專利名稱：用于附著基板的設(shè)備和方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本公開涉及一種用于附著基板的設(shè)備和方法，更具體地，涉及 一種能夠獨(dú)立于通常保持基板的腔室來升降該基板的支撐和升降機(jī)構(gòu)。
背景技術(shù)：
近來，隨著信息社會(huì)的發(fā)展，對(duì)于顯示裝置的需求已經(jīng)多樣化。
因此，開發(fā)了各種類型的顯示裝置，諸如液晶顯示器(LCD)、等 離子顯示面板(PDP)等。這些顯示裝置的使用者要求視頻質(zhì)量高、 重量輕以及尺寸大。因此，最近開發(fā)出具有大于50英寸尺寸的超 大尺寸LCD。
LCD是利用液晶折射率的各向異性在其屏幕上顯示信息的顯 示裝置。LCD通過在兩個(gè)基4反之間加入液晶并將這兩個(gè)基才反附著在 一起制造而成。兩個(gè)基板中的一個(gè)是驅(qū)動(dòng)器件陣列基板，而另一個(gè) 是濾色片(CF)基板。驅(qū)動(dòng)器件陣列基板上形成有多個(gè)像素，并且 每個(gè)像素均形成有諸如薄膜晶體管(TFT)的驅(qū)動(dòng)器件。用于實(shí)現(xiàn) 色彩的濾色片層與〗象素電4及、共用電才及和用于對(duì)準(zhǔn)液晶分子的對(duì)準(zhǔn) 膜(配向膜，alignment film ) —起形成于濾色片基板上。
在制造LCD顯示裝置的過程中，以精確的方式將兩個(gè)基板附 著在一起是非常重要的。隨著顯示裝置的變大，用于附著基板的設(shè) 備也變大?；甯街O(shè)備將上基板和下基板保持在能夠維持真空狀
態(tài)的腔室中。兩個(gè)基板分別被保持在上腔室和下腔室上?；逋ǔ?由輸送機(jī)器人帶入到腔室的內(nèi)部中?；灞辉O(shè)置在上腔室和下腔室 上的基板接收銷接收和保持。于是，基板就位于上腔室和下腔室上。
上基板和下基板中的每一個(gè)都設(shè)置有多個(gè)基板接收銷，并且這 些銷在基板的整個(gè)區(qū)域上均勻地隔開，以便在基板處于水平方向時(shí) 穩(wěn)定地保持基板。上腔室和下腔室上的基板接收銷與驅(qū)動(dòng)裝置一起 設(shè)置，從而它們能夠通過穿過上腔室和下腔室的通孔而被升高和降 低。為了使腔室內(nèi)部維持真空狀態(tài)，在通孔和銷的周圍設(shè)置密封件，
諸如波紋管(bellows )。該波紋管維持真空，〗旦允許銷相對(duì)于上月空 室和下腔室移動(dòng)。波紋管相對(duì)較昂貴，并且需要定期更換以確保它 們?cè)阡N周圍持續(xù)保持良好的密封。
當(dāng)基板具有增大的尺寸時(shí)，所需的用來保持基板的基板接收銷 的數(shù)量也增加。因此，所需的昂貴密封件波紋管的數(shù)量增加，而且 用于移動(dòng)銷的驅(qū)動(dòng)裝置的負(fù)荷增加。此外，當(dāng)銷的凄丈量增加時(shí)，同 時(shí)驅(qū)動(dòng)所有的所述多個(gè)基板接收銷以便使它們精確地維持在同一 高度就變得更加困難。

發(fā)明內(nèi)容
發(fā)明。本發(fā)明的特征在于提供一種用于附著基板的設(shè)備和方法，所 述設(shè)備設(shè)置有基板接收部件，該基板接收部件能夠?qū)⑾禄迮c下腔 室分離，并且能夠根據(jù)下腔室的升高和降低而支撐下基板，而無需 單獨(dú)的驅(qū)動(dòng)裝置。
