專利名稱：：薄膜及其制造方法與使用該薄膜的偏光板及液晶顯示裝置的制作方法薄膜及其制造方法與使用該薄膜的偏光板及液晶顯示裝置
技術(shù)領(lǐng)域：
：本發(fā)明涉及薄膜及其制造方法，與使用該薄膜的偏光板及液晶顯示裝置，更具體講是涉及使巻曲(curl)改善了的薄膜并適于偏光板的薄膜及其制造方法，與使用該薄膜的偏光板及液晶顯示裝置。
背景技術(shù)：
：液晶顯示裝置，在低電壓且低消耗電力對(duì)IC電路的直接連結(jié)成為可行，而且薄型化或?yàn)榭赡?，故廣泛使用于文字處理機(jī)或個(gè)人計(jì)算機(jī)等顯示裝置。該液晶顯示裝置的基本構(gòu)成，是在液晶晶胞(crystalcell)的一面或者兩側(cè)設(shè)置偏光板。偏光板因?yàn)閮H通過(guò)一定方向的偏波面的光，故在液晶影像顯示裝置中，偏光板擔(dān)任使電場(chǎng)所致定向變化成為可視化的重要任務(wù)，因此偏光板的性能可在很大程度上左右液晶顯示裝置的性能。偏光板的一般構(gòu)成，例如是在沿單軸拉伸且被碘染色的聚乙烯醇薄膜構(gòu)成偏光元件的單面或兩面，以纖維素三乙酸酯薄膜或纖維素乙酸酯丙酸酯薄膜等纖維素酯薄膜構(gòu)成的保護(hù)薄膜或在該保護(hù)薄膜上再使相位差板通過(guò)如聚乙烯醇這樣的粘接劑進(jìn)行貼合而成的。進(jìn)而，該偏光板是通過(guò)粘接層粘接于液晶晶胞。近年來(lái)，存在液晶顯示裝置尺寸大型化，及其所使用偏光板薄膜化的傾向，在制造過(guò)程中，在使液晶晶胞的玻璃與偏光板貼合時(shí)，巻曲大小的絕對(duì)量，即，已切割偏光板的端部自水平面浮出的高度，或已切割偏光板之中央部分浮出的高度成為很大問(wèn)題。發(fā)生于這些偏光板的巻曲若無(wú)法調(diào)整，會(huì)產(chǎn)生使偏光板貼合于面板時(shí)的浮出、氣泡進(jìn)入、或造成角度不合等問(wèn)題，在此情況下，有必要將已貼合的偏光板除去，很費(fèi)工夫，或者面板本身也有無(wú)法使用的情況，存在收率降低題。尤其是偏光板在被薄膜化時(shí)更為顯著。還有，在大型液晶顯示裝置多為采用電場(chǎng)控制復(fù)折射模式，在VA方式、0CB方式則有使用相位差板的情況。在使用相位差板的情況，有在通常的偏光板貼合相位差板的方式，但在該方法因貼合錯(cuò)誤等使得生產(chǎn)率降低，或并不直接與偏光膜粘接，故作為最終完成的偏光板多有巻曲控制非常困難的情況。因此，使相位差板具有偏光板保護(hù)薄膜的功能、直接與偏光元件貼合的技術(shù)在為了偏光板薄膜化時(shí)也有利。在偏光板的巻曲控制中，有通過(guò)將偏光板保護(hù)薄膜兩面的增塑材量進(jìn)行控制來(lái)進(jìn)行偏光板防巻曲的技術(shù)(可參照例如，專利文獻(xiàn)l)，還有揭示將貼合于偏光元件兩面的偏光板保護(hù)薄膜的巻曲方向，使巻曲倒過(guò)來(lái)的方式加以粘合在一起的技術(shù)(參照例如，專利文獻(xiàn)2、3)。但是，即使是這些技術(shù)，在大型液晶顯示裝置制造中使用的偏光板的巻曲控制方面也不充分。[專利文獻(xiàn)1]日本特開(kāi)2002-258049號(hào)公報(bào)[專利文獻(xiàn)2]日本特開(kāi)2002-258050號(hào)公報(bào)[專利文獻(xiàn)3]日本特開(kāi)2004-184809號(hào)公報(bào)
發(fā)明內(nèi)容發(fā)明要解決的課題本發(fā)明是鑒于上述課題而完成的，其目的在于提供使巻曲改善了的薄膜并適于制造偏光板的薄膜及其制造方法，與使用該薄膜的偏光板及液晶顯示裝置。解決課題的手段本發(fā)明的上述目的，可通過(guò)下述構(gòu)成而達(dá)成。1.一種薄膜，其為貼合于偏光板的偏光元件的薄膜，其特征為膜厚為10jam以上，70jam以下，具有A面和與該A面呈相向的B面，該薄膜的A面和與該A面呈相向的B面的折射率差為5x10-4以上，5x10—3以下。2.如權(quán)利要求1記載的薄膜，其中該薄膜為相位差薄膜，在下述式(A)所示的波長(zhǎng)590nm中面內(nèi)相位差Ro為30nm以上，300nm以下，且厚度方向的相位差Rt為80nm以上，400nm以下，式(A)Ro=(nx-ny)xdRt={(nx+ny)/2-nz)xd〔式中，nx為薄膜面內(nèi)滯相軸方向的折射率，ny為薄膜面內(nèi)進(jìn)相軸方向的折射率，nz為薄膜厚度方向的折射率，d為薄膜的膜厚(nm)〕。3.如權(quán)利要求1記載的薄膜，其中該薄膜為偏光元件的保護(hù)薄膜。4.如權(quán)利要求l項(xiàng)至第3項(xiàng)中任一記載的薄膜，其中該薄膜的主成分為纖維素酯。5.如權(quán)利要求4記載的薄膜，其中該纖維素酯的乙?；娜〈葹閄，丙酰基或丁?；娜〈葹閅時(shí)，可同時(shí)滿足下述式(I)及(II)者，式(I)2.0^X+Y^2.6式(II)0.1^Y^1.26.如權(quán)利要求4記載的薄膜，其中相對(duì)于該纖維素酯含有l(wèi)質(zhì)量%以上，20質(zhì)量％以下的增塑劑。7.如權(quán)利要求6記載的薄膜，其中該增塑劑的含量為3質(zhì)量％以上，13質(zhì)量％以下。8.—種偏光板，其特征為，具有偏光元件，與貼合于該偏光元件第一面的權(quán)利要求l記載的薄膜，該偏光板的厚度為？0inm以上，M0ium以下。9.如權(quán)利要求8記載的偏光板，其中該薄膜為膜厚dl的相位差薄膜，具有貼合于與該偏光元件的第一面呈相向的第二面的膜厚d2的偏光板保護(hù)薄膜，該偏光板保護(hù)薄膜與該相位差薄膜的膜厚比(d2/dl)為l.]以上，4.0以下。10.如權(quán)利要求9記載的偏光板，其中該膜厚比(d2/dl)為1.1以上，2.0以下。11.一種液晶顯示裝置，其特征為，具有液晶盒，與貼合于該液晶盒的視認(rèn)側(cè)的權(quán)利要求8記載的偏光板，該偏光板，相對(duì)于該液晶盒，使貼合于偏光元件第一面的薄膜，貼合于該偏光元件與該液晶盒之間的位置。12.如權(quán)利要求11記載的液晶顯示裝置，其中在該偏光元件的第二面，有保護(hù)薄膜貼合者。13.如權(quán)利要求12記載的液晶顯示裝置，其中貼合于該偏光元件第二面的該保護(hù)薄膜，具有至少一層選自防反射膜，防靜電膜及防眩層者。14.一種薄膜的制造方法，其為貼合于偏光板的偏光元件的薄膜的制造方法，其特征為具有下列步驟，使薄膜溶液在支持體上流延(Howcasting)形成網(wǎng)狀物的流延(flowcasting)步驟，與自支持體使網(wǎng)狀物剝離的剝離步驟，與運(yùn)送該網(wǎng)狀物的運(yùn)送步驟，與將運(yùn)送而來(lái)的該網(wǎng)狀物進(jìn)行干燥的干燥步驟，與裁剪該網(wǎng)狀物，以設(shè)定的尺寸形成膜厚為10um以上，70pm以下的薄膜的形成步驟，該運(yùn)送步驟系具有與該網(wǎng)狀物的A面與呈相向的B面交互彎曲成為內(nèi)側(cè)方式的彎曲(bending)步驟，該彎曲步驟，使該網(wǎng)狀物弄彎時(shí)的半徑成為a(mm)時(shí)，1/a的值為0.013mnf1以上，0.033mn^以下，且，使彎曲重復(fù)150次以上，不足1000次。15.如權(quán)利要求14記載的薄膜的制造方法，其中該網(wǎng)狀物的接觸該支持體的面為B面，不接觸該支持體的面為A面時(shí)，通過(guò)該彎曲步驟使B面的折射率比A面高，其折射率差為5xl(T以上，5x10—3以下。16.如權(quán)利要求14項(xiàng)或第15記載的薄膜的制造方法，其中該1/a的值為0.017mm—i以上，0.025mm—'以下。17.如權(quán)利要求14記載的薄膜的制造方法，其中該彎曲次數(shù)為250次以上，不足1000次。18.如權(quán)利要求17記栽的薄膜的制造方法，其中該彎曲次數(shù)為350次以上，不足1000次。19.如權(quán)利要求14記載的薄膜的制造方法，其中該彎曲步驟中氛圍溫度系該網(wǎng)狀物的構(gòu)成材料的玻璃化轉(zhuǎn)變溫度±30。C。20.如權(quán)利要求14記載的薄膜的制造方法，其中該彎曲步驟中氛圍溫度系該網(wǎng)狀物的構(gòu)成材料的玻璃化轉(zhuǎn)變溫度±20匸。21.如權(quán)利要求14記載的薄膜的制造方法，其中該彎曲步驟中氛圍系至少以惰性氣體所構(gòu)成者。22.如權(quán)利要求14記栽的薄膜的制造方法，其中該彎曲步驟中運(yùn)送速度為10m/分以上，150m/分以下。23.如權(quán)利要求14記載的薄膜的制造方法，其具有運(yùn)送而來(lái)的該網(wǎng)狀物的干燥步驟前進(jìn)行拉伸的拉伸步驟，該薄膜為相位差薄膜中，下述式(A)所示的波長(zhǎng)590nm中面內(nèi)相位差Ro為30認(rèn)以上，300nm以下，且厚度方向的相位差Rt為80nm以上，400nmn以下，式(A)Ro=(nx-ny)xdRt={(nx+ny)/2-nz)xd〔式中，nx為薄膜面內(nèi)的滯相軸方向的折射率，ny為薄膜面內(nèi)的進(jìn)相軸方向的折射率，nz為薄膜的厚度方向的折射率，d為薄膜的膜厚(nm)〕。發(fā)明效果本發(fā)明可以提供能改善巻曲的薄膜并適于制造偏光板的薄膜及其制造方法，與使用該薄膜的偏光板及液晶顯示裝置。[圖l]可適當(dāng)適用于本發(fā)明的彎曲(bending)處理裝置的模式圖。[圖2]在拉伸步驟中說(shuō)明拉伸角度的圖。[圖3]例示本發(fā)明所使用拉幅機(jī)步驟的一例的概略圖。[圖4]本發(fā)明中說(shuō)明巻曲矯正的圖。[圖5]本發(fā)明中優(yōu)選液晶顯示裝置的構(gòu)成圖。主要組件符號(hào)說(shuō)明1:擠壓模2:金屬支持體3:驅(qū)動(dòng)滾筒4:剝離點(diǎn)5:運(yùn)送滾筒6:彎曲區(qū)域7:吸氣口8:排氣口9:拉幅機(jī)10:偏光膜11,12:薄膜13:液晶盒[具體實(shí)施方式]以下，就實(shí)施本發(fā)明的最佳方案進(jìn)行詳細(xì)說(shuō)明，但本發(fā)明并非限定于這些。本發(fā)明，是長(zhǎng)幅滾筒狀的薄膜，更詳細(xì)講是相位差薄膜，其特征在于，將以下的相位差薄膜使用于偏光板的至少一面，該相位差薄膜為在下述式(A)所示的波長(zhǎng)590nm的面內(nèi)相位差Ro為30nm以上，300nm以下，厚度方向的相位差Rt為80nm以上，400nm以下，薄膜膜厚為lOiam以上，70Mm以下，且薄膜的一面與另一面的折射率差為5x10_4以上，5x10—3以下。即，根據(jù)本發(fā)明人的研究可知，在具有使偏光膜(偏光元件)被表里2片偏光板保護(hù)薄膜挾持所構(gòu)成的偏光板中，例如，在配置于液晶盒側(cè)的偏光板保護(hù)薄膜具有相位差板的功能等使表里的薄膜的種類不同的情況，偏光板的巻曲更容易發(fā)生，而在面板與偏光板貼合之際有浮出產(chǎn)生、氣泡進(jìn)入、或造成角度不合等問(wèn)題容易產(chǎn)生。