專利名稱：：負極基材的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
：本發(fā)明涉及一種負極基材，使用此負極基材的二次電池，用于形成此負極基材的光阻組合物、金屬氧化物膜形成材料、復(fù)合膜形成材料，以及此負極基材的制造方法，特別是涉及一種可以提供充放電循環(huán)特性優(yōu)異的電池的負極基材，使用此負極基材的二次電池，用于形成、制造此負極基材的光阻組合物、金屬氧化物膜形成材料、復(fù)合膜形成材料，以及此負極基材的制造方法。
背景技術(shù)：
：以往，對兼具高輸出電壓及高能量密度的電池的研究開發(fā)十分盛行。特別是尋求一種內(nèi)部電阻較低、因充電/放電而引起的電池電容下降較少、充放電循環(huán)特性優(yōu)異的二次電池。例如，己知有使用薄膜狀非晶硅或微晶硅來作為負極材料(負極活物質(zhì))的鋰二次電池(參看專利文獻1)。具體而言，揭示了使用在集電體上形成包含硅薄膜的負極材料層的負極的鋰二次電池，硅薄膜是使用CVD法(chemicalvapordepositionmethod,也稱為化學(xué)氣相沉積法、化學(xué)蒸鍍法)或濺射法等薄膜形成方法而形成。其中，一般認為硅等材料會隨著吸藏/釋放鋰而反復(fù)地進行膨脹/收縮。在集電體上形成硅薄膜的負極中，由于集電體與負極材料層的粘附性較高，因此集電體隨著負極材料的膨脹/收縮而頻繁地進行膨脹/收縮。所以，隨著充電/放電的進行，負極材料層與集電體可能會產(chǎn)生褶皺等不可恢復(fù)的變形。特別是當(dāng)集電體使用銅箔等富有延性的金屬箔時，變形的程度將會增大。負極變形會引起作為電極的體積增大，使電化學(xué)反應(yīng)變得不均勻等，因此，電池的能量密度有可能會下降。另外，隨著充電/放電而反復(fù)地進行膨脹/收縮期間，負極材料有可能會微粉化而從集電體上脫離，或者根據(jù)情況也可能會以薄膜狀的狀態(tài)而從集電體上脫離，這是導(dǎo)致電池的充放電循環(huán)特性惡化的主要因素。作為抑制負極變形的方法，可以列舉使用拉伸強度或拉伸模量等機械強度較高的材料來作為集電體的方法。但是，在由這種材料所形成的集電體上構(gòu)成由薄膜狀的負極材料所形成的負極材料層時，有可能負極材料層與集電體的粘附性不充分，而不能獲得充分的充放電循環(huán)特性。因此，在專利文獻l中揭示了如下技術(shù)將由會與負極材料合金化的材料所形成的中間層，配置在集電體和負極材料層之間，并使用機械強度高于中間層的集電體，以此來抑制充電/放電時負極材料脫離、并且抑制產(chǎn)生褶皺等的。具體而言，使用銅層來作為中間層，使用鎳箔來作為集電體。在所述專利文獻1以外的文獻中，也揭示了如下技術(shù)使用使銅固溶在硅上所得的薄膜來作為負極材料層，以抑制鋰的吸藏量，由此抑制吸藏鋰時的負極材料的膨脹(參看專利文獻2)。另外，揭示了如下技術(shù)使用包含會與鋰合金化的金屬、及不會與鋰合金化的金屬的合金薄膜來作為負極材料層，以抑制鋰的吸藏量，由此抑制吸藏鋰時的負極材料的膨脹(參看專利文獻3)。具體而言，作為會與鋰合金化而形成固溶體或金屬間化合物等的金屬，是使用錫(Sn)、鍺(Ge)、鋁(Al)、銦(In)、鎂(Mg)及硅(Si)等，作為不會與鋰合金化的金屬，是使用銅(Cu)、鐵(Fe)、鎳(Ni)、鈷(Co)、鉬(Mo)、鋝(W)、鉭(Ta)及錳(Mn)等。另外，揭示了如下技術(shù)通過使用如下所述的集電體，來抑制電極隨著充電/放電而產(chǎn)生變形，即此集電體的每lci^中形成了10個以上的厚度方向上的變形量為5pm20pm的變形部，并且變形部的數(shù)值孔徑為4%以下(參看專利文獻4)。另外，揭示了如下技術(shù)在能夠可逆地吸藏/釋放鋰的薄膜狀的負極材料層的表面與內(nèi)部的至少其中之一中，配置鋰非吸藏性材料(參看專利文獻5)。日本專利特開2002-083594號公報日本專利特開2002-289177號公報日本專利特開2002-373647號公報日本專利特開2003-017069號公報日本專利特開2005-196971號公報
發(fā)明內(nèi)容但是，現(xiàn)狀是使用所述各種負極材料中的任一種，都未能獲得具有充分的輸出電壓、能量密度及充放電循環(huán)特性的電池。所以，本發(fā)明的目的在于提供一種利用與所述以往技術(shù)不同的構(gòu)成，而能夠?qū)崿F(xiàn)具有高輸出電壓及高能量密度、且充放電循環(huán)特性優(yōu)異的電池的負極基材，具有此負極基材的二次電池，此負極基材的制造方法，用于形成此負極基材的復(fù)合膜形成材料，用于形成此負極基材的金屬氧化物膜形成材料，用于形成此負極基材的正型光阻組合物，以及用于形成此負極基材的光阻組合物。本發(fā)明者們鑒于所述情況而反復(fù)潛心研究，結(jié)果發(fā)現(xiàn)，利用如下所述的負極基材可以提供具有高輸出電壓及高能量密度、且充放電循環(huán)特性優(yōu)異的電池，從而完成本發(fā)明在有機膜上積層形成金屬膜的負極基材；在有機成分與無機成分復(fù)合而成的復(fù)合膜上形成金屬膜的負極基材；在表層由金屬氧化物膜被覆的有機膜上形成金屬膜的負極基材；在圖案化的二氧化硅系被覆膜上形成金屬膜的負極基材；以及在由含有(A)堿溶性樹脂及(B)含醌二疊氮基的化合物的正型光阻組合物所形成的有機膜上，形成金屬膜的負極基材。也就是說，本發(fā)明提供一種特征在于在具備有機膜的支撐體上形成金屬膜的負極基材。另外，本發(fā)明提供特征在于由光阻膜形成所述有機膜的負極基材；或者特征在于通過圖案曝光，而將此光阻膜圖案化成規(guī)定形狀的負極基材。另外，本發(fā)明提供一種具有所述負極基材的二次電池、所述負極基材的制造方法、以及用于制造所述負極基材的光阻組合物。本發(fā)明提供一種特征在于在具備表層由金屬氧化物膜被覆的有機膜的支撐體上，形成金屬膜的負極基材。另外，提供所述有機膜由光阻膜形成的負極基材；通過圖案曝光而將此光阻膜圖案化成規(guī)定形狀的負極基材；以及所述金屬氧化物膜為二氧化硅系被覆膜的負極基材。另外，本發(fā)明提供一種使用負極基材的二次電池、用于形成此負極基材的金屬氧化物膜形成材料及光阻組合物、以及負極基材的制造方法。本發(fā)明提供一種特征在于在具備由包含有機成分及無機成分的復(fù)合膜形成材料所形成的復(fù)合膜的支撐體上形成金屬膜的負極基材，使用此負極基材的二次電池，用于形成此負極基材的復(fù)合膜形成材料，以及此負極基材的制造方法。本發(fā)明提供一種特征在于在形成光阻圖案的支撐體上，形成由二氧化硅系被覆膜形成用涂布液所形成的二氧化硅系被覆膜，并在除去了所述光阻圖案的支撐體上形成金屬膜的負極基材，使用此負極基材的二次電池，用于形成此負極基材的光阻組合物，以及此負極基材的制造方法。10、20、30、4050負極基材11、21、31、4151支撐體12、22、52有機膜13金屬氧化物膜14、23、33、53金屬膜32復(fù)合膜42二氧化硅系被覆膜具體實施例方式以下，參照附圖，詳細說明本發(fā)明的實施形態(tài)。(第一實施形態(tài))<負極基材>圖1表示本實施形態(tài)的負極基材10的示意圖。如圖1所示，本實施形態(tài)的負極基材10包括支撐體11、有機膜12及金屬膜13。更詳細而言，本實施方式的負極基材10的特征在于對具備有機膜12的支撐體10實施鍍敷處理來形成金屬膜13。<支撐體>本實施形態(tài)的負極基材10中所使用的支撐體11只要可以在它的表面上形成有機膜12即可，并無特別限定。例如，可以使用電子零件用的基板等以往眾所周知的支撐體。具體而言，可以列舉硅片，設(shè)置著有機系或無機系抗反射膜的硅片，形成了磁性膜的硅片，銅、鉻、鐵、鋁等金屬制的基板，或玻璃基板等。另外，這些支撐體可以兼作包含選自銅、鎳、不銹鋼、鉬、鎢、鈦及鉭中的至少一種元素的材料，金屬箔，不織布，具有三維結(jié)構(gòu)的金屬集電體等集電體，也可以形成在這些集電體上。<有機膜>本實施形態(tài)的負極基材IO中的有機膜12是由以往眾所周知的有機化合物或有機樹脂形成，并無特別限定。優(yōu)選由下述光阻組合物形成的有機膜12，更優(yōu)選通過圖案曝光而圖案化成規(guī)定形狀的光阻圖案。對于用于形成本實施形態(tài)的負極基材10的光阻組合物并無特別限定，可以使用以往眾所周知的光阻組合物。優(yōu)選具有親水基的光阻組合物。只要是由具有親水基的光阻組合物所形成的光阻圖案，如上所述，就可以在它上面形成與光阻圖案牢固地粘附，密度較高且機械強度較高的金屬氧化物膜13。作為正型的化學(xué)增幅型光阻組合物，優(yōu)選使用以下述成分作為基本成分的光阻組合物通過照射活性光線或放射線而產(chǎn)生酸的酸產(chǎn)生劑成分(以下稱為(A)成分)、以及對堿性水溶液的溶解性由于酸的作用而產(chǎn)生變化的樹脂成分(以下稱為(B)成分)。(B)成分是使用堿溶性樹脂的羥基受到酸離解性溶解抑制基的保護而呈堿不溶性的樹脂。通過將這種(B)成分與所述(A)成分組合而使用，曝光部分產(chǎn)生酸，此所產(chǎn)生的酸使所述酸離解性溶解抑制基的保護離解。結(jié)果此曝光部分呈堿溶性，顯影時僅曝光部分被選擇性地除去，獲得規(guī)定形狀的光阻圖案。(酸產(chǎn)生劑成分(A))(A)成分是通過照射活性光線或放射線而直接或間接地產(chǎn)生酸的物質(zhì)。這種酸產(chǎn)生劑的第一形態(tài)可以列舉2,4-雙(三氯甲基)-6-胡椒基-1,3,5-三嗪、2,4-雙(三氯甲基)-6-[2-(2-呋喃基)乙烯基]-均三嗪、2,4-雙(三氯甲基)-6-[2-(5-甲基-2-呋喃基)乙烯基]-均三嗪、2,4-雙(三氯甲基)-6-[2-(5-乙基-2-呋喃基)乙烯基]-均三嗪、2，4-雙(三氯甲基)-6-[2-(5-丙基-2-呋喃基)乙烯基]-均三嗪、2,4-雙(三氯甲基)-6-[2-(3,5-二甲氧基苯基)乙烯基]-均三嗪、2,4-雙(三氯甲基)-6-[2-(3,5-二乙氧基苯基)乙烯基]-均三嗪、2,4-雙(三氯甲基)-6-[2-(3,5-二丙氧基苯基)乙烯基]-均三嗪、2,4-雙(三氯甲基)-6-[2-(3-甲氧基-5-乙氧基苯基)乙烯基]-均三嗪、2，4-雙(三氯甲基)-6-[2-(3-甲氧基-5-丙氧基苯基)乙烯基]-均三嗪、2,4-雙(三氯甲基)-6-[2-(3,4-亞甲二氧基苯基)乙烯基]-均三嗪、2,4-雙(三氯甲基)-6-(3,4-亞甲二氧基苯基)-均三嗪、2,4-雙-三氯甲基-6-(3-溴-4-甲氧基)苯基-均三嗪、2,4-雙-三氯甲基-6-(2-溴-4-甲氧基)苯基-均三嗪、2,4-雙-三氯甲基-6-(2-溴-4-甲氧基)苯乙烯基苯基-均三嗪、2,4-雙-三氯甲基-6-(3-溴-4-甲氧基)苯乙烯基苯基-均三嗪、2-(4-甲氧基苯基)-4,6-雙(三氯甲基)-1，3,5-三嗪、2-(4-甲氧基萘基)-4,6-雙(三氯甲基)-1，3,5-三嗪、2-[2-(2-呋喃基)乙烯基]-4，6-雙(三氯甲基)-1，3，5-三嗪、2-[2-(5-甲基-2-呋喃基)乙烯基]-4,6-雙(三氯甲基)-l,3,5-三嗪、2-[2-(3,5-二甲氧基苯基)乙烯基]-4,6-雙(三氯甲基)-l,3，5-三嗪、2-[2-(3,4-二甲氧基苯基)乙烯基]-4,6—雙(三氯甲基)-1,3，5_三嗪、2-(3,4-亞甲二氧基苯基)—4,6—雙(三氯甲基)-l,3，5-三嗪、三(l,3-二溴丙基)-l，3,5-三嗪、三(2,3-二溴丙基)-l,3,5-三嗪等含鹵素的三嗪化合物，以及三(2,3-二溴丙基)異氰脲酸酯等以下述通式(ai)所表示的含鹵素的11三嗪化合物。<formula>formulaseeoriginaldocumentpage12</formula>所述通式(al)中，Rla、R2a、及R^為分別獨立的鹵代垸基，此烷基的碳原子數(shù)為另外，酸產(chǎn)生劑的第二形態(tài)可以列舉a-(對甲苯磺酰氧基亞氨基)-苯基乙腈、a-(苯磺酰氧基亞氨基)-2，4-二氯苯基乙腈、a-(苯磺酰氧基亞氨基)-2,6-二氯苯基乙腈、a-(2-氯苯磺酰氧基亞氨基)-4-甲氧基苯基乙腈、a-(乙基磺酰氧基亞氨基)-l-環(huán)戊烯基乙腈，以及含有肟磺酸酯基的以下述通式(a2)所表示的化合物。<formula>formulaseeoriginaldocumentpage12</formula>所述通式(a2)中，R"為一價、二價或三價有機基，另外，R"為被取代、未被取代的飽和烴基、不飽和烴基、或芳香性化合物基，n為l6的整數(shù)。所述通式(a2)中，R4a特別優(yōu)選芳香性化合物基，這種芳香性化合物基例如可以列舉苯基、萘基等芳香族烴基，或呋喃基、噻吩基等雜環(huán)基。這些基團的環(huán)上可以具有1個以上適當(dāng)?shù)娜〈?，例如鹵素原子、烷基、烷氧基、硝基等。另外，Rsa特別優(yōu)選碳原子數(shù)為16的低級烷基，可以列舉甲基、乙基、丙基、丁基等。以所述通式(a2)所表示的酸產(chǎn)生劑是當(dāng)n=l時，R"為苯基、甲基苯基、甲氧基苯基中的任一基團，1^為甲基的化合物，具體而言可以列舉01-(甲基磺酰氧基亞氨基)-1-苯基乙腈、a-(甲基磺酰氧基亞氨基)-l-(對甲基苯基)乙腈、a-(甲基磺酰氧基亞氨基)-l-(對甲氧基苯基)乙腈、[2-(丙基磺酰氧基亞氨基)-2,3-二羥基噻吩-3-亞基](鄰甲苯基)乙腈等。n-2時，以所述通式所表示的酸產(chǎn)生劑具體可以列舉下述化學(xué)式U2-l)(a2-8)所表示的酸產(chǎn)生劑。=N~<3—S02—C2HS(a2-2)C=N—O—S02—C4H9(a2-3)(p=N~0—S02—CH3(a2-S》.C=N~0—S02—C2Hs(a2-6)C=N—O—S02—C4H9《a2-7)C=N—0~S02—CF3(a2-8》CN另外，酸產(chǎn)生劑的第三形態(tài)可以使用陽離子部具有萘環(huán)的鑰鹽。此所謂"具有萘環(huán)"，是指具有源自萘的結(jié)構(gòu)，表示含有至少兩個環(huán)的結(jié)構(gòu)，且這些環(huán)維持為芳香性。此萘環(huán)可以具有碳原子數(shù)為16的直鏈狀或支鏈狀的垸基、羥基、碳原子數(shù)為16的直鏈狀或支鏈狀的垸氧基等取代基。源自萘環(huán)的結(jié)構(gòu)可以為l價基(1個自由價)，也可以為2價基(2個自由價)以上，理想的是l價基(但是，此時是將與所述取代基鍵合的部分除外來對自由價計數(shù))。萘環(huán)的數(shù)目優(yōu)選13個。這種陽離子部具有萘環(huán)的鑰鹽的陽離子部優(yōu)選以下述通式(a3)所表示的結(jié)構(gòu)。所述通式(a3)中，R6a、R7a、R8a中的至少一個為以下述通式(a4)所表示的基團，剩余為碳原子數(shù)為16的直鏈狀或支鏈狀的烷基、可以具有取代基的苯基、羥基、或碳原子數(shù)為16的直鏈狀或支鏈狀的垸氧基?；蛘撸琑6a、R7a、R"中的一個為以下述通式(a4)所表示的基團，剩余的兩個分別獨立為碳原子數(shù)為16的直鏈狀或支鏈狀的烷撐，這些基團的末端可以鍵合而形成為環(huán)狀。<image>imageseeoriginaldocumentpage14</image>所述通式(a4)中，R9a、R^分別獨立為羥基、碳原子數(shù)為16的直鏈狀或支鏈狀的垸氧基、或碳原子數(shù)為1~6的直鏈狀或支鏈狀的垸基，RHa為單鍵或者可以具有取代基的碳原子數(shù)為1~6的直鏈狀或支鏈狀的烷撐，p及q分別獨立為0或者12的整數(shù)，p+q為3以下。其中，當(dāng)存在多個R^時，這些R^可以彼此相同也可以不同。另外，當(dāng)存在多個R"時，這些R"可以彼此相同也可以不同。從化合物的穩(wěn)定性方面來考慮，所述R"、R7a、R"中，以所述通式(a4)所表示的基團的數(shù)目優(yōu)選為一個，剩余為碳原子數(shù)為16的直鏈狀或支鏈狀的烷基、可以具有取代基的苯基，這些基團的末端可以鍵合而形成為環(huán)狀。此時，所述兩個烷撐包含硫原子而構(gòu)成39員環(huán)。構(gòu)成環(huán)的原子(包括硫原子)的數(shù)目優(yōu)選為56個。另外，所述垸撐可以具有的取代基可以列舉氧原子(此時，與構(gòu)成烷撐的碳原子一起形成羰基)、羥基等。另外，苯基可以具有的取代基可以列舉羥基、碳原子數(shù)為16的直鏈狀或支鏈狀的垸氧基、或者碳原子數(shù)為16的直鏈狀或支鏈狀的烷基等。這些陽離子部中，優(yōu)選的陽離子部可以列舉以下述化學(xué)式(a5)、(a6)所表示的結(jié)構(gòu)等，特別優(yōu)選以化學(xué)式(a6)所表示的結(jié)構(gòu)。<image>imageseeoriginaldocumentpage14</image>所述陽離子部可以為碘鎗鹽也可以為锍鹽，從酸產(chǎn)生效率等方面來考慮，理想的是锍鹽。因此，對于優(yōu)選的陽離子部具有萘環(huán)的鏺鹽的陰離子部而言，較理想的是可以形成锍鹽的陰離子。這種光酸產(chǎn)生劑的陰離子部優(yōu)選一部分或全部氫原子被氟化的氟烷基磺酸離子或芳基磺酸離子。氟垸基磺酸離子中的垸基可以為碳原子數(shù)為120的直鏈狀、支鏈狀或環(huán)狀，從產(chǎn)生的酸的體積和它的擴散距離來考慮，所述烷基優(yōu)選碳原子數(shù)為110。特別是所述烷基為支鏈狀或環(huán)狀時擴散距離較短，因而優(yōu)選使用。具體而言，從能夠廉價地合成方面來考慮，優(yōu)選的垸基可以列舉甲基、乙基、丙基、丁基、辛基等。芳基磺酸離子中的芳基是碳原子數(shù)為620的芳基，可以列舉可以被烷基、鹵素原子取代或未被取代的苯基、萘基，從能夠廉價地合成方面來考慮，優(yōu)選碳原子數(shù)為6IO的芳基。具體而言，優(yōu)選的芳基可以列舉苯基、甲苯磺?；⒁一交?、萘基、甲基萘基等。對于所述氟垸基磺酸離子或芳基磺酸離子，當(dāng)一部分或全部氫原子被氟化時，氟化率優(yōu)選10100%，更優(yōu)選50100%，特別當(dāng)全部氫原子均被氟原子取代時，酸的強度變強，因而優(yōu)選使用。具體而言，這種氟烷基磺酸離子或芳基磺酸離子可以列舉三氟甲磺酸酯、全氟丁磺酸酯、全氟辛磺酸酯、全氟苯磺酸酯等。其中，優(yōu)選的陰離子部可以列舉以下述通式(a7)所表示的結(jié)構(gòu)。所述通式(a7)中，R^可以列舉以下述通式U8)、(a9)所表示的結(jié)構(gòu)，或以化學(xué)式(a10)所表示的結(jié)構(gòu)。所述通式(a8)中，l為1~4的整數(shù)，通式(a9)中，R^表示氫原子、羥基、碳原子數(shù)為16的直鏈狀或支鏈狀的烷基、或碳原子數(shù)為16的直鏈狀或支鏈狀的烷氧基，m為13的整數(shù)。其中，從安全性的觀點來考慮，優(yōu)選三氟甲磺酸酯、全氟丁磺酸酯。另外，陰離子部也可以使用以下述化學(xué)式(all)及U12)所表示的含有氮的結(jié)構(gòu)。