為了實(shí)現(xiàn)本發(fā)明的特征，提供一種用于附著基板的設(shè)備，該設(shè) 備包括主框架；上腔室，安裝在主框架的上部上，其中上腔室可 接收并保持上基板；下腔室，可移動(dòng)地安裝在主框架上，其中下腔室可4妄收并^f呆持下基才反，并且其中下腔室可與上腔室^皮;改在一起以 在下腔室與上腔室之間形成密封的附著空間；以及下基板接收部 件，安裝在主框架上，其中下基板接收部件包括基板支撐部和多個(gè) 豎直支架，并且其中下基板接收部件可在下腔室升高和降低時(shí)保持 固定。
另外，提供一種附著基4反的方法，該方法包括將上基纟反移動(dòng) 到附著設(shè)備內(nèi)，并將上基板附著于上腔室；將下基板移動(dòng)到附著設(shè) 備內(nèi)，并將下基板放置到下基板接收部件上，下基板接收部件位于 上腔室與下腔室之間；升高下腔室，從而下腔室升高下基板使之離 開下基板接收部件并與上腔室放在一起，以在下腔室與上腔室之間 形成密封的附著空間；以及將上基板附著于下基板。


參照下面的附圖對(duì)實(shí)施例進(jìn)4亍詳細(xì)描述，在附圖中相同的參考 標(biāo)號(hào)表示相同的部件，附圖中
圖l是示出了用于附著基板的設(shè)備的結(jié)構(gòu)的截面圖2是示出了用于附著基才反的方法的流程圖；以及
圖3-6示出了使用圖1所示的設(shè)備來附著基板的方法的步驟。
異沐實(shí)施方式
圖1是示出了用于附著基板的設(shè)備的結(jié)構(gòu)的截面圖。
參照?qǐng)D1，
該設(shè)備包括形成i殳備外形的外部框架100。上腔室200和下腔室300 能夠合在一起，以形成密封的基板附著空間。升降部件400為升高 和降低下腔室提供驅(qū)動(dòng)力。真空部件500在密封的附著空間內(nèi)形成真空，并且還為接收銷提供真空。基板接收部件600接收基板。對(duì) 準(zhǔn)部件700用來在基板4皮此附著之前對(duì)準(zhǔn)基4反。
外部框架IOO設(shè)置有用于插入和移出基板的門110。優(yōu)選地， 該門ll(H叉在插入和移出基板時(shí)打開，從而諸如灰塵的外部雜質(zhì)不 會(huì)進(jìn)入基板附著設(shè)備的內(nèi)部。
基板的插入和移出由輸送機(jī)器人(未示出)來完成。該輸送機(jī) 器人設(shè)置有一個(gè)或多個(gè)臂用來將上基板Sl和下基板S2輸送到附著 設(shè)備內(nèi)。該機(jī)器人將上基板Sl和下基板S2順序地插入到基板附著 設(shè)備的內(nèi)部，并在基板彼此附著之后移出基板。
上腔室200通過固定于外部沖匡架100內(nèi)壁上的支架220固定在 外部框架100上。下腔室300能夠由升降部件400升高和降低。下 腔室300安裝在水平框架320的上部上，該水平框架與升降部件400 相連接。當(dāng)下腔室300被向上升高并與上腔室200結(jié)合時(shí)，形成密 封的附著空間，上基玲反S1和下基4反S2可以在該附著空間中附著在 —起。
上腔室200設(shè)置有用于保持上基板Sl的上卡盤210。上卡盤 210可以是用靜電力保持上基板S1的靜電卡盤(ESC)。上卡盤210 可以凹進(jìn)上月空室200中以形成一體的月空室結(jié)構(gòu)。
下腔室300設(shè)置有用于保持下基板S2的下卡盤310。下卡盤 310也可以是用靜電力保持下基板S2的靜電卡盤(ESC)。同樣， 下卡盤310可以凹進(jìn)下腔室300中以形成一體的腔室結(jié)構(gòu)。
升降部件400包括用于提供升高和降低下腔室300的力的升降 電沖幾410。減速器420將升降電坤幾410的力傳遞給升降螺桿430，