為防止這些問(wèn)題，雖可將發(fā)生與被預(yù)測(cè)的巻曲方向?yàn)榉捶较虻膸喦谋∧べN合于偏光膜，但本發(fā)明人是首先發(fā)現(xiàn)可以通過(guò)該薄膜的一面與另一面的折射率差來(lái)控制薄膜巻曲的發(fā)生方向及發(fā)生量。即，如圖4所示使薄膜11貼合于偏光膜10,在圖4所示的巻曲發(fā)生的情況，貼合本發(fā)明的薄膜12，此時(shí)，薄膜12的面12a的折射率若比面12b的折射率更高時(shí)則如圖4所示可矯正巻曲。還有，折射率的差越大則巻曲矯正量也越大。在適用本發(fā)明薄膜的情況，相對(duì)于液晶盒被配置于遠(yuǎn)側(cè)的偏光板保護(hù)薄膜，從在設(shè)置硬涂覆層或防反射層等表面處理的方便來(lái)看，因巻曲控制的自由度少，故如圖5所示，在靠近于液晶盒13的一側(cè)所使用的偏光板保護(hù)薄膜或者兼用偏光板保護(hù)薄膜的相位差薄膜方面，能通過(guò)適用本發(fā)明薄膜12，可控制偏光板的巻曲。作為發(fā)生與被預(yù)測(cè)的巻曲方向?yàn)榉捶较虻膸喦姆椒?，則有例如共流延(flowcasting)或雙重澆鑄等方法，雖有考慮到在膜厚方向使增塑劑含有比率有計(jì)劃地變化以賦予巻曲的方法等，但這些方法在制造上相當(dāng)煩雜，會(huì)有缺乏再現(xiàn)性、穩(wěn)定性之慮。本發(fā)明人等，在就控制偏光板巻曲的新方法方面經(jīng)過(guò)努力研究結(jié)果發(fā)現(xiàn)，使薄膜的一面與另一面的折射率差，成為5xl(T以上，5x10—3以下的薄膜使用于偏光板來(lái)控制偏光板的巻曲，可使膜厚方向的增塑劑含有比率有計(jì)劃地變化等煩雜的制造方法成為不需要。即，為使與本發(fā)明相關(guān)的相位差薄膜，成為薄膜的一面與另一面的折射率差為5xl(T以上，5x10-3以下，則使該相位差薄膜在玻璃化轉(zhuǎn)變溫度土30匸的氛圍溫度，彎曲成使薄膜的一面成為內(nèi)側(cè)的方式，接著進(jìn)行與此為反面成為內(nèi)側(cè)的方式的弄彎處理(以下，在本發(fā)明稱為彎曲處理)，該處理在使薄膜弄彎時(shí)的半徑為a(mm)時(shí)1/a的值為0.013mnf10.033mm_1范圍的方式，通過(guò)重復(fù)150次以上，不足1000次的制造方法來(lái)形成。將摻雜液在金屬支持體上流延形成網(wǎng)狀物，使接觸網(wǎng)狀物的金屬支持體的面為B面，與B面相對(duì)，使不接觸金屬支持體的網(wǎng)狀物面為A面時(shí)，通過(guò)本發(fā)明的彎曲處理，與A面比較則B面的折射率變高。接著，折射率差是彎曲次數(shù)越多，彎曲越強(qiáng)則折射率差變大。因此，控制彎曲次數(shù)或彎曲強(qiáng)度控制，根據(jù)應(yīng)矯正巻曲的強(qiáng)度，實(shí)現(xiàn)折射率差為所希望。優(yōu)選使折射率差為5x10—4以上，5x10-3以下。通過(guò)本發(fā)明薄膜的制造方法所致彎曲處理，可以推測(cè)是在薄膜中的纖維素酯的密度分布會(huì)產(chǎn)生偏差，以密度高者折射率會(huì)更高，但巻曲會(huì)因密度差而產(chǎn)生。以下，更詳細(xì)說(shuō)明本發(fā)明。本發(fā)明的薄膜，偏光板保護(hù)薄膜或兼具相位差板的偏光板保護(hù)薄膜(以下，稱為相位差薄膜)，通常可使用纖維素乙酸酯系薄膜、丙烯酸系薄膜、聚酯系薄膜等。其中優(yōu)選纖維素酯系薄膜。(相位差薄膜，偏光板保護(hù)薄膜)就與本發(fā)明相關(guān)的相位差薄膜、偏光板保護(hù)薄膜進(jìn)行詳細(xì)說(shuō)明。與本發(fā)明相關(guān)的膜厚為1070jum的相位差薄膜，與本發(fā)明所使用的偏光板保護(hù)薄膜，制造容易，與偏光膜的粘接性良好，光學(xué)上透明等為優(yōu)選要件，其中優(yōu)選聚合物薄膜。本發(fā)明的透明，是指可見(jiàn)光的透過(guò)率60%以上，優(yōu)選為80%以上，特優(yōu)選為90%以上。若具有上述性質(zhì)則對(duì)該聚合物薄膜并無(wú)特別限定，但可例舉例如纖維素二乙酸酯薄膜，纖維素三乙酸酯薄膜，纖維素乙酸酯丁酸酯薄膜，纖維素乙酸酯丙酸酯薄膜等纖維素酯系薄膜，聚酯系薄膜，聚碳酸酯系薄膜，聚芳基化物系薄膜，聚砜(也含聚醚砜)系薄膜，聚鄰苯二甲酸乙二醇酯，聚萘?xí)跛嵋叶减サ鹊木埘ケ∧ぃ垡蚁┍∧?，聚丙烯薄膜，賽璐玢，聚偏氯乙烯薄膜，聚乙烯醇薄膜，乙烯乙烯?ethylenevinylalcohol)薄膜，異態(tài)(syndiotactic)聚苯乙烯系薄膜，聚碳酸酯薄膜，環(huán)烯烴聚合物薄膜(Arton(JSR公司制)，Zeonex，Zeonea(以上，日本Zeon公司制))，聚甲基戊烯薄膜，聚醚酮薄膜，聚醚酮酰亞胺薄膜，聚酰胺薄膜，氟樹(shù)脂薄膜，尼龍薄膜，聚甲基丙烯酸曱酯薄膜，丙烯酸薄膜或玻璃板等。其中優(yōu)選纖維素酯系薄膜，聚碳酸酯系薄膜，聚砜(含聚醚砜)系薄膜，本發(fā)明中，尤其是纖維素酯系薄膜，從制造上，成本面，透明性，粘接性等觀點(diǎn)而言可優(yōu)選使用。這些薄膜，可為熔融流延制膜所制造的薄膜，也可為溶液流延制膜所制造的薄膜。本發(fā)明所使用的偏光板保護(hù)薄膜，尤其是該成分并無(wú)限制，作為與本發(fā)明相關(guān)的相位差薄膜的主成分優(yōu)選的纖維素酯，以纖維素乙酸酯，纖維素乙酸酯丁酸酯，纖維素乙酸酯丙酸酯為佳，其中以纖維素乙酸酯丁酸酯，纖維素乙酸酯鄰苯二甲酸酯，纖維素乙酸酯丙酸酯可優(yōu)選使用。尤其是，乙?；娜〈葹閄，丙?；蚨□；娜〈葹閅時(shí)，X與Y可滿足下式(I),(II)所規(guī)定的任一要件的、具有纖維素的混合脂肪酸酯的透明薄膜基材可優(yōu)選使用。式(I)<formula>formulaseeoriginaldocumentpage13</formula>式(II)<formula>formulaseeoriginaldocumentpage13</formula>還有，為2.4^X十6，1.4舀X^2.3的纖維素乙酸酯丙酸酯(總?；〈?X+Y)較佳。其中，以2.4^X+Y^2.6，1.7^X^2.3，0.1SY^0.9的纖維素乙酸酯丙酸酯(總酰基取代度-X+Y)較佳。沒(méi)有被?；〈牟糠郑ǔＯ狄粤u基存在。這些纖維素酯，可以通過(guò)公知方法合成。作為與本發(fā)明相關(guān)的相位差薄膜及本發(fā)明所使用的偏光板保護(hù)薄膜，在使用纖維素酯的情況，作為纖維素酯原料的纖維素，并無(wú)特別限定，可例舉棉絨、木材紙漿(來(lái)自針葉樹(shù)，來(lái)自闊葉樹(shù))、洋麻等。還有，自這些所得的纖維素酯可以各自任意的比率混合使用。這些纖維素酯，在?；瘎樗狒?乙酸酐、丙酸酐、丁酸酐)的情況，是使用如乙酸那樣的有機(jī)酸或二氯甲烷等有機(jī)溶劑，使用如硫酸那樣的質(zhì)子性催化劑與纖維素原料反應(yīng)而可得。?；瘎轷Ｂ然?CH3C0C1，C頻C1，C3H7C0C1)的情況,使用作為催化劑的胺那樣的堿性化合物進(jìn)行反應(yīng)。具體而言，可參考日本特開(kāi)平10-45804號(hào)記載的方法等進(jìn)行合成。還有，本發(fā)明所使用的纖維素酯是將各取代度加在一起將上述?；瘎┝炕旌隙M(jìn)行反應(yīng)的，纖維素酯是這些?；瘎┡c纖維素分子的羥基反應(yīng)。纖維素分子是葡萄糖單元由多個(gè)連結(jié)而成，在葡萄糖單元有3個(gè)羥基。在這3個(gè)羥基中被?；苌臄?shù)稱為取代度(摩爾％)。例如，纖維素三乙酸酯是葡萄糖單元的3個(gè)羥基全部為乙?；慕Y(jié)合(實(shí)際上為2.6~3.0)。作為本發(fā)明所使用的纖維素酯，如前所述，纖維素乙酸酯丙酸酯，纖維素乙酸酯丁酸酯，或纖維素乙酸酯丙酸酯丁酸酯那樣的乙酰基以外，以丙酸酯基或丁酸酯基為結(jié)合的纖維素的混合脂肪酸酯可特別優(yōu)選使用。另外，含有丙酸酯基作為取代基的纖維素乙酸酯丙酸酯因耐水性優(yōu)異，作為液晶影像顯示裝置用的薄膜為有利。?；〈鹊臏y(cè)定方法，可按照ASTM-D817-96的規(guī)定來(lái)測(cè)定。纖維素酯的數(shù)均分子量，以40000~200000，在成型的情況機(jī)械強(qiáng)度強(qiáng)，且，成為適度摻雜粘度來(lái)講為優(yōu)選，更優(yōu)選50000-150000。還有，重均分子量(Mw)/數(shù)均分子量(Mn)以在1.4~4.5的范圍為佳。這些纖維素酯，是將一般稱為溶液流延制膜法的纖維素酯溶解液(摻雜)，例如，在無(wú)限移送的無(wú)端金屬帶或旋轉(zhuǎn)的金屬轉(zhuǎn)筒的流延用支持體上自加壓模使摻雜流延(鑄塑)進(jìn)行制膜的方法來(lái)制造為佳。作為這些摻雜的調(diào)制所使用的有機(jī)溶劑，以可溶解纖維素酯，且，以適度的沸點(diǎn)為佳，可例舉例如二氯甲烷，乙酸甲酯，乙酸乙酯，乙酸戊酯，乙酰乙酸甲酯，丙酮，四氫呋喃，1，3-二p惡戊烷(dioxolane)，1，4-二喁烷，環(huán)己酮，曱酸乙酯，2，2，2-三氟乙醇，2，2，3，3-四氟-l-丙醇，1,3-二氟-2-丙醇，1，1，1，3，3，3-六氟-2-曱基-2-丙醇，1，].，1，3，3，3-六氟-2-丙醇，2，2，3，3，3-五氟-1-丙醇，硝基乙烷，1，3-二曱基-2-咪唑烷酮(imidazolidinone)等，可例舉二氯甲烷等的有機(jī)卣化合物，二嚙戊烷(dioxolane)衍生物，乙酸曱酯，乙酸乙酯，丙酮，乙酰乙酸曱酯等較好的有機(jī)溶劑(即，良溶劑)。還有，如下述制膜步驟所示，在溶劑蒸發(fā)步驟中自流延用支持體上所形成的網(wǎng)狀物(摻雜膜)使溶劑干燥時(shí)，從可防止網(wǎng)狀物中發(fā)泡的觀點(diǎn)而言，在所使用的有機(jī)溶劑的沸點(diǎn)方面，以30~80匸為佳，例如上述記載良溶劑的沸點(diǎn)，有二氯曱烷(沸點(diǎn)40.4'C),乙酸甲酯(沸點(diǎn)56.32°C)，丙酮(沸點(diǎn)56.3。C)，乙酸乙酯(沸點(diǎn)76.82匸)等。上述記載的良溶劑中，以溶解性優(yōu)異的二氯曱烷或乙酸曱酯可優(yōu)選使用。除了上述有機(jī)溶劑以外，以含有0.1質(zhì)量％~40質(zhì)量％的碳原子數(shù)1~4的醇者為佳。特優(yōu)選以5~30質(zhì)量％含有該醇。這些是將上述記載的摻雜在流延用支持體進(jìn)行流延后，使溶劑開(kāi)始蒸發(fā)，醇的比率變多時(shí)網(wǎng)狀物(摻雜膜)凝膠化，網(wǎng)狀物變的堅(jiān)固從流延用支持體剝離容易的作為凝膠化溶劑使用，或在這些比率少時(shí)也具有促進(jìn)非氯系有機(jī)溶劑的纖維素酯的溶解效果。作為碳原子數(shù)1~4的醇，可例舉例如甲醇，乙醇，正丙醇，異丙醇，正丁醇，仲丁醇，叔丁醇等。這些溶劑中，由摻雜的穩(wěn)定性好，沸點(diǎn)也比較低，干燥性也好，且無(wú)毒性等而言，以乙醇為佳。優(yōu)選相對(duì)于二氯甲烷70質(zhì)量％~95質(zhì)量％,以使用含乙醇5質(zhì)量％~30質(zhì)量％的溶劑為佳。也可使用乙酸甲酯以替代二氯甲烷。