專利名稱：浸漬平版印刷用組合物和浸漬平版印刷方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及特別適用于浸漬平版印刷方法的新型光刻膠組合物。本發(fā)明優(yōu) 選的光刻膠組合物包括兩種或多種基本上不能與光刻膠的樹脂組分混合的材 料。本發(fā)明特別優(yōu)選的光刻膠能夠在浸漬平版印刷加工過程中顯示低的光刻膠 材料浸析到與光刻膠層接觸的浸液中的量。
背景技術(shù)：
光刻膠是用于將圖像轉(zhuǎn)移到基材上的光敏膜。在基材上形成光刻膠的涂 層，然后光刻膠層通過光掩模曝光于活化輻射的光源。光掩模具有對活化輻射 不透明的區(qū)域和對活化輻射透明的其它區(qū)域?；罨椛浔┕馐构饪棠z涂層產(chǎn)生 光誘導(dǎo)的化學(xué)轉(zhuǎn)變，因此將光掩模的圖案轉(zhuǎn)移到涂覆光刻膠的基材上。在曝光 之后，對光刻膠進(jìn)行顯影，得到可對基材進(jìn)行選擇性加工的浮雕圖像。
半導(dǎo)體工業(yè)的增長是符合莫爾定律的，該定律聲稱ic設(shè)備的復(fù)雜性平均 每兩年翻一番。這要求以平版印刷方式轉(zhuǎn)移具有更少特征尺寸的圖案和結(jié)構(gòu)。
獲得更小特征尺寸的一種途徑是使用較短波長的光，然而，尋找對低于
193nm的光表現(xiàn)透明的材料是困難的，因此通過簡單地使用一種液體將更多光 聚焦在膜上，開發(fā)了用浸漬平版印刷法提高透鏡數(shù)值孔徑的方法。浸漬平版印 刷法在成像設(shè)備(例如，KrF或ArF步進(jìn)器)的最外層表面與硅晶片或其它基材 的第一表面之間使用較高折射率的流體。
人們己經(jīng)進(jìn)行了某些努力以便克服與浸漬平版印刷術(shù)有關(guān)的問題。參見美 國專利申請出版物2006/0246373。浸漬平版印刷用的其它可靠的和方便的光刻 膠以及成像方法顯然是所需要的。
因此需要適用于浸漬照相平版印刷的新型材料和方法。

發(fā)明內(nèi)容
我們現(xiàn)在提供用于浸漬照相平版印刷的新組合物和方法。本發(fā)明優(yōu)選的光刻膠可包括
(i) 一種或多種樹脂，
(ii) 可適當(dāng)包括一種或多種光致酸產(chǎn)生劑(photoacid generator)化 合物的光活性組分，以及
(iii) 兩種或多種不同的材料，它們基本上不能與所述一種或多種樹脂混合。
附圖簡述


圖1描述了本發(fā)明較好光刻膠組合物層。
在這些光刻膠組合物中，優(yōu)選是化學(xué)增強正作用光刻膠 (chemically—amplified positive—acting resist)， 例如，所述樹月旨組分 包括一種或多種樹脂，所述樹脂包括光致酸不穩(wěn)定性基團，例如光致酸不穩(wěn)定 性酯或乙縮醛(acetal)基團。
所述光刻膠組合物的基本上不可混合的組分適當(dāng)包括至少兩種不同的材 料。這些不同的材料在本文中有時候指"頂部材料(top material)"和"中 間材料(intermediate material)"。優(yōu)選的頂部材料和中間材料是聚合物 (樹脂)，所述聚合物(樹脂)中至少一個聚合物重復(fù)單元適當(dāng)不同。
在較好的體系中，所述頂部材料和中間材料也可通過疏水性區(qū)分，特別是 所述頂部材料的疏水性高于所述中間材料時。因此，例如所述中間材料可包含 更多的極性基團(相對于所述頂部材料)，其中該極性基團可適當(dāng)包含一個或 多個雜原子(0、 N、 S)，如羥基、鹵代醇(如-CH(OH) (CF3)2)、羧基(-C00H)、 酯(-C (=0) 0R，其中R是C,-2。烷基)、磺基(-S(WO和醚。例如，所述頂 部材料和中間材料是相同的一般樹脂(general resin)，不同的是中間材料 的一個重復(fù)單元可包含鹵代醇(例如-CH (OH) (CF3) 2)取代基，而頂部材料 的相應(yīng)單元不含該鹵代醇取代基。
在其它較好的體系中，所述中間材料的疏水性也可不同于所述光刻膠組合 物的樹脂組分，特別是中間材料的疏水性高于樹脂組分時(同樣地，在化學(xué)增 強正作用光刻膠中，所述樹脂組分包括一種或多種具有光致酸不穩(wěn)定性基團的 樹脂)。因此，例如，所述一種或多種樹脂可包括更多的極性基團(相對所述 中間材料以及頂部材料而言)，例如酯或乙縮醛基團(它可以是光活性的)或其它極性基團(它可適當(dāng)包括一個或多個雜原子(0、 N、 S)，如羥基、卣代
醇(如-CH (OH) (CF3) 2)、羧基(-C00H)、磺基(-S03H)和醚)。
在該較好的光刻膠體系中，除了疏水性不同之外，所述頂部材料的表面能 較好大于所述中間材料的表面能。此外，較好的是所述中間材料的表面能大于 所述樹脂組分的表面能(同樣地，在化學(xué)增強正作用光刻膠中，所述樹脂組分 包括一種或多種具有光致酸不穩(wěn)定性基團的樹脂)。例如，所述頂部材料和中 間材料之間的表面能之差可至少約為5、 10、 15、 20或25達(dá)因/厘米。類似地， 所述中間材料和樹脂組分之間的表面能之差可至少約為5、 10、 15、 20或25 達(dá)因/厘米。