<formula>formulaseeoriginaldocumentpage15</formula><formula>formulaseeoriginaldocumentpage15</formula>[化9]<formula>formulaseeoriginaldocumentpage16</formula>所述式(all)、(al2)中，X"為至少一個氫原子被氟原子取代的直鏈狀或支鏈狀的烷撐，此烷撐的碳原子數(shù)為26，優(yōu)選35，最優(yōu)選碳原子數(shù)為3。另外，Xa2、X"分別獨立為至少一個氫原子被氟原子取代的直鏈狀或支鏈狀的烷基，此烷基的碳原子數(shù)為1~10,優(yōu)選1~7，更優(yōu)選13。Xal的垸撐的碳原子數(shù)或Xa2、X"的烷基的碳原子數(shù)越小，則在光阻溶劑中的溶解性也越好，因此優(yōu)選采用。另外，X"的垸撐或Xa2、X"的浣基中被氟原子取代的氫原子的數(shù)目越多，則酸的強度越強，因而優(yōu)選采用。此烷撐或垸基中的氟原子的比例、即氟化率優(yōu)選70100%，更優(yōu)選90100%,最優(yōu)選全部氫原子均被氟原子取代的全氟烷撐或全氟烷基。這種陽離子部具有萘環(huán)的鎗鹽優(yōu)選下述化學(xué)式(al3)、(al4)的化合物。另外，酸產(chǎn)生劑的其他形態(tài)可以列舉雙(對甲苯磺?；?重氮甲烷、雙(l,l-二甲基乙基磺?；?重氮甲垸、雙(環(huán)己基磺?；?重氮甲垸、雙(2，4-二甲基苯基磺?；?重氮甲烷等雙磺?；氐淄轭?；對甲苯磺酸-2-硝基芐酯、對甲苯磺酸-2,6-二硝基節(jié)酯、甲苯磺酸硝基芐酯、甲苯磺酸二硝基芐酯、磺酸硝基芐酯、碳酸硝基芐酯、碳酸二硝基芐酯等硝基芐基衍生物；鄰苯三酚三甲磺酸酯、鄰苯三酚三甲苯磺酸酯、甲苯磺酸節(jié)酯、磺酸芐酯、N-甲基磺酰氧基丁二酰亞胺、N-三氯甲基磺酰氧基丁二酰亞胺、N-苯基磺酰氧基順丁烯二酰亞胺、N-甲基磺酰氧基鄰苯二甲酰亞胺等磺酸酯；N-羥基鄰苯二甲酰亞胺、N-羥基萘二甲酰亞胺等三氟甲磺酸酯類；二苯基碘鎗六氟磷酸鹽、(4-甲氧基苯基)苯基碘鎗三氟甲磺酸鹽、雙(對叔丁基苯基)碘鎗三氟甲磺酸鹽、三苯基锍六氟磷酸鹽、(4-甲氧基苯基)二苯基锍三氟甲磺酸鹽、(對叔丁基苯基)二苯基锍三氟甲磺酸鹽等鐵鹽；安息香甲苯磺酸酯、a-甲基安息香甲苯磺酸酯等安息香甲苯磺酸酯類；其他二苯基碘鎗鹽、三苯基锍鹽、苯基重氮鹽、碳酸芐酯等。另外，酸產(chǎn)生劑的第四形態(tài)可以使用以下述通式(al5)所表示的化合物。<formula>formulaseeoriginaldocumentpage17</formula>所述式(al5)中，X"表示原子價為s的硫原子或碘原子，s為l或2。n表示括號內(nèi)的結(jié)構(gòu)的重復(fù)單元。R"a是與X"鍵合的有機基，表示碳原子數(shù)為630的芳基、碳原子數(shù)為430的雜環(huán)基、碳原子數(shù)為130的垸基、碳原子數(shù)為230的烯基、或碳原子數(shù)為230的炔基，并且，R"a可以被選自由下述基團所組成的群組中的至少一種取代烷基、羥基、烷氧基、垸基羰基、芳基羰基、垸氧基羰基、芳氧基羰基、芳硫基羰基、酰氧基、芳硫基、垸硫基、芳基、雜環(huán)、芳氧基、烷基亞磺?；⒎蓟鶃喕酋；③酋；?、芳基磺?；h(huán)氧垸基、氨基、氰基、硝基的各基團以及鹵素。R"a的個數(shù)為s+n(s—l)+1，R"a可以分別彼此相同也可以不同。另外，2個以上的R"a可以彼此直接地或者經(jīng)由-O隱、-S-、-SO畫、-S02-、曙NH-、-NR15a-、-CO-、-COO畫、-CONH-、碳原子數(shù)為13的垸撐或苯撐而鍵合，形成包含X"的環(huán)結(jié)構(gòu)。R"a是碳原子數(shù)為15的烷基、或碳原子數(shù)為610的芳基。X"為以下述通式(al6)所表示的結(jié)構(gòu)?！獂a7_j_xa8—x,(3夠所述式(al6)中，X"表示碳原子數(shù)為18的烷撐、碳原子數(shù)為620的亞芳基、或碳原子數(shù)為820的雜環(huán)化合物的2價基，X"可以被選自碳原子數(shù)為18的烷基、碳原子數(shù)為18的垸氧基、碳原子數(shù)為610的芳基、羥基、氰基、硝基的各基團以及鹵素所組成的群組中的至少一種取代。xas表示-0-、-S-、-SO-、-S02-、-NH-、-NR15a-、-CO-、-COO-、-CONH-、碳數(shù)為1~3的烷撐或苯撐。n表示括號內(nèi)的結(jié)構(gòu)的重復(fù)單元數(shù)。n+l個X"及n個Xas可以分別相同也可以不同。R"a與前文中所述的定義相同。X^是鎗的反離子。它的個數(shù)為每l分子中有n+l個，其中至少l個為以下述通式(al7)所表示的氟化垸基氟磷酸陰離子，剩余的可以為其他陰離子。[化13]1^、PF—'《a司所述式(al7)中，1116<1表示80%以上的氫原子被氟原子取代的垸基。t表示R^的個數(shù)，為15的整數(shù)。t個R"a可以分別相同也可以不同。所述通式(al5)的鑰離子的優(yōu)選具體示例可以列舉三苯基锍、三-對甲苯基锍、4-(苯硫基)苯基二苯基锍、雙[4-(二苯基锍基)苯基]硫化物、雙[4-{雙[4-(2-羥基乙氧基)苯基]锍基}苯基]硫化物、雙{4-[雙(4-氟苯基)锍基]苯基}硫化物、4-(4-苯甲酰基-2-氯苯硫基)苯基雙(4-氟苯基)锍、4-(4-苯甲?；搅蚧?苯基二苯基锍、7-異丙基-9-氧代-10-硫雜-9,10-二氫蒽-2-基二-對甲苯基锍、7-異丙基-9-氧代-10-硫雜-9,10-二氫蒽-2-基二苯基锍、2-[(二苯基)锍基]噻噸酮、4-[4-(4-叔丁基苯甲酰基)苯硫基]苯基二-對甲苯基锍、4-(4-苯甲酰基苯硫基)苯基二苯基锍、二苯基苯甲酰甲基锍、4-羥基苯基甲基芐基锍、2-萘基甲基(l-乙氧基羰基)乙基锍、4-羥基苯基甲基苯甲酰甲基锍、十八垸基甲基苯甲酰甲基锍、二苯基碘鑰、雙(對甲苯基)碘鎗、雙(4-十二烷基苯基)碘鑰、雙(4-甲氧基苯基)碘鎗、(4-辛氧基苯基)苯基碘鑰、雙(4-癸氧基)苯基碘鑰、4-(2-羥基十四烷氧基)苯基苯基碘総、4-異丙基苯基(對甲苯基)碘鑰、或4-異丁基苯基(對甲苯基)碘鑰。所述通式(al5)的陰離子成分具有至少1個以所述通式(al7)所表示的氟化烷基氟磷酸陰離子。剩余的陰離子成分可以為其他陰離子。對于其他陰離子并無特別限定，可以使用以往眾所周知的陰離子。例如，可以列舉F、Cf、Br\r等齒素離子；0H—;C104—;FSCV、C1SCV、CH3S(V、C6H5S03-、CF3SCV等磺酸離子類；HSCV、5042等硫酸離子類；HCCV、<3032-等碳酸離子類；H2P04—、HP042-、P043—等磷酸離子類；PF6—、PF50H—等氟磷酸離子類；BF4—、B(C6F5K、B(C6H4CF3)4-等硼酸離子類；Aid"以及BiF6—等。此外，也可以列舉SbF6—、SbFsOH-等氟銻酸離子類，或AsF6-、AsFsOH-等氟砷酸離子類，但是這些離子類含有毒性元素，因此不佳。由所述通式(al7)所表示的氟化烷基氟磷酸陰離子中，R"a表示被氟原子取代的烷基，優(yōu)選碳原子數(shù)為18，更優(yōu)選碳原子數(shù)為14。垸基的具體示例可以列舉甲基、乙基、丙基、丁基、戊基、辛基等直鏈垸基；異丙基、異丁基、仲丁基、叔丁基等支鏈18烷基；另外環(huán)丙基、環(huán)丁基、環(huán)戊基、環(huán)己基等環(huán)烷基等，烷基中的被氟原子取代的氫原子的比例通常為80%以上，優(yōu)選90%以上，更優(yōu)選100%。氟原子的取代率小于80%時，所述通式(al5)所表示的氟化烷基氟磷酸鐺鹽的酸強度下降。RWa特別優(yōu)選碳原子數(shù)為14、且氟原子的取代率為100%的直鏈狀或支鏈狀的全氟烷基，具體示例可以列舉CF3、CF3CF2、(CF3)2CF、CF3CF2CF2、CF3CF2CF2CF2、(CF3)2CFCF2、CF3CF2(CF3)CF、(CF3)3C。R"a的個數(shù)t為15的整數(shù)，優(yōu)選24，特別優(yōu)選2或3。優(yōu)選的氟化烷基氟磷酸陰離子的具體示例可以列舉[(CF3CF2)2PF4]—、[(CF3CF2)3PF3]-、[((CF3)2CF)2PF4]-、[((CF3)2CF)3PF3]-、[(CF3CF2CF2)2PF4]-、[(CF3CF2CF2)3PF3]-、[((CF3)2CFCF2)2PF4]-、[((CF3)2CFCF2)3PF3]-、[(CF3CF2CF2CF2)2PF4]-、或[(CF3CF2CF2)3PF3〗-，這些中，特別優(yōu)選(CF3CF2)3PF3]-、[(CF3CF2CF2)3PF3]'、[((CF3)2CF)3PF3]-、[((CF3)2CF)2PF4]-、[((CF3)2CFCF2)3PF3]-、或[((CF3)2CFCF2)2PF4]-。由所述通式(al5)所表示的氟化烷基氟磷酸鎗鹽中，特別優(yōu)選使用以下述通式(a18)所表示的二苯基[4-(苯硫基)苯基]锍三氟三氟垸基磷酸鹽。所述式(al8)中，u為l8的整數(shù)，優(yōu)選14的整數(shù)。所述(A)成分酸產(chǎn)生劑優(yōu)選使用選自通式(a2)、及通式(al8)中的至少一種，通式(a2)中，n值優(yōu)選2，另外，R"優(yōu)選二價的碳數(shù)為18的被取代或未被取代的烷撐、或者被取代或未被取代的芳香族基團，另外，RSa優(yōu)選碳數(shù)為18的被取代或未被取代的烷基、或者取代或未被取代的芳基。如上所述的(A)成分可以單獨使用，也可以將兩種以上組合使用。另外，正型光阻組合物中，(A)成分的調(diào)配量優(yōu)選0.055質(zhì)量％。通過使(A)成分的調(diào)配量為0.05質(zhì)量％以上，可以獲得充分的靈敏度，另外，通過使調(diào)配量為5質(zhì)量％以下，可以提高此(A)成分相對于溶劑的溶解性從而獲得均勻的溶液，使保存穩(wěn)定性提高。(樹脂成分(B))所述樹脂成分可以是包含酚醛樹脂(Bl)、聚羥基苯乙烯樹脂(B2)、及丙烯酸系樹脂(B3)中的至少一種的樹脂，或者也可以是混合樹脂或共聚物，這些樹脂成分相對于堿的溶解性會由于酸的作用而增大。[(Bl)酚醛樹脂]相對于堿的溶解性由于酸的作用而增大的酚醛樹脂(Bl)可以使用以下述通式(bl)所表示的樹脂。[化15]所述通式(bl)中，R"為酸離解性溶解抑制基，R^及RSb分別獨立為氫原子或碳原子數(shù)為16的烷基，n表示重復(fù)單元。另外，以所述R"所表示的酸離解性溶解抑制基優(yōu)選以下述通式(b2)或(b3)所表示的碳原子數(shù)為16的直鏈狀、支鏈狀或環(huán)狀的烷基，四氫吡喃基，四呋喃基或三烷基甲硅烷基。所述通式(b2)及通式(b3)中，R^及RSb分別獨立為氫原子或者碳原子數(shù)為l6的直鏈狀或支鏈狀的垸基，RSb是碳原子數(shù)為110的直鏈狀、支鏈狀或環(huán)狀的烷基，R"b是碳原子數(shù)為16的直鏈狀、支鏈狀或環(huán)狀的烷基，o為0或l。另外，碳原子數(shù)為16的直鏈狀或支鏈狀的烷基可以列舉甲基、乙基、丙基、異丙基、正丁基、異丁基、叔丁基、戊基、異戊基、新戊基等，環(huán)狀的烷基可以列舉環(huán)戊基、環(huán)己基等。其中，具體而言，以所述通式(b2)所表示的酸離解性溶解抑制基可以列舉甲氧基乙基、乙氧基乙基、正丙氧基乙基、異丙氧基乙基、正丁氧基乙基、異丁氧基乙基、叔丁氧基乙基、環(huán)己氧基乙基、甲氧基丙基、乙氧基丙基、l-甲氧基-l-甲基-乙基、1-乙氧基-l-甲基乙基等，所述式(b3)的酸離解性溶解抑制基例如可以列舉叔丁氧基羰基、叔丁氧基羰基甲基等。另外，所述三垸基甲硅烷基可以列舉三甲基甲硅烷基、三-叔丁基[化16]20二甲基甲硅烷基等各烷基的碳數(shù)為16的三烷基甲硅烷基。[(B2)聚羥基苯乙烯樹脂]相對于堿的溶解性由于酸的作用而增大的聚羥基苯乙烯樹脂(B2)可以使用以下述通式(b4)所表示的樹脂。[化17]所述通式(b4)中，RSb為氫原子或碳數(shù)為16的烷基，R"為酸離解性溶解抑制基，n表示重復(fù)單元。另外，碳原子數(shù)為16的直鏈狀或支鏈狀的烷基可以列舉甲基、乙基、丙基、異丙基、正丁基、異丁基、叔丁基、戊基、異戊基、新戊基等，環(huán)狀的垸基可以列舉環(huán)戊基、環(huán)己基等。以所述RSb所表示的酸離解性溶解抑制基可以使用與所述通式(b2)及(b3)中例示的相同的酸離解性溶解抑制基。另外，所述相對于堿的溶解性由于酸的作用而增大的聚羥基苯乙烯樹脂(B2)中，可以含有其他聚合性化合物來作為結(jié)構(gòu)單元，以將物理、化學(xué)特性控制為適度。這種聚合性化合物可以列舉眾所周知的自由基聚合性化合物、或陰離子聚合性化合物。例如，可以列舉丙烯酸、甲基丙烯酸、丁烯酸等單羧酸類；順丁烯二酸、反丁烯二酸、亞甲基丁二酸等二羧酸類；2-甲基丙烯酰氧基乙基琥珀酸、2-甲基丙烯酰氧基乙基順丁烯二酸、2-甲基丙烯酰氧基乙基鄰苯二甲酸、2-甲基丙烯酰氧基乙基六氫鄰苯二甲酸等具有羧基及酯鍵的甲基丙烯酸衍生物類；(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丁酯等(甲基)丙烯酸垸基酯類；(甲基)丙烯酸-2-羥基乙酯、(甲基)丙烯酸-2-羥基丙酯等(甲基)丙烯酸羥基烷基酯類；(甲基)丙烯酸苯酯、(甲基)丙烯酸節(jié)酯等(甲基)丙慮酸芳基酯類；順丁烯二酸二乙酯、反丁烯二酸二丁酯等二羧酸二酯類；苯乙烯、a-甲基苯乙烯、氯苯乙烯、氯甲基苯乙烯、乙烯基甲苯、羥基苯乙烯、a-甲基羥基苯乙烯、a-乙基羥基苯乙烯等含乙烯基的芳香族化合物類；乙酸乙烯酯等含乙烯基的脂肪族化合物類；丁二烯、異戊二烯等共軛二烯烴類；丙烯腈、甲基丙烯腈等含腈基的聚合性化合物類；氯乙烯、偏二氯乙烯等含氯的聚合性化合物；以及丙烯酰胺、甲基丙烯酰胺等含酰胺鍵21的聚合性化合物類等。[(B3)丙烯酸系樹脂]相對于堿的溶解性由于酸的作用而增大的丙烯酸系樹脂(B3)可以使用以下述通式(b5)(b7)所表示的樹脂。[化18]<formula>formulaseeoriginaldocumentpage22</formula>所述通式(b5)(b7)中，R咖R^b分別獨立為氫原子或者碳原子數(shù)為16的直鏈狀或支鏈狀的烷基、氟原子或者碳原子數(shù)為16的直鏈狀或支鏈狀的氟化烷基(其中，R"b不為氫原子)，XW與鍵合在其上的碳原子一起形成碳原子數(shù)為520的烴環(huán)，X^為可以具有取代基的脂肪族環(huán)狀基團或垸基，n表示重復(fù)單元，c為04，d為0或另外，碳原子數(shù)為16的直鏈狀或支鏈狀的烷基可以列舉甲基、乙基、丙基、異丙基、正丁基、異丁基、叔丁基、戊基、異戊基、新戊基等，環(huán)狀的烷基可以列舉環(huán)戊基、環(huán)己基等。另外，所謂氟化烷基，是指所述烷基的一部分或全部氫原子被氟原子取代。對于所述RUb，從對比度較高，且解像度、焦點深度及寬度等良好方面來考慮，所述RHb優(yōu)選碳原子數(shù)為24的直鏈狀或支鏈狀烷基，所述R1315、R14b、RWb及R^優(yōu)選氫原子或甲基。所述Xbl與鍵合在其上的碳原子一起，形成碳原子數(shù)為520的脂肪族環(huán)狀基團。這種脂肪族環(huán)狀基團的具體示例可以列舉從單環(huán)烷烴，雙環(huán)烷烴、三環(huán)烷烴、四環(huán)烷烴等多環(huán)垸烴上除去1個以上氫原子后所得的基團。具體而言，可以列舉從環(huán)戊烷、環(huán)己烷、環(huán)庚烷、環(huán)辛烷等單環(huán)烷烴，或金剛垸、降莰烷、異莰烷、三環(huán)癸烷、四環(huán)十二垸等多環(huán)垸烴上除去1個以上氫原子后所得的基團。特別優(yōu)選從環(huán)己垸、金剛垸上除去l個以上氫原子后所得的基團(可以進一步具有取代基)。另外，所述Xbi的脂肪族環(huán)狀基團在其環(huán)骨架上具有取代基時，作為此取代基的例，可以列舉羥基、羧基、氰基、氧原子(=0)等極性基，或碳數(shù)為14的直鏈狀或支鏈狀的低級垸基。作為極性基，特別優(yōu)選氧原子(=0)。所述XM為脂肪族環(huán)狀基團或烷基，可以例示從單環(huán)垸烴、雙環(huán)烷烴、三環(huán)烷烴、四環(huán)烷烴等多環(huán)烷烴上除去1個以上氫原子的基團等。具體而言，可以列舉從環(huán)戊烷、環(huán)己烷、環(huán)庚垸、環(huán)辛垸等單環(huán)垸烴，或金剛烷、降莰烷、異莰烷、三環(huán)癸烷、四環(huán)十二垸等多環(huán)烷烴上除去1個以上氫原子的基團等。特別優(yōu)選自金剛烷除去1個以上氫原子的基團(進一步可以具有取代基)。另外，當(dāng)所述X^的脂肪族環(huán)狀基團的環(huán)骨架上具有取代基時，此取代基的例子可以列舉羥基、羧基、氰基、氧原子(=0)等極性基，或者碳原子數(shù)為14的直鏈狀或支鏈狀的低級烷基。極性基特別優(yōu)選氧原子(=0)。另外，當(dāng)X^為垸基時，優(yōu)選碳原子數(shù)為120、優(yōu)選615的直鏈狀或支鏈狀的烷基。這種垸基特別優(yōu)選垸氧基垸基，這種烷氧基垸基可以列舉1-甲氧基乙基、1-乙氧基乙基、1-正丙氧基乙基、1-異丙氧基乙基、1-正丁氧基乙基、1-異丁氧基乙基、1-叔丁氧基乙基、1-甲氧基丙基、1-乙氧基丙基、l-甲氧基-l-甲基-乙基、l-乙氧基-l-甲基乙基等。作為以所述通式(b5)所表示的丙烯酸系樹脂的優(yōu)選具體示例，可以列舉以下述通式(b5-l)(b5-3)所表示的丙烯酸系樹脂。[化19]《b5-1)(bS-2)《bS-3)所述通式(b5-l)(bS3)中的R"b為氫原子或甲基，n為重復(fù)單元。作為以所述通式(b6)所表示的丙烯酸系樹脂的優(yōu)選具體示例，可以列舉以下述通式(b6-l)(b6-28)所表示的丙烯酸系樹脂。<formula>formulaseeoriginaldocumentpage24</formula>術(shù)、(b6鄰《b6-27)作為以所述通式(b7)所表示的丙烯酸系樹脂的優(yōu)選具體示例，可以列舉以下述通式(b7-l)(b7-22)所表示的丙烯酸系樹脂。[化22]<formula>formulaseeoriginaldocumentpage25</formula><formula>formulaseeoriginaldocumentpage26</formula><formula>formulaseeoriginaldocumentpage27</formula>《b7鄰(b7-22)另外，所述丙烯酸系樹脂(B3)優(yōu)選包含下述共聚物的樹脂，即，此共聚物包含由相對于所述通式(b5)~(b7)的結(jié)構(gòu)單元，進一步具有醚鍵的聚合性化合物所衍生的結(jié)構(gòu)單元。所述結(jié)構(gòu)單元是由具有醚鍵的聚合性化合物所衍生的結(jié)構(gòu)單元。