此時(shí)，也可通過(guò)冷卻溶解法來(lái)調(diào)制摻雜物。在與本發(fā)明相關(guān)的相位差薄膜及本發(fā)明所使用的偏光板保護(hù)薄膜，使用纖維素酯薄膜的情況，從柔軟性、透濕性、尺寸穩(wěn)定性的觀點(diǎn)而言，以含有下述那樣的增塑劑為佳。作為增塑劑，例如磚酸酯系增塑劑，酞酸酯系增塑劑，1，2，4-苯三曱酸酯系增塑劑，均苯四甲酸系增塑劑，羥乙酸酯系增塑劑，檸檬酸酯系增塑劑，聚酯系增塑劑等可適當(dāng)使用。作為磷酸酯系增塑劑，例如三苯基磷酸鹽，磷酸三曱苯酚酯，曱酚二苯基磷酸鹽，辛基二苯基磷酸鹽，二苯基聯(lián)苯基磷酸鹽，三辛基磷酸鹽，三丁基磷酸鹽等，酞酸酯系增塑劑方面，例如二乙基鄰苯二甲酸酯，二曱氧基乙基鄰苯二甲酸酯，二甲基鄰苯二曱酸酯，二辛基鄰苯二甲酸酯，二丁基鄰苯二曱酸酯，二-2-乙基己基鄰苯二甲酸酯，丁基節(jié)基鄰苯二甲酸酯，二苯基鄰苯二甲酸酯，二環(huán)己基鄰苯二甲酸酯等，1，2，4-苯三曱酸系增塑劑方面，例如三丁基偏苯三酸酯，三苯基偏苯三酸酯，三乙基偏苯三酸酯等，均苯四甲酸酯系增塑劑方面，例如四丁基焦蜜石酸酯，四苯基焦蜜石酸酯，四乙基焦蜜石酸酯等，羥乙酸酯系增塑劑方面，例如甘油三乙酸酯，甘油三丁酸酯，乙基鄰苯二?；一u乙酸酯，甲基鄰苯二?；一鶐滓宜狨ィ』彵蕉；』u乙酸酯等，檸檬酸酯系增塑劑方面，例如檸檬酸三乙酯，檸檬酸三-正丁酯，檸檬酸乙?；阴?，檸檬酸乙?；?正丁酯，乙?；?正(2-乙基己基)檸檬酸酯等可適當(dāng)使用。其它羧酸酯的例子，可含有三羥曱基丙烷三苯甲酸酯，油酸丁酯，篦麻醇酸甲基乙酰酯，癸二酸二丁酯，各種1，2，4-苯三甲酸酯。聚酯系增塑劑方面，可使用脂肪族二堿式酸，脂環(huán)式二堿式酸，芳香族二堿式酸等二堿式酸與二醇的共聚聚合物。脂肪族二堿式酸方面，并無(wú)特別限定，可使用己二酸，癸二酸，酞酸，對(duì)苯二曱酸，1，4-環(huán)己基二羧酸等。作為二醇，可使用乙二醇，二乙二醇，1，3-丙二醇，1,2-丙二醇，1，4-丁二醇，1,3-丁二醇，1,2-丁二醇等。這些的二堿式酸及二醇各自可單獨(dú)使用，也可混合兩種以上l吏用。這些增塑劑的使用量，從薄膜性能、加工性等方面來(lái)看，相對(duì)于纖維素酯以1質(zhì)量％以上，20質(zhì)量°/。以下為佳，特優(yōu)選為3質(zhì)量％以上，13質(zhì)量％以下。在與本發(fā)明扭關(guān)的相位差薄膜，以使用紫外線吸收劑為佳。作為紫外線吸收劑，從波長(zhǎng)370nm以下紫外線的吸收能優(yōu)異，且良好液晶顯示性的觀點(diǎn)而言，以波長(zhǎng)400nm以上可見(jiàn)光的吸收少者可優(yōu)選使用。作為本發(fā)明可優(yōu)選使用的紫外線吸收劑，可例舉例如羥基二苯甲酮系化合物，苯并三唑系化合物，水楊酸酯系化合物，二苯基酮系化合物，氰丙烯酸酯系化合物，鎳絡(luò)鹽系化合物等，但并非限定于這些。作為苯并三唑系紫外線吸收劑，可例舉例如下述紫外線吸收劑的具體例，但本發(fā)明并非限定于這些。UV--12-(2，-羥基-5'-甲基苯基)苯并三唑uv--22-(2，-羥基-3'，5，-二-叔丁基苯基)苯并三唑uv--32-(2，-羥基-3'-叔丁基-5，-甲基苯基)苯并三唑uv-陽(yáng)42-(2，-羥基-3'，5，-二-叔丁基苯基)-5-氯苯并三唑uv--52_(2，-羥基-3'-(3"，4"，5",6"—四氫鄰苯二曱酰亞胺曱基)-5，-曱基苯基)苯并三唑UV-6:2，2-亞曱基雙(4-(1，1，3，3-四曱基丁基)-6-(2H-苯并三唑-2-基)苯酚)UV-7:2-(2'-羥基-3，-叔丁基-5，-甲基苯基)-5-氯苯并三唑UV-8:2-(2H-苯并三唑-2-基)-6-(直鏈及側(cè)鏈?zhǔn)?-4-曱基苯酚(TINUVIN171，Ciba制)UV-9:辛基-3-〔3-叔丁基-4-羥基-5-(氯-2H-苯并三唑-2-基)苯基〕丙酸酯與2-乙基己基-3-〔3-叔丁基-4-羥基-5-(5-氯-2H-苯并三峻-2-基)苯基〕丙酸酯的混合物(TINUVIN109，Ciba制)還有，作為二苯基酮系紫外線吸收劑有下述具體例的例示，但本發(fā)明并非限定于這些。UV-10:2，4-二羥基二苯基酮UV-11:2，2'-二羥基-4-甲氧基二苯基酮UV-12:2-羥基-4-曱氧基-5-磺基二苯基酮UV-13:雙(2-甲氧基-4-羥基-5-苯酰基苯基甲烷)作為本發(fā)明可優(yōu)選使用的紫外線吸收劑，以透明性高，防止偏光板或液晶劣化的效果優(yōu)異的苯并三唑系紫外線吸收劑或二苯基酮系紫外線吸收劑為佳，不必要的著色更少的苯并三唑系紫外線吸收劑可特別優(yōu)選使用。還有，日本特開(kāi)2001-187825號(hào)所記栽的分配系數(shù)為9.2以上的紫外線吸收劑，可提高長(zhǎng)幅薄膜的面品質(zhì)，涂布性也優(yōu)異。尤其是使用分配系數(shù)10.1以上的紫外線吸收劑更佳。還有，日本特開(kāi)平6-148430號(hào)記栽的通式(1)或通式(2)，日本特愿2000-156039號(hào)記載的通式(3)，(6)，(7)所示的高分子紫外線吸收劑(或紫外線吸收性聚合物)也可適當(dāng)使用。作為高分子紫外線吸收劑，市售品有PUVA-30M(大?；瘜W(xué)公司制)等。還有，在與本發(fā)明相關(guān)的相位差薄膜及本發(fā)明所使用的偏光板保護(hù)薄膜，為賦予潤(rùn)滑性，可使用與后述的含有活性線固化型樹(shù)脂的涂布層(硬涂覆層)所記載的一樣的微粒子。在添加于與本發(fā)明相關(guān)的相位差薄膜及本發(fā)明所使用的偏光板保護(hù)薄膜的微粒子一次平均粒徑方面，以20nm以下為佳，更優(yōu)選為5~16nm，特優(yōu)選為5~12nm。這些微粒子以形成粒徑0.1~5ym的2次粒子而含于相位差薄膜者為佳，較優(yōu)選平均粒徑為0.l~2jum，更優(yōu)選為0.2~0.6)im。由此，在薄膜表面形成高0.11.0Mm左右的凹凸，由此在薄膜表面可賦予適當(dāng)?shù)臐?rùn)滑性。本發(fā)明所使用的微粒子的一次平均粒徑的測(cè)定，系以透射型電子顯微鏡(倍率50萬(wàn)~200萬(wàn)倍)進(jìn)行粒子的觀察，觀察粒子100個(gè)，測(cè)定粒徑以其平均值作為一次平均粒徑。在微粒子的表觀比重方面，以70g/升以上為佳，更優(yōu)選為90~200g/升，特優(yōu)選為100200g/升。表觀比重越大，則越可制作高濃度的分散液，因可使霧度，凝集物良化故優(yōu)選，還有，本發(fā)明在調(diào)制固形成分高濃度的摻雜之際，可特別優(yōu)選使用。一次粒子的平均徑為20nm以下，.表觀比重為70g/升以上的二氧化硅微粒子，例如將氣化的四氯化硅與氫混合之物在1000~120(TC于空氣中燃燒而得。又例如市售商品名Aerosil200V，AerosilR972V(以上，日本Aerosil7>司制)，也可4吏用。上述記載的表觀比重，是使二氧化硅微粒子一定量以量筒采取，測(cè)定此時(shí)的重量，以下述式計(jì)算而得。表觀比重(g/升)-二氧化硅質(zhì)量(g)/二氧化硅的容積(升)作為本發(fā)明所使用的微粒子分散液的調(diào)制方法，可例舉例如以下所示的3種方法?！墩{(diào)制方法A》將溶劑與微粒子攪拌混合后，以分散機(jī)分散。使其作為微粒子分散液。將該微粒子分散液添加于摻雜液并攪拌?！墩{(diào)制方法B》將溶劑與微粒子攪拌混合后，以分散機(jī)分散。使其作為微粒子分散液。另外，在溶劑中添加少量纖維素三乙酸酯，進(jìn)行攪拌溶解。對(duì)其添加該微粒子分散液并攪拌。使其作為微粒子添加液。將微粒子添加液以聯(lián)機(jī)混合器(inlinemixer)與摻雜液充分混合。《調(diào)制方法C》在溶劑添加少量的纖維素三乙酸酯，進(jìn)行攪拌溶解。對(duì)其添加微粒子以分散機(jī)分散。使其作為微粒子添加液。將微粒子添加液以聯(lián)機(jī)混合器(inlinemixer)與摻雜液充分混合。調(diào)制方法A在二氧化硅微粒子的分散性方面為優(yōu)異，調(diào)制方法C在二氧化硅微粒子難以再凝集的觀點(diǎn)為優(yōu)異。其中，以上述記載的調(diào)制方法B因二氧化硅微粒子的分散性，與二氧化硅微粒子難以再凝集等，為兩者均優(yōu)異的優(yōu)選調(diào)制方法?！斗稚⒎椒ā肥苟趸栉⒘Ｗ优c溶劑等混合進(jìn)行分散時(shí)的二氧化硅的濃度，以5質(zhì)量％~30質(zhì)量％為佳，以10質(zhì)量％~25質(zhì)量％更佳，以15~20質(zhì)量％最佳。分散濃度高的，相對(duì)于添加量的液濁度有變低的傾向，因霧度、凝集物良化故優(yōu)選。作為使用的溶劑為低級(jí)醇類時(shí)，較優(yōu)選為曱基醇，乙基醇，丙基醇，異丙基醇，丁基醇等。作為低級(jí)醇以外的溶劑并無(wú)特別限定，以在纖維素酯的制膜時(shí)所使用的溶劑為優(yōu)選。相對(duì)于纖維素酯的二氧化硅微粒子的添加量，相對(duì)于纖維素酯IOO質(zhì)量份，二氧化硅微粒子為0.01質(zhì)量份~5.0質(zhì)量份為佳，0.05質(zhì)量份~1.0質(zhì)量份更佳，Q.1質(zhì)量份~0.5質(zhì)量份最佳。添加量越多，動(dòng)摩擦系數(shù)優(yōu)異，添加量少的，凝集物變少。分散機(jī)，可使用通常分散液調(diào)制所使用的分散機(jī)。分散機(jī)可大致分為介質(zhì)分散機(jī)與無(wú)介質(zhì)分散機(jī)。在二氧化硅微粒子分散時(shí)以無(wú)介質(zhì)分散機(jī)，因調(diào)制的分散液的霧度低而優(yōu)選。作為介質(zhì)分散機(jī)，可例舉例如球磨機(jī)，砂、磨機(jī)，Dyno研磨機(jī)等。作為無(wú)介質(zhì)分散機(jī)，有例如超音波型，離心型，高壓型等，在本發(fā)明中以高壓分散裝置為優(yōu)選。高壓分散裝置，是將微粒子與溶劑混合的組合物，在細(xì)管中使高速通過(guò)，而可實(shí)現(xiàn)高剪斷或高壓狀態(tài)等特殊條件的裝置。在以高壓分散裝置處理的情況，例如在管徑l-2000jum的細(xì)管中，裝置內(nèi)部的最大壓力條件為9.807MPa以上為優(yōu)選。更優(yōu)選為19.613MPa以上。此時(shí)，最高到達(dá)速度以達(dá)到100m/秒以上者，傳熱速度達(dá)到420kJ/小時(shí)以上者為優(yōu)選。上述那樣的高壓分散裝置，有MicrofluidicsCorporation公司制超高壓均質(zhì)機(jī)(homogenizer)(商品名均質(zhì)流細(xì)胞粉碎機(jī)(microfluidizer))或Nanomizer公司制Nanomizer,其它還有Manton-Gaulin型高壓分散裝置，例如，IzumiFoodMachinery制均質(zhì)機(jī)，三和機(jī)械公司制UHN-01等。還有，將含有微粒子的摻雜與流延支持體通過(guò)直接接觸的方式進(jìn)行流延，可獲得潤(rùn)滑性高，霧度低的薄膜而優(yōu)選。還有，在it延后剝離，干燥，而巻繞成滾筒狀后，可設(shè)置硬涂覆層或防反射層等的功能性薄膜。