在該較好的體系中，通過疏水性和表面能之間的差異，所述光刻膠組合物 的旋涂層可具有分級構(gòu)造(graded configuration)，其中所述樹脂組分的大 部分(substantial portion)(同樣地，在化學(xué)增強正作用光刻膠中，所述 樹脂組分包括一種或多種具有光致酸不穩(wěn)定性基團的樹脂)可相對于所述中間 材料和頂部材料更接近下面的基材表面，并且所述中間材料的大部分可比所述 光刻膠組合物層中的頂部材料更接近下面的基材表面。本文中，頂部材料、中 間材料或樹脂組分的"大部分"表示所述材料或組分的至少30、 40、 50、 60 或70重量％，以所述光刻膠組合物中的所述材料或組分的總重量計。
在曝光步驟中在與浸液接觸的過程中，本發(fā)明的特別優(yōu)選的光刻膠能夠顯 示低的光刻膠組分向浸液遷移(浸析)的量。重要的是，無需在光刻膠之上施加 任何類型的覆蓋層或在光刻膠層和浸液之間施加阻隔層就可實現(xiàn)這種低量的 光刻膠材料向浸液遷移的效果。
我們已經(jīng)發(fā)現(xiàn)，酸和/或其它光刻膠材料從光刻膠層中向浸液層中不希望 有的遷移是特別有問題的。遷移到浸液中的酸或其它光刻膠材料至少會損害曝 光工具以及降低在光刻膠層中形成圖案的分辨率。因此，本發(fā)明的光刻膠構(gòu)成 了重要的進(jìn)步。
不受任何理論束縛，相信所述與一種或多種光刻膠樹脂基本上不能混合種 或多種材料遷移至所施涂的光刻膠涂層的上層區(qū)域，因此抑制了光刻膠材料從 光刻膠層向外遷移到在浸漬曝光步驟中與光刻膠層接觸的浸液中。
另外，通過使用多種不可混合的材料，可控制光刻膠組合物的多個平板印 刷性質(zhì)。例如，光刻膠組合物的頂部材料可提供最佳的水接觸角，從而在浸漬 平板印刷過程中促進(jìn)與保護涂層液體的相互作用。所述中間材料接著可用作主要阻擋物，以避免浸析。
一起使用兩種不同的材料(即頂部材料和中間材料) 也可提供對光刻膠組分不利地浸析入保護涂層浸液的更有效的控制。
在本文中，與所述一種或多種光刻膠樹脂基本上不可混合的材料包括被添 加到光刻膠中以后會導(dǎo)致光刻膠材料減少遷移或浸析到浸液中的這些材料。此 類基本上不可混合(non-raixable)的材料能夠通過相對于對照光刻膠進(jìn)行測 試而容易地依據(jù)經(jīng)驗加以確定，該對照光刻膠的組成與被測試光刻膠相同、但 與備選的基本上不可混合性材料不同。
用于本發(fā)明光刻膠的合適的基本上不可混合的材料包括包含硅和/或氟取 代基的組分。
用于本發(fā)明的光刻膠中的優(yōu)選的基本上不可混合性材料可以是顆粒形式。 此類顆?？梢园ㄒ噪x散顆粒形式所聚合而成的聚合物，即作為單獨和分離的 聚合物顆粒形式。此類聚合物顆粒典型地具有一種或多種與線性或梯形聚合物 (如線性或梯形硅聚合物)不同的特性。例如，此類聚合物顆粒可具有規(guī)定的 尺寸和低分子量分布。更具體地說，在優(yōu)選的方面，本發(fā)明光刻膠可使用許多 聚合物顆粒，這些顆粒具有從約5埃到3000埃，宜為約5埃到2000埃，較好 從約5埃到約1000埃，更好約IO埃到約500埃，最好10埃到50或200埃的 平均粒度(尺寸)。對于許多應(yīng)用，特別優(yōu)選的顆粒具有低于約200?；騃OO埃 的平均粒度。
用于本發(fā)明的光刻膠中的其它優(yōu)選的基本上不可混合性材料可具有Si含 量，其中包括硅倍半氧垸材料，有Si02基團的材料，等等。優(yōu)選的含硅的基本 上不可混合性材料也包括多面體低聚倍半硅氧烷。
優(yōu)選的是含有光致酸-不穩(wěn)定性基團(如光致酸-不穩(wěn)定性酯或乙縮醛基 團，包括本文所述的在化學(xué)增強的光刻膠的樹脂組分中使用的基團)的那些基 本上不可混合性材料。
用于本發(fā)明的光刻膠中的優(yōu)選的基本上不可混合性材料也將溶于用于配 制該光刻膠組合物的相同有機溶劑中。
用于本發(fā)明的光刻膠中的特別優(yōu)選的基本上不可混合性材料將具有比光
刻膠樹脂組分的一種或多種樹脂更低的表面能和/或更小的流體動力學(xué)體積。 較低的表面能能夠促進(jìn)所述基本上不可混合性材料隔離(segregation)或遷移
到所施涂的光刻膠涂層的頂部或上部。另外，相對較小的流體動力學(xué)體積也是 優(yōu)選的，因為它能夠促進(jìn)一種或多種基本上不可混合性材料有效遷移(較高擴散系數(shù))到所施涂的光刻膠涂層的上層區(qū)域中。
用于本發(fā)明的光刻膠中的優(yōu)選的基本上不可混合的材料也可溶于光刻膠 顯影劑組合物(例如0.26N堿水溶液)。因此，除了如以上所討論的光致酸-不 穩(wěn)定性基團之外，其它的水性堿-增溶基團(如羥基，氟醇，羧基等)也可包 括在所述基本上不可混合的材料中。
本發(fā)明的平版印刷系統(tǒng)的優(yōu)選的成像波長包括亞400 rnn(如I-線(365 nm))，亞300 nm波長(例如248 nm)，和亞200 nm波長(例如193 nm)。除了 一種或多種基本上不可混合性材料之外，本發(fā)明特別優(yōu)選的光刻膠可含有光活 性組分(例如一種或多種光致酸產(chǎn)生劑化合物)和一種或多種樹脂，所述樹脂選 自
1)含有酸-不穩(wěn)定性基團的酚醛樹脂，它能夠提供特別適合在248 nra下 成像的化學(xué)增強正性光刻膠。這一類型的特別優(yōu)選的樹脂包括-
i) 含有乙烯基苯酚和丙烯酸垸基酯聚合單元的聚合物，其中聚合的丙烯 酸烷基酯單元能夠在光致酸存在下發(fā)生去保護反應(yīng)。能夠發(fā)生光致酸誘導(dǎo)的去 保護反應(yīng)的舉例性丙烯酸烷基酯類包括，例如丙烯酸叔丁酯，甲基丙烯酸叔丁 酯，丙烯酸甲基金剛烷基酯，甲基丙烯酸甲基金剛垸基酯，和能夠經(jīng)歷光致酸 -誘導(dǎo)反應(yīng)的其它丙烯酸非環(huán)烷酯和丙烯酸脂環(huán)酯，如在美國專利6， 042， 997 和5,492,793中所述的聚合物，這些專利以引用的方式引入本文；