具有醚鍵的聚合性化合物可以例示(甲基)丙烯酸-2-甲氧基乙酯、(甲基)丙烯酸-2-乙氧基乙酯、甲氧基三乙二醇(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸-3-甲氧基丁酯、乙基卡必醇(甲基)丙烯酸酯、苯氧基聚乙二醇(甲基)丙烯酸酯、甲氧基聚丙二醇(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸四氫糠酯等具有醚鍵及酯鍵的(甲基)丙烯酸衍生物等自由基聚合性化合物，優(yōu)選(甲基)丙烯酸-2-甲氧《b7-1袋)基乙酯、(甲基)丙烯酸-2-乙氧基乙酯、甲氧基三乙二醇(甲基)丙烯酸酯。這些化合物可以單獨使用或者將兩種以上組合使用。另外，所述丙烯酸系樹脂(B3)中可以包含其他聚合性化合物來作為結(jié)構(gòu)單元，以將物理、化學(xué)特性控制為適度。這種聚合性化合物可以列舉眾所周知的自由基聚合性化合物、或陰離子聚合性化合物。例如，可以列舉丙烯酸、甲基丙烯酸、丁烯酸等單羧酸類；順丁烯二酸、反丁烯二酸、亞甲基丁二酸等二羧酸類；2-甲基丙烯酰氧基乙基琥珀酸、2-甲基丙烯酰氧基乙基順丁烯二酸、2-甲基丙烯酰氧基乙基鄰苯二甲酸、2-甲基丙烯酰氧基乙基六氫鄰苯二甲酸等具有羧基及酯鍵的甲基丙烯酸衍生物類；(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丁酯等(甲基)丙烯酸垸基酯類；(甲基)丙烯酸-2-羥基乙酯、(甲基)丙烯酸-2-羥基丙酯等(甲基)丙烯酸羥基烷基酯類；(甲基)丙烯酸苯酯、(甲基)丙烯酸芐酯等(甲基)丙烯酸芳基酯類；順丁烯二酸二乙酯、反丁烯二酸二丁酯等二羧酸二酯類；苯乙烯、a-甲基苯乙烯、氯苯乙烯、氯甲基苯乙烯、乙烯基甲苯、羥基苯乙烯、a-甲基羥基苯乙烯、a-乙基羥基苯乙烯等含乙烯基的芳香族化合物類；乙酸乙烯酯等含乙烯基的脂肪族化合物類；丁二烯、異戊二烯等共軛二烯烴類；丙烯腈、甲基丙烯腈等含腈基的聚合性化合物類；氯乙烯、偏二氯乙烯等含氯的聚合性化合物；以及丙烯酰胺、甲基丙烯酰胺等含酰胺鍵的聚合性化合物類等。而且，所述丙烯酸系樹脂(B3)之中，優(yōu)選具有以所述通式(b7)所表示的結(jié)構(gòu)單元、由具有醚鍵的聚合性化合物衍生的結(jié)構(gòu)單元、(甲基)丙烯酸單元、及由(甲基)丙烯酸垸基酯類所構(gòu)成的結(jié)構(gòu)單元的共聚物。這種共聚物優(yōu)選以下述通式(b8)所表示的共聚物。[化25]<formula>formulaseeoriginaldocumentpage29</formula>所述通式(b8)中，R如b為氫原子或甲基，R"b是碳原子數(shù)為16的直鏈狀或支鏈狀的烷基或者烷氧基烷基，R^b是碳原子數(shù)為24的直鏈狀或支鏈狀的烷基，X"與前文中所述的定義相同。另外，以所述通式(b8)所表示的共聚物中，e、f及g分別以質(zhì)量比計，e為l30質(zhì)量％，f為2070質(zhì)量％，g為2070質(zhì)量％。另外，(B)成分的聚苯乙烯換算重均分子量優(yōu)選10,000600，000，更優(yōu)選50,000600,000，更優(yōu)選230,000550,000。通過使(B)成分的聚苯乙烯換算重均分子量如上所述，可以在光阻膜與基板的剝離性不下降的情況下，使光阻膜保持充分的強度，而且進行鍍敷處理時不會出現(xiàn)輪廓(profile)膨脹或產(chǎn)生龜裂的問題。另外，(B)成分優(yōu)選分散度為1.05以上的樹脂。其中，所謂分散度是指用重均分子量除以數(shù)均分子量所得的值。通過采用這種分散度，可以避免光阻膜對所需的鍍敷具備抗應(yīng)力性，或者通過鍍敷處理而獲得的金屬層容易膨脹的問題。正型光阻組合物中，這種(B)成分的調(diào)配量優(yōu)選560質(zhì)量％。(堿溶性樹脂(C))另外，本實施形態(tài)的正型光阻組合物中可以適宜地調(diào)配堿溶性樹脂。這種(C)成分優(yōu)選選自堿溶性的酚醛樹脂(Cla)、聚羥基苯乙烯樹脂(Clb)、丙烯酸系樹脂(Clc)、及乙烯樹脂(Cld)中的至少一種。[(Cla)堿溶性酚醛樹脂]所述堿溶性酚醛樹脂(Cla)優(yōu)選聚苯乙烯換算重均分子量為1,00050，000。這種酚醛樹脂(Cla)例如可以通過在酸催化劑下，使具有酚性羥基的芳香族化合物(以下簡稱為"酚類")與醛類加成縮合而獲得。此時所使用的酚類例如可以列舉苯酚、鄰甲酚、間甲酚、對甲酚、鄰乙基苯酚、間乙基苯酚、對乙基苯酚、鄰丁基苯酚、間丁基苯酚、對丁基苯酚、2，3-二甲苯酚、2,4-二甲苯酚、2,5-二甲苯酚、2,6-二甲苯酚、3,4-二甲苯酚、3，5-二甲苯酚、2,3,5-三甲基苯酚、3,4,5-三甲基苯酚、對苯基苯酚、間苯二酚、對苯二酚、對苯二酚單甲醚、鄰苯三酚、間苯三酚、羥基聯(lián)苯、雙酚A、沒食子酸、沒食子酸酯、a-萘酚、e-萘酚等。另夕卜，醛類例如可以列舉甲醛、糠醛、苯甲醛、硝基苯甲醛、乙醛等。對加成縮合反應(yīng)時的催化劑并無特別限定，例如若為酸催化劑則可以使用鹽酸、硝酸、硫酸、甲酸、草酸、乙酸等。本實施形態(tài)中，通過使用鄰甲酚，將樹脂中的羥基的氫原子取代成其他取代基，或者使用體積較大的醛類，可以進一步提高樹脂的柔軟性。[(Clb)堿溶性聚羥基苯乙烯樹脂]所述堿溶性聚羥基苯乙烯樹脂(Clb)優(yōu)選重均分子量為1,00050，000。構(gòu)成這種聚羥基苯乙烯樹脂(Clb)的羥基苯乙烯系化合物可以列舉對羥基苯乙烯、a-甲基羥基苯乙烯、a-乙基羥基苯乙烯等。而且，所述聚羥基苯乙烯樹脂優(yōu)選羥基苯乙烯系化合物與苯乙烯樹脂的共聚物，構(gòu)成這種苯乙烯樹脂的苯乙烯系化合物可以列30舉苯乙烯、氯苯乙烯、氯甲基苯乙烯、乙烯基甲苯、a-甲基苯乙烯等。[(Clc)堿溶性丙烯酸系樹脂]所述堿溶性丙烯酸系樹脂(Clc)優(yōu)選重均分子量為50,000800,000。所述丙烯酸系樹脂(Clc)優(yōu)選含有下述單體由具有醚鍵的聚合性化合物所衍生的單體、以及由具有羧基的聚合性化合物所衍生的單體。所述具有醚鍵的聚合性化合物可以例示(甲基)丙烯酸-2-甲氧基乙酯、甲氧基三乙二醇(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸-3-甲氧基丁酯、乙基卡必醇(甲基)丙烯酸酯、苯氧基聚乙二醇(甲基)丙烯酸酯、甲氧基聚丙二醇(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸四氫糠酯等具有醚鍵及酯鍵的(甲基)丙烯酸衍生物等，優(yōu)選丙烯酸-2-甲氧基乙酯、甲氧基三乙二醇丙烯酸酯。這些化合物可以單獨使用，也可以將兩種以上組合使用。所述具有羧基的聚合性化合物可以例示丙烯酸、甲基丙烯酸、丁烯酸等單羧酸，順丁烯二酸、反丁烯二酸、亞甲基丁二酸等二羧酸，2-甲基丙烯酰氧基乙基琥珀酸、2-甲基丙烯酰氧基乙基順丁烯二酸、2-甲基丙烯酰氧基乙基鄰苯二甲酸、2-甲基丙烯酰氧基乙基六氫鄰苯二甲酸等具有羧基及酯鍵的化合物等，優(yōu)選丙烯酸、甲基丙烯酸。這些化合物可以單獨使用，也可以將兩種以上組合使用。[(Cld)堿溶性聚乙烯樹脂]所述堿溶性聚乙烯樹脂(Cld)優(yōu)選重均分子量為10,000200，000，更優(yōu)選50,000100,000。所述聚乙烯樹脂(Cld)是聚(乙烯低級烷基醚)，包含使下述通式(cl)所表示的乙烯低級烷基醚單獨、或者兩種以上的混合物聚合而獲得的(共)聚合物。[化26]H=CH2(cl)S化所述通式(cl)中，R"是碳原子數(shù)為16的直鏈狀或支鏈狀的垸基。所述聚乙烯樹脂(Cld)是由乙烯系化合物獲得的聚合物，具體而言，這種聚乙烯樹脂可以列舉聚氯乙烯、聚苯乙烯、聚羥基苯乙烯、聚乙酸乙烯酯、聚乙烯苯甲酸、聚乙烯甲醚、聚乙烯乙醚、聚乙烯醇、聚乙烯吡咯垸酮、聚乙烯酚以及這些的共聚物等。其中，鑒于使玻璃化轉(zhuǎn)變點較低，優(yōu)選聚乙烯甲醚。相對于所述(B)成分100質(zhì)量份，這種(C)堿溶性樹脂的調(diào)配量優(yōu)選595質(zhì)量份，更優(yōu)選1090質(zhì)量份。通過使(C)堿溶性樹脂的調(diào)配量為5質(zhì)量份以上，可以提高抗龜裂性，通過使調(diào)配量為95質(zhì)量份以下，可以防止顯影時的膜減少。(其他成分)使用時，所述正型光阻組合物優(yōu)選以將所述各成分溶解在溶劑中的溶液的形式而進行使用。這種溶劑的例子可以列舉丙酮、甲基乙基酮、環(huán)己酮、甲基異戊基酮、2-庚酮等酮類；乙二醇、乙二醇單乙酸酯、二乙二醇、二乙二醇單乙酸酯、丙二醇、丙二醇單乙酸酯、二丙二醇及二丙二醇單乙酸酯的單甲醚、單乙醚、單丙醚、單丁醚或單苯醚等多元醇類及其衍生物；二惡垸等環(huán)狀醚類；甲酸乙酯、乳酸甲酯、乳酸乙酯、乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丁酯、丙酮酸甲酯、乙酰乙酸甲酯、乙酰乙酸乙酯、丙酮酸乙酯、乙氧基乙酸乙酯、甲氧基丙酸甲酯、乙氧基丙酸乙酯、2-羥基丙酸甲酯、2-羥基丙酸乙酯、2-羥基-2-甲基丙酸乙酯、2-羥基-3-甲基丁酸甲酯、醋酸3-甲氧基丁酯、醋酸3-甲基-3-甲氧基丁酯等酯類；以及甲苯、二甲苯等芳香族烴類。這些溶劑可以單獨使用，另外也可以將兩種以上混合使用。這些有機溶劑的使用量優(yōu)選使固體成分濃度為30質(zhì)量％以上的范圍，以便于使利用本實施形態(tài)的化學(xué)增幅型正型光阻組合物(例如，旋涂法)而獲得的光阻層的膜厚為1nm以上。利用本實施形態(tài)的組合物而獲得的光阻層的膜厚更優(yōu)選1^m200pm的范圍。所述正型化學(xué)增幅型光阻組合物中，可以進一步根據(jù)需要而添加含有具有混和性的添加物，例如用來改善光阻膜的性能的加成樹脂、敏化劑、酸擴散抑制劑、粘接助劑、穩(wěn)定劑、著色劑、表面活性劑等慣用的添加物。本實施形態(tài)的負極基材10中的有機膜12優(yōu)選由下述含有(A2)堿溶性樹月旨、及(B2)含醌二疊氮基的化合物的正型光阻組合物所形成的有機膜，更優(yōu)選通過圖案曝光，而使由此正型光阻組合物所形成的有機膜圖案化成規(guī)定形狀的圖案化有機膜。所述(A2)成分例如可以列舉于酸性催化劑存在下，使酚類(苯酚、間甲酚、對甲酚、二甲苯酚、三甲基苯酚等)、與醛類(甲醛、甲醛前驅(qū)體、丙醛、2-羥基苯甲醛、3-羥基苯甲醛、4-羥基苯甲醛等)以及/或者酮類(甲基乙基酮、丙酮等)縮合而獲得的酚醛樹脂；羥基苯乙烯的均聚物、羥基苯乙烯與其他苯乙烯系單體的共聚物、羥基苯乙烯與丙烯酸或甲基丙烯酸或者其衍生物的共聚物等羥基苯乙烯系樹脂；丙烯酸、甲基丙烯酸、或丙烯酸與甲基丙烯酸的衍生物、或者這些的共聚物等丙烯酸系樹脂等。特別是含有選自間甲酚、對甲酚、3,4-二甲苯酚及2,3,5-三甲基苯酚中的至少兩種的酚類，與含有選自甲醛、2-羥基苯甲醛(水楊醛)及丙醛中的至少一種的醛類進行縮合反應(yīng)而獲得的酚醛樹脂，適合于制備靈敏度較高且解析性優(yōu)異的正型光阻組合物。(A5)成分可以依據(jù)常法來制造。(A2)成分的利用凝膠滲透色譜法所測定的聚苯乙烯換算重均分子量(Mw)也取決于(A2)成分的種類，但是從靈敏度或圖案形成方面來考慮，優(yōu)選2,000100,000，更優(yōu)選3,00030,000。另外，(A2)成分優(yōu)選進行分級處理以使Mw為3,00030，000、更優(yōu)選5,00020,000范圍內(nèi)的酚醛樹脂(以下，稱為分級樹脂)。使用這種分級樹脂來作為(A2)成分，可以獲得耐熱性優(yōu)異的正型光阻組合物。分級處理例如可以通過利用聚合物溶解度的分子量依賴性的分級沉淀處理來進行。分級沉淀處理例如是首先將以所述方式而獲得的縮合產(chǎn)物即酚醛樹脂溶解在極性溶劑中，然后向此溶液中添加水、庚垸、己垸、戊烷、環(huán)己烷等不良溶劑。此時，低分子量的聚合物一直溶解在不良溶劑中，因此通過過濾取出析出物，可以獲得低分子量聚合物的含量降低的分級樹脂。極性溶劑例如可以列舉甲醇、乙醇等醇，丙酮、甲基乙基酮等酮，乙二醇單乙醚乙酸酯等二醇醚酯，四氫呋喃等環(huán)狀醚等。所述(B2)成分是含醌二疊氮基的化合物，特別是從靈敏度較高、即使在低鈉(NA)條件下解析性也十分優(yōu)異，以及掩模線性或DOF(焦點深度，d印thoffocus)方面來考慮，優(yōu)選以下述通式(b2a)[所述通式(b2a)中，RbiRb8分別獨立表示氫原子、鹵素原子、碳原子數(shù)為16的烷基、碳原子數(shù)為16的垸氧基、或碳原子數(shù)為36的環(huán)烷基，Rb^及Rb"分別獨立表示氫原子、或碳原子數(shù)為16的垸基，當(dāng)Rb9為氫原子、或碳數(shù)為16的烷基時，Qi表示氫原子、碳數(shù)為16的烷基、或以下述化學(xué)式(b2b)(OH)c[所述通式(b2b)中，Rb"及Rb"分別獨立表示氫原子、鹵素原子、碳原子數(shù)為l6的烷基、碳原子數(shù)為16的垸氧基、或碳原子數(shù)為36的環(huán)烷基，c表示l3的整[化27][化28]數(shù)]所表示的殘基，當(dāng)(^與R^的末端鍵合時，Qi與R159、及Qi與R^之間的碳原子一起構(gòu)成碳原子鏈為36的環(huán)烷撐鏈，a及b表示l3的整數(shù)，d表示03的整數(shù)，n表示03的整數(shù)]所表示的化合物與1,2-萘醌二疊氮基磺?；衔锏孽セ磻?yīng)產(chǎn)物(非二苯甲酮系PAC)。符合所述通式(b2a)的酚化合物，例如優(yōu)選[l]Qi與Rbs的末端不鍵合，R^表示氫原子或碳數(shù)為16的烷基，Qi表示以所述化學(xué)式(b2)所表示的殘基，n為O的三酚型化合物；以及[2]Qi與Rbs的末端不鍵合，R^表示氫原子或碳數(shù)為16的垸基，Qt表示氫原子或碳數(shù)為16的烷基，n為13的整數(shù)的線型多酚化合物。三酚型化合物更具體而言可以列舉三(4-羥基苯基)甲垸、雙(4-羥基-3-甲基苯基)-2-羥基苯基甲烷、雙(4-羥基-2,3,5-三甲基苯基)-2-羥基苯基甲烷、雙(4-羥基-3，5-二甲基苯基)-4-羥基苯基甲烷、雙(4-羥基-3,5-二甲基苯基)-3-羥基苯基甲垸、雙(4-羥基-3,5-二甲基苯基)-2-羥基苯基甲烷、雙(4-羥基-2,5-二甲基苯基)-4-羥基苯基甲烷、雙(4-羥基-2,5-二甲基苯基)-3-羥基苯基甲烷、雙(4-羥基-2,5-二甲基苯基)-2-羥基苯基甲烷、雙(4-羥基-3,5-二甲基苯基)-3,4-二羥基苯基甲垸、雙(4-羥基-2,5-二甲基苯基)-3,4-二羥基苯基甲烷、雙(4-羥基-2，5-二甲基苯基)-2,4-二羥基苯基甲烷、雙(4-羥基苯基)-3-甲氧基-4-羥基苯基甲垸、雙(5-環(huán)己基-4-羥基-2-甲基苯基)-4-羥基苯基甲垸、雙(5-環(huán)己基-4-羥基-2-甲基苯基)-3-羥基苯基甲垸、雙(5-環(huán)己基-4-羥基-2-甲基苯基)-2-羥基苯基甲烷、雙(5-環(huán)己基-4-羥基-2-甲基苯基)-3,4-二羥基苯基甲烷等。線型多酚化合物更具體而言可以列舉2,4-雙(3,5-二甲基-4-羥基節(jié)基)-5-羥基苯酚、2,6-雙(2,5-二甲基-4-羥基芐基)-4-甲基苯酚等線型三核酚化合物；1,1-雙[3-(2-羥基-5-甲基芐基)-4-羥基-5-環(huán)己基苯基]異丙烷、雙[2,5-二甲基-3-(4-羥基-5-甲基芐基)-4-羥基苯基]甲烷、雙[2，5-二甲基-3-(4-羥基芐基)-4-羥基苯基]甲烷、雙[3-(3,5-二甲基-4-羥基芐基)-4-羥基-5-甲基苯基]甲烷、雙[3-(3,5-二甲基-4-羥基芐基)-4-羥基-5-乙基苯基]甲烷、雙[3-(3,5-二乙基-4-羥基芐基)-4-羥基-5-甲基苯基]甲垸、雙[3-(3,5-二乙基-4-羥基節(jié)基)-4-羥基-5-乙基苯基]甲浣、雙[2-羥基-3-(3，5-二甲基-4-羥基芐基)-5-甲基苯基]甲烷、雙[2-羥基-3-(2-羥基-5-甲基芐基)-5-甲基苯基]甲烷、雙[4-羥基-3-(2-羥基-5-甲基節(jié)基)-5-甲基苯基]甲烷、雙[2,5-二甲基-3-(2-羥基-5-甲基芐基)-4-羥基苯基]甲烷等線型四核酚化合物；以及2，4-雙[2-羥基-3-(4-羥基芐基)-5-甲基芐基]-6-環(huán)己基苯酚、2,4-雙[4-羥基-3-(4-羥基芐基)-5-甲基芐基]-6-環(huán)己基苯酚、2,6-雙[2，5-二甲基-3-(2-羥基-5-甲基節(jié)基)斗羥基節(jié)基]-4-甲基苯酚等線型五核酚化合物等。34另外，除了三酚型化合物及線型多酚化合物以外，符合通式(bl)的酚化合物還可以列舉雙(2，3,4-三羥基苯基)甲烷、雙(2,4-二羥基苯基)甲烷、2,3,4-三羥基苯基-4'-羥基苯基甲垸、2-(2,3,4-三羥基苯基)-2-(2',3',4'-三羥基苯基)丙垸、2-(2,4-二羥基苯基)-2-(2'，4'-二羥基苯基)丙烷、2-(4-羥基苯基)-2-(4'-羥基苯基)丙烷、2-(3-氟-4-羥基苯基)-2-(3'-氟-4'-羥基苯基)丙烷、2-(2,4-二羥基苯基)-2-(4'-羥基苯基)丙烷、2-(2,3,4-三羥基苯基)-2-(4'-羥基苯基)丙烷、2-(2,3,4-三羥基苯基)-2-(4'-羥基-3',5'-二甲基苯基)丙烷等雙酚型化合物；l-[b(4-羥基苯基)異丙基]-4-[l,l-雙(4-羥基苯基)乙基]苯、l-[l-(3-甲基-4-羥基苯基)異丙基]_4-[1,1_雙(3_甲基-4_羥基苯基)乙基]苯等多核分枝型化合物；1,1-雙(4-羥基苯基)環(huán)己烷等縮合型酚化合物等。這些酚化合物可以使用一種或?qū)煞N以上組合使用。所述(B2)成分之中，特別優(yōu)選所述三酚型化合物，其中，含有雙(5-環(huán)己基-4-羥基-2-甲基苯基)-3,4-二羥基苯基甲烷[以下簡稱為(82&)]、雙(4-羥基-2，3>5-三甲基苯基)-2-羥基苯基甲烷[以下簡稱為(B2c)]這些三酚型化合物的萘醌二疊氮酯化物的光阻組合物在靈敏度、解析性方面也十分優(yōu)異，因而優(yōu)選使用。另外，如果在使用此三酚型化合物的萘醌二疊氮酯化物的同時，使用其他酚化合物的萘醌二疊氮酯化物，也就是說所述雙酚型化合物、多核分枝型化合物以、以及縮合型酚化合物等酚化合物的萘醌二疊氮酯化物，就可以制備出解析性、靈敏度、耐熱性、DOF特性、掩模線性等光阻特性的總體平衡優(yōu)異的光阻組合物，因而優(yōu)選。特別優(yōu)選雙酚型化合物，其中又優(yōu)選雙(2，4-二羥基苯基)甲烷[以下簡稱為(B2b)]。另外，從可以形成靈敏度較高、解析性較高且形狀良好的光阻圖案方面來考慮，優(yōu)選含有所述(B2a)、(B2c)及(B2b)這三種酚化合物的萘醌二疊氮酯化物的正型光阻組合物。使用(B2a)、(B2c)時，(B2)成分中的(B2a)及(B2c)的調(diào)配量優(yōu)選分別在總(B2)成分中占10質(zhì)量％以上，更優(yōu)選5質(zhì)量％以上。另外，從效果方面來考慮，將(B2a)、(B2b)、(B2c)全部使用時，各自的調(diào)配量在總(B2)成分中優(yōu)選如下(B2a)的調(diào)配量為5090質(zhì)量％，優(yōu)選6080質(zhì)量％，(B2b)的調(diào)配量為520質(zhì)量％，優(yōu)選1015質(zhì)量％，(B2c)的調(diào)配量為520質(zhì)量％，優(yōu)選1015質(zhì)量％?？梢允褂贸７?，來使以所述通式(b2a)所表示的化合物的全部或一部分酚性羥基實現(xiàn)萘醌二疊氮磺酸酯化。