在加工或者出貨為止之間，因污染或靜電所致的灰塵附著等，為保護(hù)制品則通常進(jìn)行包裝加工。就該包裝材料，若為可實(shí)現(xiàn)上述目的則并無(wú)特別限定，以不致妨礙來(lái)自薄膜的殘留溶劑的揮發(fā)者為佳。具體而言，可例舉聚乙烯，聚酯，聚丙烯，尼龍，聚苯乙烯，紙，各種無(wú)紡布等。纖維以成為篩布(meshcloth)狀之物更佳。(本發(fā)明的相位差薄膜及本發(fā)明所使用的偏光板保護(hù)薄膜的制造方法)接著，就與本發(fā)明相關(guān)的相位差薄膜及本發(fā)明所使用的偏光板保護(hù)薄膜的制造方法，進(jìn)行詳細(xì)說(shuō)明。與本發(fā)明相關(guān)的相位差薄膜及本發(fā)明所使用的偏光板保護(hù)薄膜的制造，是將纖維素酯及該增塑劑等的添加劑溶解于溶劑來(lái)調(diào)制摻雜的步驟，將摻雜在帶狀或者轉(zhuǎn)筒狀的金屬支持體上流延的步驟，將流延的摻雜作為網(wǎng)狀物進(jìn)行干燥的步驟，自金屬支持體剝離的步驟，拉伸的步驟，進(jìn)而干燥的步驟，所得的薄膜進(jìn)而進(jìn)行熱處理的步驟，冷卻后通過(guò)巻取步驟來(lái)進(jìn)行。本發(fā)明的相位差薄膜是在固形成分中優(yōu)選含有纖維素酯70~95質(zhì)量％的薄膜。以下就調(diào)制摻雜的步驟進(jìn)行說(shuō)明。摻雜中纖維素酯的濃度，以濃度高者在金屬支持體流延后的干燥負(fù)荷可降低而優(yōu)選，但纖維素酯的濃度過(guò)高時(shí)過(guò)濾時(shí)的負(fù)荷增加，使得過(guò)濾精度惡化。在使這些兩立的濃度方面，以10~35質(zhì)量％為優(yōu)選，更優(yōu)選為15~25質(zhì)量％。本發(fā)明中，摻雜所使用的溶劑可單獨(dú)使用也可并用2種以上，而將纖維素酯的良溶劑與弱溶劑混合使用，從生產(chǎn)效率的觀點(diǎn)為佳，良溶劑多者從纖維素酯溶解性的觀點(diǎn)更佳。良溶劑與弱溶劑的混合比率的優(yōu)選范圍是良溶劑為70~98質(zhì)量％，弱溶劑為2~30質(zhì)量％。良溶劑，弱溶劑的定義是指，將使用的纖維素酯單獨(dú)溶解者為良溶劑，單獨(dú)膨脹或不溶解者為弱溶劑。因此，以纖維素酯的酰基取代度，使良溶劑，弱溶劑變化，例如丙酮作為溶劑使用時(shí)，在纖維素酯的乙酸酯(乙?；〈?.4)、纖維素乙酸酯丙酸酯為良溶劑，在纖維素的乙酸酯(乙?；〈?.8)成為弱溶劑。本發(fā)明所使用的良溶劑，并無(wú)特別限定，可例舉二氯曱烷等的有機(jī)囟化合物或二喁戊烷(dioxolane)類，丙酮，乙酸曱酯，乙酰乙酸曱酯等。特優(yōu)選二氯曱烷或乙酸曱酯。還有，本發(fā)明所使用的弱溶劑并無(wú)特別限定，例如曱醇，乙醇，正丁醇，環(huán)己烷，環(huán)己酮等可適當(dāng)使用。還有，在摻雜中水以含有0.01~2質(zhì)量％為優(yōu)選。作為在調(diào)制上述摻雜時(shí)的纖維素酯的溶解方法，可使用一般的方法。在加熱與加壓的組合下，在常壓中可加熱至沸點(diǎn)以上。在溶劑的常壓的沸點(diǎn)以上，且加壓下溶劑不沸騰的范圍的溫度，一邊加熱一邊攪拌溶解，因可防止與凝膠或稱為不溶結(jié)塊(insolubleagglomerate)的塊狀未溶解物的發(fā)生，故優(yōu)選。還有，將纖維素酯與弱溶劑混合進(jìn)行濕潤(rùn)或膨脹后，進(jìn)而添加良溶劑進(jìn)行溶解的方法也可適當(dāng)使用。加壓可以使氮?dú)獾榷栊詺怏w壓入的方法，或通過(guò)加熱使溶劑的蒸氣壓上升的方法來(lái)進(jìn)行。加熱以從外部進(jìn)行為佳，例如套管型物體因溫度控制容易而優(yōu)選。添加溶劑的加熱溫度，以溫度高者就纖維素酯溶解性的觀點(diǎn)而言優(yōu)選，但加熱溫度過(guò)高時(shí)，必要的壓力變大，生產(chǎn)性變差。優(yōu)選加熱溫度為45i20匸，以60~iiox:更優(yōu)選，以70X:~105r最優(yōu)選。還有，壓力可以設(shè)定溫度，調(diào)整以使溶劑為不致沸騰。還有，冷卻溶解法也可適當(dāng)使用，由此在乙酸曱酯等溶劑中可使纖維素酯溶解。接著，將該纖維素酯溶液，使用濾紙等適當(dāng)過(guò)濾材料進(jìn)行過(guò)濾。過(guò)濾材料方面，由于要將不溶物等除去，則以絕對(duì)過(guò)濾精度小者為佳，但絕對(duì)過(guò)濾精度過(guò)小時(shí)會(huì)有過(guò)濾材料的網(wǎng)孔阻塞易于發(fā)生的問(wèn)題。因此，以絕對(duì)過(guò)濾精度0.008mm以下的濾材為優(yōu)選，0.001~0.008mm的濾材較優(yōu)選，0.003~0.006mm的濾材更優(yōu)選。對(duì)濾材的材質(zhì)并無(wú)特別限制，可使用通常的濾材，但以聚丙烯，鐵氟龍(注冊(cè)商標(biāo))等的塑料制的濾材，或不銹鋼等金屬制濾材因無(wú)纖維的脫落等而優(yōu)選。通過(guò)過(guò)濾，可將含于原料的纖維素酯的雜質(zhì)，尤其是可以將亮點(diǎn)異物除去、降低而優(yōu)選。亮點(diǎn)異物是指，將2片偏光板配置成為正交尼科耳棱鏡狀態(tài)，在其間放置纖維素酯薄膜，自一偏光板的側(cè)使光照射，自另一偏光板的側(cè)觀察時(shí)可見(jiàn)到自相反側(cè)的漏光點(diǎn)(異物)，直徑0.Olmm以上的亮點(diǎn)數(shù)為200個(gè)/cm'以下為佳。較優(yōu)選為100個(gè)/cii^以下，更優(yōu)選為50個(gè)/瓜2以下，最優(yōu)選為0-10個(gè)/cn^以下。還有，0.Olmm以下的亮點(diǎn)也是越少越好。摻雜的過(guò)濾可以通常方法進(jìn)行，在溶劑的常壓下沸點(diǎn)以上，且加壓下溶劑不致沸騰的范圍的溫度下一邊加熱一邊過(guò)濾的方法，因過(guò)濾前后的濾壓差(稱為壓差)上升小而優(yōu)選。優(yōu)選溫度為45~120X:，以4570X:更優(yōu)選，以4555X:最優(yōu)選。濾壓越小越好。濾壓在1.6MPa以下為優(yōu)選，以1.2MPa以下更優(yōu)選，以1.OMPa以下最優(yōu)選。接著，就摻雜的流延進(jìn)行說(shuō)明。在流延(澆鑄)步驟中金屬支持體，以使表面進(jìn)行鏡面最終加工為佳，作為金屬支持體，以不銹鋼帶或者以鑄形物使表面經(jīng)電鍍最終加工的轉(zhuǎn)筒可適當(dāng)使用。澆鑄的寬可為l~4m。流延步驟的金屬支持體表面溫度可設(shè)定在-50r~溶劑沸騰而不發(fā)泡的溫度以下。溫度高時(shí)網(wǎng)狀物的千燥速度快而優(yōu)選，太高時(shí)網(wǎng)狀物會(huì)發(fā)泡，或有平面性劣化的情況。作為適宜的支持體溫度，可在0~IOO'C可適當(dāng)決定，以5~30X:更好。或通過(guò)冷卻使網(wǎng)狀物凝膠化在含有多量殘留溶劑的狀態(tài)下自轉(zhuǎn)筒剝離也是較好方法?？刂平饘僦С煮w的溫度的方法并無(wú)特別限定，但有使溫風(fēng)或冷風(fēng)吹入的方法，或?qū)厮c金屬支持體的內(nèi)側(cè)接觸的方法。使用溫水時(shí)，因熱的傳導(dǎo)可有效率地進(jìn)行，金屬支持體的溫度以進(jìn)行至一定為止之時(shí)間短的較好。在使用溫風(fēng)的情況，在考慮到因溶劑蒸發(fā)潛熱所致網(wǎng)狀物的溫度降低，一邊使用溶劑的沸點(diǎn)以上的溫風(fēng)，一邊在防止發(fā)泡同時(shí)也有使用比目的溫度更高溫度的風(fēng)的情況。尤其是，在自流延至剝離為止之間將支持體的溫度及干燥風(fēng)的溫度改變，以有效率地進(jìn)行干燥而優(yōu)選。為使纖維素酯薄膜顯示良好平面性，自金屬支持體使網(wǎng)狀物剝離之際的殘留溶劑量以10~150質(zhì)量％為佳，更優(yōu)選為20~40質(zhì)量％或60130質(zhì)量o/。，特優(yōu)選為20~30質(zhì)量％或70~120質(zhì)量％。本發(fā)明中，殘留溶劑量是以下式定義。殘留溶劑量(質(zhì)量o/。)-KM-N)/N)x100式中，M是網(wǎng)狀物或薄膜在制造中或制造后的任意時(shí)間點(diǎn)所采取的試樣質(zhì)量，N為使M在115匸經(jīng)1小時(shí)加熱后的質(zhì)量。還有，在纖維素酯薄膜的干燥步驟中，使網(wǎng)狀物自金屬支持體剝離，進(jìn)而干燥，是干燥一直到使殘留溶劑量成為0.5質(zhì)量％以下為止。在薄膜干燥步驟，一般是以滾筒干燥方式(上下配置的多個(gè)滾筒交互通過(guò)網(wǎng)狀物進(jìn)行干燥的方式)或以拉幅機(jī)方式使網(wǎng)狀物運(yùn)送，同時(shí)釆用干燥的方式。在自流延支持體剝離之際，通過(guò)剝離張力及其后的運(yùn)送張力也可在縱方向拉伸。例如以使剝離張力為210N/m以上進(jìn)行剝離為佳，特優(yōu)選為220~300N/m。與本發(fā)明相關(guān)的相位差薄膜，在波長(zhǎng)590nm中面內(nèi)相位差Ro為30nm~300nm，厚度方向的相位差Rt為80nm~400nm,薄膜膜厚為10ym~70|Liin,且為使薄膜的一面與另一面的折射率差為5xl(T以上5x10-3以下，則將該相位差薄膜在玻璃化轉(zhuǎn)變溫度±30匸的氛圍溫度，使薄膜的一面向內(nèi)側(cè)彎曲的方式，接著進(jìn)行與其為相反面向內(nèi)側(cè)那樣弄彎處理(彎曲處理)，優(yōu)選使該處理在薄膜弄彎時(shí)的半徑為a(nun)時(shí)1/a的值為0.013~0.033(mnT"的范圍內(nèi)重復(fù)150次以上不足1000次。本發(fā)明優(yōu)選的上述彎曲處理可使用圖進(jìn)行說(shuō)明。但，并非限定于此。圖1是可適當(dāng)使用于本發(fā)明的彎曲處理裝置的模式圖。通過(guò)擠壓模1使摻雜液在金屬支持體2上流延，通過(guò)驅(qū)動(dòng)滾筒3連續(xù)地在金屬支持體上干燥，形成網(wǎng)狀物(在金屬支持體上經(jīng)流延之后稱為摻雜膜，即作為網(wǎng)狀物)。網(wǎng)狀物被干燥成殘留溶劑量為所希望值，在剝離點(diǎn)4剝離成薄膜狀，通過(guò)多個(gè)運(yùn)送滾筒5進(jìn)行運(yùn)送，使A面(和網(wǎng)狀物與金屬支持體接觸的面相反的面)，B面(網(wǎng)狀物與金屬支持體接觸的面)交互地成為運(yùn)送滾筒5內(nèi)側(cè)的方式連續(xù)地重復(fù)彎曲處理。該彎曲處理是在具有吸氣口7及排氣口8的彎曲區(qū)域6內(nèi)進(jìn)行，薄膜可調(diào)整以使在所希望氛圍溫度被彎曲。運(yùn)送滾筒的徑，以90~108mm的范圍為佳，各滾筒間以1800mm左右為佳。薄膜弄彎時(shí)的半徑為a(mm)時(shí)以使l/a的值為0.013~0.033(匪—1)的范圍來(lái)決定滾筒徑為佳，以0.013~0.033為優(yōu)選，以0.017~0.025更優(yōu)選，以0.019~0.022特優(yōu)選。