ii) 含有乙烯基苯酚、任選取代的乙烯基苯基(例如苯乙烯)(它不含羥基 或羧基環(huán)取代基)、和丙烯酸烷基酯(如上面聚合物i所述的那些去保護基團) 聚合單元的聚合物，如描述在美國專利6,042,997中的聚合物，該專利以引用 的方式插入本文；和
iii) 含有包含將與光致酸反應(yīng)的縮醛或酮縮醇結(jié)構(gòu)部分的重復(fù)單元，和 任選的芳族重復(fù)單元(如苯基或酚基)的聚合物；此類聚合物已經(jīng)描述在美國專 利5, 929，176和6，090，526中，這些專利以引用的方式插入本文，以及
1) 和/或ii)和/或iii)的共混物;
2) 不含有酸-不穩(wěn)定性基團的酚醛樹脂，如聚(乙烯基苯酚)和酚醛清漆樹 脂，它們可與二偶氮萘醌光活性化合物一起用于I-線和G-線光刻膠中并且已 經(jīng)描述在例如美國專利4，983，492; 5,130,410; 5,216,111;和5，529，880中；
3) 基本上或完全不含苯基或其它芳族基的樹脂，它能夠提供特別適合在 亞200 nm波長(如193醒)下成像的化學(xué)增強正性光刻膠。這一類型的特別優(yōu)
8選的樹脂包括
i) 含有非芳族環(huán)烯經(jīng)(橋環(huán)雙鍵)聚合單元，如任選取代的降冰片烯的聚
合物，如描述在美國專利5， 843， 624和6,048,664中的聚合物，這些專利以引 用的方式插入本文；
ii) 含有丙烯酸垸基酯單元，例如丙烯酸叔丁酯，甲基丙烯酸叔丁酯，丙 烯酸甲基金剛烷基酯，甲基丙烯酸甲基金剛烷基酯，和其它丙烯酸非烷酯和丙 烯酸脂環(huán)酯的聚合物；此類聚合物已經(jīng)描述在美國專利6，057，083;歐洲已出 版的申請EP01008913A1和EP00930542A1;和美國待審專利申請09/143， 462中， 所有這些文獻(xiàn)全文以引用的方式插入于此，和
iii) 含有聚合的酸酐單元，特別是聚合的馬來酸酐和/或衣康酸酐單元的 聚合物，如公開在歐洲己出版的申請EP01008913A1和美國專利6,048,662 (其
全文以引用的方式全文插入于此)中的那些，以及 i)和/或ii)和/或iii)的共混物；
4) 含有雜原子，尤其是氧和/或硫，的重復(fù)單元(但酸酐除外，即該單元 不含有酮環(huán)原子)的樹脂，并且優(yōu)選的是該樹脂基本上或完全不含任何芳族單 元。優(yōu)選地，雜脂環(huán)族單元被稠合到樹脂骨架上，進(jìn)一步優(yōu)選的是所述樹脂包 括稠合的碳脂環(huán)族單元，例如通過聚合降冰片烯基團和/或酸酐單元(例如由馬 來酸酐或衣康酸酐的聚合形成)形成的稠合單元)。此類樹脂己公開在 PCT/US01/14914和美國專利申請09/567， 634中；
5) 含有Si-取代基的樹脂，包括聚(倍半硅氧垸)等等，并且可以與底涂層 一起使用。此類樹脂已公幵在例如美國專利6，803，171中。
6) 含有氟取代基的樹脂(氟聚合物)，例如可以由四氟乙烯，氟化芳族基 如氟-苯乙烯化合物，包含六氟醇結(jié)構(gòu)部分的化合物以及類似物聚合形成的那 些樹脂。此類樹脂的例子已公開在例如PCT/US99/21912中。
本發(fā)明的優(yōu)選光刻膠同時包括化學(xué)增強的正性和負(fù)性光刻膠。典型優(yōu)選的 化學(xué)增強的正性光刻膠包括帶有光致酸-不穩(wěn)定基團(如光致酸-不穩(wěn)定性酯或 乙縮醛基團)的一種或多種樹脂。
本發(fā)明進(jìn)一步提供使用本發(fā)明的光刻膠形成光刻膠浮雕圖像以及生產(chǎn)電 子設(shè)備的方法。本發(fā)明還提供包括涂有本發(fā)明光刻膠組合物的基材的新型制
叩o
在下文中描述本發(fā)明的其它方面。我們發(fā)現(xiàn)，加入兩種或多種不同的基本上不可混合的材料可提高光刻膠的 平板印刷性能。
本發(fā)明較好的光刻膠包括至少三種不同的樹脂包含光致酸不穩(wěn)定性基團 的第一樹脂和不同的第二以及第三樹脂。所述樹脂中的每一種較好具有不同的 疏水性和表面能，具體如上述。疏水性和表面能可通過已知方法測定。例如， 美國專利6927012公開了確定材料表面能的方法。材料的疏水性可通過高性能 液相色譜方法確定。所述包含光致酸不穩(wěn)定性基團的第一樹脂和不同的第二以 及第三樹脂中的每一種的分子量可在寬的范圍內(nèi)，例如Mw約為1000-100000， Mw更一般的為1500-8000、 10000、 15000、 20000、 30000、 40000或50000， 且多分散性約為4、 3、 2或更低。
參照圖1，其描述了示意性的較好的光刻膠組合物10，該光刻膠組合物10 已經(jīng)旋涂在硅晶片12上。所施加的光刻膠組合物層已經(jīng)進(jìn)行軟烘焙 (soft-baked)(例如105匸，持續(xù)60秒)，以除去溶劑。如圖1所示，光刻 膠的材料可分離成不同的區(qū)域，即一種或多種具有光致酸不穩(wěn)定性基團的樹脂 基本上位于區(qū)域14中，所述區(qū)域14最接近所述基材12的表面，然后是中間 材料(例如具有六氟醇(hexafluoroalcohol)和羧基的三聚物)，它基本上 位于所示的中間區(qū)域16中，然后是頂部聚合物(例如極性基團少于所述中間 材料的共聚物)，它基本上基于所示的頂部區(qū)域18中。
