(duì)構(gòu)成聚合物層的聚合物中的金屬吸附部位與金屬離子或金屬鹽的關(guān)系進(jìn)行說(shuō)明。在聚合物的金屬吸附部位為具有負(fù)電荷的極性基團(tuán)，或者為羧基、磺酸基、或膦酸基等陰離子性的離子性基團(tuán)的情況中，使接枝聚合物膜選擇性地具有負(fù)電荷，因此，可以使具有正電荷的金屬離子吸附于其上，從而使所吸附的金屬離子還原，析出金屬單質(zhì)。此外，在聚合物的金屬吸附部位為日本特開平10-296895號(hào)公報(bào)中記載的銨基等陽(yáng)離子性基團(tuán)的離子性基團(tuán)的情況中，使接枝聚合物膜選擇性地具有正電荷，因此金屬離子不會(huì)以原有的形狀發(fā)生吸附。因此，需要利用金屬吸附部位的離子性基團(tuán)所產(chǎn)生的親水性，將分散有金屬鹽的分散液或者將溶解有金屬鹽的溶液滲入到聚合物層中，通過(guò)使?jié)B入到聚合物層中的溶液中的金屬離子或金屬鹽中的金屬離子還原，析出金屬單質(zhì)。通過(guò)以上方法，通過(guò)析出金屬單質(zhì)(金屬顆粒)，形成了含有金屬微粒的膜。含有金屬微粒的膜中是否存在析出的金屬單質(zhì)(金屬顆粒)，通過(guò)觀察其表面的金屬光澤，即使目視也能夠確認(rèn)，然而，采用透射型電子顯微鏡或AFM(原子力顯微鏡)對(duì)其表面進(jìn)行觀察，可以確認(rèn)其結(jié)構(gòu)(形態(tài))。此外，采用通常的方法(例如，用電子顯微鏡觀察其剖面等的方法)可以很容易地測(cè)定金屬圖案的膜厚。這樣，通過(guò)采用上述的顯微鏡觀察金屬單質(zhì)析出后的狀態(tài)，可以確認(rèn)聚合物層中密集地分散有金屬顆粒。通過(guò)上述方法所形成的含有金屬顆粒的膜，其吸光性隨著所含有的金屬顆粒的粒徑、形狀及金屬種類的不同而變化。因此，通過(guò)控制所含有的金屬顆粒的粒徑、形狀及金屬種類，即可使該含有金屬顆粒的膜具有對(duì)于所期望的光的遮光性。關(guān)于金屬顆粒(金屬納米顆粒)與光吸收的關(guān)系，例如，在J.Phys.Chem.B.,103，1999,3073;J.Phys.Chem.B.,103，1999,8410;Opt.Lett.,30,2005，2158等中有記載，該關(guān)系也適用于本發(fā)明。如上所述，在(c)工序中析出金屬顆粒，但是在使用上述的還原劑使金屬顆粒析出時(shí)，由于合用的堿金屬鹽的作用，在構(gòu)成聚合物層的聚合物中形成了1價(jià)金屬鹽結(jié)構(gòu)(堿金屬鹽)。在下述的(d)工序中對(duì)該1價(jià)金屬鹽結(jié)構(gòu)進(jìn)行處理。(d)工序在本工序中，在通過(guò)上述的(c)工序使金屬顆粒析出之后，對(duì)構(gòu)成聚合物層的聚合物中的1價(jià)金屬鹽結(jié)構(gòu)，采用選自多價(jià)金屬交聯(lián)處理、化學(xué)修飾、及酸處理中的一種方式實(shí)施處理。通過(guò)實(shí)施該(d)工序所進(jìn)行的各種處理，使構(gòu)成聚合物層的聚合物中的1價(jià)金屬鹽結(jié)構(gòu)發(fā)生改變，從而提高聚合物層的硬度。在本發(fā)明中，該(d)工序優(yōu)選為以下的(dl)(d6)實(shí)施方式中的任意一種。(dl)實(shí)施方式為實(shí)施多價(jià)金屬交聯(lián)處理的工序，其中，采用多價(jià)金屬鹽，與構(gòu)成聚合物層的聚合物中的1價(jià)金屬鹽結(jié)構(gòu)發(fā)生交換反應(yīng)，從而通過(guò)多價(jià)金屬形成交聯(lián)結(jié)構(gòu)；(d2)實(shí)施方式為實(shí)施化學(xué)修飾的工序，其中，采用伯醇或仲醇以及催化劑，使構(gòu)成聚合物層的聚合物中的1價(jià)金屬鹽結(jié)構(gòu)發(fā)生酯化反應(yīng)，從而進(jìn)行化學(xué)修飾；(d3)實(shí)施方式為實(shí)施化學(xué)修飾的工序，其中，采用伯胺或仲胺以及催化劑，使構(gòu)成聚合物層的聚合物中的1價(jià)金屬鹽結(jié)構(gòu)發(fā)生酰胺化反應(yīng)，從而進(jìn)行化學(xué)修飾；(d4)實(shí)施方式為實(shí)施化學(xué)修飾的工序，其中，采用多元的伯醇或仲醇與催化劑，使構(gòu)成聚合物層的聚合物中的1價(jià)金屬鹽結(jié)構(gòu)發(fā)生酯化反應(yīng)及交聯(lián)反應(yīng)，從而進(jìn)行化學(xué)修飾；(d5)實(shí)施方式為實(shí)施化學(xué)修飾的工序，其中，采用多元的伯胺或仲胺與催化劑，使構(gòu)成聚合物層的聚合物中的1價(jià)金屬鹽結(jié)構(gòu)發(fā)生酰胺化反應(yīng)及交聯(lián)反應(yīng)，從而進(jìn)行化學(xué)修飾；(d6)實(shí)施方式為實(shí)施酸處理的工序，其中，將構(gòu)成聚合物層的聚合物中的1價(jià)金屬鹽結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)變?yōu)樗?。以下，?duì)(dl)(d6)實(shí)施方式進(jìn)行詳細(xì)說(shuō)明。在(dl)的實(shí)施方式中，對(duì)構(gòu)成聚合物層的聚合物中的1價(jià)金屬鹽結(jié)構(gòu)實(shí)施多價(jià)金屬交聯(lián)處理，通過(guò)多價(jià)金屬形成交聯(lián)結(jié)構(gòu)。采用多價(jià)金屬鹽，使構(gòu)成聚合物層的聚合物中的1價(jià)金屬鹽結(jié)構(gòu)發(fā)生交換反應(yīng)，從而通過(guò)多價(jià)金屬形成交聯(lián)結(jié)構(gòu)，由此能夠提高聚合物層的硬度。這里，作為所采用的多價(jià)金屬鹽，只要是2價(jià)以上的金屬的鹽，均可以使用。此外，雖然幾乎不存在由于金屬種類的價(jià)數(shù)不同而造成的效果的差異，但是從金屬種類本身的危險(xiǎn)性、使用的普遍性的角度考慮，優(yōu)選Ca、Zn、Cu、Fe、Al、Mg、Ni、Ba、Mn、Co等，特別優(yōu)選Ca、Al、Zn、Fe、Mn。此外，對(duì)于與上述的金屬種類形成鹽的共軛酸的種類也沒有特別的限制，但是在水中進(jìn)行溶解時(shí)，優(yōu)選該鹽能夠高效地進(jìn)行解離，因此，該鹽優(yōu)選為鹽酸鹽、硝酸鹽、硫酸鹽等。此外，優(yōu)選這樣的共軛酸的種類，該共軛酸與通過(guò)上述的(b)工序及(c)工序所形成的金屬顆粒之間不形成不溶性鹽或難溶性鹽。例如，在聚合物層中形成有銀顆粒的情況下，該鹽優(yōu)選為除了多價(jià)金屬氯化物以外的化合物。