在彎曲區(qū)域6，經(jīng)溫度調(diào)整的熱風(fēng)由吸氣口7導(dǎo)入，使彎曲區(qū)域6內(nèi)保持于一定氛圍溫度，自排氣口8排氣。在調(diào)整彎曲區(qū)域6內(nèi)的氛圍溫度時(shí)，其它以紅外線，加熱滾筒等進(jìn)行也可，就簡(jiǎn)便的觀點(diǎn)而言以熱風(fēng)進(jìn)行較為優(yōu)選。還有，使干燥裝置內(nèi)的氛圍為空氣也可，以氮?dú)饣蛱妓釟怏w，氬氣等惰性氣體氛圍進(jìn)行也可。與本發(fā)明相關(guān)的相位差薄膜的彎曲處理時(shí)的氛圍溫度，以纖維素酯薄膜的玻璃化轉(zhuǎn)變溫度土30t:的溫度，從可獲得本發(fā)明效果而言優(yōu)選。玻璃化轉(zhuǎn)變溫度不足-3(TC，或超過(guò)+30'C時(shí)，要再現(xiàn)性良好的獲得所希望折射率差有困難，更優(yōu)選在纖維素酯薄膜的玻璃化轉(zhuǎn)變溫度士20X:的范圍。與本發(fā)明相關(guān)的相位差薄膜的彎曲次數(shù)，以重復(fù)150次以上，不足1000次為佳，重復(fù)250次以上，不足1000次更優(yōu)選，重復(fù)350次以上，不足1000次特優(yōu)選。薄膜的彎折間隔，以在1秒1分鐘的范圍進(jìn)行為佳，在2秒~30秒的范圍進(jìn)行更優(yōu)選。與本發(fā)明相關(guān)的相位差薄膜的運(yùn)送速度，以在10m~150m/分范圍進(jìn)行為佳，在15m~100m的范圍進(jìn)行從生產(chǎn)性或裂斷的觀點(diǎn)更優(yōu)選。通過(guò)這些處理，與本發(fā)明相關(guān)的相位差薄膜的一面與另一面的折射率差可控制于5xl(T以上，5xl(^以下?！幢砝锩娴恼凵渎实臏y(cè)定〉在23'C、55%RH的環(huán)境下使試樣(薄膜)放置24小時(shí)，在相同環(huán)境下使用阿倍折射率計(jì)(1T)與分光光源，來(lái)測(cè)定波長(zhǎng)590nm的相位差薄膜表面及里面的平均折射率。在此，薄膜表面是指使摻雜流延之際與金屬支持體相反的面(A面)，薄膜里面是指使摻雜流延之際金屬支持體側(cè)的面(B面)。在本發(fā)明優(yōu)選的彎曲處理，可適用于構(gòu)成相位差薄膜的制膜步驟的任一步驟，優(yōu)選在以金屬支持體使薄膜剝之后適用于拉幅機(jī)步驟之間。接著，以圖3說(shuō)明制作與本發(fā)明相關(guān)的相位差薄膜用的拉伸步驟(也稱為拉幅機(jī)步驟)的一例。圖3中，在步驟A是自圖未示出的網(wǎng)狀物運(yùn)送步驟DO所運(yùn)送而至的網(wǎng)狀物進(jìn)行把持的步驟，在其次的步驟B中，在如圖2所示拉伸角度使網(wǎng)狀物拉伸至寬幅方向(與網(wǎng)狀物的進(jìn)行方向正交的方向)，在步驟C中，拉伸完成，在原樣把持網(wǎng)狀物下進(jìn)行運(yùn)送的步驟。自流延支持體將網(wǎng)狀物剝離之后，步驟B開(kāi)始前及/或步驟C之后，立即設(shè)置使網(wǎng)狀物在寬方向的端部切離的剪切機(jī)(slitter)為優(yōu)選。尤其是，在A步驟剛開(kāi)始前設(shè)置將網(wǎng)狀物端部切離的剪切機(jī)為優(yōu)選。在進(jìn)行與寬幅方向相同的拉伸之際，尤其是在步驟B開(kāi)始前將網(wǎng)狀物端部切除的情況與不切除網(wǎng)狀物端部的條件加以比較時(shí)，前者更可獲得定向角分布的改良效果。定向角是指面內(nèi)折射率為最大方向與薄膜運(yùn)送方向或者薄膜運(yùn)送方向與在面內(nèi)正交的方向所成角度中較小的角度。定向角的測(cè)定方法，薄膜寬幅方向在3~10cm間隔測(cè)定，以全部定向角成為±1.5。為佳，以±1.0。以內(nèi)更佳?？梢哉J(rèn)為上述效果，是使自殘留溶劑量比較多的剝離至寬幅拉伸步驟B為止之間的長(zhǎng)邊方向的非計(jì)劃的拉伸得到抑制的效果。在拉幅機(jī)步驟中，為改善定向角分布，則形成具有計(jì)劃的不同溫度的劃分為宜。還有，在不同溫度劃分之間為使各自劃分不致引起干涉，則以設(shè)置中立區(qū)域?yàn)閮?yōu)選。另外，拉伸操作可分割為多階段實(shí)施，在流延方向，寬幅方向以實(shí)施雙軸拉伸為佳。還有，即使進(jìn)行雙軸拉伸的情況同時(shí)進(jìn)行雙軸拉伸也可，也可階段性地實(shí)施。在此情況，階段性是指，例如可使拉伸方向不同的拉伸依順序進(jìn)行，將同一方向的拉伸分割成多階段，且將不同方向的拉伸添加于其任一階段也可。將由金屬支持體所剝離的網(wǎng)狀物進(jìn)行彎曲處理同時(shí)運(yùn)送，進(jìn)而使網(wǎng)狀物的兩端以針或夾具等把持的拉幅機(jī)方式在寬方向進(jìn)行拉伸，但為獲得本發(fā)明的效果更好，由此，相位差薄膜可賦予為本發(fā)明效果的巻曲的調(diào)整或設(shè)定的相位差。此時(shí)，既可僅在寬方向拉伸，也可同時(shí)進(jìn)行2軸拉伸。所希望的拉伸倍率以1.05~2倍為佳，更優(yōu)選為1.15~1.5倍。同時(shí)2軸拉伸之際可在縱方向使的收縮，為0.8~0.99，較優(yōu)選為使其收縮成為0.9~0.99。較優(yōu)選為，通過(guò)橫方向拉伸及縱方向的拉伸或者收縮使面積為1.12倍~1.44倍為佳，成為1.15倍~1.32倍更優(yōu)選。這可由縱方向的拉伸倍率x橫方向的拉伸倍率求得。還有，本發(fā)明中"拉伸方向，，是指，在進(jìn)行拉伸操作情況之時(shí)直接加拉伸應(yīng)力的方向之意思下來(lái)使用的情況為通常，在多階段地進(jìn)行雙軸拉伸的情況也有以最終拉伸倍率變大(即，通常成為滯相軸的方向)之意思來(lái)使用的。如前述，在將網(wǎng)狀物往寬幅方向拉伸的情況，在網(wǎng)狀物的寬幅方向使定向角分布惡化為公知。使Rt與Ro的值為一定比率，且使定向角分布以良好狀態(tài)進(jìn)行寬幅拉伸，在步驟A、B、C有所希望的網(wǎng)狀物溫度的相對(duì)關(guān)系存在。使步驟A、B、C終點(diǎn)的網(wǎng)狀物溫度各自成為T(mén)ar、Tb。C、TcX:時(shí)，以Ta^Tb-10為佳。還有，以Tc《Tb為優(yōu)選。以Ta^Tb-10且Tc《Tb更優(yōu)選。在步驟B的網(wǎng)狀物升溫速度，為使定向角分布良好起見(jiàn)，以0.5~1(TC/秒的范圍為優(yōu)選。在步驟B的拉伸時(shí)間，以短時(shí)間者為優(yōu)選。但，自網(wǎng)狀物的均勻性觀點(diǎn)而言，則規(guī)定最低限的必要拉伸時(shí)間的范圍。具體而言，以1~IO秒的范圍為佳，以4~10秒更佳。還有，步驟B的溫度為40~180'C，優(yōu)選為100~160'C。在上述拉幅機(jī)步驟中，熱導(dǎo)系數(shù)可并非一定，也可有變化。作為熱導(dǎo)系數(shù)，以具有41.9419xl()3j/m2hr范圍的熱導(dǎo)系數(shù)者為佳。更優(yōu)選為41.9-209.5xl()3j/m2hr的范圍，以41.9~126x103J/m2hr的范圍最佳。在上述步驟B的對(duì)寬幅方向的拉伸速度，可以一定方式進(jìn)行，也可使的變化。作為拉伸速度，以5-500。/。/min為佳，更優(yōu)選為100~400%/min，200~300%/min最佳。拉幅機(jī)步驟中，以氛圍氣在寬幅方向的溫度分布少者，從可提高網(wǎng)狀物均勻性的觀點(diǎn)而言為佳，在拉幅機(jī)步驟的寬幅方向的溫度分布以土5。C以內(nèi)為佳，以士2'C以內(nèi)更佳，以土ii:以內(nèi)最佳。通過(guò)上述溫度分布的減少，還可期待在網(wǎng)狀物寬幅的溫度分布也減小。在步驟C，以在寬方向緩和為佳。具體而言，相對(duì)于前步驟的拉伸后最終網(wǎng)狀物寬以在95~99.5%的范圍的方式調(diào)整網(wǎng)狀物寬為佳。以拉幅機(jī)步驟處理后，進(jìn)而設(shè)置后千燥步驟(以下，步驟D1)為佳。優(yōu)選在50160t:進(jìn)行。更優(yōu)選在80140'C的范圍，最優(yōu)選為110~130X:的范圍。在步驟D1，網(wǎng)狀物寬方向的氛圍氣溫度分布少者，從提高網(wǎng)狀物的均勻性的觀點(diǎn)而言為佳。以在土5X:以內(nèi)為佳，以在士21C以內(nèi)更佳，在士rc以內(nèi)最佳。在步驟D1的網(wǎng)狀物運(yùn)送張力，因受到摻雜之物性、剝離時(shí)及步驟DO的殘留溶劑量、步驟D1的溫度等影響，以120200N/m為佳，以140~200N/m更佳。以140~160N/m最佳。在防止于步驟D1至運(yùn)送方向的網(wǎng)狀物的延伸的目的，以設(shè)置張力切割滾筒(tensioncutroll)為佳。使網(wǎng)狀物干燥的手段并無(wú)特別限定，一般可以熱風(fēng)，紅外線，加熱滾筒，微波等進(jìn)行，就簡(jiǎn)便性的觀點(diǎn)以熱風(fēng)進(jìn)行為佳。網(wǎng)狀物的干燥步驟中干燥溫度以可在30~160。C階段性的提高為佳。本發(fā)明的相位差薄膜或者偏光板保護(hù)薄膜，以正電子湮沒(méi)壽命測(cè)量法(positronannihilationlifemeasuringmethod)所求得自由體積半徑以0.250~0.350nm為佳，尤以0.250~0.310nm更佳。在此所謂自由體積是指，在纖維素樹(shù)脂分子鏈所不占有的空隙部分之意。此可使用正電子湮沒(méi)壽命測(cè)量法來(lái)測(cè)定。具體而言，測(cè)定使陽(yáng)電子入射于試樣后至消滅為止之時(shí)間，自其消滅壽命可通過(guò)原子空孑L或自由體積的大小、數(shù)濃度(numericalconcentration)等相關(guān)信息通過(guò)非破壞性觀察來(lái)求得?！凑娮愉螞](méi)壽命測(cè)量法所致自由體積半徑的測(cè)定〉以下述測(cè)定條件來(lái)測(cè)定正電子湮沒(méi)壽命與相對(duì)強(qiáng)度。(測(cè)定條件)陽(yáng)電子束源22NaCl(強(qiáng)度1.85MBq)迦瑪線檢出器塑料制閃爍器+光電子倍增管裝置時(shí)間分解能290ps測(cè)定溫度23t)總計(jì)數(shù)100萬(wàn)計(jì)數(shù)試樣尺寸將切成20mmx15mm的切片重迭20片成為約2mm的厚度。試樣是在測(cè)定前進(jìn)行24小時(shí)真空干燥。照射面積約lOmm(j)每l通道之時(shí)間23.3ps/ch依照上述測(cè)定條件，實(shí)施正電子湮沒(méi)壽命測(cè)定，以非線形最小二乘方法進(jìn)行3成分解析，自湮沒(méi)壽命的小者，成為T(mén)l、t2、t3，將因應(yīng)這些的強(qiáng)度作為II、12、13(11+12+13-100%)t自壽命最長(zhǎng)的平均消滅壽命T3，使用下述式來(lái)求得自由體積半徑R3(nm)?？