如以上所討論，與所述光刻膠樹脂組分基本上不可混合的本發(fā)明光刻膠的 合適材料能夠通過簡單試驗來容易地確定。具體地說，如這里提及的，與按照 相同方式加工但不含基本上不可混合性材料的同樣光刻膠體系相比，通過使用 含不可混合性材料的光刻膠組合物，優(yōu)選的基本上不可混合性材料將減少在浸 液中可檢測出的酸或有機材料的量。在浸液中光刻膠材料的檢測能夠按照在后 面的實施例2中所述方法來進(jìn)行，包括該浸液在接觸光刻膠之前和之后的質(zhì)譜 分析。在此類分析中，在曝光過程中使該浸液直接與所試驗的光刻膠組合物接 觸達(dá)到約60秒。優(yōu)選的是，與不使用基本上不可混合性材料的同樣光刻膠相 比，加入一種或多種基本上不可混合性材料可使在浸液中殘留的光刻膠材料 (同樣，由質(zhì)譜分析儀檢測的酸或有機物)的量減少至少10%，更優(yōu)選的是，與 不含有所述基本上不可混合性材料的同樣光刻膠相比，所述一種或多種基本上 不可混合性材料可使浸液中殘留的光刻膠材料(同樣，酸或有機物)的量減少至 少20%， 50%,或100%， 200%， 500%，或1000%。如上述，具體優(yōu)選的基本上不可混合性材料包括含Si的材料。尤其優(yōu)選 的基本上不可混合性材料包括納米結(jié)構(gòu)化的組合物，它們可以從諸如混合塑料 (Hybrid Plastics)(美國加利福尼亞州方廷瓦利)(Fountain Valley, California),西格瑪/阿爾德里奇(Sigma/Aldrich)等之類的公司商購。此
類材料可以包括具有被有機基團包圍的Si-O核的分子態(tài)氧化硅；硅烷醇；
以及聚合物和樹脂類，它們包括硅倍半氧垸籠形結(jié)構(gòu)的化合物并且可以是硅氧 烷，苯乙烯類樹脂，丙烯酸系樹脂，脂環(huán)族類如降冰片烯類樹脂和其它類似物。
用作基本上不可混合性材料的顆粒(包括有機顆粒)包括含Si的和氟化的
材料。此類顆粒是可商購的，或能夠容易地合成，例如通過一種或多種單體與 交聯(lián)劑和(如果需要的話)引發(fā)劑化合物一起進(jìn)行反應(yīng)。反應(yīng)過的單體可如需具
有取代基，例如氟，Si基團，光致酸-不穩(wěn)定性基團(如光致酸-不穩(wěn)定性酯或 縮醛)，其它堿-增溶性基團(如醇)等等。對于用多種不同單體生產(chǎn)的此類 顆粒的舉例性合成可參見后面的實施例1，這些單體中的一種為所得聚合物顆 粒提供光致酸-不穩(wěn)定性基團。
該基本上不可混合性材料是以較低量存在于光刻膠組合物中并且仍然提
供有效的結(jié)果。例如，所述一種或多種基本上不可混合性材料適合以基于流體 狀光刻膠組合物的總重量的約0. l-20wt。/。的量存在。合適的量也提供在后面的 實施例中。
如上所述，適用于本發(fā)明的優(yōu)選的光刻膠包括正性或負(fù)性的化學(xué)增強的光 刻膠，即這樣一種負(fù)性光刻膠組合物，它發(fā)生光致酸-促進(jìn)的交聯(lián)反應(yīng)而使光 刻膠涂層曝光區(qū)的顯影劑溶解度低于未曝光區(qū)，或者這樣一種正性光刻膠組合 物，它發(fā)生一種或多種組合物組分的酸不穩(wěn)定性基團的光致酸-促進(jìn)的去保護 反應(yīng)，使光刻膠涂層曝光區(qū)的水性顯影劑的溶解度高于未曝光區(qū)的水性顯影劑 溶解度。含有以共價鍵連接到酯基團羧基氧上的非環(huán)狀叔垸基碳(例如叔丁基)
或脂環(huán)族叔碳(例如甲基金剛烷基)的酯基團常常是用于本發(fā)明光刻膠樹脂中
的優(yōu)選的光致酸-不穩(wěn)定性基團?？s醛光致酸-不穩(wěn)定性基團也是優(yōu)選的。
本發(fā)明的優(yōu)選的光刻膠典型地包括樹脂組分和光活性組分。優(yōu)選地，該樹 脂具有使光刻膠組合物具有堿水溶液可顯影性的官能團。例如，優(yōu)選的是包括
極性官能團(如羥基或羧酸酯)的樹脂粘結(jié)劑。優(yōu)選的是，光刻膠組合物中樹 脂組分的用量足夠使光刻膠可被水性堿溶液顯影。
對于在大于200體的波長(如248 nni)下的成像，酚醛樹脂典型是優(yōu)選的。
11優(yōu)選的酚醛樹脂是聚(乙烯基苯酚)，它可通過相應(yīng)單體在催化劑存在下的嵌段 共聚、乳液聚合或溶液聚合反應(yīng)形成。用于制造聚乙烯基酚樹脂的乙烯基苯酚 可例如如下制得水解商購的香豆素或取代香豆素，隨后使所得羥基肉桂酸脫 羧。有用的乙烯基苯酚也可通過相應(yīng)的羥基烷基酚類的脫水或通過羥基肉桂酸 的脫羧來制備，所述羥基肉桂酸是由取代或未取代的羥基苯甲醛與丙二酸的反 應(yīng)形成的。從此類乙烯基苯酚類制備的優(yōu)選的聚乙烯基苯酚樹脂具有約2， 000
到約60, 000道爾頓的分子量。
較好在大于200 nm(如248 nm)的波長下成像還有化學(xué)增強的光刻膠，它 包括摻混的光活性組分和樹脂組分，所述樹脂組分包括含有酚型和非酚型單元 的共聚物。例如， 一組較好的此類共聚物具有酸不穩(wěn)定性基團，該酸不穩(wěn)定基 團基本上、主要地或完全地僅僅在共聚物的非酚型單元上，尤其丙烯酸烷基酯 光致酸-不穩(wěn)定性基團，即酚-丙烯酸垸基酯共聚物。 一種尤其優(yōu)選的共聚物粘 結(jié)劑具有以下通式的重復(fù)單元x和y:
其中該羥基可存在于共聚物的鄰，間或?qū)ξ簧?，并且R'是具有1-約18 個碳原子，更典型地l-約6到8個碳原子的取代或未取代的烷基。叔丁基是一 般優(yōu)選的R'基團。R'基團可任選被例如一個或多個鹵素(特別F， Cl或Br)， C卜8烷氧基，C2—8鏈烯基，等等取代。單元x和y可以在共聚物中規(guī)則地交替存 在，或可以無規(guī)分布在整個聚合物中。此類共聚物能夠容易地形成。例如，對 于以上通式的樹脂，乙烯基酚類和取代或未取代的丙烯酸烷基酯(如丙烯酸叔 丁酯等等)可以在現(xiàn)有技術(shù)中已知的自由基條件下縮合。丙烯酸酯單元的取代 酯結(jié)構(gòu)部分，即R' -0-C(=0)-結(jié)構(gòu)部分，用作樹脂的酸不穩(wěn)定性基團并且在含 有該樹脂的光刻膠涂層曝光之后發(fā)生光致酸誘導(dǎo)分裂。優(yōu)選該共聚物的Mw從 約8， 000到約50， 000，更優(yōu)選約15, 000到約30, 000，具有約3或更低的分子 量分布，更優(yōu)選約2或更低的分子量分布。非酚型樹脂，例如丙烯酸烷基酯(如 丙烯酸叔丁酯或甲基丙烯酸叔丁酯)和乙烯基脂環(huán)族烴(如乙烯基降冰片垸基或乙烯基環(huán)己醇化合物)的共聚物，也可用作本發(fā)明組合物中的樹脂粘結(jié)劑。 此類共聚物也可以通過自由基聚合或其它已知的方法來制備，并且適宜具有約
8， 000到約50, 000的Mw，和約3或更低的分子量分布。
用于本發(fā)明正性化學(xué)增強的光刻膠中的具有酸-不穩(wěn)定性去保護基團的其 它優(yōu)選樹脂已經(jīng)公開于希普雷公司(Shipley Company)的歐洲專利申請 0829766A2(具有縮醛和酮縮醇基團的樹脂)和希普雷公司(Shipley Company) 的歐洲專利申請EP0783136A2(三元共聚物和其它共聚物，它們包括下列單體的
單元l)苯乙烯；2)羥基苯乙烯；和3)酸不穩(wěn)定性基團，特別是丙烯酸烷基酯
酸不穩(wěn)定性基團(如丙烯酸叔丁酯或甲基丙烯酸叔丁酯)。通常，具有各種酸 不穩(wěn)定性基團的樹脂將是合適的，如對酸敏感的酯，碳酸酯，醚，酰亞胺，等 等。該光致酸不穩(wěn)定性基團通常側(cè)接在聚合物骨架上，雖然也可以使用具有整 合到聚合物骨架上的酸不穩(wěn)定性基團的樹脂。
如以上所討論，對于在亞-200 nm (如193 nm)波長的成像，優(yōu)選使用這 樣一種光刻膠，它含有一種或多種基本上、主要地或完全地不含苯基或其它芳 族基的聚合物。例如，對于亞-200 nm成像，優(yōu)選的光刻膠聚合物含有低于約 5mol。/。芳族基團，更優(yōu)選低于約1或2moiy。芳族基團，更優(yōu)選低于約0. 1， 0. 02， 0. 04和0.08 mol。/。芳族基團和再更優(yōu)選低于約0.01 mol。/o芳族基團。特別優(yōu)選 的聚合物完全地不含芳族基團。芳族基團能夠高度吸收亞-200 nm的輻射，因
此對于在用此類短波長輻射成像的光刻膠中使用的聚合物是不希望的。
基本上或完全地不含芳族基團的并且可用本發(fā)明的PAG配制以獲得供亞 -200 nm成像用的光刻膠的合適聚合物已經(jīng)公開于歐洲申請EP930542Al和美國 專利6, 692， 888和6， 680, 159,全部屬于希普雷公司(Shipley Company)。
基本上或完全的不含芳族基的合適聚合物適宜含有丙烯酸酯單元(例如可 通過丙烯酸甲基金剛垸基酯，甲基丙烯酸甲基金剛垸基酯，丙烯酸乙基葑基酯， 甲基丙烯酸乙基葑基酯和類似物的聚合反應(yīng)提供的光致酸-不穩(wěn)定性丙烯酸酯 單元)；稠合的非芳族脂環(huán)族基團(例如可以通過降冰片烯化合物或具有內(nèi)環(huán) 碳-碳雙鍵的其它脂環(huán)族化合物的聚合反應(yīng)提供)；和酸酐(例如可通過馬來 酸酐和/或衣康酸酐的聚合反應(yīng)提供)；等等。
本發(fā)明的優(yōu)選的負(fù)性化合物包括在接觸到酸時發(fā)生固化、交聯(lián)或硬化的一 種或多種材料(如交聯(lián)劑組分，例如胺-基材料如蜜胺樹脂)，和本發(fā)明的光活性 組分。特別優(yōu)選的負(fù)性組合物包括樹脂粘結(jié)劑，如酚醛樹脂，交聯(lián)劑組分和本發(fā)明的光活性組分。此類組合物和它的使用已經(jīng)公開在歐洲專利申請0164248 和0232972中和在Thackeray等人的美國專利No. 5, 128, 232中。用作樹脂粘 結(jié)劑組分的優(yōu)選的酚醛樹脂包括線型酚醛清漆，和聚(乙烯基酚類)，如以上討 論的那些。優(yōu)選的交聯(lián)劑包括胺-基材料，其中包括蜜胺，甘脲，苯并三聚氰 胺-基材料和脲-基材料。蜜胺-甲醛樹脂一般是最優(yōu)選的。此類交聯(lián)劑是可商 購，例如由美國氰胺公司(American Cyanamid)以商品名薩莫爾(Cymel) 300， 301和303出售的三聚氰胺樹脂。甘脲樹脂是由美國氰胺公司(American Cyanamid)以商品名薩莫爾(Cymel) 1170， 1171， 1172出售的，脲-基樹脂 是以商品名比特(Beetle) 60， 65和80出售的，苯并三聚氰胺樹脂是以商品 名薩莫爾(Cymel) 1123和1125出售的。
對于在亞-200 rnn波長(如193園)下成像，優(yōu)選的負(fù)性光刻膠已公開在 希普雷公司(Shipley Company)的WO 03077029中。