例如，可以通過使萘醌二疊氮磺酰氯與以所述通式(b2a)所表示的化合物縮合來獲得所述(B2)成分。具體而言，所述(B2)成分例如可以通過下述方式來制備將以所述通式(b2a)所表示的化合物、與萘醌-l,2-二疊氮基-4(或5)-磺酰氯以規(guī)定量而溶解在二惡烷、N-甲基吡咯烷酮、二甲基乙酰胺、四氫呋喃等有機溶劑中，并向其中添加三乙胺、三乙醇胺、吡啶、堿金屬碳酸鹽、堿金屬碳酸氫鹽等堿性催化劑中的一種以上進行反應(yīng)，對所獲得的產(chǎn)物進行水洗、干燥。如上所述，(B2)成分除了以上所例示的優(yōu)選的萘醌二疊氮酯化物之外，也可以使用其他萘醌二疊氮酯化物，例如也可以使用多羥基二苯甲酮或沒食子酸垸基酯等酚化合物、與萘醌二疊氮磺酸化合物的酯化反應(yīng)產(chǎn)物等。這些其他的萘醌二疊氮酯化物的使用量優(yōu)選在(B2)成分中為80質(zhì)量％以下，特別優(yōu)選50質(zhì)量％以下。相對于(A2)成分與任意調(diào)配的后述(C2)成分的合計量，正型光阻組合物中的(B2)成分的調(diào)配量為2070質(zhì)量％，優(yōu)選2560質(zhì)量％。通過使(B2)成分的調(diào)配量為所述下限值以上，可以獲得忠實于圖案的圖像，提高轉(zhuǎn)印性。通過使(B2)成分的調(diào)配量為所述上限值以下，可以獲得以下效果可以防止靈敏度變差，提高所形成的光阻膜的均質(zhì)性，提高解析性。所述正型光阻組合物中，除了所述(A2)成分及(B2)成分之外，可以進一步調(diào)配作為敏化劑的分子量為1,000以下的含酚性羥基的化合物，來作為(C2)成分。此(C2)成分在提高靈敏度方面效果優(yōu)異，通過使用(C2)成分，可以獲得即使是在低NA條件下，也具備高靈敏度、髙解像度，而且掩模線性也十分優(yōu)異的材料。(C2)成分的分子量為1，000以下，優(yōu)選700以下，實質(zhì)上為200以上，優(yōu)選300以上。所述(C2)成分是作為靈敏度改善劑、或敏化劑而通常用于光阻組合物中的含酚性羥基的化合物，優(yōu)選只要滿足所述分子量條件就沒有特別限制，可以任意選擇一種或兩種以上來使用。并且，其中優(yōu)選以下述通式(c2a)<formula>formulaseeoriginaldocumentpage36</formula>，當(dāng)(32與R"的末端鍵合時，Q"與R"、及(^與R"之間的碳原子一起表示碳原子鏈為36的環(huán)垸撐鏈，e及f表示l3的整數(shù)；h表示03的整數(shù)；m表示03的整數(shù)]所表示的酚化合物。具體而言，所述(C2)成分除了可以使用例如所述(B2)成分中所例示的酚化合物的萘醌二疊氮酯化物所使用的酚化合物之外，還可以適宜地使用雙(3-甲基-4-羥基苯基)_4_異丙基苯基甲烷、雙(3-甲基-4-羥基苯基)-苯基甲垸、雙(2-甲基-4-羥基苯基)-苯基甲烷、雙(3-甲基-2-羥基苯基)-苯基甲烷、雙(3,5-二甲基-4-羥基苯基)-苯基甲烷、雙(3-乙基-4-羥基苯基)-苯基甲烷、雙(2-甲基-4-羥基苯基)-苯基甲烷、雙(2-叔丁基-4,5-二羥基苯基)-苯基甲烷等三苯基型化合物。其中，優(yōu)選雙(2-甲基-4-羥基苯基)-苯基甲垸、1-[1-(4-羥基苯基)異丙基]-4-[l,l-雙(4-羥基苯基)乙基]苯。相對于所述(A2)成分，所述(C2)成分的調(diào)配量為1070質(zhì)量％的范圍，優(yōu)選2060質(zhì)量％的范圍。而且，正型光阻組合物中優(yōu)選包含有機溶劑。有機溶劑只要是光阻組合物通常所使用的溶劑則無特別限制，可以選擇一種或兩種以上來使用。具體而言，這種有機溶劑可以列舉丙酮、甲基乙基酮、環(huán)己酮、甲基異戊基酮、2-庚酮等酮類；乙二醇、丙二醇、二乙二醇、乙二醇單乙酸酯、丙二醇單乙酸酯、二乙二醇單乙酸酯，或者這些的單甲醚、單乙醚、單丙醚、單丁醚或單苯醚等多元醇類及其衍生物；二惡烷等環(huán)狀醚類；以及乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丁酯、乳酸乙酯、丙酮酸甲酯、丙酮酸乙酯、甲氧基丙酸甲酯、乙氧基丙酸乙酯等酯類；Y-丁內(nèi)酯等。所述有機溶劑之中，優(yōu)選使用選自丙二醇單甲醚、丙二醇單丁醚、丙二醇單甲醚乙酸酯、2-庚酮、乳酸甲酯、乳酸乙酯及Y-丁內(nèi)酯中的至少一種有機溶劑。使用這些溶劑時，較理想的是這些溶劑在總有機溶劑中為50質(zhì)量％以下。另外，正型光阻組合物可以在不損害本發(fā)明的目的的范圍內(nèi)，根據(jù)需要而含有具有相容性的添加物，例如用來改善光阻膜的性能等的加成樹脂、增塑劑、保存穩(wěn)定劑、表面活性劑、用來使顯影所得的圖像更明顯可見的著色料、用來使敏化效果進一步提高的敏化劑或防光暈用染料、粘附性改善劑等慣用的添加物。所述防光暈用染料可以使用紫外線吸收劑(例如2,2'，4,4'-四羥基二苯甲酮、4-二甲基氨基-2',4'-二羥基二苯甲酮、5-氨基-3-甲基-l-苯基-4-(4-羥基苯基偶氮)吡唑、4-二甲基氨基-4'-羥基偶氮苯、4-二乙基氨基-4'-乙氧基偶氮苯、4-二乙基氨基偶氮苯、姜黃素等)等。所述表面活性劑例如可以為了防止產(chǎn)生條紋等而添加，例如可以使用FluoradFC-430、FluoradFC-431(商品名，住友3M股份有限公司制造)以及F-TopEF122A、F-TopEF122B、F-TopEF122C、F-TopEF126(商品名,TohkemProducts股份有限公司制造)等氟系表面活性劑，XR-104、MegafacR-08(商品名，大日本油墨化學(xué)工業(yè)股份有限公司制造)等。[圖案化有機膜]有機膜12是使用旋轉(zhuǎn)器，將所述正型光阻組合物涂布在支撐體11上而形成。另外，所述有機膜12可以通過下述方式而形成為圖案化有機膜將所述正型光阻組合物涂布在支撐體ll上后，經(jīng)由掩模照射紫外線、準(zhǔn)分子激光(excimerlaser)、X射線、電子束(electronbeam)等活性光線或放射線而進行圖像曝光，接著根據(jù)需要進行加熱處理，然后使用堿性顯影液來實施顯影處理，將未照射部溶解除去，根據(jù)需要進行加熱處理。另外，以所述方式而獲得的圖案化有機膜的縱橫比優(yōu)選O.l以上。通過使圖案化有機膜的縱橫比為0.1以上，可以使負極基材10的表面積增大，并且可以使后述通過鍍敷處理而形成的金屬膜量增加，由此可以實現(xiàn)更高的輸出以及更高的能量密度。[負型光阻組合物]另一方面，負型光阻組合物優(yōu)選使用以通過照射活性光線或放射線而產(chǎn)生酸的酸產(chǎn)生劑成分(與所述(A)成分相同)、及多官能環(huán)氧樹脂(以下稱為(D)成分)作為基本成分的組合物。如果將(D)成分與酸產(chǎn)生劑組合使用，則曝光部分利用在此部分所產(chǎn)生的酸進行陽離子聚合而呈堿不溶性，顯影時僅未曝光部分被選擇性地除去，從而獲得規(guī)定形狀的光阻圖案。(多官能環(huán)氧樹脂(D))對于多官能環(huán)氧樹脂(D)并無特別限定，為了形成較厚的圖案，優(yōu)選1分子中具有足夠的環(huán)氧基的環(huán)氧樹脂。這種多官能環(huán)氧樹脂可以列舉多官能苯酚-酚醛型環(huán)氧樹脂、多官能鄰甲酚酚醛型環(huán)氧樹脂、多官能三苯基型酚醛型環(huán)氧樹脂、多官能雙酚A酚醛型環(huán)氧樹脂等。這些之中，優(yōu)選使用多官能雙酚A酚醛型環(huán)氧樹脂。此多官能雙酚A酚醛型環(huán)氧樹脂的官能性優(yōu)選5官能以上，例如，日本環(huán)氧樹脂(JapanEpoxyResins)公司制造的"Epikote157S70"、大日本油墨化學(xué)工業(yè)股份有限公司制造的"EpiclonN-775"可以從市場上獲得銷售品，特別優(yōu)選使用。所述多官能雙酚A酚醛型環(huán)氧樹脂是以下述通式(dl)來表示。所述式(dl)的雙酚A酚醛型環(huán)氧樹脂的環(huán)氧基可以是與雙酚A型環(huán)氧樹脂或雙酚A酚醛型環(huán)氧樹脂聚合的聚合物。所述式(dl)中，R"R"為H或CH"v為重復(fù)單元。光阻組合物中，所述多官能環(huán)氧樹脂的含量優(yōu)選80質(zhì)量％99.9質(zhì)量％，更優(yōu)選92質(zhì)量％99.4質(zhì)量％。由此，將所述光阻組合物涂布在所述支撐體11上時，可以獲得靈敏度較高且硬度適當(dāng)?shù)墓庾枘ぁ?酸產(chǎn)生劑成分(A))酸產(chǎn)生劑成分(A)可以使用與所述正型光阻組合物所使用的酸產(chǎn)生劑同樣的酸產(chǎn)生劑。此酸產(chǎn)生劑成分(A)通過照射活性光線或放射線而產(chǎn)生陽離子成分，此陽離子成分發(fā)揮聚合引發(fā)劑的作用。所述(A)成分可以單獨使用，也可以同時使用兩種以上。相對于所述多官能環(huán)氧樹脂100質(zhì)量份，所述(A)成分的含量優(yōu)選0.520質(zhì)量份。通過使(A)成分的含量在所述范圍內(nèi)，光阻膜可以保持充分的靈敏度，并且可以維持永久膜特性。(其他成分)與所述正型光阻組合物同樣，所述負型光阻組合物可以使用以往眾所周知的溶劑成分。另外，Y-丁內(nèi)酯、P-丙內(nèi)酯、Y-戊內(nèi)酯、S-戊內(nèi)酯、Y-己內(nèi)酯、e-己內(nèi)酷等內(nèi)酯系溶劑，具有內(nèi)酯利用形成光阻圖案時的加熱處理而開環(huán)并與聚合物中的官能基反應(yīng)，結(jié)果被組入到光阻膜中的性質(zhì)，因而優(yōu)選使用。乙醇酸烷基酯(glycolicacid)、乳酸垸基酯、2-羥基丁酸垸基酯等羥基羧酸酯系溶劑，具有使涂布性及均化性提高的性質(zhì)，[化31]因而優(yōu)選使用。所述負型光阻組合物中，可以使用具有至少2個以上的可以與所述多官能環(huán)氧樹脂形成交聯(lián)的取代基的芳香族多環(huán)狀化合物作為敏化劑。利用這種芳香族多環(huán)狀化合物的敏化功能，可以提高光阻組合物的靈敏度。具體而言，優(yōu)選使用具有2個以上的羥基、羧基及氨基等的萘化合物、聯(lián)萘化合物、蒽化合物、菲咯啉化合物等芳香族多環(huán)狀化合物。這些之中，更優(yōu)選萘化合物，特別是從提高交聯(lián)效率的觀點來考慮，優(yōu)選使用1,5-二羥基萘、2,3-二羥基萘、2,6-二羥基萘。另外，為了改善成膜性，所述負型光阻組合物中可以含有高分子直鏈雙官能環(huán)氧樹脂。從在不使硬化后的物性下降的前提下，提高硬化前的光阻組合物的柔軟性的觀點來考慮，所述負型光阻組合物中可以含有氧雜環(huán)丁垸衍生物或環(huán)氧衍生物。而且，所述負型光阻組合物也可以根據(jù)需要而適當(dāng)?shù)睾芯哂谢旌托缘奶砑觿?，例如用來改善圖案性能的加成樹脂、增塑劑、穩(wěn)定劑、著色劑、表面活性劑、偶聯(lián)劑等以往眾所周知的添加劑。[光阻圖案]對于本實施形態(tài)中所使用的所述正型及負型光阻組合物，例如可以適用以往的使用正型光阻組合物或負型光阻組合物的光阻圖案形成方法。具體而言，使用旋轉(zhuǎn)器等，將制備成溶液狀的光阻組合物涂布在所述支撐體11上，進行預(yù)烘烤而形成光阻膜?；蛘撸部梢杂帽Ｗo膜來保護光阻組合物的兩面而制成干膜，將此干膜貼附在支撐體11上而形成光阻膜。如果制成干膜，就可以省略向支撐體11上涂布、干燥的步驟，可以更簡便地形成光阻圖案。接著，選擇性地對光阻膜進行曝光處理。曝光處理可以使用g線、h線、i線、KrF準(zhǔn)分子激光束、ArF準(zhǔn)分子激光束、F2準(zhǔn)分子激光束、EUV(極紫外光，Extremeultraviolet)、電子束(EB)、軟X射線、X射線等，可以經(jīng)由所需的掩模圖案來進行照射，或者直接刻寫。優(yōu)選使用KrF準(zhǔn)分子激光束。接著，進行曝光后加熱處理(曝光后烘烤，以下也有時稱為PEB(postexposurebake))。PEB處理后，使用堿性水溶液等顯影液來進行顯影處理，實施水洗、干燥等根據(jù)需要的處理，獲得光阻圖案。對于顯影液并無特別限定，可以使用以往眾所周知的堿性水溶液等。預(yù)烘烤的加熱溫度及曝光后加熱(PEB)的加熱溫度為70160°C,優(yōu)選100150°C。加熱時間設(shè)定在401S0秒的范圍，優(yōu)選6090秒的范圍。另外，根據(jù)情況，在所述堿顯影后可以包括后烘烤步驟。另外，所述光阻圖案的縱橫比優(yōu)選O.l以上。通過使光阻圖案的縱橫比為O.l以上，可以使負極基材10的表面積增大，并且可以使后述通過鍍敷處理而形成的金屬膜量增大，由此實現(xiàn)更高的輸出以及更高的能量密度。<金屬膜〉本實施形態(tài)的負極基材中的金屬膜優(yōu)選通過鍍敷處理來形成，并無特別限定。鍍敷處理可以采用以往眾所周知的處理，只要可以在所述有機膜、復(fù)合膜、二氧化硅系被覆膜或表層為金屬氧化物膜的有機膜上形成金屬膜，則無特別限定。另外，金屬膜可以通過多階段鍍敷處理而包含多層。形成這種金屬膜的步驟即鍍敷處理步驟優(yōu)選繼清洗步驟、催化劑化處理步驟之后，進行非電解鍍鎳或非電解鍍銅步驟，進一步包括非電解鍍錫步驟或電解鍍錫步驟。以下，對適合本實施形態(tài)的鍍敷處理進行具體說明。將經(jīng)過所述清洗步驟的支撐體在規(guī)定濃度的氯化錫(SnCl2)水溶液中浸漬規(guī)定時間。氯化錫的濃度優(yōu)選O.Olg/dm30.10g/dm3，更優(yōu)選0.03g/dm30.07g/dm3。另外，浸漬時間優(yōu)選15180秒，更優(yōu)選3060秒。接著，將在氯化錫(SnCl2)水溶液中浸漬了規(guī)定時間的支撐體，在規(guī)定濃度的氯化鈀(PdCl2)水溶液中浸漬規(guī)定時間。氯化鈀的濃度優(yōu)選O.Olg/dm30.3g/dm3，更優(yōu)選0.03g/dm30.07g/dm3。另外，浸漬時間優(yōu)選15180秒，更優(yōu)選3060秒。將經(jīng)過所述催化劑化步驟的支撐體浸漬在鍍鎳浴中鍍鎳。鍍鎳浴可以使用以往眾所周知的鍍鎳浴。舉一例來說，例如可以使用含有0.05M0.20M的硫酸鎳、0.10M0.30M的次磷酸鈉、0.05ppm0J0ppm的鉛離子、0.05M0.30M的絡(luò)合劑的鍍鎳浴。絡(luò)合劑優(yōu)選使用羧酸類絡(luò)合劑。鍍鎳浴的溫度優(yōu)選50。C7(TC，pH值優(yōu)選4.05.5。可以使用氫氧化鈉、硫酸來調(diào)整pH值。另外，可以進行非電解鍍銅來代替所述非電解鍍鎳。鍍銅浴可以使用以往眾所周知的鍍銅浴。將經(jīng)過所述催化劑化步驟的支撐體浸漬在鍍銅浴中鍍銅。鍍銅浴使用以往眾所周知的鍍銅浴。舉一例來說，例如可以使用含有0.02M0.10M的硫酸銅、0.10M0.40M的福爾馬林、1.0ppm20.0ppm的2，2'-聯(lián)吡啶、50.0卯m500ppm的表面活性劑(聚乙二醇等)、0.20M0.40M的絡(luò)合劑的鍍銅浴。絡(luò)合劑優(yōu)選使用多乙烯多胺系的絡(luò)合劑。鍍銅浴的溫度優(yōu)選5(TC70。C，pH值優(yōu)選11.512.5。另外，優(yōu)選通過通入空氣來進行攪拌?？梢允褂脷溲趸?、硫酸來調(diào)整pH值。[非電解鍍錫步驟]將經(jīng)過所述非電解鍍鎳、或非電解鍍銅步驟的支撐體浸漬在鍍錫浴中鍍錫，以此在有機膜、復(fù)合膜、二氧化硅系被覆膜或表層由金屬氧化物膜被覆的有機膜上形成金屬膜。鍍錫浴可以使用以往眾所周知的鍍錫浴。舉一例來說，例如可以使用含有0.02M0.20M的氯化錫，0.02M0.08M的三氯化鈦等還原劑，以及0.10M0.50M的檸檬酸三鈉、乙二胺四乙酸二鈉(EDTA-2Na)、氨三乙酸(nitrilotriaceticacid，NTA)等絡(luò)合劑的鍍錫浴。鍍錫浴的溫度優(yōu)選45。C7(TC，pH值優(yōu)選6.58.5?？梢允褂锰妓徕c或氨及鹽酸來調(diào)整pH值。另外，優(yōu)選在氮氣環(huán)境下進行鍍錫處理。另外，可以進行電解鍍錫來代替所述非電解鍍錫。在此鍍錫步驟中，將經(jīng)過所述非電解鍍鎳、或非電解鍍銅步驟的支撐體浸漬在鍍錫浴中，通電而進行電解鍍錫，由此在有機膜、復(fù)合膜、二氧化硅系被覆膜或表層由金屬氧化物膜被覆的有機膜上形成金屬膜。電解鍍錫浴可以使用以往眾所周知的電解鍍錫浴。舉一例來說，例如可以使用Leybold股份有限公司銷售的電鍍液，即StarterCurumo鍍錫浴。鍍錫浴的溫度優(yōu)選I0°C28°C，pH值優(yōu)選1.01.5。另外，適用電流密度優(yōu)選0.5A/dm26.0A/dm2。<二次電池>所述負極基材可以適宜地用作二次電池用負極基材，特別是鋰二次電池用負極基材。鋰二次電池是使用有機溶劑及鋰鹽來作為電解液，通過由于鋰離子(Li+)在負極與正極之間移動而引起的電荷授受來實現(xiàn)充電/放電的二次電池，具有輸出電壓高、能量密度高的優(yōu)點。以往的鋰二次電池中，一直使用碳作為負極，使用過渡金屬氧化物鋰化合物作為正極，但是近年來為了實現(xiàn)更高的輸出以及更高的能量密度，而針對負極材料展開了研究。要求負極材料是可以形成薄膜，并且能夠可逆地吸藏/釋放鋰的材料，所述負極基材滿足這些要求，因此可以適宜地使用。其中，所謂"吸藏"，是指以可逆的方式內(nèi)包鋰，以與鋰可逆的方式而形成合金、固溶體等，或者以與鋰可逆的方式而化學(xué)鍵合。利用所述負極基材來作為鋰二次電池的負極材料時，需要將負極基材積層在集電體42上而形成負極。但是，如果所述支撐體具有導(dǎo)電性就不需如此，可以將支撐體作為集電體。集電體只要具有導(dǎo)電性即可，對它的材料或結(jié)構(gòu)等并無特別限定?？梢允褂靡酝钠胀ǖ匿嚩坞姵刂兴褂玫募婓w。優(yōu)選與所述負極基材的粘附性良好的集電體。另外，優(yōu)選不會與鋰合金化的材料。具體而言，可以列舉包含選自銅、鎳、不銹鋼、鉬、鎢、鈦及鉭所組成的群組中的至少一種元素的材料。另外，優(yōu)選金屬箔、不織布、具有三維結(jié)構(gòu)的金屬集電體等結(jié)構(gòu)。特別優(yōu)選使用金屬箔，具體而言，優(yōu)選使用銅箔等。對于集電體的厚度并無特別限定。通常，在集電體上積層薄膜狀的負極材料層而形成的負極，與將粒子狀的負極材料與粘合劑等一起積層在集電體上而形成的負極相比可以降低內(nèi)部電阻。也就是說，利用將所述負極基材積層在集電體上而形成的負極，可以獲得發(fā)電特性較高的鋰二次電池。但是，由于在集電體上積層薄膜狀的負極材料層而形成的負極中，負極材料層與集電體的粘附性較大，因此負極材料層隨著充電/放電而膨脹/收縮，有可能會使負極材料層或集電體產(chǎn)生褶皺等變形。特別是當(dāng)集電體使用銅箔等富有延性的金屬箔時，變形程度會進一步增大。因此，如果僅僅是單純地將薄膜狀的負極材料層積層在集電體上，就有可能會使作為電池的能量密度下降，或者使充放電循環(huán)特性惡化。相對于此，本實施形態(tài)的所述負極基材具有在有機膜、復(fù)合膜、二氧化硅系被覆膜或表層具有金屬氧化物膜的有機膜上積層金屬膜的結(jié)構(gòu)，因此由于金屬膜隨著鋰的吸藏/釋放進行膨脹/收縮而產(chǎn)生的應(yīng)力單獨通過有機膜或者復(fù)合膜、二氧化硅系被覆膜、有機膜及金屬氧化物膜的緩沖作用而得到緩和。