梢哉J(rèn)為對(duì)應(yīng)于t3在空孔的正電子湮沒(méi)，t3越大則空孔尺寸越大。t3=(1/2)[l—{R3/(R3+0.166)}+(l/27t)sin{27TR3/(R3+0.166)在此，0.166(nm)相當(dāng)于自空孔的壁浸出的電子層厚度。以上的測(cè)定重復(fù)2回，求其平均值。正電子湮沒(méi)壽命測(cè)量法，例如，ATERIALSTAGEvol.4，NO.52004p21-25，Toray研究中心THETRCNEWSNo.80(Jul.2002)p20-22，"分析，1988，pp.11-20"揭載有「正電子湮沒(méi)法所致高分子的自由體積評(píng)價(jià)」，這些可作參考。本發(fā)明的薄膜或保護(hù)薄膜的自由體積半徑，以0.250~0.310nm為佳，進(jìn)而優(yōu)選范圍為0.270~0.305nm。使該薄膜的自由體積半徑在設(shè)定范圍的方法并無(wú)特別限定，可由下述方法來(lái)控制這些。以正電子湮沒(méi)壽命測(cè)量法所求得自由體積半徑為0.250~0.310nm的薄膜，是將至少含有纖維素衍生物與增塑劑的摻雜進(jìn)行流延來(lái)制作網(wǎng)狀物，在含有溶劑的狀態(tài)進(jìn)行拉伸后，使殘留溶劑量至不足0.3%為止進(jìn)行干燥獲得纖維素樹(shù)脂薄膜，使其進(jìn)而在105~1551C，以氛圍氣置換率12次/小時(shí)以上，優(yōu)選為12~45次/小時(shí)的氛圍氣下一面運(yùn)送一面處理，可獲得為設(shè)定的自由體積半徑的偏光板保護(hù)薄膜。氛圍氣置換率，是使熱處理室的氛圍氣容量為V(m3)，使新鮮空氣送風(fēng)量為FA(m7hr)的情況，可以下式來(lái)求得每單位時(shí)間熱處理室的氛圍氣以新鮮空氣置換的次數(shù)。新鮮空氣在送風(fēng)至熱處理室的風(fēng)中，并非進(jìn)行循環(huán)再利用的風(fēng)，而是不含揮發(fā)的溶劑或者增塑劑等，或者將這些除去的新鮮的風(fēng)之意。氛圍氣置換率-FA/V(次/時(shí)間)進(jìn)而為了制作本發(fā)明的相位差薄膜或者偏光板保護(hù)薄膜，在干燥后的熱處理步驟對(duì)薄膜將0.5kPa以上10kPa以下壓力賦予厚度方向?yàn)榧?，例如通過(guò)壓料輥使壓力均勻地加壓為佳。在厚度方向賦予壓力之際，以也可充分完成干燥為佳，在此時(shí)使0.5kPa以上10kPa以下的壓力自薄膜兩面加壓，而可控制相位差薄膜的自由體積半徑。具體而言，是以平行的二只壓料輥對(duì)薄膜施加壓力的方法。又也可依照輪壓機(jī)滾筒(calenderroll)的方法。加壓時(shí)的溫度以105~155。C為佳。在設(shè)定的熱處理之后，于巻繞前設(shè)置剪切機(jī)使端部切離因可獲得良好巻姿態(tài)故優(yōu)選。進(jìn)而，在寬幅兩端部進(jìn)行壓花加工更佳。壓花加工，是使被加熱的壓紋滾筒押接而可形成。在壓紋滾筒可形成細(xì)致凹凸，使其押接下可在薄膜形成凹凸，可使端部體積變大。本發(fā)明的相位差薄膜及本發(fā)明所使用的偏光板保護(hù)薄膜的寬幅兩端部的壓花高度以4~20jam，寬520mm為佳。還有，本發(fā)明中，上述壓花加工，可在薄膜制膜步驟中干燥完成后，在巻繞前設(shè)置為佳。與本發(fā)明相關(guān)的相位差薄膜表面之中心線平均粗糙度(Ra)以0.001~1jnm為佳。與本發(fā)明相關(guān)的相位差薄膜的面內(nèi)方向中以下式(A)定義的遲延Ro為30~300nm，以50100認(rèn)更佳。還有，厚度方向的遲延Rt為80~400nm，以100~300nm更佳。Ro，Rt或相位差薄膜的寬幅方向與滯相軸所成角6。(°)可使用自動(dòng)雙折射率計(jì)來(lái)測(cè)定。使用自動(dòng)雙折射率計(jì)K0BRA-21ADH(王子計(jì)測(cè)機(jī)器公司制)，在23X:、55%RH的環(huán)境下，于纖維素酯薄膜的590nm中進(jìn)行雙折射率測(cè)定，求得折射率nx、ny、nz，依照下述式計(jì)算Ro、Rt。式(A)Ro=(nx-ny)xdRt={(nx-ny)/2-nz)xd式中，nx為薄膜面內(nèi)的滯相軸方向的折射率，ny為薄膜面內(nèi)的進(jìn)相軸方向的折射率，nz為薄膜的厚度方向的折射率，d為薄膜的膜厚(nm)。一方面，本發(fā)明所使用的偏光板保護(hù)薄膜的遲延Ro以20nm以下為佳，遲延Rt以50nm以下為佳。與本發(fā)明相關(guān)的相位差薄膜，其膜厚為10~70jum。一般相位差薄膜的膜厚以厚者可使相位差易于變大，但在本發(fā)明是在偏光板保護(hù)薄膜具有相位差功能，進(jìn)而通過(guò)使用薄膜的相位差薄膜，使偏光板全體的膜厚降低而在偏光板制作中可降低干燥、經(jīng)時(shí)間變化保存的影響，可使偏光板的扭曲大幅降低。膜厚的更優(yōu)選值為在20~60jum的范圍。在本發(fā)明所使用的偏光板保護(hù)薄膜的膜厚并無(wú)特別限制，因本發(fā)明偏光板的厚度為70140jum以下的范圍，故自然是薄地薄膜為佳。特優(yōu)選為與相位差薄膜同樣為2060jLim的范圍。作為透濕性是準(zhǔn)照J(rèn)ISZ0208(25°C、90%RH)而測(cè)定的值，以200g/m2.24小時(shí)以下為佳，更優(yōu)選為10~180g/m2.24小時(shí)以下，特優(yōu)選為160g/m2.24小時(shí)以下。尤其是在膜厚20lam60iam使透濕性在上述范圍內(nèi)為佳。與本發(fā)明相關(guān)的相位差薄膜及本發(fā)明所使用的偏光板保護(hù)薄膜，具體而言，是顯示100m5000m左右的薄膜，通常是以滾筒狀提供的形態(tài)的薄膜。還有，與本發(fā)明相關(guān)的相位差薄膜的寬度以lm以上為佳，更優(yōu)選為1.4m以上，尤其是1.44mn最優(yōu)選。還有，本發(fā)明所使用的偏光板保護(hù)薄膜在配置于可見(jiàn)側(cè)的情況，在至少一面以設(shè)置下述功能性層為佳。(硬涂覆層)在本發(fā)明所使用的偏光板保護(hù)薄膜，作為功能性層可設(shè)置硬涂覆層。本發(fā)明所使用的硬涂覆層是至少設(shè)置于偏光板保護(hù)薄膜的一面。本發(fā)明的偏光板保護(hù)薄膜，是在該硬涂覆層上，以構(gòu)成設(shè)置有防反射層(高折射率層、低折射率層等)的防反射薄膜為佳。作為硬涂覆層，活性線固化樹(shù)脂層可適當(dāng)使用?；钚跃€固化樹(shù)脂層是指，通過(guò)紫外線或電子束那樣的活性線照射經(jīng)過(guò)交聯(lián)反應(yīng)等進(jìn)行固化的樹(shù)脂作為主成分的層。作為活性線固化樹(shù)脂，以使用含有具有乙烯性不飽和雙鍵的單體的成分為佳，在照射紫外線或電子束那樣的活性線下進(jìn)行固化而可形成硬涂覆層。作為活性線固化樹(shù)脂，可例舉紫外線固化性樹(shù)脂或電子束固化性樹(shù)脂等的代表性樹(shù)脂，以通過(guò)紫外線照射而固化的樹(shù)脂為佳。作為紫外線固化性樹(shù)脂，有例如紫外線固化型氨基曱酸乙酯丙烯酸酯系樹(shù)脂，紫外線固化型聚酯丙烯酸酯系樹(shù)脂，紫外線固化型環(huán)氧基丙烯酸酯系樹(shù)脂，紫外線固化型聚醇丙烯酸酯系樹(shù)脂，或紫外線固化型環(huán)氧基樹(shù)脂等可適當(dāng)使用。紫外線固化型丙烯酸氨基曱酸乙酯系樹(shù)脂，一般是在聚酯聚醇使異氰酸酯單體，或預(yù)聚物反應(yīng)在所得的生成物進(jìn)而使2-羥基乙基丙烯酸酯、2-羥基乙基甲基丙烯酸酯(以下，在丙烯酸酯是包含曱基丙烯酸酯而僅以丙烯酸酯表示)、2-羥基丙基丙烯酸酯等的具有羥基的丙烯酸酯系的單體反應(yīng)而可容易地獲得?？墒褂美缛毡咎亻_(kāi)昭59-151110號(hào)記載之物。例如，Unidick17-806(大日本油墨乂^司制)100份與CORONETL(日本聚氨基甲酸乙酯公司制)l份的混合物等可適當(dāng)使用。作為紫外線固化型聚酯丙烯酸酯系樹(shù)脂，一般可例舉在聚酯聚醇使2—羥基乙基丙烯酸酯、2—羥基丙烯酸酯系的單體反應(yīng)時(shí)可容易形成的樹(shù)脂，可使用日本特開(kāi)昭59-151112號(hào)記載之物。作為紫外線固化型環(huán)氧基丙烯酸酯系樹(shù)脂的具體例，可例舉以環(huán)氧基丙烯酸酯為寡聚物，對(duì)此添加反應(yīng)性稀釋劑、光反應(yīng)引發(fā)劑，進(jìn)行反應(yīng)而生成的樹(shù)脂，可使用日本特開(kāi)平1-105738號(hào)所記載之物。作為紫外線固化型聚醇丙烯酸酯系樹(shù)脂的具體例，可例舉三羥甲基丙烷三丙烯酸酯，二-三羥甲基丙烷四丙烯酸酯，新戊四醇三丙烯酸酯，新戊四醇四丙烯酸酯，二新戊四醇六丙烯酸酯，烷基改性二新戊四醇五丙烯酸酯等。作為這些紫外線固化性樹(shù)脂的光反應(yīng)引發(fā)劑，具體而言，可例舉安息香及其衍生物，乙酰苯、二苯基酮、羥基二苯基酮、米蚩酮、cx-戊肝(amyloxime)S旨、遙噸酮等及這些f;f生物。也可與光增感劑共同使用。上述光反應(yīng)引發(fā)劑也可作為光增感劑使用。還有，在使用環(huán)氧基丙烯酸酯系的光反應(yīng)引發(fā)劑之際，可使用正丁基胺、三乙基胺、三-正丁基膦等增感劑。紫外線固化樹(shù)脂組合物所使用的光反應(yīng)引發(fā)劑或光增感劑相對(duì)于該組合物IOO質(zhì)量份為0.1~15質(zhì)量份，優(yōu)選為1~IO質(zhì)量份。作為樹(shù)脂單體，例如不飽和雙鍵為一個(gè)的單體方面，可例舉甲基丙烯酸酯，乙基丙烯酸酯，丁基丙烯酸酯，千基丙烯酸酯，環(huán)己基丙烯酸酯，乙酸乙烯酯，苯乙烯等一般的單體。還有，具有不飽和雙鍵二個(gè)以上的單體方面，可例舉乙二醇二丙烯酸酯，丙二醇二丙烯酸酯，二乙烯苯，1，4-環(huán)己烷二丙烯酸酯，1，4-環(huán)己基二甲基二丙烯酸酯，前述的三羥曱基丙烷三丙烯酸酯，新戊四醇四丙烯酸酯等。作為本發(fā)明中可以使用的紫外線固化樹(shù)脂的市售品，有AdecaoptomerKR,BY系列KR-400,KR-410，KR-550，KR-566,KR-567,BY-320B(以上，旭電化公司制)；KoeiHardA-101-KK，A-101-WS，C-302,C-401-N，C-501，M-lOl，M-102，T-102，D-102，NS-lOl，F(xiàn)T-102Q8，MAG-1-P20，AG-106，M-101-C(以上，廣榮化學(xué)公司制)；SegaBeamPHC2210(S)，PHCX-9(K-3)PHC2213，DP-10,DP-20,DP-30，PIOOO，PllOO，P1200,P1300,P1400,P1500,P1600,SCR900(以上，大日精化工業(yè)公司制)；KRM7033，KRM7039，KRM7130，KRM7131，UVECRYL29201，UVECRYL29202(以上，Daicel.UCB公司制)；RC-5015，RC-5016,RC-5020，RC-5031，RC-5100，RC-5102，RC-5120,RC-5122，RC-5152,RC-5171,RC-5180，RC-5181(以上，大日本油墨化學(xué)工業(yè)7〉司制)；OlexNo.340Clear(中國(guó)涂料公司制)；SanradH-601,RC-750,RC-700,RC-600，RC-500，RC-611,RC-612(以上，三洋化成工業(yè)公司制)；SP-1509,SP-1507(昭和高分子公司制)；RCC-15C(Grace.Japan7>司制)，AronixM-6100,M-8030,M-8060(以上，東亞合成公司制)等可適當(dāng)選擇使用。