本發(fā)明的光刻膠還可含有其它材料。例如，其它任選的添加劑包括光化和 對比度染料，抗條紋化試劑，增塑劑，速度增強劑，增感劑(例如為在較長波 長如I-線(g卩365 nm)或G-線波長下使用本發(fā)明光致酸產(chǎn)生劑)，等等。此類任 選的添加劑典型地以較低濃度存在于光刻膠組合物中，但填料和染料除外，它 們能夠以較大濃度存在，例如以光刻膠干組分的總重量計的5-30 wt。/。的量。
本發(fā)明光刻膠的優(yōu)選的任選添加劑是加入的堿，例如己內(nèi)酰胺，它能夠增 強已顯影的光刻膠浮雕圖像的分辯率。添加的堿適宜以較少量使用，例如相對 于光致酸產(chǎn)生劑的約1-10 wt%，更典型1-約5wt。/L其它合適的堿性添加劑包 括磺酸銨鹽，如對甲苯磺酸哌啶镥和對甲苯磺酸二環(huán)己基銨；烷基胺如三丙胺 和十二烷基胺；芳基胺類如二苯基胺，三苯基胺類，氨基苯酚，和2-(4-氨基 苯基)-2-(4-羥苯基)丙垸。
本發(fā)明的光刻膠的樹脂組分典型地以足夠使光刻膠曝光的涂層可被例如 堿水溶液顯影的量使用。更具體地說，樹脂粘合劑將適宜地占光刻膠總固體的 50-約90wt%。該光活性組分應(yīng)該以足夠在光刻膠的涂層中產(chǎn)生潛像的量存在。 更具體地說，該光活性組分適宜以光刻膠總固體的約l-40wt。/。的量存在。典型 地，較少量的光活性組分對于化學(xué)增強的光刻膠是合適的。
本發(fā)明的光刻膠組合物還包括光致酸產(chǎn)生劑(即"PAG")，它適宜以足夠在 暴露于光化輻射之后在光刻膠的涂層中產(chǎn)生潛像的量使用。對于在193 rnn和 248 nm下成像來說優(yōu)選的PAG包括酰亞胺基磺酸酯，如下式的化合物<formula>formula see original document page 15</formula>
其中R是莰酮，金剛垸，垸基(例如CH2烷基)和全氟烷基，如全氟(C,-,2
烷基)，特別地全氟辛烷磺酸根，全氟壬烷磺酸根等等。特別優(yōu)選的PAG是N-[(全 氟辛烷磺?；?氧基]-5-降冰片烯-2， 3-二甲酰亞胺。
磺酸鹽化合物也是合適的PAG，特別磺酸鹽。193 nm和248 nm成像用的 兩種合適試劑是下列PAG 1和2:<formula>formula see original document page 15</formula>
此類磺酸鹽化合物能夠按照在歐洲專利申請96118111. 2(公布號0783136) 中公開的方法制備，它詳細(xì)描述了以上PAG l的合成。
也合適的是與上述樟腦磺酸根以外的其它陰離子配合的以上兩種碘鐵化 合物。尤其，優(yōu)選的陰離子包括通式RS03-的那些，其中R是金剛烷，垸基(例 如CH2垸基)和全氟垸基如全氟(CH2垸基)，尤其全氟辛烷磺酸根，全氟丁烷磺 酸根等等。
其它已知的PAG可用于本發(fā)明的光刻膠中。特別對于193 nm成像， 一般 優(yōu)選的是不含芳族基的PAG，如上述酰亞胺基磺酸酯，以便提供增強的透明度。
本發(fā)明的光刻膠還可含有其它任選材料。例如，其它任選的添加劑包括抗 條紋化試劑，增塑劑，速度增強劑，等等。此類任選的添加劑典型地以較低濃 度存在于光刻膠組合物中，但填料和染料除外，它們能夠以相對較大濃度存在， 例如以光刻膠干燥組分的總重量的約5-30機％的量。
本發(fā)明使用的光刻膠一般按照已知的方法來制備。例如，本發(fā)明光刻膠能 夠通過將光刻膠的組分溶解在合適溶劑中作為涂料組合物來制得，該溶劑例如 是，二醇醚如2-甲氧基乙基醚(二甘醇二甲醚)，乙二醇單甲醚，丙二醇單甲醚; 丙二醇單甲醚乙酸酯；乳酸酯如乳酸乙酯或乳酸甲酯，其中乳酸乙酯是優(yōu)'選的; 丙酸酯，特別地丙酸甲酯，丙酸乙酯和乙氧基丙酸乙基酯，溶纖劑酯如甲基溶
、纖劑乙酸酯；芳族烴類如甲苯或二甲苯；或酮類如甲乙酮，環(huán)己酮和2-庚酮。 典型地，光刻膠的固體含量在占光刻膠組合物總重量的5 wt。/。和35 Wt。/。之間變 化。此類溶劑的摻混物也是合適的。
液體光刻膠組合物可以通過例如旋涂法，浸涂法，滾涂法或其它普通的涂 布技術(shù)施涂于基材上。當(dāng)旋涂時，可根據(jù)所使用的具體旋涂設(shè)備，溶液的粘度， 旋涂器的速度以及旋涂用的時間長度調(diào)節(jié)涂料溶液的固體含量，以便獲得所需 的膜厚度。
本發(fā)明使用的光刻膠組合物適宜施涂于通常用光刻膠處理(包括涂覆)的 基材上。例如，所述組合物可以施涂在硅晶片上或施涂在已涂有二氧化硅的硅 晶片上，以生產(chǎn)微處理器和其它集成電路元件。也適宜使用鋁-氧化鋁，砷化 鎵，陶瓷，石英，銅，玻璃基材等等。光刻膠還適宜施涂于抗反射層上，特別 在有機抗反射層上。
在光刻膠施涂到表面上之后，它可通過加熱干燥以除去溶劑，直至優(yōu)選地 該光致抗蝕涂層無粘性為止。
隨后在浸漬平版印刷術(shù)系統(tǒng)中曝光所述光刻膠層(有罩涂的阻隔組合物 層，如果存在的話)，即在曝光工具(尤其是投影透鏡)和涂覆光刻膠的基材之 間的空間被浸液(如水或水與一種或多種添加劑如硫酸銫(它能夠使流體具有 增強的折射率)的混合物)占據(jù)。優(yōu)選的是，該浸液(例如，水)已經(jīng)處理以避 免氣泡，例如可對水迸行脫氣以避免納米尺寸氣泡。
本文中術(shù)語"浸漬曝光"或其它類似術(shù)語是指，曝光是用置于曝光工具和 涂覆的光刻膠組合物層之間的流體層(例如水或有添加劑的水)進(jìn)行的。
該光刻膠組合物層然后適宜用典型在約1-100 roj/cm2范圍內(nèi)的曝光能量以 圖案方式曝光于活化輻射，這取決于曝光工具和光刻膠組合物的組分。本文中 術(shù)語"將光刻膠組合物曝光于能活化該光刻膠的輻射"是指，輻射能夠在光刻 膠中形成潛像，如通過引起光活性組分的反應(yīng)(例如從光致酸產(chǎn)生劑化合物產(chǎn) 生光致酸)。