所以可以抑制充電/放電時所產(chǎn)生的應(yīng)力增大，結(jié)果可以抑制負極基材或集電體產(chǎn)生褶皺等變形。而且可以抑制負極基材產(chǎn)生龜裂或者從集電體上剝離。也就是說，利用將所述負極基材積層在集電體上而形成的負極，可以獲得具有高輸出電壓及高能量密度，并且充放電循環(huán)特性優(yōu)異的鋰二次電池。另外，對于負極以外的構(gòu)成并無特別限定，可以采用與以往眾所周知的鋰二次電池相同的構(gòu)成。具體而言，主要包含能夠可逆地吸藏/釋放鋰的正極，以及具有鋰傳導(dǎo)性的電解質(zhì)。根據(jù)需要利用隔離膜來保持電解質(zhì)，在保持于隔離膜中的狀態(tài)下使電解質(zhì)與負極及正極接觸，從而進行鋰的交換。正極只要能夠可逆地吸藏/釋放鋰則無特別限定，可以使用鋰二次電池中通常使用的正極。具體而言，可以使用在集電體上積層正極材料層而獲得的正極。例如可以通過下述方式來形成正極將正極材料與導(dǎo)電劑、粘合劑分散在分散溶劑中制成漿料狀，將此漿料涂布在集電體上，然后加以干燥。對于集電體、正極材料層的厚度并無特別限定，可以根據(jù)電池設(shè)計電容等來任意設(shè)定。對于正極材料也無特別限定，可以使用包含鋰及過渡元素的氧化物等以往眾所周知的正極材料。具體而言，可以使用LiCo02、LiM02、LiMn02、LiMn204、LiCo0.5Ni05O2等。導(dǎo)電劑只要是具有導(dǎo)電性的材料則無特別限定，例如使用乙炔黑、炭黑、石墨粉末等。粘合劑只要可以在正極形成后保持正極材料層的形狀即可，并無特別限定，可以使用橡膠系粘合劑、或氟樹脂等樹脂系粘合劑。隔離膜只要可以保持具有鋰傳導(dǎo)性的電解質(zhì)，并可以將負極與正極之間保持為電絕緣即可，對它的材料或結(jié)構(gòu)等并無特別限定。例如，可以使用多孔狀聚丙烯薄膜、多孔狀聚乙烯薄膜等多孔性樹脂薄膜，或者由包含聚烯烴等的樹脂制造的不織布等。電解質(zhì)只要具有鋰傳導(dǎo)性即可，并無特別限定。例如，可以使用將包含鋰的電解質(zhì)溶解在非水溶劑中所得的非水電解質(zhì)溶液。包含鋰的電解質(zhì)例如使用LiPF6、LiBF4、LiC104、LiAsF6、LiCFsS03等鋰鹽。非水溶劑例如使用碳酸丙烯酯、碳酸乙烯酯、碳酸二甲酯、碳酸甲乙酯、碳酸二乙酯、Y-丁內(nèi)酯、1，2-二甲氧基乙垸、1,2-二乙氧基乙烷、乙氧基甲氧基乙烷等或者這些非水溶劑的混合溶劑。對于非水電解質(zhì)溶液的濃度并無特別限定，也可以使用所謂的聚合物電解質(zhì)或固體電解質(zhì)等。利用本實施形態(tài)的所述負極基材來作為負極的鋰二次電池可以形成為硬幣形、圓筒形、方形、或平板形電池等各種各樣的形狀。另外，對于此鋰二次電池的電容也無特別限定，從精密設(shè)備等中所使用的小型電池到混合動力汽車等中所使用的大型電池均可以適用。(第二實施形態(tài))<負極基材〉圖2表示本實施形態(tài)的負極基材20的示意圖。如圖2所示，本實施形態(tài)的負極基材20包括支撐體21、表層由金屬氧化物膜23被覆的有機膜22、以及金屬膜24。更詳細而言，本實施方式的負極基材20的特征在于通過對具備表層由金屬氧化物膜23被覆的有機膜22的支撐體21實施鍍敷處理，而形成金屬膜24。<支撐體>本實施形態(tài)的負極基材20中使用的支撐體21是與第一實施形態(tài)相同的支撐體。<有機膜>本實施形態(tài)的負極基材20中的有機膜22是由有機化合物或有機樹脂形成，并無特別限定。優(yōu)選由具有親水基的有機化合物、或者具有親水基的有機樹脂形成。如果有機膜22的表面上存在親水基，那么通過此親水基與后述金屬氧化物膜形成材料的相互作用，可以形成與有機膜22牢固地粘附的金屬氧化物膜23。所述有機膜22優(yōu)選由后述光阻組合物形成的有機膜22，更優(yōu)選通過圖案曝光而圖案化成規(guī)定形狀的光阻圖案。在光阻圖案上形成金屬氧化物膜23時，如果光阻圖案的表面上存在親水基，那么通過此親水基與后述金屬氧化物膜形成材料的相互作用，可以形成與光阻圖案牢固地粘附的金屬氧化物膜23。也就是說，可以獲得高密度且具有高機械強度的圖案。形成本實施形態(tài)的負極基材20時，使用與第一實施形態(tài)相同的光阻組合物、光阻圖案。<金屬氧化物膜〉被覆所述有機膜22的表層的金屬氧化物膜23只要是由金屬氧化物形成即可，并無特別限定。優(yōu)選二氧化硅系被覆膜。金屬氧化物膜23由下述金屬氧化物膜形成材料形成。本實施形態(tài)的金屬氧化物膜形成材料的特征在于含有可以通過水解而生成羥基的金屬化合物，及溶解此金屬化合物且不具有與此金屬化合物反應(yīng)的官能基的溶劑。[金屬化合物]如上所述，金屬化合物是可以通過水解而生成羥基的化合物。將含有此金屬化合物的金屬氧化物膜形成材料涂布在所述有機膜22上，或者根據(jù)需要在涂布后進一步涂布水(優(yōu)選去離子水)后，即使是在室溫左右的低溫下，金屬化合物也可以和大氣中的水分或所涂布的水進行反應(yīng)，通過水解而生成羥基。并且，所生成的羥基彼此脫水縮合，多個金屬化合物分子彼此鍵合，由此形成膜密度較高的致密的金屬氧化物膜23。另外，當(dāng)所述有機膜22具有羧基、羥基等反應(yīng)基時，有機膜22的反應(yīng)基與由金屬化合物生成的羥基進行反應(yīng)(脫水縮合、吸附等)，形成牢固地粘附在有機膜22表面的金屬氧化物膜23。金屬化合物例如使用具有能夠通過水解而生成羥基的官能基的金屬化合物，優(yōu)選官能基和金屬原子直接鍵合的金屬化合物。至于官能基的數(shù)目，優(yōu)選相對于l個金屬原子官能基為2個以上，更優(yōu)選24個，更優(yōu)選4個。如果是相對于1個金屬原子具有2個以上的官能基的金屬化合物，那么由水解而生成的羥基彼此脫水縮合，多個金屬化合物分子彼此連續(xù)地鍵合，由此形成牢固的金屬氧化物膜23。能夠通過水解而生成羥基的官能基可以列舉垸氧基、異氰酸酯基、羰基等。另外，鹵素原子也具有同樣的功能，因此在本實施形態(tài)中，鹵基也包括在所述官能基中。烷氧基可以列舉碳數(shù)為15的直鏈狀或支鏈狀的低級垸氧基，具體而言，可以使用甲氧基(-O-Me)、乙氧基(-O-Et)、正丙氧基(-O-nPr)、異丙氧基(-O-iPr)、正丁氧基(-O-nBu)等。鹵素原子可以列舉氯原子、氟原子、溴原子、碘原子等，特別優(yōu)選使用氯原子。當(dāng)有機膜22的表面存在羧基或羥基等反應(yīng)基時，這些反應(yīng)基會與焼氧基或異氰酸酯基進行縮合反應(yīng)，從而可以形成牢固地粘附在有機膜22上的金屬氧化物膜23，因此優(yōu)選使用。另外，羰基或鹵素原子通過與有機膜22的表面所存在的羧基或羥基等反應(yīng)基的相互作用而吸附在有機膜22上，從而可以形成牢固地粘附于有機膜22上的金屬氧化物膜23,因此優(yōu)選使用。特別是異氰酸酯基及鹵素原子(特別是氯原子)的活性較高，而且不必特別地進行加熱處理即可簡便地形成金屬氧化物膜23，因而優(yōu)選使用，最優(yōu)選使用異氰酸酯基。構(gòu)成金屬化合物的金屬中，除了通常使用的金屬之外，也包括硼、硅、鍺、銻、硒、碲等。構(gòu)成金屬化合物的金屬可以列舉鈦、鋯、鋁、鈮、硅、硼、鑭、釔、鋇、鈷、鐵、鋯、鉭等。這些之中，優(yōu)選釹、硅，特別優(yōu)選硅。另外，金屬化合物中的金屬原子的數(shù)目可以為l個，也可以為2個以上，優(yōu)選1個。金屬化合物也可以具有能夠通過水解而生成羥基的官能基以外的原子或有機基。例如可以具有氫原子。有機基例如可以列舉垸基(優(yōu)選碳數(shù)為15的低級烷基)等，優(yōu)選乙基、甲基。具有垸氧基的金屬化合物(以下，也稱為"金屬醇鹽類")可以列舉丁醇鈦(Ti(0-nBu)4)、丙醇鋯(Zr(0-nPr)4)、丁醇鋁(Al(0-nBu)3)、丁醇鈮(Nb(0-nBu)5)、四甲醇硅(Si(0-Me)4)、乙醇硼(B(0-Et)3)等稀土金屬以外的金屬醇鹽化合物；異丙醇鑭(Ln(0-iPr)3)、異丙醇釔(Y(0-iPr)3)等稀土金屬的金屬醇鹽化合物；烷醇鋇鈦(BaTi(OR6Q)x)等雙醇鹽化合物(另外，其中"R6Q"是碳數(shù)為15的低級垸基，X是24的整數(shù))；甲基三甲氧基硅垸(MESi(0-Me)3)、二乙基二乙氧基硅烷(Et2Si(0-Et)2)等具有2個以上烷氧基，且具有烷氧基以外的有機基的金屬醇鹽化合物；具有乙酰丙酮基等配位基，且具有2個以上烷氧基的金屬醇鹽化合物等。另外，也可以使用向所述金屬醇鹽類中添加少量的水，來使所述金屬醇鹽類部分水解及縮合而獲得的醇鹽溶膠或醇鹽凝膠的微粒。進一步，丁醇鈦四聚物(C4H90[Ti(OC4H9)20]4C4H9)等具有多個或多種金屬元素的二核或簇型的醇鹽化合物，或者基于經(jīng)由氧原子而一維交聯(lián)的金屬醇鹽化合物的高分子等也包括在所述金屬醇鹽類中。具有異氰酸酯基的金屬化合物可以列舉以通式[M(NCO)x]所表示的具有2個以上46異氰酸酯基的化合物(M為金屬原子，X為24的整數(shù))。具體而言，可以列舉四異氰酸硅烷(Si(NCO)4)、四異氰酸鈦(Ti(NCO)4)、四異氰酸鋯(Zr(NCO)4)、三異氰酸鋁(Al(NCO)3)等。具有鹵素原子的金屬化合物可以列舉以通式[M(X0n](M為金屬原子，X!是選自氟原子、氯原子、溴原子及碘原子中的一種，n為24的整數(shù))所表示的具有2個以上(優(yōu)選24個)鹵素原子的金屬鹵化物。具體而言，可以列舉四氯化鈦(TiCU)、四氯硅烷(SiCU)等。另外，具有鹵素原子的金屬化合物也可以是金屬絡(luò)合物，也可以使用氯化鈷(COCl2)等。具有羰基的金屬化合物可以列舉氧代乙酰乙酸鈦(TiO(CH3COCH2COO)2)、五羰基鐵(Fe(CO)s)等金屬羰基化合物以及這些金屬羰基化合物的多核簇狀物。從活性較高，且不必進行加熱處理即可簡便地形成金屬氧化物膜13方面來考慮，所述各種金屬化合物中，特別優(yōu)選使用具有2個以上(優(yōu)選24個)異氰酸酯基以及/或者鹵素原子的硅化合物。1分子的硅化合物中的硅的數(shù)目可以為1個也可以為2個以上，優(yōu)選1個。特別優(yōu)選以通式[SiWa](a表示24的整數(shù)，W表示異氰酸酯基或鹵素原子，多個W可以彼此相同也可以不同)所表示的化合物。所述a更優(yōu)選4，鹵素原子更優(yōu)選與前文所述同樣為氯原子。這些之中，特別優(yōu)選具有異氰酸酯基的硅化合物。另外，以上所說明的金屬化合物可以單獨使用一種，也可以同時將兩種以上混合使用。本實施形態(tài)的金屬氧化物膜形成材料是將所述金屬化合物溶解在溶劑(S)中而獲得。溶劑(S)只要是不具有與金屬化合物反應(yīng)的官能基，且能夠?qū)⑺褂玫慕饘倩衔锶芙獾娜軇?Sl)即可以，可以使用以往眾所周知的有機溶劑。與金屬化合物反應(yīng)的官能基可以列舉乙烯基等具有碳-碳雙鍵的基團、羥基、羧基、鹵基等。因此，只要是不具有這些官能基的溶劑，金屬化合物就可以穩(wěn)定地存在于溶劑中。具體而言，所述溶劑(Sl)優(yōu)選脂肪族化合物。其中，本說明書中的"脂肪族"，是相對于芳香族而言的相對概念，定義為不具有芳香性的基團、化合物等。也就是說，"脂肪族化合物"是指不具有芳香性的化合物。脂肪族化合物可以是結(jié)構(gòu)中不具有環(huán)的鏈狀化合物，另外也可以是結(jié)構(gòu)中具有環(huán)的環(huán)狀化合物，優(yōu)選環(huán)狀化合物。環(huán)狀化合物優(yōu)選烴化合物，更優(yōu)選飽和烴化合物。這種環(huán)狀化合物可以列舉單環(huán)烷烴，雙環(huán)烷烴、三環(huán)烷烴、四環(huán)垸烴等多環(huán)烷烴，在這些環(huán)上鍵合著烷基等取代基的化合物等。另外，所述溶劑(Sl)優(yōu)選的是選擇對環(huán)境的影響較小的溶劑，例如，優(yōu)選使用起始原料為天然物質(zhì)的溶劑。起始原料為天然物質(zhì)的溶劑可以列舉由植物的精油成分獲得的萜烯系溶劑等(例如，下述對薄荷垸、鄰薄荷垸、間薄荷垸等單環(huán)式單萜烯，或者琉烷等雙環(huán)式單萜烯等)。另外，所述溶劑(Sl)優(yōu)選使用不會將有機膜22溶解的溶劑。如果是這種溶劑，那么特別是在光阻圖案的表面形成金屬氧化物膜23時，不容易對光阻圖案的形狀造成損害。從不會與金屬化合物反應(yīng)、對環(huán)境的影響較小以及不會將光阻圖案溶解等方面來考慮，特別優(yōu)選使用以下述通式(1)所表示的化合物作為溶劑(s-l)。式(1)中，R21R23中的至少兩個為直鏈狀或支鏈狀的烷基。也就是說，可以是R"R"中的兩個為直鏈狀或支鏈狀的垸基，且另一個為氫原子，也可以是R"F"全部為直鏈狀或支鏈狀的烷基。優(yōu)選R"R"中的兩個為直鏈狀或支鏈狀的烷基。R"R"的直鏈狀或支鏈狀的烷基優(yōu)選碳數(shù)為15的低級垸基，更優(yōu)選碳數(shù)為l3的低級烷基。具體而言，可以列舉甲基、乙基、丙基、異丙基、正丁基、異丁基、戊基、異戊基、新戊基等。這些之中，特別優(yōu)選甲基或異丙基。R"R"中的至少兩個烷基可以分別相同也可以不同。優(yōu)選R"R"中的至少一個為支鏈狀的垸基，更優(yōu)選至少一個為異丙基。所述溶劑(s-l)特別優(yōu)選具有異丙基及甲基兩者。R"R"的烷基可以與環(huán)己垸環(huán)中的和此垸基鍵合的碳原子以外的碳原子鍵合而形成環(huán)。其中，"與環(huán)己烷環(huán)中的和此烷基鍵合的碳原子以外的碳原子鍵合而形成環(huán)"，是指利用從此烷基上除去一個氫原子的基團(烷撐)，而在環(huán)己烷環(huán)上的和此烷基鍵合的碳原子、與此碳原子以外的碳原子之間形成交聯(lián)。48對于R21R23的鍵合位置并無特別限定，優(yōu)選至少兩個垸基分別鍵合在環(huán)己垸環(huán)的l位和4位(對位)上、或者l位和3位(間位)上。具體而言，以所述式(1)所表示的化合物可以列舉對薄荷烷(沸點約為17(TC)、間薄荷烷(沸點約為170°C)、鄰薄荷烷(沸點約為H(TC)、蒎烷(沸點約為169'C)等。這些化合物的結(jié)構(gòu)示于下述。這些之中，特別優(yōu)選對薄荷垸。所述金屬氧化物膜形成材料也可以含有除了金屬化合物及溶劑(S)之外的任意成分。任意成分例如可以列舉有機化合物。利用包含有機化合物的金屬氧化物膜形成材料，可以形成金屬氧化物與有機化合物的復(fù)合膜。有機化合物只要能夠溶解在所述溶劑(S)中則無特別限定。這里所說的溶解，并不僅限于有機化合物單獨即可溶解的情況，也包括像4-苯基偶氮苯甲酸那樣，通過與金屬醇鹽類復(fù)合而溶解在氯仿等溶劑中的情況。而且，對有機化合物的分子量并無特別限制。從膜強度的觀點、或者使金屬氧化物膜與有機膜22的粘附性更加牢固的觀點來考慮，所述有機化合物優(yōu)選具有多個反應(yīng)基(優(yōu)選羥基或羧基)，而且在室溫下(25°C)為固體性狀。這種有機化合物例如優(yōu)選使用聚丙烯酸、聚乙烯醇、聚乙烯酚、聚甲基丙烯酸、聚谷氨酸等具有羥基或羧基的高分子化合物；淀粉、肝糖、多聚唾液酸等多糖類；葡萄糖、甘露糖等二糖類、單糖類；以及末端具有羥基或羧基的卟啉化合物或樹枝狀聚合物(dendrimer)等。另外，所述有機化合物也可以優(yōu)選使用陽離子性高分子化合物。金屬醇鹽類或金屬氧化物相對于陽離子性高分子化合物的陽離子作為陰離子而相互作用，因此可以實現(xiàn)牢固的鍵合。陽離子性高分子化合物的具體示例可以列舉PDDA(聚二甲基二烯丙基氯化銨，dimethyldiallylammoniumchloride)、聚乙烯亞胺、聚賴氨酸、殼聚糖、末端具有氨基的樹枝狀聚合物等。這些有機化合物作為用來形成機械強度較高的薄膜的結(jié)構(gòu)成分而發(fā)揮作用。另外，這些有機化合物也可以作為用來對所獲得的薄膜賦予功能的功能性部位而發(fā)揮作用，或者也可以發(fā)揮如下成分的作用制膜后將此有機化合物的分子去除，從而在薄膜中形成與其分子形狀相對應(yīng)的孔隙。有機化合物可以單獨使用一種，也可以同時將兩種以上混合使用。相對于金屬化合物100質(zhì)量份，有機化合物的含量優(yōu)選0.150質(zhì)量份，特別優(yōu)選120質(zhì)量份。使用所述金屬氧化物膜形成材料，在所述有機膜22上形成金屬氧化物膜23。具體而言，將金屬氧化物膜形成材料涂布在有機膜22的表面后，用有機溶劑來清洗此表面然后干燥。也就是說，涂布金屬氧化物膜形成材料后，進行清洗而將多余的金屬化合物(例如，附著在支撐體21上的金屬化合物)除去。并且，之后直到干燥完成期間，金屬化合物利用空氣中的水分而緩慢水解產(chǎn)生羥基，此羥基脫水縮合，從而在有機膜22的表面形成金屬氧化物膜23。當(dāng)金屬氧化物膜形成材料包含有機物時，是形成由有機物與金屬氧化物的復(fù)合薄膜所構(gòu)成的金屬氧化物膜23。其中，以往的二氧化硅系被覆膜需要像旋涂玻璃SOG(旋涂玻璃，spin-on-glass)法等那樣進行高溫處理，因此例如當(dāng)使用光阻圖案來作為所述有機膜22時，光阻圖案會由于高溫處理而變得過熱。相對于此，本實施形態(tài)的所述金屬氧化物膜形成材料在低溫下即可形成金屬氧化物膜23，所以不會損害它所被覆的光阻圖案的形狀。另外，從控制反應(yīng)性方面來考慮，優(yōu)選在惰性氣體環(huán)境下進行形成金屬氧化物膜23的操作。此時，不利用空氣中的水分而進行處理。金屬氧化物膜形成材料的涂布方法可以采用以往眾所周知的方法，并無特別限定。例如，可以列舉以下方法將具備有機膜22的支撐體21浸漬在金屬氧化物膜材料中(浸涂法)；或者利用旋涂法將金屬氧化物膜形成材料涂布在有機膜22上。另外，也可以利用交替吸附法等方法來形成金屬氧化物膜23。將金屬氧化物膜形成材料涂布在有機膜22上時的溫度(涂布溫度)根據(jù)所使用的金屬化合物的活性而有所不同，不能一概而定，通常為0100'C的范圍內(nèi)。另外，從將金屬氧化物膜形成材料涂布在有機膜22上直到千燥為止(包括涂布、清洗、根據(jù)需要而進行的吸附等處理)的時間，即水解前金屬氧化物膜形成材料與有機膜12的接觸時間以及這期間的溫度(接觸溫度)根據(jù)所使用的金屬化合物的活性而有所不同，不能一概而定，通常為幾秒到幾小時，溫度在與所述涂布溫度相同的范圍內(nèi)。用于清洗的有機溶劑可以優(yōu)選使用與作為金屬氧化物膜形成材料的溶劑(S)而例示的溶劑相同的溶劑。可以優(yōu)選采用如下方法來進行清洗利用噴霧法等將有機溶劑供給到由金屬氧化物膜形成材料所形成的涂膜的表面后，在減壓下抽吸多余的有機溶劑而進行清洗的方法；或者浸漬在有機溶劑中進行清洗的方法；通過噴霧來進行清洗的方法；以及利用蒸氣來進行清洗的方法等。清洗時的溫度條件與涂布金屬氧化物膜形成材料時的溫度相同。通過在將金屬氧化物膜形成材料涂布在有機膜22的表面后，進行清洗而將支撐體21上的多余的金屬化合物除去，可以形成膜厚的均勻性十分優(yōu)異的金屬氧化物膜23。