該升降螺桿支撐、升高和降低水平框架320。引導(dǎo)件440引導(dǎo)水平 才匡架320的升高和降寸氐。
優(yōu)選地，升降電機(jī)410是可以產(chǎn)生能夠支撐下腔室300的負(fù)荷 并升高和降低下腔室300的力的電機(jī)。升降電機(jī)410可以是AC電 機(jī)、DC電機(jī)等。減速器420將來自升降電機(jī)410的高速轉(zhuǎn)動(dòng)力轉(zhuǎn) 換成低速轉(zhuǎn)動(dòng)力，該低速轉(zhuǎn)動(dòng)力使得升降螺桿以低速轉(zhuǎn)動(dòng)，從而該 升降螺桿可以以適當(dāng)?shù)乃俣壬吆徒档拖虑皇?。引?dǎo)件440可以設(shè) 置在支撐下腔室300的水平框架320的兩端處。引導(dǎo)件440輔助維 持下腔室300的平衡，從而確保平穩(wěn)的升高和降低操作。
真空部件500包4舌用于向上4妄收部件610提供真空力的第 一真 空泵510,該上4妄收部件4妻收上基板S1，將在后面描述。第二真空 泵520在形成于上腔室與下腔室之間的密封基板附著空間內(nèi)提供真 空。第一真空泵510固定于外部框架100,并通過第一真空管515 連4矣于上腔室200的上4妄收部件610。第二真空泵520也附著于外 部才匡架IOO,并通過第二真空管525連4妻于附著空間。
真空部件500的真空泵可以是干式泵、渦4侖分子泵(TMP)、 機(jī)械推進(jìn)泵等。優(yōu)選地，該真空泵連接于能夠排出真空泵送物質(zhì)的 回轉(zhuǎn)葉片泵。
基板接收部件600包括接收上基板Sl的上接收部件610以及 接收下基板S2的下接收部件620。該基板接收部件600從輸送機(jī)器 人4妄收上基才反Sl和下基才反S2，并輔助將基寺反定位于上腔室200和 下腔室300上。此夕卜，在基板彼此附著之后，基板接收部件輔助將 附著后的基板與下腔室300分離，從而輸送機(jī)器人可以將附著后的 基4反移出。
上接收部件610包4舌多個(gè)基才反4妾收銷611和驅(qū)動(dòng)部件612?；?板接收銷611被設(shè)置為從輸送機(jī)器人接收上基板Sl，并將上基板定 位于上腔室200上。基板接收銷611由驅(qū)動(dòng)部件612升高和降低， 從而使它們可以從上腔室200的下側(cè)突出，進(jìn)而凹進(jìn)上腔室200的 內(nèi)部中。驅(qū)動(dòng)部件612可以設(shè)置有用于驅(qū)動(dòng)基才反4妻收銷611的驅(qū)動(dòng) 電機(jī)(未示出)以及螺桿(未示出)。同樣，基板接收銷611與用 來產(chǎn)生用于保持上基板S1的真空力的第一真空泵510連接。
下接收部件620包括固定板622，該固定板固定于外部框架， 乂人而無;侖下腔室300升高還是降^氐該固定才反都不移動(dòng)。豎直支架621 附著于固定才反622的上側(cè)。水平支架623在豎直支架621之間延伸。
當(dāng)下腔室向上和向下移動(dòng)時(shí)，豎直支架621經(jīng)過下腔室300中 的通孔并突出于下腔室300之上。豎直支架621可包括具有預(yù)定厚 度的多個(gè)銷。
水平支架623連4秦于豎直支架621的端部。水平支架623可形 成為與多個(gè)豎直支架621相連接的條狀。優(yōu)選地，水平支架623平 行于輸送機(jī)器人的才幾械臂的縱向方向而形成，以便不對(duì)機(jī)械臂的移 動(dòng)產(chǎn)生影響。優(yōu)選地，在下腔室300的上側(cè)上i殳置凹槽，從而當(dāng)下 腔室升高時(shí)，水平支架623可以凹進(jìn)下腔室300上的凹槽中。