還有，作為具體的化合物例，可例舉三羥甲基丙烷三丙烯酸酯，二-三羥曱基丙烷四丙烯酸酯，新戊四醇三丙烯酸酯，新戊四醇四丙烯酸酯，二新戊四醇六丙烯酸酯，烷基改性二新戊四醇五丙烯酸酯等。這些活性線固化樹(shù)脂層，可以凹版印刷(gravure)涂布器，浸漬涂布器，逆輥涂布器，金屬線棒涂布器，模涂布器，噴墨法等公知的方法涂布。將紫外線固化性樹(shù)脂通過(guò)光固化反應(yīng)進(jìn)行固化，形成固化皮膜層用的光源方面，若為可發(fā)生紫外線的光源則可無(wú)限制地使用?？蒦f吏用例如低壓水銀燈，中壓水銀燈，高壓水銀燈，超高壓水銀燈，碳弧燈，金屬卣素?zé)簦瑲鉄舻?。這些光源以空冷或者水冷方式可優(yōu)選使用。照射條件因各燈而異，但活性線的照射量?jī)?yōu)選為5~150mJ/cm2，特優(yōu)選為20~100mJ/cm2。還有，在照射部通過(guò)氮清洗使氧濃度降低至0.01%~2%為佳。還有，在照射活性線之際，以在薄膜的運(yùn)送方向賦予張力同時(shí)進(jìn)行為佳，更優(yōu)選在寬方向賦予張力同時(shí)進(jìn)行。賦予的張力以30~300N/m為佳。賦予張力的方法并無(wú)特別限定，在背滾筒上于運(yùn)送方向賦予張力也可，在拉幅機(jī)于寬方向，或者2軸方向賦予張力也可。藉此進(jìn)而可獲得平面性優(yōu)異的薄膜。作為紫外線固化樹(shù)脂層組合物涂布液的有機(jī)溶劑，可自例如烴類(例如，甲苯，二甲苯等)，醇類(例如，曱醇，乙醇，異丙醇，丁醇，環(huán)己醇等)，酮類(例如，丙酮，甲基乙基酮，曱基異丁基酮等)，酯類(例如，乙酸甲酯，乙酸乙酯，乳酸甲酯等)，二醇醚類，其它有機(jī)溶劑之中適當(dāng)選擇，或使這些混合來(lái)利用。以丙二醇單烷基醚(烷基的碳原子數(shù)為1~4)或丙二醇單烷基醚乙酸酯(烷基的碳原子數(shù)為1~4)等為5質(zhì)量％以上，更優(yōu)選為含有5~80質(zhì)量％以上的上述有機(jī)溶劑。還有，在紫外線固化樹(shù)脂層組合物涂布液，尤以添加硅化合物為佳。例如以添加聚醚改性硅油等為佳。聚醚改性硅油的數(shù)均分子量，例如為1000~100000，優(yōu)選為2000~50000，數(shù)均分子量不足1000時(shí)，涂膜的干燥性降低，反的，數(shù)均分子量超過(guò)10000Q時(shí)，在涂膜表面則傾向于難以流跡(bleedout)。作為硅化合物的市售品，可例舉DKQ8-779(DowCorning公司制，商品名)，SF3771,SF8410,SF8411,SF8419,SF8421,SF8428,SH200,SH510,SH1107,SH3749,SH3771,BX16-034,SH3746,SH3749,SH8400,SH3771M，SH3772M，SH3773M,SH3775M，BY-16-837，BY-16-839,BY-16-869，BY-16-870，BY-16-004,BY-16-891,BY-16-872，BY-16-874,BY22-008M，BY22-012M，F(xiàn)S-1265(以上，Toray.DowCorningSi1icone乂>司制，商品名)，KF-101,KF—IOOT，KF351,KF352,KF353,KF354,KF355,KF615,KF618,KF945,KF6004,SiliconeX-22-945，X22-160AS(以上，信越化學(xué)工業(yè)公司制，商品名)，XF3940,XF3949(以上，東芝Silicone公司制，商品名)，DISPARL0NLS-009(楠本化成公司制)，glanol410(共榮公司油脂化學(xué)工業(yè)公司制)，TSF4440,TSF4441，TSF4445，TSF4446，TSF4452，TSF4460(以上，GE東芝Silicone制)，BYK-306，BYK-330,BYK-307，BYK-341,BYK-344，BYK-361(以上，byk-chemiejapan公司制)，曰本Unicar公司制的L系列(例如，L7001,L-7006,L-7604,L-9000),Y系列，F(xiàn)Z系列(FZ-2203，F(xiàn)Z-2206，F(xiàn)Z-2207)等,可適當(dāng)使用。這些成分可提高對(duì)基材或下層的涂布性。在添加于層合體最表面層的情況，不僅可提高涂膜的憎水，憎油性，防污性，也可發(fā)揮表面耐擦傷性的效果。這些成分相對(duì)于涂布液中的固形成分，以在0.01~3質(zhì)量％的范圍添加為佳。作為紫外線固化性樹(shù)脂組合物涂布液的涂布方法，可使用前述的方法。涂布量以濕膜厚為0.130Mm較適當(dāng)，優(yōu)選為0.5~15|Lim。還有，干膜厚方面為0.l~20|am，優(yōu)選為l10jiim。紫外線固化性樹(shù)脂組合物是在涂布干燥中或后，以照射紫外線為好，在為獲得前述5150iiJ/cm2的活性線照射量的照射時(shí)間方面，以0.1秒~5分鐘左右為佳，從紫外線固化性樹(shù)脂的固化效率或作業(yè)效率的觀點(diǎn)而言，以O(shè).1~10秒更佳。還有，這些活性線照射部的照度以50~15()raW/cm2為佳。在如此所得硬涂覆層，為防止阻塞(blocking)，又為提高耐擦傷性等，或?yàn)檎{(diào)整具有防眩性或光擴(kuò)散性或者折射率，則可添加無(wú)機(jī)化合物或有機(jī)化合物的微粒子。在本發(fā)明所使用的紫外線固化層以添加微粒子為佳，可使用的無(wú)機(jī)微粒子方面，可例舉氧化硅，氧化鈦，氧化鋁，氧化鋯，氧化鎂，碳酸4丐，滑石，粘土，燒結(jié)高嶺土，燒結(jié)硅酸釣，水和硅酸釣，硅酸鋁，硅酸鎂及磷酸鉀。尤其是氧化硅，氧化鈦，氧化鋁，氧化鋯，氧化鎂等可適當(dāng)使用。還有，有機(jī)微粒子方面，可添加聚甲基丙烯酸甲基丙烯酸酯樹(shù)脂粉末，丙烯酸苯乙烯系樹(shù)脂粉末，聚甲基丙烯酸甲酯樹(shù)脂粉末，硅系樹(shù)脂粉末，聚苯乙烯系樹(shù)脂粉末，聚碳酸酯樹(shù)脂粉末，苯并鳥(niǎo)糞胺系樹(shù)脂粉末，三聚氰胺系樹(shù)脂粉末，聚烯烴系樹(shù)脂粉末，聚酯系樹(shù)脂粉末，聚酰胺系樹(shù)脂粉末，聚酰亞胺系樹(shù)脂粉末，或聚氟化乙烯系樹(shù)脂粉末等紫外線固化性樹(shù)脂組合物。特優(yōu)選為，可例舉交聯(lián)聚苯乙烯粒子(例如，綜研化學(xué)公司制SX-130H，SX-200H，SX-350H)，聚甲基丙烯酸曱酯系粒子(例如，綜研化學(xué)制MXI50，MX300)。這些孩(粒子粉末的平均粒徑方面，以0.005~5jam為佳，以0.01~1pm最佳。紫外線固化樹(shù)脂組合物與微粒子粉末的比率相對(duì)于樹(shù)脂組合物100質(zhì)量份，優(yōu)選配合Q.1~30質(zhì)量份。紫外線固化樹(shù)脂層，是以JISB0601所規(guī)定之中心線平均粗糙度(Ra)為1~50nm的潔凈硬涂(clearhardcoat)層，或者Ra為0.1~1um左右的防眩層為佳。尤其是在防眩層的情況，通過(guò)后述防反射層的涂布可形成防眩性防反射薄膜，通過(guò)該薄膜的組合可使液晶顯示裝置的視辨度更加提高。中心線平均粗糙度(Ra)以光干涉式的表面粗糙度測(cè)定器來(lái)測(cè)定為佳，例如可使用WYK0公司制RST/PLUS來(lái)測(cè)定。還有，在本發(fā)明所使用的硬涂覆層以含有防靜電劑為佳，作為防靜電劑，例如使含有選自Sn，Ti，In,Al，Zn,Si，Mg，Ba，Mo,W及V中至少一個(gè)元素作為主成分，且，體積電阻率為107Q.cm以下的導(dǎo)電性材料為佳。作為該防靜電劑，可例舉具有上述元素的金屬氧化物、復(fù)合氧化物等。作為金屬氧化物的例子，例如ZnO,Ti02,Sn02，A1203，ln203，Si02，MgO,BaO，Mo02，、05等，或以這些復(fù)合氧化物為佳，尤其是ZnO,ln203，1402及Sn02更佳。在含有異種原子的例方面，例如相對(duì)于ZnO添加Al，In等,相對(duì)于Ti02添加Nb，Ta等，還有相對(duì)于Sn02添加Sb，Nb,卣元素等則為有效。這些異種原子的添加量以0.0125moiy。的范圍為佳，而以0.115mol。/。的范圍最佳。還有，具有這些導(dǎo)電性的這些金屬氧化物粉體的體積電阻率為1(TQ.cm以下，尤其是105Q.cm以下。(防反射層)本發(fā)明所使用的偏光板保護(hù)薄膜是在上述硬涂覆層上，作為功能性層，進(jìn)而設(shè)置防反射層為佳。尤其是以含有中空微粒子的低折射率層為優(yōu)選。(低折射率層)本發(fā)明所使用的低折射率層，以含有中空微粒子為佳，其它以含有硅醇鹽，硅烷偶合劑，固化劑等更佳?！粗锌瘴⒘Ｗ?gt;在低折射率層，以含有下迷中空微粒子為佳。在此所述的空微粒子是(1)設(shè)置于多孔質(zhì)粒子與該多孔質(zhì)粒子表面的被覆層所成的復(fù)合粒子，或(2)在內(nèi)部具有空洞，且內(nèi)容物以溶劑、氣體或多孔質(zhì)物質(zhì)充填的空洞粒子。另外，在低折射率層用涂布液也可含有(1)復(fù)合粒子或(2)空洞粒子的任一種，又也可含有兩者。另外，空洞粒子是內(nèi)部具有空洞的粒子，空洞以粒子壁圍繞。在空洞內(nèi)，于調(diào)制時(shí)使用的溶劑、氣體或多孔質(zhì)物質(zhì)等內(nèi)容物所充填。這種無(wú)機(jī)微粒子的平均粒徑為5~300nm，優(yōu)選為10~200nm的范圍。所使用無(wú)機(jī)微粒子，可因應(yīng)所形成透明被膜的厚度而適當(dāng)選擇，在所形成的低折射率層等透明被膜的膜厚的2/3~1/10的范圍為所希望。這些無(wú)機(jī)微粒子，因?yàn)榈驼凵渎蕦拥男纬?，以在分散于適當(dāng)介質(zhì)的狀態(tài)下使用為佳。作為分散溶媒，以水，醇(例如曱醇，乙醇，異丙基醇)及酮(例如，甲基乙基酮，甲基異丁基酮)，酮醇(例如二丙酮醇)為佳。復(fù)合粒子被覆層的厚度或空洞粒子粒子壁的厚度，為l~20nm，優(yōu)選為215nm的范圍。在復(fù)合粒子的情況，被覆層的厚度不足lnm的情況，會(huì)有粒子無(wú)法完全被覆的情況，會(huì)有低折射率的效果無(wú)法充分獲得的情況。還有，被覆層的厚度超過(guò)20nm時(shí)，復(fù)合粒子的多孔性(細(xì)孔容積)降低，會(huì)有無(wú)法充分獲得低折射率效果的情況。