也就是說，通過清洗，僅將主要利用較弱的物理吸附而吸附在支撐體21上的金屬化合物除去，有機膜22的表面僅均勻地殘留化學(xué)吸附的金屬化合物，所以能夠精度極為良好且重現(xiàn)性較高地形成奈米級的均勻的薄膜。因此，當(dāng)有機膜22與金屬化合物之間產(chǎn)生了化學(xué)吸附時，所述清洗操作特別有效。其中，本說明書中的"化學(xué)吸附"，是指有機膜22的表面所存在的反應(yīng)基(優(yōu)選羥基或羧基)與金屬化合物之間形成化學(xué)鍵(共價鍵、氫鍵、配位鍵等)或者靜電鍵合(離子鍵等)，由此金屬化合物或其金屬離子鍵合在有機膜22的表面的狀態(tài)。另外，所謂"物理吸附"，是指金屬化合物或其金屬離子利用范德華力(vanderWaalsforce)等弱分子間力而鍵合在有機膜22的表面的狀態(tài)。對于清洗后進行干燥的方法并無特別限定，可以采用以往眾所周知的方法。例如可以使用氮氣等干燥用氣體，如果是利用旋轉(zhuǎn)器來涂布金屬氧化物膜形成材料，那么就可以直接利用旋轉(zhuǎn)器來進行甩干。涂布金屬氧化物膜形成材料后直到進行干燥期間，可以根據(jù)需要而進行放置等處理，以推進有機膜22與由金屬氧化物膜形成材料所形成的涂膜中的金屬化合物的化學(xué)吸附以及/或者物理吸附。對由金屬氧化物膜形成材料所形成的涂膜進行清洗后直到干燥期間，可以進行加水處理，使涂膜與水接觸，以使表面的金屬化合物水解而生成羥基。由此，可以容易地形成積層了多層涂膜的金屬氧化物膜23，并且可以調(diào)整金屬氧化物膜23的厚度。也就是說，由金屬氧化物膜形成材料所形成的涂膜的表面所生成的羥基、與在此涂膜上進一步涂布金屬氧化物膜形成材料所形成的涂膜中的金屬化合物反應(yīng)而牢固地粘附，獲得積層了多層涂膜的金屬氧化物膜23。加水處理的方法可以采用以往眾所周知的方法，并無特別限定。例如，最普通的方法是使涂膜與水接觸的溶膠凝膠法。更具體而言，可以列舉在涂膜表面涂布水的方法，或者將涂膜浸漬在含有少量的水的有機溶劑中的方法。另外，當(dāng)包含與水的反應(yīng)性較髙的金屬化合物時，放置在大氣中即可與大氣中的水蒸氣反應(yīng)而水解，所以也可以不進行加水處理。為了防止混入雜質(zhì)等，生成高純度的金屬氧化物，水優(yōu)選使用去離子水。另外，加水處理中，通過使用酸或堿等催化劑，可以大幅縮短處理時間。對于金屬氧化物膜23的膜厚并無特別限定。優(yōu)選O.lnm以上，更優(yōu)選0.550nm，更優(yōu)選l30nm。可以通過反復(fù)進行金屬氧化物膜形成材料的涂布、清洗及加水處理，來調(diào)整金屬氧化物膜23的膜厚。也就是說，可以通過反復(fù)進行將金屬氧化物膜形成材料涂布而形成涂膜后，進行清洗且根據(jù)需要進行放置，然后進行水解處理這一系列的操作，而形成由具有所需厚度的均勻的薄膜所構(gòu)成的金屬氧化物膜23。例如，可以精度良好地形成幾nm幾十nm，以及根據(jù)條件的膜厚為幾百nm的金屬氧化物膜23。當(dāng)使用包含四異氰酸硅、丁醇鈦等含有一種金屬原子的金屬醇鹽的金屬氧化物膜形成材料來作為金屬化合物時，根據(jù)接觸條件的不同，可以逐次積層厚度為幾埃的薄膜。此時，每1次循環(huán)所增加的膜厚與金屬氧化物膜形成材料的積層次數(shù)相對應(yīng)。另一方面，如果是使用醇鹽凝膠的微粒等來作為金屬化合物，那么也可以每1次循環(huán)積層厚度為60nm左右的薄膜。另外，當(dāng)利用旋涂法而形成由金屬氧化物膜形成材料所形成的涂膜時，可以通過改變所使用的溶劑或金屬化合物的濃度、旋轉(zhuǎn)速度等，而任意地將膜厚控制為幾nm200nm左右。此時，也通過改變每1次循環(huán)所使用的金屬化合物的種類，而獲得由不同種類的金屬氧化物所形成的薄膜積層而成的金屬氧化物膜13。另外，對于有機膜22與金屬氧化物膜23的總膜厚并無特別限定，優(yōu)選lpm以下，52更優(yōu)選0.7pm以下，更優(yōu)選0.5pm以下。對于總下限值并無特別限定，優(yōu)選0.01pm以上，更優(yōu)選0.05^m以上。本實施形態(tài)的負極基材的鍍敷處理、及鋰離子二次電池與第一實施形態(tài)的鍍敷處理、及鋰離子二次電池相同。<負極基材>圖3表示本實施形態(tài)的負極基材30的示意圖。如圖3所示，本實施形態(tài)的負極基材30包括支撐體31、復(fù)合膜32及金屬膜33。更詳細而言，本實施方式的負極基材30的特征在于在具備復(fù)合膜32的支撐體30上形成金屬膜33。<支撐體>本實施形態(tài)的負極基材30中所使用的支撐體31是與第一實施形態(tài)相同的支撐體。<復(fù)合膜>本實施形態(tài)的負極基材30中的復(fù)合膜32由包含有機化合物或有機樹脂等有機成分、以及無機化合物或無機樹脂等無機成分的復(fù)合膜形成材料所形成，對于此復(fù)合膜形成材料并無特別限定，復(fù)合膜32優(yōu)選由下述復(fù)合膜形成材料所形成的復(fù)合膜，更優(yōu)選通過圖案曝光而圖案化成規(guī)定形狀的圖案化復(fù)合膜。對于用于形成本實施形態(tài)的負極基材30的復(fù)合膜形成材料，只要包含有機化合物或有機樹脂等有機成分、與無機化合物或無機樹脂等無機成分，則無特別限定。所述無機成分只要對進行圖案化曝光時的曝光光滿足所需的透明性即可，并無特別限定，例如可以列舉玻璃、陶瓷(堇青石等)、金屬等。更具體而言，可以列舉PbO-Si02系、PbO陽B203-Si02系、ZnO-Si。2系、ZnO-B203-Si02系、BiO-Si。2系、BiO-B203-Si02系的硼硅酸鉛玻璃、硼硅酸鋅玻璃、硼硅酸鉍玻璃等的玻璃粉末；氧化鈷、氧化鐵、氧化格、氧化鎳、氧化銅、氧化錳、氧化釹、氧化釩、氧化鈰鈦黃、氧化鎘、氧化釕、二氧化硅、氧化鎂、尖晶石等Na、K、Mg、Ca、Ba、Ti、Zr、Al等的各氧化物；ZnO:Zn、Zn3(P04)2:Mn、Y2Si05:Ce、CaW04:Pb、BaMgAli4023:Eu、ZnS:(Ag、Cd)、Y203:Eu、Y2Si05:Eu、Y3Al5012:Eu、YB03:Eu、(Y、Gd)B03:Eu、GdB03:Eu、ScB03:Eu、LuB03:Eu、Zn2Si04:Mn、BaAli2019:Mn、SrAl13019:Mn、CaAl12Oi9:Mn、YBO3:Tb、BaMgAl14023:Mn、LuB03:Tb、GdBO:Tb、ScB03:Tb、Sr6Si303Cl4:Eu、ZnS:(Cu、Al)、ZnS:Ag、Y202S:Eu、ZnS:Zn、(Y、Cd)B03:Eu、BaMgAl12023:Eu等熒光體粉末；鐵、鎳、鈀、鎢、銅、鋁、銀、金、鉑等的金屬粉末等。玻璃、陶瓷等透明性優(yōu)異，所以優(yōu)選。其中，使用玻璃粉末(玻璃漿料)時，顯現(xiàn)出最顯著的效果，因而特別優(yōu)選。所述無機成分的粒徑根據(jù)圖案化時的復(fù)合膜的圖案形狀而有所不同，優(yōu)選平均粒徑為0.510pm，優(yōu)選l8nm。通過使平均粒徑在所述范圍內(nèi)，在形成高精度的圖案時不會產(chǎn)生表面凹凸，而且不會使圖案化時的曝光光擴散以至于光難以到達底部。所述無機成分的形狀可以列舉球狀、塊狀、片狀、樹枝狀結(jié)晶狀等。這些無機成分可以單獨使用，也可以同時將兩種以上組合使用。另外，所述無機成分也可以是物性值不同的微粒的混合物。特別是通過使用熱軟化點不同的玻璃粉末或陶瓷粉末，可以抑制焙燒時的收縮率。而且，由于所述無機成分的平均粒徑為0.5I0tan，所以為了防止它二次凝聚，另外為了提高分散性，也可以在不損害它作為無機成分的性質(zhì)的范圍內(nèi)，利用有機酸、無機酸、硅烷偶聯(lián)劑、鈦酸酯系偶聯(lián)劑、鋁系偶聯(lián)劑以及表面活性劑等預(yù)先進行表面處理。表面處理方法優(yōu)選以下方法將處理劑溶解在有機溶劑或水等中后，添加無機成分并攪拌，蒸餾除去溶劑，在約50'C200'C下進行2小時以上的加熱處理。另外，也可以在使復(fù)合膜形成材料糊化時添加處理劑。所述有機成分優(yōu)選含有(A3)水溶性纖維素衍生物、(B3)光聚合性單體以、及(C3)光聚合引發(fā)劑，更優(yōu)選含有(D3)具有羥基的丙烯酸系樹脂。[(A3)水溶性纖維素衍生物]對于所述(A3)水溶性纖維素衍生物并無特別限定，具體示例可以列舉羧基甲基纖維素、羥基乙基纖維素、羥基乙基甲基纖維素、羥基丙基纖維素、乙基羥基乙基纖維素、羧基甲基乙基纖維素、羥基丙基甲基纖維素等。這些水溶性纖維素衍生物可以單獨使用，也可以同時使用兩種以上。含有這種水溶性纖維素衍生物作為粘合劑樹脂的復(fù)合膜形成材料對于紫外線、準(zhǔn)分子激光、X射線、電子束等活性光線或放射線的透射率較髙，所以具有優(yōu)異的耐顯影性，可以形成高精度的圖案化復(fù)合膜。對于所述(B3)光聚合性單體并無特別限定，具體示例可以列舉乙二醇二丙烯酸酯、乙二醇二甲基丙烯酸酯、三乙二醇二丙烯酸酯、三乙二醇二甲基丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三丙烯酸酯、三羥甲基丙垸三甲基丙烯酸酯、三羥甲基乙烷三丙烯酸酯、三羥甲基乙烷三甲基丙烯酸酯、季戊四醇二丙烯酸酯、季戊四醇二甲基丙烯酸酯、季戊四醇三丙烯酸酯、季戊四醇三甲基丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯、季戊四醇四甲基丙烯酸酯、二季戊四醇四丙烯酸酯、二季戊四醇四甲基丙烯酸酯、二季戊四醇五丙烯酸酯、二季戊四醇五甲基丙烯酸酯、二季戊四醇六丙烯酸酯、二季戊四醇六甲基丙烯酸酯、丙三醇丙烯酸酯、丙三醇甲基丙烯酸酯、酚酞基環(huán)氧二丙烯酸酯，將這些例示化合物的(甲基)丙烯酸酯置換成反丁烯二酸酯的反丁烯二酸酯、置換成亞甲基丁二酸酯的亞甲基丁二酸酯、置換成順丁烯二酸酯的順丁烯二酸酯等。[(C3)光聚合引發(fā)劑]對于所述(C3)光聚合引發(fā)劑并無特別限定，例如可以例示二苯甲酮類、安息香類、安息香烷基醚類、苯乙酮類、氨基苯乙酮類、苯偶酰類、安息香烷基醚類、苯偶酰垸基縮酮類、蒽醌類、縮酮類、噻噸酮類等。更具體而言，可以列舉2,4-雙-三氯甲基-6-(3-溴-4-甲氧基)苯基-均三嗪、2，4-雙-三氯甲基-6-(2-溴-4-甲氧基)苯基-均三嗪、2,4-雙-三氯甲基-6-(3-溴-4-甲氧基)苯乙烯基苯基-均三嗪、2,4-雙-三氯甲基-6-(2-溴-4-甲氧基)苯乙烯基苯基-均三嗪、2,4，6-三甲基苯甲?；交趸?、1-[4-(2-羥基乙氧基)苯基]-2-羥基-2-甲基-l-丙烷-l-酮、2,4-二乙基噻噸酮、2,4-二甲基噻噸酮、2-氯噻噸酮、1-氯-4-丙氧基噻噸酮、3,3-二甲基-4-甲氧基二苯甲酮、二苯甲酮、1-(4-異丙基苯基)-2-羥基-2-甲基丙垸-l-酮、l-(4-十二垸基苯基)-2-羥基-2-甲基丙垸-l-酮、4-苯甲酰基-4'-甲基二甲基硫化物、4-二甲基氨基苯甲酸、4-二甲基氨基苯甲酸甲酯、4-二甲基氨基苯甲酸乙酯、4-二甲基氨基苯甲酸丁酯、4-二甲基氨基苯甲酸-2-乙基己酯、4-二甲基氨基苯甲酸-2-異戊酯、2，2-二乙氧基苯乙酮、苯偶酰二甲基縮酮、芐基-P-甲氧基乙基縮醛、1-苯基-1,2-丙垸二酮-2-(鄰乙氧基羰基)肟、鄰苯甲?；郊姿峒柞?、雙(4-二甲基氨基苯基)酮、4,4'-雙(二乙基氨基)二苯甲酮、苯偶酰、安息香、安息香甲醚、安息香乙醚、安息香異丙醚、安息香正丁醚、安息香異丁醚、對二甲基氨基苯乙酮、對叔丁基三氯苯乙酮、對叔丁基二氯苯乙酮、噻噸酮、2-甲基噻噸酮、2-異丙基噻噸酮、二苯并環(huán)庚酮、a,ot-二氯-4-苯氧基苯乙酮、戊基-4-二甲基氨基苯甲酸酯、2-(鄰氯苯基)-4,5-二苯基咪唑基二聚物等。這些光聚合引發(fā)劑可以單獨使用，也可以同時將兩種以上組合使用。相對于(A3)水溶性纖維素衍生物與(B3)光聚合性單體的總和IOO質(zhì)量份，所述(C3)光聚合引發(fā)劑的優(yōu)選含量為0.110質(zhì)量份，更優(yōu)選0.25質(zhì)量份。通過使光聚合引發(fā)劑在所述范圍內(nèi)，可以不使硬化性下降地抑制由于光聚合引發(fā)劑吸收光而引起的底部硬化不良。可以根據(jù)需要在所述有機成分中調(diào)配(D3)具有羥基的丙烯酸系樹脂。此具有羥基的丙烯酸系樹脂可以列舉以具有羥基的單體作為主要的共聚合性單體，進一步根據(jù)需要與可以和這些具有羥基的單體共聚合的其他單體進行聚合而獲得的共聚物。所述具有羥基的單體合適的是丙烯酸或甲基丙烯酸與碳數(shù)為120的單醇的單酯化物。具體而言，可以列舉丙烯酸羥基甲酯、甲基丙烯酸羥基甲酯、丙烯酸-2-羥基乙酯、甲基丙烯酸-2-羥基乙酯、丙烯酸-2-羥基丙酯、甲基丙烯酸-2-羥基丙酯、丙烯酸-3-羥基丙酯、甲基丙烯酸-3-羥基丙酯、丙烯酸-2-羥基丁酯、甲基丙烯酸-2-羥基丁酯、丙烯酸-3-羥基丁酯、甲基丙烯酸-3-羥基丁酯、丙烯酸-4-羥基丁酯、甲基丙烯酸-4-羥基丁酯等。另外，可以列舉丙烯酸或甲基丙烯酸與碳數(shù)為110的二醇的單酯化物，或丙三醇丙烯酸酯、丙三醇甲基丙烯酸酯、二季戊四醇單丙烯酸酯、二季戊四醇單甲基丙烯酸酯、e-己內(nèi)酯改性丙烯酸羥基乙酯、e-己內(nèi)酯改性甲基丙烯酸羥基乙酯、丙烯酸2-羥基-3-苯氧基丙酯等環(huán)氧酯化合物?？梢耘c所述具有羥基的單體共聚合的其他單體例如可以列舉丙烯酸、甲基丙烯酸、亞甲基丁二酸、檸康酸、亞甲基丁二酸、順丁烯二酸、反丁烯二酸等a,e-不飽和羧酸，以及這些a,e-不飽和羧酸的酸酐或半酯化物；丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸正丙酯、丙烯酸異丙酯、丙烯酸正丁酯、丙烯酸異丁酯、丙烯酸仲丁酯、丙烯酸環(huán)己酯、丙烯酸-2-乙基己酯、丙烯酸十八烷基酯、甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸正丙酯、甲基丙烯酸異丙酯(isopropylmethacrylate)、甲基丙烯酸異丙酯(sec-propylmethacrylate)、甲基丙烯酸正丁酯、甲基丙烯酸異丁酯、甲基丙烯酸仲丁酯、甲基丙烯酸環(huán)己酯、甲基丙烯酸-2-乙基己酯、甲基丙烯酸十八垸基酯、丙烯酸-2,2,2-三氟甲酯、甲基丙烯酸-2,2，2-三氟甲酯等a,P-不飽和羧酸酯；以及苯乙烯、a-甲基苯乙烯、對乙烯基甲苯等苯乙烯類等。另外，也可以使用丙烯腈、甲基丙烯腈、丙烯酰胺、甲基丙烯酰胺、乙酸乙烯酯、丙烯酸縮水甘油酯、甲基丙烯酸縮水甘油酯等。這些單體可以單獨使用，也可以同時將兩種以上組合使用。所述(D3)具有羥基的丙烯酸系樹脂的分子量優(yōu)選20,000以下。更優(yōu)選15，0005,000，更優(yōu)選12，0008,000。如果分子量超過20,000，那么相對于(A3)水溶性纖維素衍生物與(D3)具有羥基的丙烯酸系樹脂的總和IOO質(zhì)量份，(D3)具有羥基的丙烯酸系樹脂優(yōu)選50質(zhì)量份以下。另外，相對于復(fù)合膜形成材料中的總樹脂成分量IOO質(zhì)量份，(D3)具有羥基的丙烯酸系樹脂的含量優(yōu)選50卯質(zhì)量份，更優(yōu)選6080質(zhì)量份，最優(yōu)選6575質(zhì)量份。通過使(D)成分的調(diào)配量在所述范圍內(nèi)，可以使圖案的形成精度、耐顯影性、顯影性能、顯影殘渣的產(chǎn)生等性能均良好，因而優(yōu)選。另外'除了所述(A3)~(D3)成分以外，也可以根據(jù)需要在有機成分中適宜地添加以下添加劑紫外線吸收劑、敏化劑、敏化助劑、聚合抑制劑、增塑劑、增稠劑、有機溶劑、分散劑、消泡劑、有機或無機防沉淀劑等。添加敏化劑是為了提高靈敏度。具體而言，可以列舉2,4-二乙基噻噸酮、異丙基噻噸酮、2,3-雙(4-二乙基氨基亞芐基)環(huán)戊酮、2,6-雙(4-二甲基氨基亞芐基)環(huán)己酮、2,6-雙(4-二甲基氨基亞芐基)-4-甲基環(huán)己酮、米氏酮(Michler'sketone)、4，4-雙(二乙基氨基)-二苯甲酮、4,4-雙(二甲基氨基)查爾酮、4,4-雙(二乙基氨基)查爾酮、對二甲基氨基亞肉桂基茚酮、對二甲基氨基亞芐基茚酮、2-(對二甲基氨基苯基亞乙烯基)-異萘并噻唑、1，3-雙(4-二甲基氨基亞芐基)丙酮、1,3-羰基-雙(4-二乙基氨基亞芐基)丙酮、3,3-羰基-雙(7-二乙基氨基香豆素)、N-苯基-N-乙基乙醇胺、N-苯基乙醇胺、N-甲苯基二乙醇胺、N-苯基乙醇胺、二甲基氨基苯甲酸異戊酯、二乙基氨基苯甲酸異戊酯、3-苯基-5-苯甲?；虼倪颉-苯基-5-乙氧基羰基硫代四唑等。這些敏化劑可以單獨使用，也可以同時使用兩種以上。添加聚合抑制劑是為了提高保存時的熱穩(wěn)定性。具體而言，可以列舉對苯二酚、對苯二酚的單酯化物、N-亞硝基二苯基胺、吩噻嗪、對叔丁基鄰苯二酚、N-苯基萘胺、2，6-二-叔丁基-對甲基苯酚、四氯苯醌、鄰苯三酚等。添加增塑劑是為了提高復(fù)合膜對基板的跟隨性，增塑劑可以使用鄰苯二甲酸酯類等。更具體而言，可以列舉鄰苯二甲酸二丁酯(DBP)、鄰苯二甲酸二辛酯(DOP)、鄰苯二甲酸二環(huán)己酯、聚乙二醇、丙三醇、酒石酸二丁酯等。添加消泡劑是為了減少復(fù)合膜形成材料或復(fù)合膜中的氣泡，減少焙燒后的孔隙。具體而言，可以列舉聚乙二醇(分子量為400800)等烷二醇系、硅酮系、高級醇系消泡劑等。可以將所述復(fù)合膜形成材料溶解或分散于溶劑中來進行制備。溶劑優(yōu)選與無機成分的親和性較高、有機成分的溶解性良好的溶劑。另外，只要是可以對復(fù)合膜形成材料賦予適度的粘性，并且可以通過千燥而容易地蒸發(fā)除去的溶劑，則無特別限定。具體而言，可以列舉二乙基酮、甲基丁基酮、二丙基酮、環(huán)己酮等酮類；正戊醇、4-甲基-2-戊醇、環(huán)己醇、二丙酮醇等醇類；乙二醇單甲醚、乙二醇單乙醚、乙二醇單丁醚、丙二醇單甲醚、丙二醇單乙醚、二乙二醇單甲醚、二乙二醇單乙醚、二乙二醇二甲醚、二乙二醇二乙醚等醚系醇類；乙酸正丁酯、乙酸戊酯等飽和脂肪族單羧酸垸基酯類；乳酸乙酯、乳酸正丁酯等乳酸酯類；甲基溶纖劑乙酸酯、乙基溶纖劑乙酸酯、丙二醇單甲醚乙酸酯、丙二醇單乙醚乙酸酯、乙基-3-乙氧基丙酸酯、乙酸-2-甲氧基丁酯、乙酸-3-甲氧基丁酯、乙酸-4-甲氧基丁酯、乙酸-2-甲基-3-甲氧基丁酯、乙酸-3-甲基-3-甲氧基丁酯、乙酸-3-乙基-3-甲氧基丁酯、乙酸-2-乙氧基丁酯、乙酸-4-乙氧基丁酯、乙酸-4-丙氧基丁酯、乙酸-2-甲氧基戊酯等醚系酯類等。這些溶劑可以單獨使用，也可以同時將兩種以上組合使用。為了將復(fù)合膜形成材料的粘度維持在較為合適的范圍內(nèi)，相對于有機成分與無機成分的總和100質(zhì)量份，溶劑的含量優(yōu)選300質(zhì)量份以下。更優(yōu)選1070質(zhì)量份，更優(yōu)選2535質(zhì)量份。用于形成本實施形態(tài)的負極基材30的復(fù)合膜形成材料中，相對于復(fù)合膜形成材料的總和100質(zhì)量份，所述有機成分與所述無機粉末的比例優(yōu)選有機成分為535質(zhì)量份，無機成分為9565質(zhì)量份。更優(yōu)選有機成分為1030質(zhì)量份，無機成分為90~70質(zhì)量份，更優(yōu)選有機成分為1525質(zhì)量份，無機成分為8575質(zhì)量份。復(fù)合膜形成材料可以適用將它涂布在所述支撐體31上，或者絲網(wǎng)印刷在支撐體31上等方法。