還有，在使用這些多價(jià)金屬鹽的溶液進(jìn)行交換反應(yīng)的情況下，相對(duì)于聚合物層中的1價(jià)金屬鹽結(jié)構(gòu)的量，多價(jià)金屬鹽的量為1當(dāng)量以上時(shí)就能夠得到本發(fā)明的效果，但是為了提高交換反應(yīng)的添加率，優(yōu)選使用過(guò)量的多價(jià)金屬鹽。所使用的多價(jià)金屬鹽的當(dāng)量數(shù)雖然根據(jù)溶液的濃度不同而不同，但是優(yōu)選為10當(dāng)量1，000當(dāng)量。在(d2)的實(shí)施方式中，對(duì)構(gòu)成聚合物層的聚合物中的1價(jià)金屬鹽結(jié)構(gòu)，通過(guò)使之發(fā)生酯化反應(yīng)而實(shí)施化學(xué)修飾。通過(guò)將構(gòu)成聚合物層的聚合物中的1價(jià)金屬鹽結(jié)構(gòu)進(jìn)行酯化反應(yīng)，能夠提高聚合物層的硬度。作為這里所采用的伯醇或仲醇，只要是伯醇或仲醇的話，可以使用以往公知的一般的醇。另外，酯化反應(yīng)的效果雖然根據(jù)醇的結(jié)構(gòu)或由該結(jié)構(gòu)引起的反應(yīng)率的不同而多少有些差異，但不會(huì)產(chǎn)生較大的差異。其中，從效果的大小、基質(zhì)的危險(xiǎn)性、使用的普遍性的角度考慮，優(yōu)選使用甲醇、乙醇、丁醇、2-丙醇、1,4-丁二醇、1,6-己二醇等。此外，作為酯化反應(yīng)中所使用的催化劑，只要是酯化反應(yīng)中所使用的一般的催化劑的話，均可以使用，但是由于該反應(yīng)是固相反應(yīng)，因此，優(yōu)選活性高的催化劑。其中，用于合成肽類的試劑是優(yōu)選的，具體地說(shuō)，優(yōu)選鹽酸l-乙基-3-(3-二甲基氨基丙基)碳二亞胺、二異丙基碳二亞胺、1-羥基苯并三唑/二環(huán)己基碳二亞胺等。在(d4)的實(shí)施方式中，對(duì)構(gòu)成聚合物層的聚合物中的1價(jià)金屬鹽結(jié)構(gòu)，通過(guò)使之發(fā)生酯化反應(yīng)及交聯(lián)反應(yīng)而實(shí)施化學(xué)修飾。通過(guò)將構(gòu)成聚合物層的聚合物中的1價(jià)金屬鹽結(jié)構(gòu)進(jìn)行酯化反應(yīng)并同時(shí)形成交聯(lián)結(jié)構(gòu)，能夠提高聚合物層的硬度。作為這里所采用的多元的伯醇或仲醇，可以使用以往公知的一般的多元醇，但是，從酯化反應(yīng)及交聯(lián)反應(yīng)的效果的大小、基質(zhì)的危險(xiǎn)性、使用的普遍性的角度考慮，優(yōu)選使用1，4-丁二醇、1,6-己二醇等。此外，作為本實(shí)施方式中所使用的催化劑，可以使用與上述(d2)的實(shí)施方式中所用的催化劑相同的催化劑。在(d3)的實(shí)施方式中，對(duì)構(gòu)成聚合物層的聚合物中的1價(jià)金屬鹽結(jié)構(gòu)，通過(guò)使之發(fā)生酰胺化反應(yīng)而實(shí)施化學(xué)修飾。通過(guò)使構(gòu)成聚合物層的聚合物中的1價(jià)金屬鹽結(jié)構(gòu)發(fā)生酰胺化反應(yīng)，能夠提高聚合物層的硬度。作為這里所采用的伯胺或仲胺，只要是伯胺或仲胺的話，可以使用以往公知的一般的胺。另外，雖然酰胺化反應(yīng)的效果根據(jù)胺的結(jié)構(gòu)或由該結(jié)構(gòu)引起的反應(yīng)率的不同而多少有些差異，但不會(huì)產(chǎn)生較大的差異。從效果的大小、基質(zhì)的危險(xiǎn)性、使用的普遍性的角度考慮，優(yōu)選使用乙胺、丁胺、異丙胺、1,4-丁二胺、1,6-己二胺等。此外，作為酰胺化反應(yīng)中所使用的催化劑，可以使用與上述(d2)的實(shí)施方式中所用的催化劑相同的催化劑。在(d5)的實(shí)施方式中，對(duì)構(gòu)成聚合物層的聚合物中的1價(jià)金屬鹽結(jié)構(gòu)，通過(guò)使之發(fā)生酰胺化反應(yīng)及交聯(lián)反應(yīng)，而實(shí)施化學(xué)修飾。通過(guò)使構(gòu)成聚合物層的聚合物中的1價(jià)金屬鹽結(jié)構(gòu)發(fā)生酰胺化反應(yīng)并同時(shí)形成交聯(lián)結(jié)構(gòu)，能夠提高聚合物層的硬度。作為這里所采用的多元的伯胺或仲胺，可以使用以往公知的一般的多元胺，但是，從酰胺化反應(yīng)及交聯(lián)反應(yīng)的效果的大小、基質(zhì)的危險(xiǎn)性、使用的普遍性的角度考慮，優(yōu)選使用1,4-丁二胺、1,6-己二胺等。此外，作為本實(shí)施方式中所使用的催化劑，可以使用與上述(d2)的實(shí)施方式中所用的催化劑相同的催化劑。在(d6)的實(shí)施方式中，對(duì)構(gòu)成聚合物層的聚合物中的1價(jià)金屬鹽結(jié)構(gòu)實(shí)施酸處理。通過(guò)實(shí)施該酸處理，構(gòu)成聚合物層的聚合物中的1價(jià)金屬鹽結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)變?yōu)樗幔浣Y(jié)果是，聚合物層的硬度得到提高。作為在該酸處理中所采用的酸，可以使用以往公知的一般的酸。但是，如果是強(qiáng)酸的話，該酸對(duì)除了構(gòu)成聚合物層的聚合物中的1價(jià)金屬鹽結(jié)構(gòu)以外的其它結(jié)構(gòu)有可能造成影響，因此優(yōu)選使用水溶液的pH在25左右的酸。另外，雖然將所述鹽結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)變?yōu)樗岬男Ч麑?duì)于任何的酸來(lái)說(shuō)均相同，但是從危險(xiǎn)性、使用的普遍性等的角度考慮，優(yōu)選使用稀鹽酸、乙酸等。這里，關(guān)于這些酸的用量，相對(duì)于聚合物層中的1價(jià)金屬鹽結(jié)構(gòu)，如該用量為1當(dāng)量以上的話就沒有問(wèn)題，但是從離子交換效率的角度考慮，優(yōu)選使用過(guò)量的酸，相對(duì)于聚合物層中的1價(jià)金屬鹽結(jié)構(gòu)，優(yōu)選使用10當(dāng)量以上的酸。如上所述，在(d)工序中，通過(guò)上述的處理，使對(duì)聚合物層的表面硬度有影響的聚合物中的1價(jià)金屬鹽結(jié)構(gòu)發(fā)生了各種末端結(jié)構(gòu)變換，從而能夠提高聚合物層的硬度。在本發(fā)明中，對(duì)于上述(dl)(d6)的實(shí)施方式，從工序的簡(jiǎn)便性、所用基質(zhì)的使用的普遍性、安全性、環(huán)境負(fù)荷、成本等角度考慮，優(yōu)選(dl)、(d2)、(d3)、(d5)的實(shí)施方式，特別優(yōu)選(dl)及(d5)的實(shí)施方式。