波紋管624圍繞豎直支架621。每個(gè)波紋管624的第一端與下 腔室300的下側(cè)連4妻。波紋管624的另一端連沖妄于固定才反622。波 紋管624是具有柔性和密封性的密封件?？墒褂糜山饘俨牧现瞥傻?成形波紋管(沉積波紋管，formed bellow)、焊接波紋管等。因此， 無^r下腔室300是否移動(dòng)，波紋管624都可以密封用于豎直支架621 的通^L周圍的空間。
對(duì)準(zhǔn)部件700用來對(duì)準(zhǔn)上基板Sl和下基板S2，以便基板彼此 精確地附著。 一個(gè)或多個(gè)掘/f象機(jī)710可安裝于上腔室200的上端。 照明裝置720安裝于下腔室300的下端。位置調(diào)整裝置730用來調(diào) 整下腔室的位置。
攝像機(jī)710通過攝像孔715來檢測上基板Sl和下基板S2上的 對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記，該攝像孔穿過上腔室200。這使得對(duì)準(zhǔn)部件700判定基 板是否完全對(duì)準(zhǔn)。照明裝置720經(jīng)穿過下腔室300的照明孔725提 供光，以便攝像才幾710可以檢測對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記。
位置調(diào)整裝置730可包4舌與下腔室300的下側(cè)相接觸的多個(gè)致 動(dòng)器。位置調(diào)整裝置730的下側(cè)固定于支撐下腔室300的水平框架 320。通常，多個(gè)位置調(diào)整裝置730 i殳置在下月空室300上的多個(gè)位 置處，/人而下腔室300可以沿X、 Y和轉(zhuǎn)動(dòng)方向運(yùn)動(dòng)。
雖然圖中未示出，該基板附著設(shè)備可進(jìn)一步包括用于將基板壓 到一起的增壓裝置?？墒褂弥苯訅涸诨迳系臋C(jī)械裝置和/或使用氣 體壓力的增壓裝置。如果使用氣體壓力來增壓(加壓)，則該增壓 裝置可包括用于供應(yīng)惰性氣體(諸如氮?dú)?的氣罐和氣體供應(yīng)管、 以及用于將氣體排放到附著空間內(nèi)的氣體增壓孔。
下面，將參照?qǐng)D2至6描述上述基板附著設(shè)備的操作以及附著 基板的過程。圖2是示出了用于附著基板的方法的流程圖。圖3-6 示出了用于附著基板的操作的步驟。圖3示出了上基板Sl和下基 板S2被帶入到基板附著設(shè)備內(nèi)時(shí)的狀態(tài)。圖4示出了下腔室被升 高以將下基板S2定位于下腔室300上時(shí)的狀態(tài)。圖5示出了上腔 室200和下腔室300結(jié)合以形成密封的附著空間時(shí)、以及基板已獨(dú): 此附著時(shí)的狀態(tài)。圖6示出了下腔室300向下移動(dòng)并且附著后的基 板被定位于下接收部件620上時(shí)的狀態(tài)。
參照?qǐng)D2至圖6，為了將基板插入到附著設(shè)備內(nèi)，下腔室300 降低以使其與上腔室200隔開最大的距離，并打開外部框架100的 門110。通過打開的門110,輸送機(jī)器人將上基板S1帶入到附著設(shè) 備的內(nèi)部中。在上基板S1被帶入之后，上腔室200的基板接收銷 611向下延伸以真空吸附上基板Sl。然后，保持上基板S1的基板 接收銷611升高以將上基斧反Sl定位于上腔室200上。此時(shí)，上腔 室200的上卡盤210通過靜電力和/或真空力來〗呆持上基板Sl.