如以上所討論，光刻膠組合物優(yōu)選通過短的曝光波長來光活化，特別地亞 400 nm，亞300和亞200 nm曝光波長，其中I-線(365 nm ) ， 248 nm禾卩193 rnn 以及EUV和157 nm是特別優(yōu)選的曝光波長。
在曝光之后，組合物的膜層優(yōu)選在約70。C到約16(rC范圍內(nèi)的溫度下烘烤。 其后，對膜進(jìn)行顯影，這優(yōu)選通過用水性堿顯影劑如氫氧化季銨溶液(如氫氧化四烷基銨溶液)；各種胺溶液(優(yōu)選0.26 N氫氧化四甲基銨)，如乙胺，正丙 基胺，二乙基胺，二正丙基胺，三乙基胺，或甲基二乙基胺；醇胺如二乙醇胺 或三乙醇胺；環(huán)胺類如吡咯，吡啶等等處理來實施。通常，顯影按照現(xiàn)有技術(shù) 中公知的程序來進(jìn)行。
在基材上的光致抗蝕涂層的顯影之后，顯影的基材可以在從光刻膠中裸露 的那些區(qū)域上有選擇地加工，例如根據(jù)現(xiàn)有技術(shù)中已知的程序，通過以化學(xué)方 式蝕刻或鍍覆從光刻膠中裸露的基材區(qū)域。對于微電子基材的制造，例如，二 氧化硅晶片的制造，合適的蝕刻劑包括氣體蝕刻劑，例如鹵素等離子體蝕刻劑
如氯基或氟-基蝕刻劑，如以等離子體流形式施加的Cl2或CF4/CHF3蝕刻劑。在
此類加工后，光刻膠可以通過使用已知的剝離方法從加工的基材中除去。
本文提到的所有文獻(xiàn)以引用的方式全文插入于此。下列非限制性實施例用 于說明本發(fā)明。
實施例1:顆粒添加劑制備 優(yōu)選的氟化顆粒添加劑制備如下
在反應(yīng)容器中裝入所需量的丙二醇單甲醚乙酸酯(PGMEA)并且加熱到80 。C，用N2氣體吹掃。將下列單體(PFPA， ECPMA， TMPTA)，交聯(lián)劑和引發(fā)劑(過 新戊酸叔戊基酯)在冰浴中以占流體組合物80-90 wty。的量混合在PGMEA中。該
引發(fā)劑含量是相對于單體和交聯(lián)劑總量的4%。單體以下列重量用量使用70^^%
五氟丙烯酸酯(PFPA)， 20 wt。/。甲基丙烯酸乙基環(huán)戊基酯(ECPMA)，和10 Wt°/0 TMPTA:
PFPA ECPMA TMPTA
該單體/交聯(lián)劑/引發(fā)劑/PGMEA混合物然后以約1豪生/分鐘的速率加入到 反應(yīng)器中。在加入到反應(yīng)器中的過程結(jié)束之后，在反應(yīng)器內(nèi)的混合物的溫度在 8(TC保持30分鐘。然后，將另外2wt。/。(相對于單體和交聯(lián)劑總量)的引發(fā)劑加入到反應(yīng)器中。在加入之后，在反應(yīng)器內(nèi)的混合物的溫度在8(TC保持另外2 小時。其后，反應(yīng)器的溫度被冷卻到室溫。
通過這一程序得到了聚合物顆粒，它具有7088的數(shù)均分子量(Mn)和19255 的重均分子量(Mw)。
實施例2:光刻膠制備和加工
通過按規(guī)定的量摻混下列材料來制備光刻膠組合物
1. 樹脂組分(甲基丙烯酸2-甲基-2-金剛垸基酯/P-羥基-Y-丁內(nèi)酯甲 基丙烯酸酯/氰基-降冰片基甲基丙烯酸酯)的三元共聚物，用量為光刻膠組合
物總重量的6. 79 wt%;
2. 光致酸產(chǎn)生劑化合物叔丁基苯基四亞甲基锍全氟丁烷磺酸鹽，用量
為光刻膠組合物總重量的0.284 wt%;
3. 堿添加劑N-烷基己內(nèi)酰胺，用量為光刻膠組合物總重量的0.017 wt%;
4. 表面活性劑R08(含氟的表面活性劑，可以從岱日本油墨和化學(xué)公司 (Dai—on Ink & Chemicals, Inc.)獲得)，用量為光刻膠組合物總重量的
0.0071 wt%;
5. 基本上不可混合的添加劑
(i)頂部樹脂材料含量為50摩爾％的下述兩種單體的共聚物，其結(jié)構(gòu) 如下2- (4，4,4-雙-三氟甲基羥基)丁基甲基丙烯酸酯叔丁基甲基丙烯酸
酯
(ii)中間材料下述結(jié)構(gòu)的88/8/4三元共聚物(下述結(jié)構(gòu)中從左到右 相應(yīng)單體的摩爾百分?jǐn)?shù)為88/8/4):
186.溶劑組分丙二醇單甲醚乙酸酯，提供約90%液體組合物。
上述光刻膠組合物被旋涂到硅晶片之上，在真空加熱板上干燥以除去軟片 (soft-plate)，然后采用浸漬平版印刷工藝使水性浸液直接接觸干燥光刻膠 層，對干燥的光刻膠膜實施曝光。在該浸漬系統(tǒng)中，光刻膠層通過光掩模曝光 于劑量為24.1毫焦/平方厘米的圖案化193 nm輻射。
該光刻膠層然后進(jìn)行曝光后烘烤(如在大約12(TC下)，用0.26N堿顯影劑 水溶液顯影，得到光刻膠浮雕圖像。
為了評價光刻膠組分在曝光后烘焙之后和顯影之前的浸析，通過LC/質(zhì)譜 (60秒浸析時間測試)評價浸漬液體的光刻膠中的光致酸及其光降解副產(chǎn)物。
實施例3:其它光刻膠制備和加工
通過按規(guī)定的量摻混下列材料來制備另一種光刻膠組合物
1. 樹脂組分(甲基丙烯酸2-甲基-2-金剛垸基酯/e-羥基-y-丁內(nèi)酯甲 基丙烯酸酯/氰基-降冰片基甲基丙烯酸酯)的三元共聚物，用量為光刻膠組合 物總重量的6. 79 wt%;
2. 光致酸產(chǎn)生劑化合物叔丁基苯基四亞甲基锍全氟丁垸磺酸鹽，用量
為光刻膠組合物總重量的0. 284 wt%;
3. 堿添加劑N-垸基己內(nèi)酰胺，用量為光刻膠組合物總重量的0.017 wt%;