另外，本工序中進(jìn)行的各種處理，由于并沒有對(duì)在上述(c)工序中析出的金屬顆粒造成影響，所以在(d)工序的前后，遮光性能沒有變化。通過(guò)以上的方法所得到的遮光部件具有，在聚合物層的內(nèi)部和上部中含有金屬顆粒而形成的"含有金屬顆粒的膜"，因此該遮光部件與金屬顆粒的粘附性優(yōu)異，并進(jìn)一步具有優(yōu)異的耐光牢度、遮光性。此外，通過(guò)上述的(d)工序，提高了聚合物層的硬度，因此形成有該聚合物層的面的表面硬度提高，即使不設(shè)置保護(hù)層，該遮光部件也能夠用于制品的最外層包裝。此處，在上述的(a)工序中，如果在基材的表面上全面地形成聚合物層，那么也會(huì)全面地形成含有微粒的膜。此外，如果在基材的所期望的區(qū)域中形成聚合物層，那么也會(huì)相對(duì)應(yīng)地在該區(qū)域中形成含有微粒的膜。由此，根據(jù)本發(fā)明的遮光部件的制作方法，能夠任意地形成遮光部的形狀，從而拓寬了所得到的遮光部件的用途范圍。電鍍處理在本發(fā)明中，可以對(duì)聚合物層的內(nèi)部和上部中所含有的金屬顆粒實(shí)施電鍍處理。在對(duì)于特定波長(zhǎng)的光的遮光性不足時(shí)，通過(guò)實(shí)施電鍍處理，可以補(bǔ)足該遮光性。例如，在聚合物層的厚度顯著地受到限制的情況中(20nm以下等)，如果僅依靠層中所吸附的金屬顆粒，遮光性能就會(huì)不充分，因此，優(yōu)選進(jìn)行電鍍處理。該電鍍處理對(duì)于不需要透過(guò)可見光的部件(例如光掩模等)有效。作為本發(fā)明中的電鍍處理，可以采用無(wú)電解電鍍處理。作為該無(wú)電解電鍍處理，對(duì)于進(jìn)行電鍍的金屬種類沒有特別的限定，此外，關(guān)于無(wú)電解電鍍處理液的種類，可以使用含有市售的無(wú)電解電鍍液的溶液，只要是含有包括金屬源、還原劑、穩(wěn)定劑、pH調(diào)節(jié)劑等要素的溶液即可。從電鍍液的選擇范圍的寬度、普遍適用性的角度考慮，金屬種類優(yōu)選為Ag、Cu。遮光部件的應(yīng)用通過(guò)上述方法所得到的遮光部件(本發(fā)明的遮光部件)可以用于需要遮光性的各種用途中。例如，本發(fā)明的遮光部件在具有可吸收紫外線的含有金屬顆粒的膜時(shí)，可以用作紫外線吸收膜(本發(fā)明的紫外線吸收膜波長(zhǎng)為400nm以下的紫外光的透光率為1%以下的紫外線吸收膜)。此外，本發(fā)明的遮光部件在具有可吸收紅外線的含有金屬顆粒的膜時(shí)，可以用作紅外線吸收膜(本發(fā)明的紅外線吸收膜波長(zhǎng)為800nm以上的光的透光率為10%以下的紅外線吸收膜)。此外，本發(fā)明的遮光部件只在所期望的區(qū)域中具有含有金屬顆粒的膜時(shí)，利用存在有該含有金屬顆粒的膜的區(qū)域(遮光部)和不存在有該含有金屬顆粒的膜的區(qū)域，本發(fā)明的遮光部件可以用作光掩模(本發(fā)明的光掩模其為對(duì)于所使用的曝光機(jī)的曝光波長(zhǎng)，圖案部分(遮光部)的透光率為0.1%以下的光掩模)或電磁波屏蔽膜(本發(fā)明的電磁波屏蔽膜其為對(duì)于頻率在30MHz以上的電波，屏蔽率為90%以上的電磁波屏蔽膜)。除此之外，也可以用作著色材料，或者用于利用金屬顆粒的耐久性的濾色器等。此外，本發(fā)明中的透光率可以采用UV-VIS-NIRSPECTROPHOTOMETERUV-3600(SHIMADZU株式會(huì)社制造)來(lái)測(cè)定。另外，作為本發(fā)明中電波屏蔽的一個(gè)例子，可以通過(guò)<formula>formulaseeoriginaldocumentpage47</formula>(trifieldmeter)(電磁波測(cè)定儀MAC公司制造)進(jìn)行測(cè)定。實(shí)施例以下，通過(guò)實(shí)施例對(duì)本發(fā)明進(jìn)行說(shuō)明，但本發(fā)明并不局限于這些實(shí)施例。合成例1:具有聚合引發(fā)部位及支承物結(jié)合部位的化合物(Q-Y)的示例化合物T1的合成將4-氰基-4'-羥基聯(lián)苯29.3g溶于N,N-二甲基乙酰胺75mL中，并向其中添加碳酸鉀22.8g。升溫到8(TC，滴加ll-溴-l-十一烯38.8g，全部滴加完畢之后，升溫到10(TC，反應(yīng)3小時(shí)。然后，向反應(yīng)液中加入蒸餾水250mL，過(guò)濾出所析出的固體，用乙腈重結(jié)晶后，得到黃白色固體。將該黃白色固體20.0g溶解于三氯乙腈150mL中，并向其中添加溴化鋁1.54g。向其中通入氯化氫氣體進(jìn)行鼓泡(bubbling)4小時(shí)，再靜置4小時(shí)。減壓除去溶劑，用乙酸乙酯萃取，通過(guò)硅膠柱(silicagelcolumn)純化，得到黃色固體。將該黃色固體10.0g溶解于THF20mL中，采用冰浴將其冷卻至0°C，再向其中添加六水合六氯鉑酸(hexachloroplatinumhexahydrate)l.Omg、三氯硅烷30mL。在室溫下攪拌12小時(shí)。然后，減壓除去溶劑，得到黃色固體(具有聚合引發(fā)部位及支承物結(jié)合部位的化合物(Q-Y))的示例化合物T1(下述結(jié)構(gòu))。<formula>formulaseeoriginaldocumentpage47</formula>合成例2:具有聚合引發(fā)部位及支承物結(jié)合部位的化合物(Q-Y)的示例化合物T2的合成將N-[4-[4，6-雙(三氯甲基)-l，3，5-三嗪-2-基]苯基]-4-羥基苯甲酰胺(富士ァィル厶制造)40.Og溶解于200mL的THF中，并向其中添加三乙基胺15.8mL和吡啶0.60mL，采用冰浴冷卻到0'C。再向其中滴加無(wú)水甲基丙烯酸12.3g，在室溫下攪拌12小時(shí)。然后，減壓除去溶劑，得到油狀物。將該油狀物采用己烷進(jìn)行析晶，并用乙腈清洗，得到黃色固體。然后，將該黃色固體8g溶解于N,N-二甲基乙酰胺67.4mL中，并向其中添加甲基丙烯酸縮水甘油酯l.91g、甲基丙烯酸芐酯7.12g、及116mg的AIBN，在7(TC下反應(yīng)6小時(shí)。然后，向反應(yīng)液中加入50mL的THF，通過(guò)用正己垸進(jìn)行再沉淀，得到具有聚合引發(fā)部位及支承物結(jié)合部位的化合物(Q-Y)的示例化合物T2(下述結(jié)構(gòu))。T2合成例3:親水性聚合物Pl的合成將聚丙烯酸(平均分子量25,000)30g溶解于N,N-二甲基乙酰胺200mL中，并向其中添加2-乙基-4-乙基咪唑0.9g、二叔戊基氫醌(ditertiarypentylhydroquinone)50mg、下述結(jié)構(gòu)的單體A27g，通入氮?dú)饬?，在IO(TC下反應(yīng)5小時(shí)。