一旦上基板S1由上腔室200保持，則輸送機(jī)器人將下基板S2 帶入到附著設(shè)備的內(nèi)部中。當(dāng)下基板S2被帶入附著設(shè)備中的適當(dāng) 位置時(shí)，輸送機(jī)器人的機(jī)械臂降低，以便將下基板S2定位在突出 于下腔室300之上的下接收部件620上。在下基板S2定位于水平 支架623上之后，機(jī)械臂移出附著設(shè)備并關(guān)閉外部框架100的門 110。
隨后，將下腔室300升高到預(yù)定高度以將下基板S2定位于下 腔室300上。此時(shí)，下腔室300的下卡盤310用靜電力保持下基板 S2。由于下接收部件620固定于外部框架100,所以下接收部件620 在下腔室300升高時(shí)凹進(jìn)下腔室300的頂表面中。
當(dāng)下基板S2定位于下腔室300上時(shí)，下腔室300進(jìn)一步升高 并與上腔室200結(jié)合以形成密封的附著空間。此時(shí)，上基板Sl和 下基板S2彼此靠近。隨后，第二真空泵520排出附著空間中的空 氣以將該附著空間維持在真空狀態(tài)。
對(duì)準(zhǔn)部件710對(duì)準(zhǔn)上基板Sl和下基板S2,以便將它們精確地 彼此附著。攝像機(jī)710檢測上基板Sl和下基板S2的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記以確 保它們完全對(duì)準(zhǔn)。如果對(duì)準(zhǔn)狀態(tài)欠佳，則位置調(diào)整裝置730移動(dòng)下 腔室300,以完全對(duì)準(zhǔn)上基板Sl和下基板S2。
當(dāng)對(duì)準(zhǔn)狀態(tài)良好時(shí)，移除保持上基板Sl的上卡盤210的靜電 力，因而上基板Sl向下降落到下基板S2上。此時(shí)，上基板S1和 下基板S2通過密封劑而初步附著。隨后，基板由增壓裝置推壓到 一起，因而上基板S1和下基板S2彼此牢固地附著在一起。如果使 用氣體增壓裝置，則將氣體引入附著空間內(nèi)，并且上基板Sl和下 基板S2由被引入的氣體與存在于兩基板間的空間中的真空狀態(tài)之 間的壓力差而^皮推壓到 一起。
隨后，下腔室300向下移動(dòng)，并且相對(duì)于下腔室300而固定的 下接收部件620向上突出于下腔室300的頂表面，以將附著后的基 才反與下腔室300分離。此時(shí)，應(yīng)該將靜電力/人下腔室300的下卡盤 310上移除。之后，打開外部框架100的門110,并使輸送機(jī)器人 的機(jī)械臂插入腔室的內(nèi)部中，然后抓住附著后的基板并將它們帶出 腔室(S400)。
如上所述，由于基板接收部件可在下腔室升高和降低時(shí)突出于 下腔室的頂表面之上和凹進(jìn)該頂表面中,所以不必使用多個(gè)基板接 收銷來將下基板定位于下腔室上。同樣，也不需要銷將附著后的基 板升高離開下腔室的頂表面。除了消除了對(duì)銷以及為這些銷提供真 空源的需要之外，這還消除了調(diào)整多個(gè)基板接收銷的高度的困難。 所有這些都降低了制造基板附著設(shè)備的成本。
該i兌明書中關(guān)于"一個(gè)實(shí)施例"、"實(shí)施例"、"示例性實(shí)施例" 等的任何i侖述都意味著，結(jié)合實(shí)施例描述的具體特征、結(jié)構(gòu)、或特 性包含于本發(fā)明的至少一個(gè)實(shí)施例中。在說明書中不同地方出現(xiàn)的 這些短語不必都涉及同一實(shí)施例。另外，當(dāng)結(jié)合任何實(shí)施例來描述 具體特征、結(jié)構(gòu)、或特性時(shí)，需指出的是在本領(lǐng)域技術(shù)人員的能力 范圍內(nèi)，可以結(jié)合其它實(shí)施例實(shí)現(xiàn)這些特征、結(jié)構(gòu)、或特性。