當(dāng)需要形成更高精度的圖案時，優(yōu)選將涂布復(fù)合膜形成材料并加以干燥而形成的干膜貼附轉(zhuǎn)印到支撐體31上。涂布時可以使用敷料器、棒式涂布機、線棒式涂布機、輥式涂布機、幕式淋涂機等。特別是輥式涂布機的膜厚均勻性優(yōu)異，而且可以高效率地形成較厚的膜，因此優(yōu)選。對如上所述的通過涂布或轉(zhuǎn)印而形成在支撐體31上的復(fù)合膜，經(jīng)由掩模而照射紫外線、準(zhǔn)分子激光、X射線、電子束等活性光線或放射線，進行圖像曝光。接著，使用堿性顯影液或水來實施顯影處理，將未照射部溶解除去，根據(jù)需要對支撐體31上形成的圖案化復(fù)合膜進行焙燒?；蛘卟皇褂醚谀６鴮φ麄€復(fù)合膜曝光，不進行顯影處理而形成圖案化復(fù)合膜，根據(jù)需要進行焙燒。要形成更高精度的圖案時，將干膜轉(zhuǎn)印到支撐體31上，進行圖像曝光后，實施顯影處理，由此形成圖案化復(fù)合膜?；蛘卟贿M行圖像曝光而是對整個復(fù)合膜曝光，然后不進行顯影處理而形成硬化被覆膜，根據(jù)需要進行焙燒。焙燒溫度只要是可以將復(fù)合膜形成材料中的有機成分燒除的溫度即可，例如可以選擇在40060(TC下焙燒10~90分鐘。也就是說，本實施形態(tài)的"復(fù)合膜"及"圖案化復(fù)合膜"也包括有機成分被燒除的膜。另外，轉(zhuǎn)印干膜時，可以利用熱輥層壓機等來進行熱壓接合。曝光所使用的放射線照射裝置可以使用影印石版術(shù)(photolithography)中通常使用的紫外線照射裝置，以及制造半導(dǎo)體及液晶顯示裝置時所使用的曝光裝置等。用于顯影處理的堿性顯影液的堿成分可以列舉鋰、鈉、鉀等堿金屬的氫氧化物；碳酸鹽、重碳酸鹽、磷酸鹽、焦磷酸鹽；芐胺、丁胺等伯胺；二甲胺、二節(jié)胺、二乙醇胺等仲胺；三甲胺、三乙胺、三乙醇胺等叔胺；嗎啉、哌嗪、吡啶等環(huán)狀胺；乙二胺、己二胺等多胺；四甲基氫氧化銨、四乙基氫氧化銨、三甲基節(jié)基氫氧化銨、三甲基苯基芐基氫氧化銨等銨氫氧化物類；三甲基氫氧化锍類；三甲基氫氧化锍、二乙基甲基氫氧化锍、二甲基芐基氫氧化锍等锍氫氧化物類；膽堿、含硅酸鹽的緩沖液等。另外，顯影處理時，根據(jù)復(fù)合膜形成材料的特性，而適宜地選擇顯影液的種類、組成、濃度，顯影時間、顯影溫度、顯影方法(例如浸漬法、搖動法、噴淋法、噴霧法、攪拌法)、顯影裝置等。另外，以所述方式而獲得的圖案化復(fù)合膜的縱橫比優(yōu)選O.l以上。通過使圖案化復(fù)合膜的縱橫比為O.l以上，可以使負極基材30的表面積增大，并且可以使后述通過鍍敷處理而形成的金屬膜量增加，從而實現(xiàn)更高的輸出以及更高的能量密度。本實施形態(tài)的負極基材的鍍敷處理、及鋰離子二次電池與第一實施形態(tài)的鍍敷處理、及鋰離子二次電池相同。(第四實施形態(tài))<負極基材>圖4表示本實施形態(tài)的負極基材40的示意圖。如圖4所示，本實施形態(tài)的負極基材40包括支撐體41、二氧化硅系被覆膜42及金屬膜43。更詳細而言，本實施形態(tài)的負極基材40在具有圖案化的二氧化硅系被覆膜42的支撐體41的表面，更具備金屬膜43?？梢岳萌缦路绞蕉@得本實施形態(tài)的負極基材40。首先，在支撐體41上形成光阻圖案。在所形成的光阻圖案上，涂布二氧化硅系被覆膜形成用涂布液，形成二氧化硅系被覆膜。接著，將不需要的光阻圖案除去，由此在支撐體41上獲得圖案化的二氧化硅系被覆膜42。最后，在具有圖案化的二氧化硅系被覆膜42的支撐體41上形成金屬膜43。<支撐體>用于本實施形態(tài)的負極基材40的支撐體41只要可以在其表面上形成光阻圖案、或二氧化硅系被覆膜42即可，并無特別限定。例如，可以使用電子零件用基板等以往眾所周知的支撐體。具體而言，可以列舉硅片，設(shè)置著有機系或無機系抗反射膜的硅片，形成了磁性膜的硅片，銅、鉻、鐵、鋁等金屬制的基板，或玻璃基板等。另外，這些支撐體也可以兼作包含選自銅、鎳、不銹鋼、鉬、鎢、鈦及鉭中的至少一種元素的材料，金屬箔，不織布，具有三維結(jié)構(gòu)的金屬集電體等集電體，也可以形成在這些集電體上。用于形成本實施形態(tài)的負極基材40的光阻組合物、光阻圖案是使用與第一實施形態(tài)相同的光阻組合物、光阻圖案。<二氧化硅系被覆膜>本實施形態(tài)的負極基材40中的二氧化硅系被覆膜42，是由二氧化硅系被覆膜形成用涂布液所形成。具體而言，是在負極基材40上所形成的光阻圖案上，涂布二氧化硅系被覆膜形成用涂布液后，除去光阻圖案時殘留在支撐體41上的二氧化硅系被覆膜42。所述二氧化硅系被覆膜形成用涂布液包含含有硅氧烷聚合物與溶劑的二氧化硅系被覆膜形成用組合物。作為硅氧烷聚合物，優(yōu)選使用使選自以下述通式(I)所表示的硅垸化合物中的至少一種進行水解反應(yīng)而獲得的反應(yīng)產(chǎn)物。[化34]<formula>formulaseeoriginaldocumentpage60</formula>所述通式(I)中，R表示氫原子、烷基或苯基，R'表示垸基或苯基，n表示24的整數(shù)。當(dāng)多個R與Si鍵合時，此多個R可以相同也可以不同。與Si鍵合的多個(OR')基團可以相同也可以不同。作為R的烷基優(yōu)選碳數(shù)為1~20的直鏈狀或支鏈狀的烷基，更優(yōu)選碳數(shù)為14的直鏈狀或支鏈狀的烷基。作為R'的烷基優(yōu)選碳數(shù)為15的直鏈狀或支鏈狀的垸基。特別是從水解速度方面來考慮，作為R'的垸基優(yōu)選碳數(shù)為1或2。當(dāng)所述通式(I)中的n為4時，硅垸化合物(i)以下述通式(II)來表示。<formula>formulaseeoriginaldocumentpage60</formula>所述通式(II)中，R1、R2、P及W分別獨立表示與所述R，相同的烷基或苯基。a、b、c及d是滿足0SaS4、0蕓b蕓4、0SCS4、0Sd蕓4，且a+b+c+d=4的條件的整數(shù)。當(dāng)所述通式(I)中的n為3時，硅烷化合物(ii)以下述通式(III)來表示。[化36]<formula>formulaseeoriginaldocumentpage60</formula>所述通式(III)中，RS表示氫原子、與所述R相同的烷基或苯基。R6、R及R8分別獨立表示與所述R，相同的烷基或苯基。e、f及g是滿足0SeS3、0SfS3、0Sg§3，且e+f+g-3的條件的整數(shù)。當(dāng)所述通式(I)中的n為2時，硅烷化合物(iii)以下述通式(IV)來表示。[化37]RSR"'Si(OR;)h(OR;(IV)所述通式(IV)中，119及R"表示氫原子、與所述R相同的烷基或苯基。R11、及R^分別獨立表示與所述R，相同的垸基或苯基。h及i是滿足0^hS2、0蕓iS2，且h十i-2的條件的整數(shù)。所述硅垸化合物(i)的具體示例可以列舉四甲氧基硅垸、四乙氧基硅烷、四丙氧基硅垸、四丁氧基硅烷、四戊氧基硅垸、四苯氧基硅烷、三甲氧基單乙氧基硅烷、二甲氧基二乙氧基硅烷、三乙氧基單甲氧基硅烷、三甲氧基單丙氧基硅烷、單甲氧基三丁氧基硅烷、單甲氧基三戊氧基硅烷、單甲氧基三苯氧基硅烷、二甲氧基二丙氧基硅烷、三丙氧基單甲氧基硅烷、三甲氧基單丁氧基硅烷、二甲氧基二丁氧基硅垸、三乙氧基單丙氧基硅烷、二乙氧基二丙氧基硅烷、三丁氧基單丙氧基硅垸、二甲氧基單乙氧基單丁氧基硅烷、二乙氧基單甲氧基單丁氧基硅烷、二乙氧基單丙氧基單丁氧基硅烷、二丙氧基單甲氧基單乙氧基硅垸、二丙氧基單甲氧基單丁氧基硅烷、二丙氧基單乙氧基單丁氧基硅烷、二丁氧基單甲氧基單乙氧基硅烷、二丁氧基單乙氧基單丙氧基硅烷、單甲氧基單乙氧基單丙氧基單丁氧基硅烷等四烷氧基硅垸，其中，優(yōu)選四甲氧基硅烷、四乙氧基硅烷。所述硅烷化合物(ii)的具體示例可以列舉三甲氧基硅烷、三乙氧基硅烷、三丙氧基硅烷、三戊氧基硅烷、三苯氧基硅烷、二甲氧基單乙氧基硅烷、二乙氧基單甲氧基硅垸、二丙氧基單甲氧基硅垸、二丙氧基單乙氧基硅烷、二戊氧基單甲氧基硅垸、二戊氧基單乙氧基硅烷、二戊氧基單丙氧基硅垸、二苯氧基單甲氧基硅烷、二苯氧基單乙氧基硅烷、二苯氧基單丙氧基硅烷、甲氧基乙氧基丙氧基硅垸、單丙氧基二甲氧基硅烷、單丙氧基二乙氧基硅烷、單丁氧基二甲氧基硅烷、單戊氧基二乙氧基硅烷、單苯氧基二乙氧基硅烷、甲基三甲氧基硅垸、甲基三乙氧基硅烷、甲基三丙氧基硅烷、甲基三戊氧基硅垸、乙基三甲氧基硅烷、乙基三丙氧基硅烷、乙基三戊氧基硅烷、乙基三苯氧基硅烷、丙基三甲氧基硅烷、丙基三乙氧基硅垸、丙基三戊氧基硅烷、丙基三苯氧基硅烷、丁基三甲氧基硅垸、丁基三乙氧基硅烷、丁基三丙氧基硅垸、丁基三戊氧基硅烷、丁基三苯氧基硅垸、甲基單甲氧基二乙氧基硅烷、乙基單甲氧基二乙氧基硅烷、丙基單甲氧基二乙氧基硅垸、丁基單甲氧基二乙氧基硅烷、甲基單甲氧基二丙氧基硅烷、甲基單甲氧基二戊氧基硅烷、甲基單甲氧基二苯氧基硅烷、乙基單甲氧基二丙氧基硅烷、乙基單甲氧基二戊氧基硅烷、乙基單甲氧基二苯氧基硅垸、丙基單甲氧基二丙氧基硅烷、丙基單甲氧基二戊氧基硅烷、丙基單甲氧基二苯氧基硅垸、丁基單甲氧基二丙氧基硅烷、丁基單甲氧基二戊氧基硅垸、丁基單甲氧基二苯氧基硅烷、甲基甲氧基乙氧基丙氧基硅烷、丙基甲氧基乙氧基丙氧基硅烷、丁基甲氧基乙氧基丙氧基硅烷、甲基單甲氧基單乙氧基單丁氧基硅垸、乙基單甲氧基單乙氧基單丁氧基硅烷、丙基單甲氧基單乙氧基單丁氧基硅烷、丁基單甲氧基單乙氧基單丁氧基硅垸等，其中，優(yōu)選三甲氧基硅烷、三乙氧基硅烷、甲基三甲氧基硅垸。所述硅烷化合物(iii)的具體示例可以列舉二甲氧基硅烷、二乙氧基硅烷、二丙氧基硅烷、二戊氧基硅烷、二苯氧基硅烷、甲氧基乙氧基硅烷、甲氧基丙氧基硅垸、甲氧基戊氧基硅垸、甲氧基苯氧基硅垸、乙氧基丙氧基硅垸、乙氧基戊氧基硅垸、乙氧基苯氧基硅烷、甲基二甲氧基硅烷、甲基甲氧基乙氧基硅烷、甲基二乙氧基硅烷、甲基甲氧基丙氧基硅垸、甲基甲氧基戊氧基硅烷、甲基甲氧基苯氧基硅烷、乙基二丙氧基硅烷、乙基甲氧基丙氧基硅垸、乙基二戊氧基硅烷、乙基二苯氧基硅烷、丙基二甲氧基硅烷、丙基甲氧基乙氧基硅烷、丙基乙氧基丙氧基硅垸、丙基二乙氧基硅烷、丙基二戊氧基硅烷、丙基二苯氧基硅烷、丁基二甲氧基硅垸、丁基甲氧基乙氧基硅烷、丁基二乙氧基硅垸、丁基乙氧基丙氧基硅烷、丁基二丙氧基硅烷、丁基甲基二戊氧基硅垸、丁基甲基二苯氧基硅烷、二甲基二甲氧基硅烷、二甲基甲氧基乙氧基硅烷、二甲基二乙氧基硅烷、二甲基二戊氧基硅垸、二甲基二苯氧基硅垸、二甲基乙氧基丙氧基硅垸、二甲基二丙氧基硅烷、二乙基二甲氧基硅垸、二乙基甲氧基丙氧基硅烷、二乙基二乙氧基硅烷、二乙基乙氧基丙氧基硅烷、二丙基二甲氧基硅烷、二丙基二乙氧基硅垸、二丙基二戊氧基硅烷、二丙基二苯氧基硅烷、二丁基二甲氧基硅烷、二丁基二乙氧基硅烷、二丁基二丙氧基硅烷、二丁基甲氧基戊氧基硅垸、二丁基甲氧基苯氧基硅烷、甲基乙基二甲氧基硅烷、甲基乙基二乙氧基硅烷、甲基乙基二丙氧基硅烷、甲基乙基二戊氧基硅烷、甲基乙基二苯氧基硅垸、甲基丙基二甲氧基硅垸、甲基丙基二乙氧基硅烷、甲基丁基二甲氧基硅烷、甲基丁基二乙氧基硅烷、甲基丁基二丙氧基硅烷、甲基乙基乙氧基丙氧基硅烷、乙基丙基二甲氧基硅垸、乙基丙基甲氧基乙氧基硅垸、二丙基二甲氧基硅烷、二丙基甲氧基乙氧基硅烷、丙基丁基二甲氧基硅烷、丙基丁基二乙氧基硅垸、二丁基甲氧基乙氧基硅烷、二丁基甲氧基丙氧基硅烷、二丁基乙氧基丙氧基硅垸等，其中，優(yōu)選二甲氧基硅烷、二乙氧基硅垸、甲基二甲氧基硅烷、甲基二乙氧基硅烷。這些硅烷化合物之中，優(yōu)選甲基三垸氧基硅烷與四垸氧基硅烷的組合。甲基三烷氧基硅烷與四垸氧基硅垸的調(diào)配摩爾比優(yōu)選30:7090:10。另外，所述硅氧垸聚合物優(yōu)選重均分子量在1,00010,000的范圍內(nèi)。這主要是因為容易確保成膜性或膜的平坦性，而且蝕刻速率耐性也十分優(yōu)異。特別是如果分子量過低，那么硅氧垸聚合物會揮發(fā)，有可能無法形成膜。所述溶劑可以列舉甲醇、乙醇、丙醇、丁醇等一元醇；乙二醇、二乙二醇、丙二醇、丙三醇、三羥甲基丙烷、己三醇等多元醇；乙二醇單甲醚、乙二醇單乙醚、乙二醇單丙醚、乙二醇單丁醚、二乙二醇單甲醚、二乙二醇單乙醚、二乙二醇單丙醚、二乙二醇單丁醚、丙二醇單甲醚、丙二醇單乙醚、丙二醇單丙醚、丙二醇單丁醚等多元醇的單醚類；乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丁酯等酯類；丙酮、甲基乙基酮、環(huán)垸基酮、甲基異戊基酮等酮類；乙二醇二甲醚、乙二醇二乙醚、乙二醇二丙醚、乙二醇二丁醚、丙二醇二甲醚(PGDM)、丙二醇二乙醚、丙二醇二丁醚、二乙二醇二甲醚、二乙二醇甲基乙醚、二乙二醇二乙醚等將多元醇的羥基全部烷基醚化的多元醇醚類等。這些之中，更優(yōu)選環(huán)烷基酮或烷二醇二垸基醚。另外，烷二醇二甲醚優(yōu)選PGDM(丙二醇二甲醚)。這些有機溶劑可以單獨使用，也可以將兩種以上組合使用。所述溶劑的調(diào)配量優(yōu)選在二氧化硅系被覆膜形成用組合物中為7099質(zhì)量％的范圍。所述二氧化硅系被覆膜形成用組合物也可以含有除了所述硅氧烷聚合物及溶劑以外的其他成分。例如，也可以含有環(huán)狀堿性化合物。此環(huán)狀堿性化合物優(yōu)選環(huán)狀胺，更具體而言，可適宜地使用DBU(1,8-二氮雜雙環(huán)(5.4.0)十一碳-7-烯，1，8-diazabicyclo(5.4.0)undec-7-ene)。相對于所述硅氧烷聚合物的固體成分量，所述環(huán)狀堿性化合物的添加量優(yōu)選10ppml%。如果所述環(huán)狀堿性化合物的添加量在此范圍內(nèi)，就可以促進硅氧烷聚合物進行聚合，減少被覆膜中的水分量。而且，二氧化硅系被覆膜形成用組合物的溶液穩(wěn)定性提高，涂布性變得良好。另外，所述二氧化硅系被覆膜形成用組合物中也可以含有成孔劑。所謂成孔劑，是指在對由二氧化硅系被覆膜形成用組合物所形成的涂膜進行焙燒時分解，從而使最終所形成的二氧化硅系被覆膜12上形成孔隙的材料。此成孔劑例如可以列舉聚烷二醇及聚垸二醇的末端烷基化物。所述聚烷二醇的垸撐的碳數(shù)優(yōu)選15，更優(yōu)選13。聚烷二醇的具體示例可以列舉聚乙二醇、聚丙二醇等低級烷二醇。所述聚烷二醇的末端垸基化物，是指聚烷二醇的單個末端或兩個末端的羥基利用烷基而垸氧基化。用來使末端烷氧基化的垸基可以為直鏈狀或支鏈狀的烷基，此烷基的碳數(shù)優(yōu)選15，更優(yōu)選13。特別優(yōu)選甲基、乙基、丙基等直鏈狀的烷基。此聚垸二醇的重均分子量(Mw)優(yōu)選10010,000，更優(yōu)選2005，000,更優(yōu)選4004,000。通過使重均分子量在所述范圍的上限值以下，可以不損害所述聚烷二醇在涂布液中的相容性而獲得良好的涂布性，且二氧化硅系被覆膜42的膜厚均勻性良好。通過使重均分子量在所述范圍的下限值以上，可以使二氧化硅系被覆膜42形成為多孔狀，從而起到更大的緩沖作用，因而優(yōu)選。相對于二氧化硅系被覆膜形成用組合物的固體成分(Si02換算質(zhì)量)，所述成孔劑的使用量優(yōu)選25~100質(zhì)量％，更優(yōu)選3070質(zhì)量％。通過使溶劑成分的使用量在所述范圍的下限值以上，可以使二氧化硅系被覆膜42形成多孔狀，通過使它的使用量在所述范圍的上限值以下，可以獲得強度充分的二氧化硅系被覆膜12。所述二氧化硅系被覆膜42是通過以下方式而獲得在形成了光阻圖案的支撐體41上，涂布二氧化硅系被覆膜形成用涂布液，進行加熱干燥及焙燒之后，除去光阻圖案。對二氧化硅系被覆膜形成用涂布液的涂布方法并無特別限定，例如可以采用噴霧法、旋涂法、浸涂法、輥式涂布法等任意的涂布方法。加熱干燥優(yōu)選在80300'C下干燥16分鐘時間，更優(yōu)選分3階段以上來階段性地升溫。例如，在大氣中或氮氣等惰性氣體環(huán)境中，在70120'C下干燥30秒2分鐘，作為第1次干燥處理，之后，在13022(TC下干燥30秒2分鐘，作為第2次干燥處理，然后，在15030(TC下干燥30秒2分鐘，作為第3次干燥處理。這樣，通過進行3階段以上，優(yōu)選36階段左右的階段性的干燥處理，可以使涂膜的表面變得均勻。另外，優(yōu)選在30040(TC左右的溫度下、氮氣環(huán)境中進行焙燒。對于形成在光阻圖案的上部的二氧化硅系被覆膜，可以適宜地通過對支撐體的整個面進行蝕刻處理(回蝕)等而將此二氧化硅系被覆膜除去。另外，此時的蝕刻處理可以采用眾所周知的蝕刻方法來進行。對于除去光阻圖案時所使用的剝離液并無特別限定，可以使用以往眾所周知的光阻用剝離液。例如，也可以使用有機系剝離液、水系剝離液、02灰化處理中的任一種。本實施形態(tài)的負極基材的鍍敷處理、及鋰離子二次電池與第一實施形態(tài)的鍍敷處理、及鋰離子二次電池相同。以下，使用實施例來更詳細地說明本發(fā)明。但是，本發(fā)明并不限定于以下實施例。<圖案形成>64[實施例1]將100質(zhì)量份的多官能雙酚A酚醛型環(huán)氧樹脂"Epikote157S70(商品名，日本環(huán)氧樹脂公司制造)"、5質(zhì)量份的二苯基[4-(苯硫基)苯基]锍六氟磷酸鹽與硫代二-對苯撐-雙(二苯基锍)-雙(六氟磷酸鹽)的混合物"UVI-6992(商品名，陶氏化學(xué)公司制造)"、5質(zhì)量份的1，5-二羥基萘、以及43質(zhì)量份的Y-丁內(nèi)酯混合，制備負型光阻組合物l。使用旋轉(zhuǎn)涂布機將此負型光阻組合物1涂布在硅片上后，加以干燥，獲得具有20nm的膜厚的感光性樹脂組合物層。利用熱板，對此負型光阻組合物層1在6(TC下預(yù)烘烤5分鐘及在90。C下預(yù)烘烤5分鐘。然后，使用PLA-501F(接觸式對準(zhǔn)器，佳能公司制造)進行圖案曝光(軟接觸，GHI線)，利用熱板在90。C下進行5分鐘曝光后加熱(PEB)，使用PGMEA、利用浸漬法進行4分鐘顯影處理。接著，使用烘箱，對顯影后的樹脂圖案連同基板一起在200'C下進行1小時后烘烤，由此在硅片上獲得寬度為10pm(間距為20nm)的柱狀的光阻圖案la。另夕卜，將l質(zhì)量份的以下述結(jié)構(gòu)式(zl)所表示的化合物(K-lS(商品名)，San-Apro公司制造)，40質(zhì)量份的以下述結(jié)構(gòu)式(z2)所表示的相對于堿的溶解性由于酸的作用而增大的樹脂，60質(zhì)量份的在甲醛與酸催化劑的存在下，使間甲酚與對甲酚加成縮合而獲得的酚醛樹脂，以及1質(zhì)量份的1,5-二羥基萘，均勻地溶解在丙二醇單甲醚乙酸酯中，通過孔徑為1的濾膜來進行過濾，制備固體成分質(zhì)量濃度為40質(zhì)量％的正型光阻組合物，利用與所述負型光阻組合物的圖案形成相同的方法，在硅片上獲得寬度為10(間距為20pm)的柱狀的光阻圖案lb。