然后，取出50g該反應(yīng)液，在冰浴中向反應(yīng)液中加入4N的NaOH11.6mL，采用乙酸乙酯進(jìn)行再沉淀，過(guò)濾后，進(jìn)行水洗、干燥，得到如下述結(jié)構(gòu)的親水性聚合物P1。單體A親水性聚合物PI合成例4:親水性聚合物P2的合成將聚丙烯酸(平均分子量25,000)18g溶解于N,N-二甲基乙酰胺300mL中，并向其中添加對(duì)苯二酚0.41g、異氰酸2-甲基丙烯酰氧基乙酯3.53g和二丁基二月桂酸錫0.25g,通入氮?dú)饬?，?5'C下反應(yīng)4小時(shí)。然后，向反應(yīng)液中添加1N的氫氧化鈉水溶液以中和羧基，采用乙酸乙酯進(jìn)行再沉淀，過(guò)濾后進(jìn)行水洗、干燥，得到如下述結(jié)構(gòu)的親水性聚合物P2。親水性聚合物P2合成例5:單體B的合成將2,2-二(羥甲基)丙酸(東京化成株式會(huì)社制造)10.2g溶解于200mL的THF中，并向其中添加三乙胺31.6mL及吡啶1.20mL,采用冰浴冷卻到0°C。然后，向其中滴加甲基丙烯酸酐24.6g，室溫下攪拌12小時(shí)。然后，減壓除去溶劑，將所得到的油狀物采用硅膠柱進(jìn)行純化，得到如下述結(jié)構(gòu)的單體B14.3g。<formula>formulaseeoriginaldocumentpage50</formula>單體B實(shí)施例1基材的制作將玻璃基板(日本板硝子株式會(huì)社制造)用紫外線臭氧清潔機(jī)(UV42型、日本^—平一電子株式會(huì)社制造)進(jìn)行5分鐘的紫外線臭氧處理。然后，將上述示例化合物Tl溶于甲乙酮中而形成的1質(zhì)量%的溶液旋涂在上述基板表面上。旋涂機(jī)首先以300rpm的速度旋轉(zhuǎn)5秒，然后以750rpm的速度旋轉(zhuǎn)20秒。旋涂后，將該玻璃基板在IO(TC下加熱IO分鐘，并用甲乙酮洗凈其表面，用氣槍(airgun)干燥。將結(jié)合有示例化合物T1的玻璃基板作為基材Al。聚合物層的形成將通過(guò)上述的方法所合成的親水性聚合物PI0.5g溶解于由蒸餾水4.2mL、N,N-二甲基乙酰胺0.05mL、乙腈1.5mL、碳酸氫鈉0.3g所形成的混合溶液中，配制成涂覆液。將該涂覆液旋涂在基材Al的結(jié)合有示例化合物Tl的表面上。旋涂機(jī)首先以300rpm的速度旋轉(zhuǎn)5秒，然后以750rpm的速度旋轉(zhuǎn)20秒。之后，將該基板在8(TC下干燥5分鐘。將通過(guò)上述步驟而得到的形成有接枝聚合物前體層的玻璃基板作為基材A2。曝光采用曝光機(jī)(UVX-02516S1LP01、夕^才電機(jī)株式會(huì)社制造)，將具有接枝聚合物前體層的基材A2進(jìn)行曝光1分鐘。曝光后，將其在1質(zhì)量％的碳酸鈉水溶液中浸漬l分鐘以進(jìn)行顯影，并用氣槍干燥。通過(guò)以上步驟，得到在基材表面上以圖案狀結(jié)合有聚合物的基材A3。金屬離子的吸附將所得到的基材A3在10質(zhì)量％的硝酸銀水溶液中浸漬l分鐘，然后用水洗凈，并用氣槍干燥。金屬離子的還原接下來(lái)，將基材A3在具有下述組成的甲醛水溶液(PH=13.0)中浸漬1分鐘，將銀離子還原以析出金屬顆粒。然后，將基材A3用水洗凈，并用氣槍干燥。通過(guò)以上方法，得到具有由聚合物層和含有金屬顆粒的膜所構(gòu)成的遮光層的基材A4。甲醛水溶液的組成tKlOOmL-氫氧化鈉1.4g'甲醛1.5g對(duì)于析出有金屬顆粒的表面，采用原子力顯微鏡(NanopixlOOO:ir吖〕一一乂，株式會(huì)社制造)進(jìn)行觀察?？梢源_認(rèn)形成了膜厚為0.9pm(聚合物層+含有金屬顆粒的膜的厚度)的遮光層。此外，對(duì)于含有金屬顆粒的膜，采用日立高分辨率場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡(FESEM)S-4700(日立八<亍夕株式會(huì)社(HitachiHigh-TechnologiesCorporation)制造)進(jìn)行表面觀察(放大倍數(shù)50000倍)?？梢源_認(rèn)存在有體積平均粒徑為25nm的金屬顆粒。表面硬度的測(cè)定按照J(rèn)ISK5600-4(ISO15184(1998年))的方法進(jìn)行試驗(yàn)，以測(cè)定所得到的遮光層的表面的鉛筆硬度(pencilscratchhardness)。另夕卜，鉛筆使用的是三菱鉛筆株式會(huì)社(MitsubishipencilCo"Ltd.)制造的UNI。結(jié)果顯示，遮光層的表面的鉛筆硬度為F。用鹽酸進(jìn)行酸處理將通過(guò)上述方法得到的具有遮光層的基材A4，在0.01N鹽酸水溶液中浸漬l分鐘。然后，將基材A4用水洗凈，并用氣槍干燥。由此，得到具有經(jīng)過(guò)酸處理后的遮光層的基材A5。表面硬度的測(cè)定按照J(rèn)ISK5600-4(ISO15184(1998年))的方法進(jìn)行試驗(yàn)，以測(cè)定具有經(jīng)過(guò)酸處理后的遮光層的基材A5中遮光層側(cè)的表面的鉛筆硬度。另外，鉛筆使用的是三菱鉛筆株式會(huì)社制造的UNI。結(jié)果顯示，該遮光層的表面的鉛筆硬度為3H。關(guān)于根據(jù)如上所述的方法所制備的遮光部件的遮光性，采用UV-VIS-NIRSPECTROPHOTOMETERUV-3600(SHIMADZU株式會(huì)社制造)進(jìn)行測(cè)定，可以確認(rèn)該遮光部件對(duì)于波長(zhǎng)365nm的光的吸光度在3以上，并且對(duì)波長(zhǎng)在250nm900nm范圍內(nèi)的光有吸收。此外，由于該遮光部件對(duì)于波長(zhǎng)800nm以上的光有吸收，因此，可以知道，當(dāng)在基板的整個(gè)表面上形成該遮光層時(shí)，所述遮光部件可以用作紅外線吸收膜。此外，當(dāng)該遮光層在基板上形成精細(xì)網(wǎng)柵圖案時(shí)，該遮光部件可以用作電磁波屏蔽膜。另一方面，所制備的遮光部件對(duì)365nm的光的透光率為0.05%，在紫外區(qū)顯示出強(qiáng)吸收。因此，可知該遮光部件也可以用作紫外線吸收膜。實(shí)施例2如下所示，對(duì)實(shí)施例1中得到的具有遮光層的基材A4進(jìn)行酯化反應(yīng)，以實(shí)施化學(xué)修飾。通過(guò)酯化反應(yīng)進(jìn)行的化學(xué)修飾將具有遮光層的基材A4在下述的酯化反應(yīng)溶液中浸漬15分鐘。然后，將基材A4用水洗凈，并用氣槍干燥。由此，得到具有經(jīng)過(guò)化學(xué)修飾的遮光層的基材A6。酯化反應(yīng)溶液的組成.水70g'乙醇30g-鹽酸l-乙基-3-(3-二甲基氨基丙基)碳二亞胺5g表面硬度的測(cè)定按照J(rèn)ISK5600-4(ISO15184(1998年))的方法進(jìn)行試驗(yàn)，以測(cè)定具有經(jīng)過(guò)化學(xué)修飾的遮光層的基材A6中遮光層側(cè)的表面的鉛筆硬度。