雖然已經(jīng)描述了多個(gè)示例性實(shí)施例，4旦應(yīng)該理解，本領(lǐng)域技術(shù) 人員可以提出各種其它變型和實(shí)施例，這些變型和實(shí)施例均落在本 公開的精神和原則范圍內(nèi)。更具體地說，可以對(duì)部件和/或布置進(jìn)行 各種4務(wù)改和變型，這些{務(wù)改和變型均落在本7〉開、附圖和所附4又利 要求的范圍內(nèi)。除了對(duì)部件和/或布置進(jìn)行4務(wù)改和變型之外，替換應(yīng) 用只于本4頁域才支術(shù)人員來i兌也是^艮顯然的。
權(quán)利要求
1.一種用于附著基板的設(shè)備，包括主框架；上腔室，安裝在所述主框架的上部上，其中，所述上腔室可接收并保持上基板；下腔室，可移動(dòng)地安裝在所述主框架上，其中，所述下腔室可接收并保持下基板，并且其中，所述下腔室可與所述上腔室被合在一起以在所述下腔室與所述上腔室之間形成密封的附著空間；以及下基板接收部件，安裝在所述主框架上，其中，所述下基板接收部件包括基板支撐部和多個(gè)豎直支架，并且其中，所述下基板接收部件可在所述下腔室升高和降低時(shí)保持固定。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中，所述多個(gè)豎直支架附著于 所述主框架，并且其中，所迷多個(gè)豎直支架穿過所述下腔室中 的7于應(yīng)孑L。
3. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的設(shè)備，進(jìn)一步包括多個(gè)波紋管，其中， 每個(gè)波紋管安裝在所述豎直支架中的一個(gè)的周圍，并且其中， 每個(gè)波紋管密封于所述下腔室的下表面。
4. 根據(jù)權(quán)利要求3所述的設(shè)備，其中，波紋管密封所述下腔室中 的所述孔，以便可在所述密封的附著空間中維持真空。
5. 根據(jù)權(quán)利要求3所述的設(shè)備，其中，所述下腔室的頂表面中形 成有凹槽，并且其中，當(dāng)所述下腔室升高時(shí)，所述下基板接收 部件的所述基板支撐部一皮容納在所述凹槽中。
6. 根據(jù)權(quán)利要求5所述的設(shè)備，其中，所述基板支撐部包括至少 兩個(gè)細(xì)長的支撐軌，并且其中，形成于所述下腔室的所述頂表 面中的所述凹槽包括接收所述支撐軌的至少兩個(gè)通道。
7. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中，凹槽形成于所述下腔室的 頂表面中，并且其中，當(dāng)所述下腔室升高時(shí)，所述下基板接收 部件的所述基板支撐部4皮容納在所述凹槽中。
8. 根據(jù)權(quán)利要求7所迷的設(shè)備，其中，所述基板支撐部包括至少 兩個(gè)細(xì)長的支撐4九，并且其中，形成于所述下腔室的所述頂表 面中的所述凹槽包括4妄收所述支撐4九的至少兩個(gè)通道。
9. 根據(jù)權(quán)利要求7所述的設(shè)備，進(jìn)一步包括位于所述下腔室的所 述頂表面上的卡盤，其中，所述卡盤被設(shè)置成產(chǎn)生將所述下基 板保持在所述下腔室上的保持力。