4. 表面活性劑R08(含氟的表面活性劑，可以從岱日本油墨和化學(xué)公司 (Dainippon Ink & Chemicals, Inc.)獲得)，用量為光刻膠組合物總重量的
0. 0071 wt%;
5. 基本上不可混合的添加劑，其用量為所述光刻膠組合物總重量的0. 213重量％。所述基本上不可混合的組分包含下述兩種不同的頂部材料和中間材 料
(i)頂部樹脂材料含量為50摩爾％的下述兩種單元的共聚物，其結(jié)構(gòu)
如下
(ii)中間材料下述結(jié)構(gòu)的25/25/20/30三元共聚物(下述結(jié)構(gòu)中從左 到右相應(yīng)單體的摩爾百分?jǐn)?shù)為25/25/20/30) -
6.溶劑組分丙二醇單甲醚乙酸酯，提供約90%液體組合物。 如上述實施例2所述相同的方法處理該光刻膠組合物。
實施例4:其它光刻膠制備和加工
通過按規(guī)定的量摻混下列材料來制備另一種光刻膠組合物
1.樹脂組分(甲基丙烯酸2-甲基-2-金剛烷基酯/P-羥基-Y-丁內(nèi)酯甲
基丙烯酸酯/氰基-降冰片基甲基丙烯酸酯)的三元共聚物，用量為光刻膠組合
物總重量的6. 79 wt%;2. 光致酸產(chǎn)生劑化合物叔丁基苯基四亞甲基锍全氟丁烷磺酸鹽，用量 為光刻膠組合物總重量的0. 284 Wt%;
3. 堿添加劑N-烷基己內(nèi)酰胺，用量為光刻膠組合物總重量的0.017
4. 表面活性劑R08(含氟的表面活性劑，可以從岱日本油墨和化學(xué)公司 (Dainippon Ink & Chemicals, Inc.)獲得)，用量為光刻膠組合物總重量的
0.0071 wt%;
5. 基本上不可混合的添加劑，其用量為所述光刻膠組合物總重量的0. 213 重量％。所述基本上不可混合的組分包含下述兩種不同的頂部材料和中間材
料
(i)頂部樹脂材料下述結(jié)構(gòu)的70/30共聚物(下述結(jié)構(gòu)中從左到右相 應(yīng)單元的摩爾百分?jǐn)?shù)為70/30):
(ii)中間材料下述結(jié)構(gòu)的25/25/20/30三元共聚物(下述結(jié)構(gòu)中從左 到右相應(yīng)單元的摩爾百分?jǐn)?shù)為25/25/20/30):
6.溶劑組分50/50 (體積比)乳酸乙酯丙二醇單甲醚乙酸酯共混物， 提供約90%液體組合物。
21如上述實施例2所述相同的方法處理該光刻膠組合物。
本發(fā)明的上述描述僅僅是示例性的，可以理解其改變和改進(jìn)并沒有離開下 述權(quán)利要求所述的本發(fā)明的范圍或精神。
權(quán)利要求
1.一種加工光刻膠組合物的方法，所述方法包括(a)在基材上施加光刻膠組合物，所述光刻膠組合物包括(i)一種或多種樹脂；(ii)光活性組分；以及(iii)兩種或多種基本上不能與所述一種或多種樹脂混合的材料；和(b)將所述光刻膠層浸漬暴露于輻照，以活化所述光刻膠組合物。
2. 如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于所述兩種或多種不可混合的材料 包括(i)頂部材料和(ii)中間材料，所述頂部和中間材料具有不同的表面能。
3. 如權(quán)利要求1或2所述的方法，其特征在于所述兩種或多種基本上不可 混合的材料包括(i)頂部材料和(ii)中間材料，所述頂部和中間材料具有不 同的相對疏水性。
4. 如權(quán)利要求1-3中任一項所述的方法，其特征在于所述兩種或多種基本 上不可混合的材料包括(i)頂部材料和(ii)中間材料，所述頂部材料和中間 材料的疏水性大于所述一種或多種樹脂的疏水性。
5. 如權(quán)利要求l-4中任一項所述的方法，其特征在于所述兩種或多種基本 上不可混合的材料包括樹脂，所述樹脂包括水性堿-增溶基團和/或一個或多個 光致酸不穩(wěn)定性基團和/或硅或氟取代基。
6. 如權(quán)利要求1-5中任一項所述的方法，其特征在于所述兩種或多種基本 上不可混合的材料包括(i)頂部材料和(ii)中間材料，所述施加的光刻膠組 合物形成了一層，其中所述一種或多種樹脂的大部分相比所述中間材料的大部 分更接近所述基材，所述中間材料的大部分相比所述頂部材料更接近所述基 材。
7. —種涂覆的基材體系，所述體系包括其上具有光刻膠組合物涂層的基材，所述光刻膠組合物包括(i) 一種或多種樹脂；(ii) 光活性組分；以及(iii) 兩種或多種基本上不能與所述一種或多種樹脂混合的材料。
8. 如權(quán)利要求7所述的體系，其特征在于浸漬平版印刷液體接觸所述光刻 膠涂層的頂表面。
9. 如權(quán)利要求7所述的體系，其特征在于所述體系還包括浸漬平版印刷曝光工具。
10. —種光刻膠組合物，所述光刻膠組合物包括 (0 —種或多種樹脂；(ii) 光活性組分；以及(iii) 兩種或多種基本上不能與所述一種或多種樹脂混合的材料。
全文摘要
提供了一種新的光刻膠組合物，它可用于浸漬平版印刷。本發(fā)明優(yōu)選的光刻膠組合物包括兩種或多種基本上不能與光刻膠的樹脂組分混合的不同材料。本發(fā)明特別優(yōu)選的光刻膠能夠在浸漬平版印刷加工過程中顯示低的光刻膠材料浸析到與光刻膠層接觸的浸液中的量。
文檔編號G03F7/004GK101526737SQ20081017614
公開日2009年9月9日 申請日期2008年11月5日 優(yōu)先權(quán)日2007年11月5日
發(fā)明者C·-B·徐, D·王, G·G·巴克雷 申請人:羅門哈斯電子材料有限公司