另外，鉛筆使用的是三菱鉛筆株式會(huì)社制造的UNI。結(jié)果顯示，遮光層的表面的鉛筆硬度為3H。實(shí)施例3如下所示，對(duì)實(shí)施例1中得到的具有遮光層的基材A4進(jìn)行酯化反應(yīng)及交聯(lián)反應(yīng)，以實(shí)施化學(xué)修飾。通過(guò)酯化反應(yīng)及交聯(lián)反應(yīng)進(jìn)行的化學(xué)修飾將具有遮光層的基材A4在下述的酯化反應(yīng)溶液中浸漬15分鐘。然后將基材A4用水洗凈，并用氣槍干燥。由此，得到具有經(jīng)過(guò)化學(xué)修飾的遮光層的基材A7。酯化反應(yīng)溶液的組成'水70g.1,6-己二醇30g'鹽酸l-乙基-3-(3-二甲基氨基丙基)碳二亞胺5g表面硬度的測(cè)定按照J(rèn)ISK5600-4(ISO15184(1998年))的方法進(jìn)行試驗(yàn)，以測(cè)定具有經(jīng)過(guò)化學(xué)修飾的遮光層的基材A7中遮光層側(cè)的表面的鉛筆硬度。另外，鉛筆使用的是三菱鉛筆株式會(huì)社制造的UNI。結(jié)果顯示，遮光層的表面的鉛筆硬度為3H。實(shí)施例4基材的制作將玻璃基板(日本板硝子株式會(huì)社制造)采用紫外線臭氧清潔機(jī)(NL-UV42型、日本^一平一電子株式會(huì)社制造)進(jìn)行5分鐘的紫外線臭氧處理。然后，將上述示例化合物T2溶于甲乙酮中而形成的1質(zhì)量％的溶液旋涂在上述玻璃基板上。旋涂機(jī)首先以300rpm的速度旋轉(zhuǎn)5秒，然后以750rpm的速度旋轉(zhuǎn)20秒。旋涂后，將玻璃基板在170。C下加熱1小時(shí)，用甲乙酮洗凈其表面，并用氣槍干燥。將結(jié)合有示例化合物T2的玻璃基板作為基材B1。聚合物層的形成將通過(guò)上述的方法所得到的親水性聚合物P20.5g溶解于由蒸餾水4.2mL、N,N-二甲基乙酰胺0.05mL、乙腈1.5mL、碳酸氫鈉0.3g形成的混合溶液中，再加入作為增敏劑的下述化合物Sl0.03g，配制成涂覆液。將該涂覆液旋涂在基材Bl的結(jié)合有示例化合物T2的表面上。旋涂機(jī)首先以300rpm的速度旋轉(zhuǎn)5秒，然后以750rpm的速度旋轉(zhuǎn)20秒。之后，將該基板在8CTC下干燥5分鐘。將通過(guò)上述的步驟所得到的形成有接枝聚合物前體層的玻璃基板作為基材B2?；衔颯l曝光將具有接枝聚合物前體層的基材B2，采用具有405nm的發(fā)射波長(zhǎng)的激光曝光機(jī)，按照預(yù)定的圖案以20mJ/cn^的強(qiáng)度進(jìn)行曝光。曝光后，將其在1質(zhì)量％的碳酸鈉水溶液中浸漬1分鐘以進(jìn)行顯影，并用氣槍干燥。通過(guò)以上步驟，得到在基材的表面上以圖案狀結(jié)合有聚合物的基材B3。金屬離子的吸附將所得到的基材B3在1質(zhì)量％的硝酸銀水溶液中浸漬l分鐘，然后用水洗凈，并用氣槍干燥。金屬離子的還原接下來(lái)，將基材B3在具有下述組成的二甲基胺硼烷水溶液(pH=12.1)中浸漬1分鐘，將銀離子還原以析出金屬顆粒。然后，將基材B3用水洗凈，并用氣槍干燥。通過(guò)以上步驟，得到具有由聚合物層和含有金屬顆粒的膜所構(gòu)成的遮光層的基材B4。二甲基胺硼烷水溶液的組成'水100mL'氫氧化鈉400mg'二甲基胺硼烷295mg對(duì)于析出有金屬顆粒的表面，采用原子力顯微鏡(Nan叩ixlOOO:ir^二一,/7小;^乂、乂株式會(huì)社制造)進(jìn)行觀察?？梢源_認(rèn)形成了L/S(細(xì)條/間隔)為1C^m/10nm、膜厚為0.9pm(聚合物層+含有金屬顆粒的膜的厚度)的圖案(遮光層)。此外，對(duì)于含有金屬顆粒的膜，采用日立高分辨率場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡(FESEM)S-4700(日立八<亍夕株式會(huì)社制造)進(jìn)行表面觀察(放大倍數(shù)50000倍)?？梢源_認(rèn)存在有體積平均粒徑為30nm的金屬顆粒。表面硬度的測(cè)定按照J(rèn)ISK5600-4(ISO15184(1998年))的方法進(jìn)行試驗(yàn)，以測(cè)定所得到的遮光層的表面的鉛筆硬度。另外，鉛筆使用的是三菱鉛筆株式會(huì)社制造的UNI。結(jié)果顯示，遮光層的表面的鉛筆硬度為F。通過(guò)酰胺化反應(yīng)進(jìn)行的化學(xué)修飾將通過(guò)上述方法得到的具有遮光層的基材B4在下述的酰胺化反應(yīng)溶液中浸漬15分鐘。然后，將基材B4用水洗凈，并用氣槍干燥。由此，得到具有經(jīng)過(guò)化學(xué)修飾的遮光層的基材B5。酰胺化反應(yīng)溶液的組成'水70g-70%乙胺溶液30g-鹽酸l-乙基-3-(3-二甲基氨基丙基)碳二亞胺5g表面硬度的測(cè)定按照J(rèn)ISK5600-4(ISO15184(1998年))的方法進(jìn)行試驗(yàn)，以測(cè)定具有經(jīng)過(guò)化學(xué)修飾的遮光層的基材B5中遮光層側(cè)的表面的鉛筆硬度。另外，鉛筆使用的是三菱鉛筆株式會(huì)社制造的UNI。結(jié)果顯示，遮光層的表面的鉛筆硬度為3H。關(guān)于根據(jù)如上所述的方法所制備的遮光部件的遮光性，采用UV陽(yáng)VIS-NIRSPECTROPHOTOMETERUV-3600(SHIMADZU社制造)進(jìn)行測(cè)定，可以確認(rèn)該遮光部件對(duì)于波長(zhǎng)365nm的光的吸光度在3以上，并對(duì)波長(zhǎng)250nm900nm范圍內(nèi)的光有吸收。因此，該具有微細(xì)圖案的遮光層的遮光部件可以用作光掩模。實(shí)施例5如下所示，對(duì)實(shí)施例4中所得到的具有遮光層的基材B4進(jìn)行酰胺化反應(yīng)及交聯(lián)反應(yīng)，以實(shí)施化學(xué)修飾。通過(guò)酰胺化反應(yīng)及交聯(lián)反應(yīng)進(jìn)行的化學(xué)修飾將具有遮光層的基材B4在下述的酰胺化反應(yīng)溶液中浸漬15分鐘。然后將基材B4用水洗凈，并用氣槍干燥。由此，得到具有經(jīng)過(guò)化學(xué)修飾的遮光層的基材B6。酰胺化反應(yīng)溶液的組成-水70g'l,6-己二胺20g'鹽酸l-乙基-3-(3-二甲基氨基丙基)碳二亞胺5g表面硬度的測(cè)定按照J(rèn)ISK5600-4(ISO15184(1998年))的方法進(jìn)行試驗(yàn)，以測(cè)定具有經(jīng)過(guò)化學(xué)修飾的遮光層的基材B6中遮光層側(cè)的表面的鉛筆硬度。另外，鉛筆使用的是三菱鉛筆株式會(huì)社制造的UNI。結(jié)果顯示，遮光層的表面的鉛筆硬度為4H。