<formula>formulaseeoriginaldocumentpage65</formula>[化38][實施例lc將作為(A)成分的使用間甲酚/對甲酚/2，3,5-三甲基苯酚=40/35/25(摩爾比)的混合酚類，與水楊醛/甲醛=1/5(摩爾比)的混合醛類并利用常法而合成的Mw-5，200的酚酸樹脂13g，作為(B)成分的l摩爾的雙(5-環(huán)己基-4-羥基-2-甲基苯基)-3，4-二羥基苯基甲垸(Bl)與2摩爾的1，2-萘醌二疊氮基-5-磺酰氯[以下，簡稱為(5-NQD)]的酯化反應(yīng)產(chǎn)物，1摩爾的雙(2,4-二羥基苯基)甲烷(B2)與2摩爾的5-NQD的酯化反應(yīng)產(chǎn)物，和1摩爾的雙(4-羥基-2,3，5-三甲基苯基)-2-羥基苯基甲烷(B3)與2摩爾的5-NQD的酯化反應(yīng)產(chǎn)物的混合物7.5g(質(zhì)量混合比B1:B2:B3=4:1:1)，作為(C)成分的雙(2-甲基-4-羥基苯基)-苯基甲烷5.5g，以及丙二醇單甲醚乙酸酯溶劑74g加以混合，制備正型光阻組合物。將此正型光阻組合物涂布在硅片上，進行預(yù)烘烤處理，形成膜厚為1.48pm的有機膜。使用i線曝光裝置(產(chǎn)品名"NSR-2005ilOD"，東京應(yīng)化工業(yè)公司制造)選擇性地對此有機膜進行曝光，接著，利用濃度為2.38質(zhì)量％的四甲基氫氧化銨水溶液(產(chǎn)品名"NMD-3"，東京應(yīng)化工業(yè)公司制造)進行60秒鐘顯影處理，用純水進行30秒鐘沖洗處理，然后經(jīng)過干燥步驟，形成寬度為5pm(間距為20pm)的柱狀的圖案化有機膜lc。除了不形成金屬氧化膜之外，利用與實施例la同樣的操作來形成光阻圖案。另一方面，以達到100mM的方式將四異氰酸硅垸(Si(NCO)4)溶解在對薄荷烷中，制備金屬氧化物膜形成材料。通過旋涂(以100rpm涂布IO秒鐘)，將此金屬氧化物膜形成材料均勻地涂布在光阻圖案上后，用對薄荷烷來進行清洗(以500rpm清洗IO秒鐘)，然后以2000rpm進行IO秒鐘甩千，以3000rpm進行10秒鐘甩干。結(jié)果，獲得在光阻圖案的表面形成了均勻的被覆層(硅氧化物膜(Si02))的光阻圖案2a。此被覆層是膜厚約為1nm的超薄膜。除了使用光阻圖案lb之外，利用與實施例2a同樣的方法而形成光阻圖案2b。[實施例3]利用攪拌機，將作為水溶性纖維素衍生物的羥基丙基纖維素5質(zhì)量份，作為具有羥基的丙烯酸系樹脂的苯乙烯/甲基丙烯酸羥基乙酯-60/40(質(zhì)量。/。)共聚物(Mw二30000)5質(zhì)量份，作為光聚合性單體的丙烯酸-2-羥基-3-苯氧基丙酯(商品名M-600A，共榮社化學(xué)股份有限公司制造)15質(zhì)量份，作為光聚合引發(fā)劑的2,2-二甲氧基-2-苯基苯乙酮(商品名IR-651，Ciba-Geigy公司制造)1.0質(zhì)量份，作為增塑劑的鄰苯二甲酸二環(huán)己酯12質(zhì)量份，以及作為溶劑的乙酸乙酯100質(zhì)量份混合3小時，制備有機成分溶液。接著，對此有機成分溶液(固體成分為50質(zhì)量％)35質(zhì)量份與作為無機成分的玻璃漿料82.5質(zhì)量份進行混練，制備復(fù)合膜形成材料。接著，將以上所制備的復(fù)合膜形成材料涂布在聚對苯二甲酸乙二酯上，在IO(TC下對涂膜干燥6分鐘，將溶劑完全除去，形成厚度為27nm的復(fù)合膜。接著，利用熱輥層壓機，在105'C下將以上所制造的復(fù)合膜層壓到預(yù)先加熱到8(TC的硅片上?？諝鈮毫?kg/cm2，層壓速度為1.0m/min。接著，將作為支撐膜的聚對苯二甲酸乙二酯剝離，利用超高壓水銀燈，經(jīng)由圖案掩模以500mJ/cr^的照射量進行紫外線曝光。使用液溫為3(TC的水，以3kg/cm2的噴射壓力，進行顯影點的5倍的噴霧顯影，形成寬度為lOpm(間距為20tim)的柱狀的圖案化復(fù)合膜3。其中，所謂顯影點，是指進行曝光處理時直到未曝光部完全消失為止的時間。除固體成分質(zhì)量濃度為20質(zhì)量％之外，以與實施例2b同樣的方法獲得正型光阻組合物。利用旋轉(zhuǎn)涂布機將此正型光阻組合物涂布在硅片上后，進行干燥，獲得具有2nm膜厚的感光性樹脂組合物層。利用熱板在13(TC下對此正型光阻組合物層預(yù)烘烤1分鐘。然后，使用PLA-501F(接觸式對準(zhǔn)器，佳能公司制造)進行圖案曝光(軟接觸，GHI線)，利用熱板在75'C下進行5分鐘曝光后加熱(PEB)，使用3質(zhì)量％的氫氧化四甲基銨，利用浸漬法進行2分鐘顯影處理。由此在硅片上獲得直徑為1pm(間距為2pm)的孔形狀的光阻圖案。另一方面，將220.0g甲基三甲氧基硅垸、246.0g四甲氧基硅垸、301.0g丙二醇單丙醚混合，進行攪拌。向此混合物中添加204.0g水、52nL的60%硝酸，再攪拌3小時。然后，在26。C下反應(yīng)2天。將8.0g所述反應(yīng)物、11.8g丙二醇單丙醚、0.2g的DBU為0.1%的丙二醇單丙醚溶液加以混合，獲得二氧化硅系被覆膜形成用組合物。通過旋涂，將所獲得的二氧化硅系被覆膜形成用組合物涂布在所述形成了光阻圖案的硅片上，在S0。C、1S0。C、及200。C的各熱板上分別加熱1分鐘。然后，使用剝離104(東京應(yīng)化工業(yè)公司制造)，在70。C下進行20分鐘浸漬處理，接著在氮氣環(huán)境中、400'C下焙燒S0分鐘，形成膜厚約為2pm的二氧化硅系被覆膜4。<負極基材的制作>將此在光阻圖案la及l(fā)b上形成了硅氧化物膜的硅片，或者形成了光阻圖案2a、2b，圖案化復(fù)合膜3，圖案上的二氧化硅系被覆膜4或圖案化有機膜5的硅片在磷酸鈉溶液中浸漬60秒鐘，來進行清洗處理。接著，將經(jīng)過所述清洗步驟的硅片在0.05g/di^的氯化錫(SnCl2)水溶液中浸漬60秒鐘，之后在0.05g/dmS的氯化鈀(PdCl2)水溶液中浸漬60秒鐘，以此進行催化劑化步驟。接著，將經(jīng)過所述催化劑化步驟的硅片浸漬在包含0.20M的硫酸鎳、0.30M的次磷酸鈉、0.30ppm的鉛離子、0.30M的羧酸類絡(luò)合劑的鍍鎳浴中進行鍍鎳處理。另夕卜，此時的鍍鎳浴的溫度為7(TC，pH值調(diào)整為5.5。然后，將經(jīng)過所述非電解鍍鎳步驟的硅片浸漬在包含0.20M的氯化錫、0.08M的三氯化鈦等還原劑、0.50M的檸檬酸三鈉的鍍錫浴中進行鍍錫處理。另外，此時的鍍錫浴的溫度為70'C，pH值調(diào)整為8.5。制作使用具有所述實施例1中所獲得的光阻圖案la的負極基材的非水電解液二次電池(以下，稱為電池實施例la)、使用具有光阻圖案lb的負極基材的非水電解液二次電池(以下，稱為電池實施例lb)、使用具有光阻圖案2a的負極基材的非水電解液二次電池(以下，稱為電池實施例2a)、使用具有光阻圖案2b的負極基材的非水電解液二次電池(以下，稱為電池實施例2b)、使用具有圖案化復(fù)合膜3的負極基材的非水電解液二次電池(以下，稱為電池實施例3)、使用具有圖案上的二氧化硅系被覆膜4的負極基材的非水電解液二次電池(以下，稱為電池實施例4)、使用具有圖案化有機膜5的負極基材的非水電解液二次電池(以下，稱為電池實施例5)。利用以下方法測定這些電池在13次循環(huán)后的放電電容。結(jié)果示于以下表l。非水電解液二次電池是利用以下方式來制作。將實施例中獲得的各負極基材作為工作電極，使用LiCo02來作為對電極(正極)，使兩極隔著隔離膜而對向。使用LiPF6/碳酸乙烯酯與碳酸二甲酯的混合液(電容比為1:1)作為非水電解液，利用常法來制作非水電解液二次電池。此非水電解液二次電池中，正極與負極的電容比為l:1。測定13次循環(huán)后每單位容積的放電電容(inAh/cm2)，作為各非水電解液二次電池的放電電容。每單位容積的放電電容是以負極的體積作為基準(zhǔn)。但是不考慮充電時負極的膨脹。[表l]<table>tableseeoriginaldocumentpage69</column></row><table>所述負極基材中，實施例的實施了鍍錫處理的負極基材的表面積，是以平面狀而實施鍍敷處理的情況的約190%。僅具有圖案化有機膜5的負極基材為約115%。[產(chǎn)業(yè)上的可利用性]利用本發(fā)明的負極基材，可以實現(xiàn)具有高輸出電壓及高能量密度，并且充放電循環(huán)特性優(yōu)異的電池，可以應(yīng)用在從便攜設(shè)備等中所使用的小型電池，到混合動力汽車等中所使用的大型電池的任何電容的各種用途中。權(quán)利要求1、一種負極基材，其特征在于在具備有機膜的支撐體上形成金屬膜。2、根據(jù)權(quán)利要求1所述的負極基材，其特征在于所述有機膜的表層由金屬氧化物膜被覆。3、根據(jù)權(quán)利要求2所述的負極基材，其特征在于所述金屬氧化物膜為二氧化硅系被覆膜。4、根據(jù)權(quán)利要求2或權(quán)利要求3所述的負極基材，其特征在于所述金屬氧化物膜由二氧化硅系被覆膜形成材料所形成，此二氧化硅系被覆膜形成材料含有可以通過水解而生成羥基的金屬化合物，以及溶解此金屬化合物且不具有與此金屬化合物反應(yīng)的官能基的溶劑。5、根據(jù)權(quán)利要求1或權(quán)利要求2所述的負極基材，其特征在于所述有機膜為光阻膜。6、根據(jù)權(quán)利要求1或權(quán)利要求2所述的負極基材，其特征在于所述有機膜是通過圖案曝光而圖案化成規(guī)定形狀的光阻圖案。7、根據(jù)權(quán)利要求6所述的負極基材，其特征在于所述光阻圖案的縱橫比為0.1以上。8、根據(jù)權(quán)利要求5所述的負極基材，其特征在于所述光阻膜由含有通過照射活性光線或放射線而產(chǎn)生酸的酸產(chǎn)生劑成分、以及相對于堿的溶解性通過酸的作用而增大的樹脂成分的正型光阻組合物所形成。9、根據(jù)權(quán)利要求5所述的負極基材，其特征在于所述光阻膜由含有自由基聚合引發(fā)劑及多官能環(huán)氧樹脂的負型光阻組合物所形成。10、根據(jù)權(quán)利要求5所述的負極基材，其特征在于所述光阻膜由含有(A2)堿溶性樹脂、及(B2)含醌二疊氮基的化合物的正型光阻組合物所形成。11、根據(jù)權(quán)利要求IO所述的負極基材，其特征在于所述(A2)成分是選自酚醛樹脂、羥基苯乙烯系樹脂、及丙烯酸系樹脂中的至少一種。12、根據(jù)權(quán)利要求IO所述的負極基材，其特征在于所述(B2)成分是以下述通式(b2a)[化1][所述通式(b2a)中，R^Rbs分別獨立表示氫原子、鹵素原子、碳原子數(shù)為16的烷基、碳原子數(shù)為16的烷氧基、或碳原子數(shù)為36的環(huán)烷基，Rb^及Rbu分別獨立表示氫原子、或碳原子數(shù)為16的垸基，當(dāng)Rr為氫原子、或碳數(shù)為16的垸基時，Qi表示氫原子、碳數(shù)為16的烷基、或以下述化學(xué)式(b2b)[化2](b2b》[所述通式(b2b)中，Rbu及Rbu分別獨立表示氫原子、鹵素原子、碳原子數(shù)為l6的烷基、碳原子數(shù)為16的烷氧基、或碳原子數(shù)為36的環(huán)烷基，c表示l3的整數(shù)]所表示的殘基，當(dāng)Qi與R^的末端鍵合時，(^與R139、及Qi與RW之間的碳原子一起構(gòu)成碳原子鏈為36的環(huán)垸撐鏈，a及b表示l3的整數(shù)，d表示03的整數(shù)，n表示03的整數(shù)]所表示的化合物、與1，2-萘醌二疊氮基磺?；衔锏孽セ磻?yīng)產(chǎn)物。13、一種光阻組合物，用于形成根據(jù)權(quán)利要求5所述的有機膜，其特征在于是含有通過照射活性光線或放射線而產(chǎn)生酸的化合物、以及相對于堿的溶解性由于酸的作用而增大的樹脂成分的正型光阻組合物。14、一種光阻組合物，用于形成根據(jù)權(quán)利要求5所述的有機膜，其特征在于是含有自由基聚合引發(fā)劑及多官能環(huán)氧樹脂的負型光阻組合物。15、一種正型光阻組合物，用于形成根據(jù)權(quán)利要求5所述的有機膜，其特征在于含有(A)堿溶性樹脂、及(B)含醌二疊氮基的化合物。16、一種負極基材，其特征在于在具備復(fù)合膜的支撐體上形成金屬膜，此復(fù)合膜是由包含有機成分及無機成分的復(fù)合膜形成材料所形成。17、根據(jù)權(quán)利要求16所述的負極基材，其特征在于所述復(fù)合膜具有感光性。18、根據(jù)權(quán)利要求16所述的負極基材，其特征在于所述復(fù)合膜是通過圖案曝光而圖案化成規(guī)定形狀的圖案化復(fù)合膜。19、根據(jù)權(quán)利要求18所述的負極基材，其特征在于所述圖案化復(fù)合膜的縱橫比為0.1以上。20、根據(jù)權(quán)利要求16所述的負極基材，其特征在于所述無機成分為玻璃粉末。21、根據(jù)權(quán)利要求16所述的負極基材，其特征在于所述有機成分至少含有(Al)水溶性纖維素衍生物、(Bl)光聚合性單體、及(Cl)光聚合引發(fā)劑。22、根據(jù)權(quán)利要求21所述的負極基材，其特征在于所述有機成分更含有(Dl)具有羥基的丙烯酸系樹脂。23、一種負極基材，其特征在于在形成了光阻圖案的支撐體上，形成由二氧化硅系被覆膜形成用涂布液所形成的二氧化硅系被覆膜，并在除去了所述光阻圖案的支撐體上形成金屬膜。24、根據(jù)權(quán)利要求23所述的負極基材，其特征在于所述光阻圖案的縱橫比為O.l以上。25、根據(jù)權(quán)利要求23所述的負極基材，其特征在于所述光阻圖案是使用含有通過照射活性光線或放射線而產(chǎn)生酸的化合物、及相對于堿的溶解性由于酸的作用而增大的樹脂成分的正型光阻組合物而形成。26、根據(jù)權(quán)利要求23所述的負極基材，其特征在于所述光阻圖案是使用含有自由基聚合引發(fā)劑、及多官能環(huán)氧樹脂的負型光阻組合物而形成。27、根據(jù)權(quán)利要求23所述的負極基材，其特征在于所述二氧化硅系被覆膜形成用涂布液是含有硅氧烷聚合物及溶劑的二氧化硅系被覆膜形成用組合物。28、根據(jù)權(quán)利要求27所述的負極基材，其特征在于所述硅氧烷聚合物是使選自以下述通式(I)所表示的硅烷化合物中的至少一種進行水解反應(yīng)而獲得的反應(yīng)產(chǎn)物，[化3]<formula>formulaseeoriginaldocumentpage4</formula>[式(I)中，R表示氫原子、烷基或苯基，R，表示垸基或苯基，n表示24的整數(shù)]。29、根據(jù)權(quán)利要求28所述的負極基材，其特征在于所述硅烷化合物包含甲基三烷氧基硅烷與四烷氧基硅烷。30、根據(jù)權(quán)利要求1、權(quán)利要求2、權(quán)利要求16或權(quán)利要求23中任一項所述的負極基材，其特征在于所述金屬膜是通過鍍敷處理而形成。31、根據(jù)權(quán)利要求30所述的負極基材，其特征在于所述鍍敷處理是選自非電解鍍銅處理、非電解鍍鎳處理、非電解鍍錫處理、及電解鍍錫處理所組成的群組中的至少一種鍍敷處理。32、根據(jù)權(quán)利要求30所述的負極基材，其特征在于所述鍍敷處理是多階段鍍敷處理，包括非電解鍍銅處理與非電解鍍鎳處理中的至少一種鍍敷處理，和非電解鍍錫處理與電解鍍錫處理中的至少一種鍍敷處理。33、根據(jù)權(quán)利要求1、權(quán)利要求2、權(quán)利要求16或權(quán)利要求23中任一項所述的負極基材，其特征在于所述負極基材是二次電池用負極基材。34、一種二次電池，其特征在于包括根據(jù)權(quán)利要求l、權(quán)利要求2、權(quán)利要求16或權(quán)利要求23中任一項所述的負極基材，電解質(zhì)溶液以及能夠吸藏及釋放此電解質(zhì)溶液的正極基材。35、一種光阻組合物，用于形成根據(jù)權(quán)利要求23所述的有機膜，其特征在于是含有通過照射活性光線或放射線而產(chǎn)生酸的化合物，及相對于堿的溶解性由于酸的作用而增大的樹脂成分的正型光阻組合物。36、一種光阻組合物，用于形成根據(jù)權(quán)利要求23所述的有機膜，其特征在于是含有自由基聚合引發(fā)劑、及多官能環(huán)氧樹脂的負型光阻組合物。37、一種正型光阻組合物，用于形成根據(jù)權(quán)利要求23所述的有機膜，其特征在于含有(A)堿溶性樹脂、及(B)含醌二疊氮基的化合物。38、一種金屬氧化物膜形成材料，用來形成根據(jù)權(quán)利要求2所述的負極基材，其特征在于含有可以通過水解而生成羥基的金屬化合物，以及溶解此金屬化合物且不具有與此金屬化合物反應(yīng)的官能基的溶劑。39、根據(jù)權(quán)利要求38所述的金屬氧化物膜形成材料，其特征在于所述溶劑為以下述通式(1)所表示的化合物，<formula>formulaseeoriginaldocumentpage5</formula>[式(1)中，R^R"分別獨立為氫原子、或者直鏈狀或支鏈狀烷基，且R21R:[化4]中的至少兩個為烷基，此烷基可以與環(huán)己烷環(huán)中的和此烷基鍵合的碳原子以外的碳原子鍵合而形成環(huán)〗。40、根據(jù)權(quán)利要求38所述的金屬氧化物膜形成材料，其中所述溶劑為對薄荷垸。41、根據(jù)權(quán)利要求38所述的金屬氧化物膜形成材料，其中所述金屬化合物為具有2個以上的異氰酸酯基以及/或者鹵素原子的硅化合物。42、一種復(fù)合膜形成材料，用于形成根據(jù)權(quán)利要求16所述的復(fù)合膜，其特征在于包含有機成分及無機成分。43、一種負極基材的制造方法，用于制造負極基材，其特征在于包括-(i)在支撐體上形成有機膜的步驟；以及(ii)通過鍍敷處理，在所述有機膜上形成金屬膜的鍍敷處理步驟。44、一種負極基材的制造方法，用于制造負極基材，其特征在于包括(0在支撐體上形成復(fù)合膜的步驟；以及(U)通過鍍敷處理，在所述復(fù)合膜上形成金屬膜的鍍敷處理步驟。45、一種負極基材的制造方法，用于制造負極基材，其特征在于包括(i)在支撐體上形成有機膜的步驟；(ii)在所述有機膜上形成金屬氧化物膜的步驟；以及(iii)通過鍍敷處理，在所述金屬氧化物膜上形成金屬膜的鍍敷處理步驟。46、一種負極基材的制造方法，用于制造負極基材，其特征在于包括(i)在支撐體上形成光阻圖案的步驟；(ii)在所述光阻圖案上，形成由二氧化硅系被覆膜形成用涂布液所形成的二氧化硅系被覆膜的步驟；(iii)除去所述光阻圖案的步驟；以及(iv)通過鍍敷處理，在形成了加工成圖案狀的二氧化硅系被覆膜的支撐體上形成金屬膜的鍍敷處理步驟。全文摘要本發(fā)明利用與以往技術(shù)不同的構(gòu)成，能夠?qū)崿F(xiàn)一種具有高輸出電壓及高能量密度、且充放電循環(huán)特性優(yōu)異的電池。本發(fā)明使用以下負極基材來作為用于鋰離子二次電池的負極基材特征在于在具備有機膜的支撐體上形成金屬膜的負極基材；特征在于所述有機膜的表層由金屬氧化物膜被覆的所述負極基材；特征在于在具備由包含有機成分及無機成分的復(fù)合膜形成材料所形成的復(fù)合膜的支撐體上，形成金屬膜的負極基材；或者特征在于在形成了光阻圖案的支撐體上，形成由二氧化硅系被覆膜形成用涂布液所形成的二氧化硅系被覆膜，并在除去了所述光阻圖案的支撐體上形成金屬膜的負極基材。文檔編號G03F7/039GK101569036SQ200780045668公開日2009年10月28日申請日期2007年12月11日優(yōu)先權(quán)日2006年12月15日發(fā)明者三隅浩一,本間英夫,渡邊充廣,齊藤宏二申請人:東京應(yīng)化工業(yè)株式會社;株式會社關(guān)東學(xué)院大學(xué)表面工學(xué)研究所