10. 根據(jù)權(quán)利要求9所述的設(shè)備，其中，當(dāng)所述下腔室升高從而所 述下腔室與所述上腔室纟皮合在一起時(shí)，所述下腔室升高所述下 基板使之離開所述基板支撐部。
11. 一種附著基才反的方法，所述方法包括將上基板移動(dòng)到附著設(shè)備內(nèi)，并將所述上基板附著于上 腔室；將下基板移動(dòng)到所述附著設(shè)備內(nèi)，并將所述下基板放置 到下基板接收部件上，所述下基板接收部件位于所述上腔室與 下腔室之間；升高所述下腔室，從而所述下腔室升高所述下基板使之離開所述下基;f反，接收部件并與所述上腔室合在一起，以在所述 下腔室與所述上腔室之間形成密封的附著空間；以及將所述上基板附著于所述下基板。
12. 根據(jù)權(quán)利要求11所述的方法，其中，所述附著步驟包括將所述密封的附著空間抽空；以及從所述上腔室中釋放所述上基板，以便所述上基板降落 到所述下基板上。
13. 根據(jù)權(quán)利要求12所述的方法，其中，所述附著步驟進(jìn)一步包 括用增壓氣體填充所述密封的附著空間，以將所述上基板和所 述下基板推壓到一起。
14. 根據(jù)權(quán)利要求12所述的方法，其中，所述附著步驟進(jìn)一步包 括在執(zhí)行所述釋放步驟之前，對(duì)準(zhǔn)所述上基板和所述下基板。
15. 根據(jù)權(quán)利要求11所述的方法，其中，當(dāng)執(zhí)行所述升高步驟時(shí)， 所述下基板接收部件嵌入形成于所述下腔室的頂表面中的凹 槽內(nèi)。
16. 根據(jù)權(quán)利要求11所述的方法，其中，當(dāng)執(zhí)行所述升高步驟時(shí)， 附著在所述附著i殳備的主框架與所述下基^^接收部件之間的 豎直支架穿過所述下腔室中的孔。
17. 根據(jù)權(quán)利要求16所述的方法，其中，當(dāng)執(zhí)行所述升高步驟時(shí)， 附著在所述豎直支架周圍并密封于所述下腔室的下表面的波 紋管伸長。
18. 根據(jù)權(quán)利要求11所述的方法，進(jìn)一步包括， 一旦已執(zhí)行所述 附著步驟，就降低所述下腔室，以^更所述附著后的上基板和下 基玲反位于所述下基纟反接收部件上。
19. 根據(jù)權(quán)利要求18所述的方法，其中，當(dāng)執(zhí)行所述降低步驟時(shí)， 所述下基板沖妄收部件乂人形成于所述下腔室的頂表面上的凹槽 中移出，從而將所述附著后的上基板和下基板升高使之離開所 述下腔室的所述頂表面。
20. 根據(jù)權(quán)利要求19所述的方法，進(jìn)一步包括在執(zhí)行所述降低步 驟之后，將所述附著后的上基沖反和下基板從所述附著i殳備中移 出。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種用于附著基板的設(shè)備，該設(shè)備包括用于保持上基板的上腔室以及用于保持待附著于該上基板的下基板的下腔室。下腔室向上和向下移動(dòng)，以便與上腔室合在一起以形成密封的附著空間?；褰邮詹考潭ㄓ谠O(shè)備的框架，從而當(dāng)下腔室升高和降低時(shí)該基板接收部件不會(huì)移動(dòng)。基板接收部件交替地在下腔室向下移動(dòng)時(shí)突出于該下腔室，或者在下腔室升高時(shí)凹進(jìn)該下腔室的頂部中。
文檔編號(hào)G02F1/1333GK101196640SQ200710165420
公開日2008年6月11日 申請(qǐng)日期2007年10月25日 優(yōu)先權(quán)日2006年12月8日
發(fā)明者金暻渼, 黃載錫 申請(qǐng)人:愛德牌工程有限公司