實(shí)施例6如下所示，用鋁對(duì)實(shí)施例4所得到的具有遮光層的基材B4進(jìn)行處理，以實(shí)施多價(jià)金屬交聯(lián)處理。使用鋁進(jìn)行的多價(jià)金屬交聯(lián)處理將具有遮光層的基材B4在5質(zhì)量％的硝酸鋁水溶液中浸漬1分鐘。然后將基材B4用水洗凈，并用氣槍干燥。由此，得到具有經(jīng)過(guò)多價(jià)金屬交聯(lián)處理的遮光層的基材B7。表面硬度的測(cè)定按照J(rèn)ISK5600-4(ISO15184(1998年))的方法進(jìn)行試驗(yàn)，以測(cè)定具有經(jīng)過(guò)多價(jià)金屬交聯(lián)處理的遮光層的基材B7中遮光層側(cè)的表面的鉛筆硬度。另外，鉛筆使用的是三菱鉛筆株式會(huì)社制造的UNI。結(jié)果顯示，遮光層的表面的鉛筆硬度為4H。實(shí)施例7基材的制作將玻璃基板(日本板硝子株式會(huì)社制造)采用紫外線臭氧清潔機(jī)(UV42、日本^一平一電子株式會(huì)社制造)進(jìn)行5分鐘的紫外線臭氧處理。然后，將下述示例化合物Tll溶于甲乙酮中而形成的IO質(zhì)量%的溶液旋涂在上述玻璃基板上。旋涂機(jī)首先以300rpm的速度旋轉(zhuǎn)5秒，然后以750rpm的速度旋轉(zhuǎn)20秒。旋涂后，將玻璃基板在80°C下加熱20分鐘，用甲乙酮洗滌其表面，并用氣槍干燥。將結(jié)合有示例化合物Tll的玻璃基板作為基材C1。聚合物層的形成將0.5g通過(guò)上述的方法所合成的親水性聚合物Pl溶解于6.1g的l-甲氧基-2-丙醇中，再添加0.03g增敏劑(上述化合物Sl)、0.03g作為光聚合引發(fā)劑的下述化合物S2、0.2g季戊四醇四丙烯酸酯，配制成涂覆液。將該涂覆液旋涂在基材Cl的結(jié)合有示例化合物Tll的表面上。旋涂機(jī)首先以300rpm的速度旋轉(zhuǎn)5秒，然后以750rpm的速度旋轉(zhuǎn)20秒。之后，將該基板在8(TC下干燥5分鐘。將通過(guò)上述的方法所得到的形成有接枝聚合物前體層的玻璃基板作為基材C2?；衔颯2將具有接枝聚合物前體層的基材C2，采用具有405nm的發(fā)射波長(zhǎng)的激光曝光機(jī)，按照規(guī)定的圖案以150mJ/cn^的光量進(jìn)行曝光。曝光后，將其在1質(zhì)量％的碳酸鈉水溶液中浸漬1分鐘以進(jìn)行顯影，并用氣槍干燥。通過(guò)以上步驟，得到在基材表面上以圖案狀結(jié)合有聚合物的基材C3。金屬離子的吸附將得到的基材C3在10質(zhì)量％的硝酸銀水溶液中浸漬1分鐘，然后用水洗滌，并用氣槍干燥。金屬離子的還原接下來(lái)，將基材C3在具有下述組成的甲醛水溶液(pH二13.0)中浸漬1分鐘，將銀離子還原以析出金屬顆粒。然后，將基材C3用水洗凈，并用氣槍干燥。通過(guò)以上方法，得到具有由聚合物層和含有金屬顆粒的膜所構(gòu)成的遮光層的基材C4。甲醛水溶液的組成-水100mL-氫氧化鈉1.4g'甲醛1.5g對(duì)于析出有金屬顆粒的表面，采用原子力顯微鏡(NanopixlOOO:七<-一^>7》乂>7株式會(huì)社制造)進(jìn)行觀察。可以確認(rèn)形成了L/S(細(xì)條/間隔)為10pm/10nm、膜厚為0.9pm(聚合物層+含有金屬顆粒的膜的厚度)的圖案(遮光層)。此外，對(duì)于含有金屬顆粒的膜，采用日立高分辨率場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡(FESEM)S-4700(日立"4于夕株式會(huì)社制造)進(jìn)行表面觀察(放大倍數(shù)50000倍)?？梢源_認(rèn)存在有體積平均粒徑為50nm的金屬顆粒。表面硬度的測(cè)定按照J(rèn)ISK5600-4(ISO15184(1998年))的方法進(jìn)行試驗(yàn)，以測(cè)定所得到的遮光層的表面的鉛筆硬度。另外，鉛筆使用的是三菱鉛筆株式會(huì)社制造的UNI。結(jié)果顯示，遮光層的表面鉛筆硬度為H。采用鈣進(jìn)行的多價(jià)金屬交聯(lián)處理將通過(guò)上述方法所得到的具有遮光層的基材C4在5質(zhì)量％的氯化鈣水溶液中浸漬1分鐘。然后將基材C4用水洗凈，并用氣槍干燥。由此，得到具有經(jīng)過(guò)多價(jià)金屬交聯(lián)處理的遮光層的基材C5。表面硬度的測(cè)定按照J(rèn)ISK5600-4(ISO15184(1998年))的方法進(jìn)行試驗(yàn)，以測(cè)定具有經(jīng)過(guò)多價(jià)金屬交聯(lián)處理的遮光層的基材C5中遮光層側(cè)的表面的鉛筆硬度。另外，鉛筆使用的是三菱鉛筆株式會(huì)社制造的UNI。結(jié)果顯示，遮光層的表面的鉛筆硬度為4H。關(guān)于根據(jù)如上所述的方法制備的遮光部件的遮光性，通過(guò)UV-VIS-NIRSPECTROPHOTOMETERUV-3600(SHIMADZU社制造)測(cè)定，可以確認(rèn)該遮光部件對(duì)于波長(zhǎng)365nm的光的吸光度在3以上，并且對(duì)波長(zhǎng)在250nm900nm范圍內(nèi)的光有吸收。如上得到的在紫外區(qū)顯示出強(qiáng)吸收的微細(xì)圖案可以用作光掩模。實(shí)施例8采用以下方法，采用鋅對(duì)實(shí)施例7中得到的具有遮光層的基材C4進(jìn)行處理，以實(shí)施多價(jià)金屬交聯(lián)處理。采用鋅進(jìn)行的多價(jià)金屬交聯(lián)處理將具有遮光層的基材C4在5質(zhì)量％的硫酸鋅水溶液中浸漬1分鐘。然后將基材C4用水洗凈，并用氣槍干燥。由此，得到具有經(jīng)過(guò)多價(jià)金屬交聯(lián)處理的遮光層的基材C6。表面硬度的測(cè)定按照J(rèn)ISK5600-4(ISO15184(1998年))的方法進(jìn)行試驗(yàn)，以測(cè)定具有經(jīng)過(guò)多價(jià)金屬交聯(lián)處理的遮光層的基材C6中遮光層側(cè)的表面的鉛筆硬度。另外，鉛筆使用的是三菱鉛筆株式會(huì)社制造的UNI。結(jié)果顯示，遮光層的表面的鉛筆硬度為4H。實(shí)施例9首先，作為實(shí)施例9中使用的基材D1，采用的是實(shí)施例7中使用的、結(jié)合有示例化合物Tll的玻璃基板(基材Cl)。聚合物層的形成將0.5g的通過(guò)上述的方法所合成的親水性聚合物Pl溶解于1-甲氧基-2-丙醇3.1g中，進(jìn)一步添加3.0g甲乙酮。然后，再添加增敏劑(上述化合物Sl)0.03g、光聚合引發(fā)劑(上述化合物S2)0.03g、1,3-二甲基丙烯酸甘油酯(和光純藥株式會(huì)社制造)0.25g，配制成涂覆液。將該涂覆液旋涂在基材D1的結(jié)合有示例化合物Tll的表面上。旋涂機(jī)首先以300rpm的速度旋轉(zhuǎn)5秒，然后以750rpm的速度旋轉(zhuǎn)20秒。之后，將該基板在8(TC下干燥5分鐘。將通過(guò)上述方法所得到的形成有接枝聚合物前體層的玻璃基板作為基材D2。曝光將具有接枝聚合物前體層的基材D2，采用具有405nm的發(fā)射波長(zhǎng)的激光曝光機(jī)，按照規(guī)定的圖案以100mJ/cr^的強(qiáng)度進(jìn)行曝光。曝光后，將其在1質(zhì)量％的碳酸鈉水溶液中浸漬1分鐘以進(jìn)行顯影，并用氣槍干燥。通過(guò)以上方法，得到在基材表面上以圖案狀結(jié)合有聚合物的基材D3。金屬離子的吸附將得到的基材D3在1質(zhì)量％的硝酸銀水溶液中浸漬2分鐘，然后用水洗滌，并用氣槍干燥。金屬離子的還原然后，將基材D3在具有下述組成的二甲基胺硼烷水溶液(pH=12.1)中浸漬1分鐘，將銀離子還原以析出金屬顆粒。然后，將基材D3用水洗凈，并用氣槍干燥。通過(guò)以上方法，得到具有由聚合物層和含有金屬顆粒的膜所構(gòu)成的遮光層的基材D4。二甲基胺硼烷水溶液的組成'水100mL-氫氧化鈉400mg-二甲基胺硼垸295mg對(duì)于析出有金屬顆粒的表面，采用原子力顯微鏡(NanopixlOOO:七<-一<>7株式會(huì)社制造)進(jìn)行觀察。可以確認(rèn)形成了L/S(細(xì)條/間隔)為10^im/10pm、膜厚為1.5pm(聚合物層+含有金屬顆粒的膜的厚度)的圖案(遮光層)。此外，對(duì)于含有金屬顆粒的膜，采用日立高分辨率場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡(FESEM)S-4700(日立"<亍夕社制造)進(jìn)行表面觀察(放大倍數(shù)50000倍)?？梢源_認(rèn)存在有體積平均粒徑為20nm的金屬顆粒。表面硬度的測(cè)定按照J(rèn)ISK5600-4(ISO15184(1998年))的方法進(jìn)行試驗(yàn)，以測(cè)定得到的遮光層的表面的鉛筆硬度。另外，鉛筆使用的是三菱鉛筆株式會(huì)社制造的UNI。結(jié)果顯示，遮光層的表面的鉛筆硬度為H。如下所示，采用鈣對(duì)所得到的基材D4進(jìn)行處理，以實(shí)施多價(jià)金屬交聯(lián)處理。采用鈣進(jìn)行的多價(jià)金屬交聯(lián)處理'將具有遮光層的基材D4在2質(zhì)量％的硝酸鈣水溶液中浸漬1分鐘。然后將基材D4用水洗凈，并用氣槍干燥。由此，得到具有經(jīng)過(guò)多價(jià)金屬交聯(lián)處理的遮光層的基材D5。表面硬度的測(cè)定按照J(rèn)ISK5600-4(ISO15184(1998年))的方法進(jìn)行試驗(yàn)，以測(cè)定具有經(jīng)過(guò)多價(jià)金屬交聯(lián)處理的遮光層的基材D5中遮光層側(cè)的表面的鉛筆硬度。另外，鉛筆使用的是三菱鉛筆株式會(huì)社制造的UNI。結(jié)果顯示，遮光層的表面的鉛筆硬度為4H。實(shí)施例10如下所示，對(duì)實(shí)施例9中得到的具有遮光層的基材D4進(jìn)行酰胺化反應(yīng)及交聯(lián)反應(yīng)，以實(shí)施化學(xué)修飾。通過(guò)酰胺化反應(yīng)及交聯(lián)反應(yīng)進(jìn)行的化學(xué)修飾將具有遮光層的基材D4在下述的酰胺化反應(yīng)溶液中浸漬15分鐘。然后將基材D4用水洗凈，并用氣槍干燥。由此，得到具有經(jīng)過(guò)化學(xué)修飾的遮光層的基材D6。酰胺化反應(yīng)溶液的組成.水75g'乙二胺鹽酸鹽15g-鹽酸l-乙基-3-(3-二甲基氨基丙基)碳二亞胺5g表面硬度的測(cè)定按照J(rèn)ISK5600-4(ISO15184(1998年))的方法進(jìn)行試驗(yàn)，以測(cè)定具有經(jīng)過(guò)化學(xué)修飾的遮光層的基材D6中遮光層側(cè)的表面的鉛筆硬度。另外，鉛筆使用的是三菱鉛筆株式會(huì)社制造的UNI。結(jié)果顯示，遮光層的表面的鉛筆硬度為4H。實(shí)施例11首先，作為實(shí)施例11中使用的基材El，采用的是實(shí)施例4中使用的、結(jié)合有示例化合物T2的玻璃基板(基材B1)。聚合物層的形成將0.5g的通過(guò)上述方法所合成的親水性聚合物Pl溶解于3.1g的l-甲氧基-2-丙醇中，進(jìn)一步添加3.0g甲乙酮。然后，再添加0.03g增敏劑(上述化合物Sl)、0.03g光聚合引發(fā)劑(上述化合物S2)、0.20g單體B(由上述合成例5所得到的化合物)，配制成涂覆液。將該涂覆液旋涂在基材El的結(jié)合有示例化合物T2的表面上。旋涂機(jī)首先以300rpm的速度旋轉(zhuǎn)5秒，然后以750rpm的速度旋轉(zhuǎn)20秒。之后，將該基板在8(TC下干燥5分鐘。將通過(guò)上述的方法所得到的形成有接枝聚合物前體層的玻璃基板作為基材E2。曝光將具有接枝聚合物前體層的基材E2，采用具有405nm的發(fā)射波長(zhǎng)的激光曝光機(jī)，按照規(guī)定的圖案以100mJ/cn^的光量進(jìn)行曝光。曝光后，將其在1質(zhì)量％的碳酸鈉水溶液中浸漬1分鐘以進(jìn)行顯影，并用氣槍干燥。通過(guò)以上方法，得到在基材表面上以圖案狀結(jié)合有聚合物的基材E3。金屬離子的吸附將得到的基材E3在2質(zhì)量。/。的硝酸銀水溶液中浸漬l分鐘，然后用水洗凈，并用氣槍干燥。金屬離子的還原接下來(lái)，將基材E3在具有下述組成的硼氫化鈉水溶液(pH二13.0)中浸漬1分鐘，將銀離子還原以析出金屬顆粒。然后將基材E3用水洗凈，并用氣槍干燥。通過(guò)以上方法，得到具有由聚合物層和含有金屬顆粒的膜構(gòu)成的遮光層的基材E4。硼氫化鈉水溶液的組成-水100mL'氫氧化鈉400mg*硼氫化鈉193mg對(duì)于析出有金屬顆粒的表面，采用原子力顯微鏡(NanopixlOOO:七^(guò)-一^^7》乂y，株式會(huì)社制造)進(jìn)行觀察。可以確認(rèn)形成了L/S(細(xì)條/間隔)為10|im/10|^m、膜厚為1.3^m(聚合物層+含有金屬顆粒的膜的厚度)的圖案(遮光層)。此外，對(duì)于含有金屬顆粒的膜，采用日立高分辨率場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡(FESEM)S-4700(日立八^于夕株式會(huì)社制造)進(jìn)行表面觀察(放大倍數(shù)50000倍)。可以確認(rèn)存在有體積平均粒徑為25nm的金屬顆粒。表面硬度的測(cè)定按照J(rèn)ISK5600隱4(ISO15184(1998年))的方法進(jìn)行試驗(yàn)，以測(cè)定得到的遮光層的表面的鉛筆硬度。另外，鉛筆使用的是三菱鉛筆株式會(huì)社制造的UNI。結(jié)果顯示，遮光層的表面的鉛筆硬度為F。如下所示，采用鋁對(duì)得所到的具有遮光層的基材E4進(jìn)行處理，以實(shí)施多價(jià)金屬交聯(lián)處理。采用鋁進(jìn)行的多價(jià)金屬交聯(lián)處理將具有遮光層的基材E4在2質(zhì)量％的硝酸鋁水溶液中浸漬1分鐘。然后將基材E4用水洗凈，并用氣槍干燥。由此，得到具有經(jīng)過(guò)多價(jià)金屬交聯(lián)處理的遮光層的基材E5。表面硬度的測(cè)定按照J(rèn)ISK5600-4(ISO15184(1998年))的方法進(jìn)行試驗(yàn)，以測(cè)定具有經(jīng)過(guò)多價(jià)金屬交聯(lián)處理的遮光層的基材E5中遮光層側(cè)的表面的鉛筆硬度。另外，鉛筆使用的是三菱鉛筆株式會(huì)社制造的UNI。結(jié)果顯示，遮光層的表面的鉛筆硬度為4H。實(shí)施例111中所得到的遮光部件中的表面硬度的變化記載于下表1中。[表1]<table>tableseeoriginaldocumentpage64</column></row><table>如上所示，可以看出，根據(jù)實(shí)施例111，與實(shí)施(d)工序之前相比，在實(shí)施(d)工序之后，形成有聚合物層(遮光層)的一側(cè)的表面硬度均得到提高。通過(guò)本發(fā)明的方法所得到的具有高的表面硬度的遮光部件，不用設(shè)置保護(hù)層，就可以用作制品的最外層包裝。6權(quán)利要求1.一種遮光部件的制作方法，具有以下工序(a)形成聚合物層的工序，其中在可通過(guò)曝光產(chǎn)生自由基的基材上，使具有可發(fā)生自由基聚合的不飽和部位及可吸附金屬離子或金屬鹽的部位的化合物與該基材接觸后，進(jìn)行曝光，生成直接結(jié)合在上述基材上的聚合物，由此形成聚合物層；(b)向該聚合物層中加入金屬離子或金屬鹽的工序；(c)將該金屬離子或金屬鹽中的金屬離子還原，析出金屬顆粒的工序；以及，(d)在該金屬顆粒析出之后，對(duì)構(gòu)成所述聚合物層的聚合物中的1價(jià)金屬鹽結(jié)構(gòu)，采用選自多價(jià)金屬交聯(lián)處理、化學(xué)修飾、及酸處理中的一種方式實(shí)施處理的工序。2.權(quán)利要求1所述的遮光部件的制作方法，其中所述(d)工序?yàn)閷?shí)施多價(jià)金屬交聯(lián)處理的工序，其中，采用多價(jià)金屬鹽，與構(gòu)成所述聚合物層的聚合物中的1價(jià)金屬鹽結(jié)構(gòu)發(fā)生交換反應(yīng)，從而通過(guò)多價(jià)金屬形成交聯(lián)結(jié)構(gòu)。3.權(quán)利要求2所述的遮光部件的制作方法，其中所述通過(guò)多價(jià)金屬形成的交聯(lián)結(jié)構(gòu)是采用選自Ca、Zn、Cu、Fe、Al、Mg、Ni、Ba、Mn、及Co中的一種以上的金屬而形成的。4.權(quán)利要求1所述的遮光部件的制作方法，其中所述(d)工序?yàn)閷?shí)施化學(xué)修飾的工序，其中，采用伯醇或仲醇及催化劑，使構(gòu)成所述聚合物層的聚合物中的1價(jià)金屬鹽結(jié)構(gòu)發(fā)生酯化反應(yīng)，從而進(jìn)行化學(xué)修飾。5.權(quán)利要求1所述的遮光部件的制作方法，其中所述(d)工序?yàn)閷?shí)施化學(xué)修飾的工序，其中，采用伯胺或仲胺及催化劑，使構(gòu)成所述聚合物層的聚合物中的1價(jià)金屬鹽結(jié)構(gòu)發(fā)生酰胺化反應(yīng)，從而進(jìn)行化學(xué)修飾。6.權(quán)利要求1所述的遮光部件的制作方法，其中所述(d)工序?yàn)閷?shí)施化學(xué)修飾的工序，其中，采用多元的伯醇或仲醇及催化劑，使構(gòu)成所述聚合物層的聚合物中的1價(jià)金屬鹽結(jié)構(gòu)發(fā)生酯化反應(yīng)及交聯(lián)反應(yīng)，從而進(jìn)行化學(xué)修飾。7.權(quán)利要求1所述的遮光部件的制作方法，其中所述(d)工序?yàn)閷?shí)施化學(xué)修飾的工序，其中，采用多元的伯胺或仲胺及催化劑，使構(gòu)成所述聚合物層的聚合物中的1價(jià)金屬鹽結(jié)構(gòu)發(fā)生酰胺化反應(yīng)及交聯(lián)反應(yīng)，從而進(jìn)行化學(xué)修飾。8.權(quán)利要求1所述的遮光部件的制作方法，其中上述(d)工序?yàn)閷?shí)施酸處理的工序，其中，將構(gòu)成所述聚合物層的聚合物中的1價(jià)金屬鹽結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)變成酸。9.權(quán)利要求8所述的遮光部件的制作方法，其中在所述酸處理中使用稀鹽酸或乙酸。10.權(quán)利要求1所述的遮光部件的制作方法，其中在所述的具有可發(fā)生自由基聚合的不飽和部位及可吸附金屬離子或金屬鹽的部位的化合物中，所述可吸附金屬離子或金屬鹽的部位為選自羧基、磷酸基、膦酸基、及磺酸基中的一種基團(tuán)。11.權(quán)利要求1所述的遮光部件的制作方法，其中在所述(a)工序中，使用多種所述的具有可發(fā)生自由基聚合的不飽和部位及可吸附金屬離子或金屬鹽的部位的化合物。12.—種遮光部件，其是采用權(quán)利要求1至權(quán)利要求11中任意一項(xiàng)所述的遮光部件的制作方法而得到的。13.—種使用了權(quán)利要求12所述的遮光部件的紫外線吸收膜。14.一種使用了權(quán)利要求12所述的遮光部件的紅外線吸收膜。15.—種使用了權(quán)利要求12所述的遮光部件的光掩模。16.—種使用了權(quán)利要求12所述的遮光部件的電磁波屏蔽膜。全文摘要本發(fā)明提供一種遮光部件及其制法、使用了該遮光部件的膜及光掩模，其中所述遮光部件具有與基材具有優(yōu)異的粘附性及耐光牢度的含有金屬顆粒的膜，該遮光部件具有優(yōu)異的表面硬度并且對(duì)各種波長(zhǎng)均具有優(yōu)異的遮光性。所述遮光部件的制作方法具有以下工序(a)形成直接結(jié)合在基材上的聚合物層的工序；(b)向該聚合物層中加入金屬離子或金屬鹽的工序；(c)將該金屬離子或金屬鹽中的金屬離子還原，析出金屬顆粒的工序；以及，(d)在該金屬顆粒析出之后，對(duì)構(gòu)成上述聚合物層的聚合物中的1價(jià)金屬鹽結(jié)構(gòu)，采用選自多價(jià)金屬交聯(lián)處理、化學(xué)修飾、及酸處理中的一種方式進(jìn)行處理的工序。本發(fā)明的方法能夠通過(guò)簡(jiǎn)便的工序來(lái)制作遮光部件。文檔編號(hào)G03F1/54GK101387714SQ20081021234公開日2009年3月18日申請(qǐng)日期2008年9月10日優(yōu)先權(quán)日2007年9月13日發(fā)明者松下泰明申請(qǐng)人:富士膠片株式會(huì)社