又在空洞粒子的情況，粒子壁厚度不足lnm的情況，會(huì)有粒子形狀無(wú)法維持的情況，又厚度即使超過(guò)20nm，會(huì)有低折射率效果無(wú)法充分顯現(xiàn)的情況。該復(fù)合粒子的被覆層或空洞粒子的粒子壁，優(yōu)選以二氧化硅為主成分。又在復(fù)合粒子被覆層或空洞粒子粒子壁，也可含有二氧化硅以外的成分，具體而言，可例舉A1203，B203，Ti02，Zr02，SnO"Ce02，P203，Sb203，Mo03，Zn02，W03等。在構(gòu)成復(fù)合粒子的多孔質(zhì)粒子方面，可例舉二氧化硅所構(gòu)成的，二氧化硅與二氧化硅以外的無(wú)機(jī)化合物所構(gòu)成的，CaF2，NaF，NaAlF6，MgF等所構(gòu)成的。其中尤以二氧化硅與二氧化硅以外無(wú)機(jī)化合物的復(fù)合氧化物所構(gòu)成的多孔質(zhì)粒子為優(yōu)選。二氧化硅以外無(wú)機(jī)化合物方面，可例舉AIA，B203，Ti02，Zr02,Sn02，Ce02,P203，Sb203，Mo03，ZnO"W03等的1種或2種以上。在這些多孔質(zhì)粒子，二氧化硅是以Si02表示，使二氧化硅以外的無(wú)機(jī)化合物以氧化物換算(MOx)表示時(shí)摩爾比M0x/Si02為0.0001~1.0，優(yōu)選為0.001~0.3的范圍。多孔質(zhì)粒子的摩爾比M0x/Si02不足0.0001,要獲得有困難，即使可得也無(wú)法顯現(xiàn)導(dǎo)電性。還有，多孔質(zhì)粒子摩爾比M0x/Si02超過(guò)1.0時(shí)，因二氧化硅的比率變少，細(xì)孔容積小，且有無(wú)法獲得折射率低的粒子的情況。這些多孔質(zhì)粒子的細(xì)孔容積為0.1~1.5ml/g，優(yōu)選為0.2~1.5ml/g的范圍。細(xì)孔容積不足0.lml/g時(shí)，無(wú)法充分地獲得折射率降低的粒子，超過(guò)1.5ml/g時(shí)，微粒子的強(qiáng)度降低，會(huì)有所得被膜的強(qiáng)度降低的情況。另外，這些多孔質(zhì)粒子的細(xì)孔容積可以水銀壓入法來(lái)求得。還有，作為空洞粒子的內(nèi)容物，可例舉在粒子調(diào)制時(shí)使用的溶劑、氣體、多孔質(zhì)物質(zhì)等。也可含有在溶劑中于空洞粒子調(diào)制之際所使用的粒子前體的未反應(yīng)物，使用的催化劑等。還有，作為多孔質(zhì)物質(zhì)，可例舉該多孔質(zhì)粒子所例示的化合物所構(gòu)成的。這些內(nèi)容物，可為單一成分所構(gòu)成，也可為復(fù)數(shù)成分的混合物。作為這些無(wú)機(jī)微粒子的制造方法，例如日本特開(kāi)平7-133105號(hào)公報(bào)的段落~所揭示的復(fù)合氧化物膠體粒子的調(diào)制方法可適當(dāng)?shù)夭捎?。具體而言，復(fù)合粒子是由二氧化硅、二氧化硅以外的無(wú)機(jī)化合物所成情況，自以下第1~第3步驟可制造無(wú)機(jī)化合物粒子。第l步驟多孔質(zhì)粒子前體的調(diào)制在第1步驟可預(yù)先將二氧化硅原料與二氧化硅以外的無(wú)機(jī)化合物原料的堿水溶液分別調(diào)制，或?qū)⒍趸柙吓c二氧化硅以外無(wú)機(jī)化合物原料的混合水溶液進(jìn)行調(diào)制，該水溶液是根據(jù)作為目的復(fù)合氧化物的復(fù)合比率，在pH10以上的堿水溶液中攪拌同時(shí)緩緩添加來(lái)調(diào)制多孔質(zhì)粒子前體。在二氧化硅原料方面，是使用堿金屬，銨或有機(jī)堿的硅酸鹽。堿金屬的硅酸鹽方面，可使用硅酸鈉(水玻璃)或硅酸鉀。有機(jī)堿方面，可例舉四乙基銨鹽等的季銨鹽，單乙醇胺，二乙醇胺，三乙醇胺等的胺類。另外，銨的硅酸鹽或有機(jī)堿的硅酸鹽，也可包括在硅酸液添加氨，季銨氫氧化物，胺化合物等的堿性溶液。還有，二氧化硅以外無(wú)機(jī)化合物的原料可使用堿可溶的上述導(dǎo)電性化合物。與這些水溶液添加的同時(shí)混合水溶液的pH值雖有變化，但將此pH值控制于設(shè)定的范圍的操作尤為必要。水溶液最終是由無(wú)機(jī)氧化物的種類及其混合比率而定的pH值。此時(shí)水溶液的添加速度并無(wú)特別限制。還有，在復(fù)合氧化物粒子的制造時(shí)，將種粒子的分散液作為出發(fā)原料使用也可以。在該種粒子方面，并無(wú)特別限制，可使用Si02，A1203，Ti02或Zr02等無(wú)機(jī)氧化物或這些復(fù)合氧化物的微粒子，通常，可使用這些的溶膠。還有將由該制造方法所得的多孔質(zhì)粒子前體分散液作為種粒子分散液也可。在使用種粒子分散液的情況，在將種粒子分散液的pH調(diào)整為IO以上后，在該種粒子分散液中將該化合物的水溶液，在上述堿水溶液中一邊攪拌一邊添加。在此情況，并非有必要進(jìn)行分散液的pH控制。如此，使用種粒子時(shí)，調(diào)制的多孔質(zhì)粒子的粒徑控制容易，也可獲得粒度一致。上述二氧化硅原料及無(wú)機(jī)化合物原料在堿側(cè)具有高溶解度。但是，在此，溶解度大的pH區(qū)域使兩者混合時(shí)，硅酸離子及鋁酸離子等的含氧酸離子的溶解度降低，這些復(fù)合物析出而致微粒子成長(zhǎng)，或在種粒子上析出而致粒子成長(zhǎng)。因此，在微粒子析出、成長(zhǎng)之際，公知方法的pH控制并非有進(jìn)行的必要。在第1步驟中二氧化硅與二氧化硅以外無(wú)機(jī)化合物的復(fù)合比率，相對(duì)于二氧化硅的無(wú)機(jī)化合物換算成氧化物(M0x),M0x/Si02的摩爾比為0.05~2.0，優(yōu)選為0.2~2.0的范圍內(nèi)。在此范圍內(nèi)，二氧化硅的比率越少，多孔質(zhì)粒子的細(xì)孔容積越大。但是，摩爾比即使超過(guò)2.0，多孔質(zhì)粒子細(xì)孔的容積則幾乎不增加。另一方面，摩爾比不足0.05的情況，細(xì)孔容積變小。在調(diào)制空洞粒子的情況，M0x/Si02的摩爾比，以在O.25-2.0的范圍內(nèi)為宜。第2步驟自多孔質(zhì)粒子的二氧化硅以外無(wú)機(jī)化合物的除去在第2步驟，是自該第1步驟所得的多孔質(zhì)粒子前體，將二氧化硅以外無(wú)機(jī)化合物(硅與氧以外的元素)的至少一部分進(jìn)行選擇地除去。作為具體的除去方法，有使多孔質(zhì)粒子前體中的無(wú)機(jī)化合物使用礦酸或有機(jī)酸進(jìn)行溶解除去，或與陽(yáng)離子交換樹(shù)脂接觸進(jìn)行離子交換除去。另外，第1步驟所得的多孔質(zhì)粒子前體，是硅與無(wú)機(jī)化合物構(gòu)成元素通過(guò)氧而結(jié)合的網(wǎng)眼構(gòu)造的粒子。如此自多孔質(zhì)粒子前體使無(wú)機(jī)化合物(硅與氧以外的元素)除去，而更進(jìn)一步可獲得多孔質(zhì)且細(xì)孔容積大的多孔質(zhì)粒子。還有，自多孔質(zhì)粒子前體將無(wú)機(jī)氧化物(硅與氧以外的元素)除去的量越多，則可調(diào)制空洞粒子。還有，在自多孔質(zhì)粒子前體除去二氧化硅以外無(wú)機(jī)化合物前，在第1步驟所得多孔質(zhì)粒子前體分散液，使二氧化硅的堿金屬鹽脫堿所得硅酸液或水解性的有機(jī)硅化合物進(jìn)行添加來(lái)形成二氧化硅保護(hù)膜為佳。二氧化硅保護(hù)膜的厚度為0.5-15nm的厚度即可。另外即使形成二氧化硅保護(hù)膜，因可使本步驟的保護(hù)膜為多孔質(zhì)而且厚度為薄，故將前述二氧化硅以外的無(wú)機(jī)化合物自多孔質(zhì)粒子前體除去成為可能。通過(guò)這樣的二氧化硅保護(hù)膜的形成，可原樣保持粒子形狀，使前述二氧化硅以外的無(wú)機(jī)化合物自多孔質(zhì)粒子前體除去。還有，在形成后述二氧化硅被覆層時(shí)，多孔質(zhì)粒子的細(xì)孔并不會(huì)被被覆層所閉塞住，因此細(xì)孔容積并不會(huì)降低而可形成后述二氧化硅被覆層。另外，在除去的無(wú)機(jī)化合物的量少的情況，因粒子不被破壞，故未必一定要形成保護(hù)膜。還有，在調(diào)制空洞粒子的情況，以形成該二氧化硅保護(hù)膜為所希望。在調(diào)制空洞粒子時(shí)，若將無(wú)機(jī)化合物除去，則可獲得二氧化硅保護(hù)膜，與該二氧化硅保護(hù)膜內(nèi)的溶劑、未溶解的多孔質(zhì)固形成分所成空洞粒子前體，在該空洞粒子前體形成后述被覆層時(shí)，所形成的被覆層，成為粒子壁而可形成空洞粒子。為上述二氧化硅保護(hù)膜形成用而添加的二氧化硅源的量，在可保持粒子形狀的范圍以少者為佳。二氧化硅源的量過(guò)多時(shí)，因二氧化硅保護(hù)膜變的過(guò)厚，故自多孔質(zhì)粒子前體除去二氧化硅以外的無(wú)機(jī)化合物會(huì)有困難。作為使用于二氧化硅保護(hù)膜形成用的水解性的有機(jī)硅化合物，可使用通式RnSi(0R，)"〔R,R，烷基，芳基，乙烯基，丙烯酸基等的烴基，n-O，1，2或3〕所示的烷氧基硅烷。尤其是四甲氧基硅烷，四乙氧基硅烷，四異丙氧基硅烷等的四烷氧基硅烷可適當(dāng)使用。作為添加方法，將在這些烷氧基硅烷，純水，及醇的混合溶液添加有作為催化劑的少量堿或酸的溶液添加于該多孔質(zhì)粒子的分散液，使烷氧基硅烷水解而生成的硅酸聚合物在無(wú)機(jī)氧化物粒子的表面沉淀。此時(shí)，將烷氧基硅烷，醇，催化劑同時(shí)添加于分散液中也可以。作為堿催化劑，可使用氨，堿金屬的氫氧化物，胺類。作為酸催化劑，可使用各種無(wú)機(jī)酸與有機(jī)酸。多孔質(zhì)粒子前體的分散溶媒，在單獨(dú)為水，或相對(duì)于有機(jī)溶劑的水的比率高的情況，使用硅酸液來(lái)形成二氧化硅保護(hù)膜也是可能的。在使用硅酸液的情況，在分散液中添加設(shè)定量的硅酸液，同時(shí)添加堿使硅酸液沉淀于多孔質(zhì)粒子表面。另外，并用硅酸液與上述烷氧基硅烷來(lái)制作二氧化硅保護(hù)膜也可。笫3步驟二氧化硅被覆層的形成在第3步驟，是在笫2步驟調(diào)制的多孔質(zhì)粒子分散液(空洞粒子的情況為空洞粒子前體分散液)添加水解性的有機(jī)硅化合物或硅酸液等，以使粒子的表面以水解性有機(jī)硅化合物或硅酸液等聚合物被覆來(lái)形成二氧化珪纟皮覆層。作為使用于二氧化硅被覆層形成用的水解性的有機(jī)硅化合物，可使用前述通式RnSi(0R，)4—n〔R，R，烷基，芳基，乙烯基，丙烯酸基等的烴基，n=0，1，2或3〕所示的烷氧基硅烷。尤其是四甲氧基硅烷，四乙氧基硅烷，四異丙氧基硅烷等的四烷氧基硅烷可適當(dāng)使用。作為添加方法，是將在這些烷氧基硅烷，純水，及醇的混合溶液添加有作為催化劑的少量堿或酸的溶液，添加于該多孔質(zhì)粒子(空洞粒子的情況為空洞粒子前體)分散液，使烷氧基硅烷水解而生成的硅酸聚合物在多孔質(zhì)粒子(空洞粒子的情況為空洞粒子前體)的表面沉淀。此時(shí)，將烷氧基硅烷，醇，催化劑同時(shí)添加于分散液中也可。作為堿催化劑，可使用氨，堿金屬的氨氧化物，胺類。還有，作為酸催化劑，可使用各種無(wú)機(jī)酸與有機(jī)酸。多孔質(zhì)粒子(空洞粒子的情況為空洞粒子前體)的分散媒在單獨(dú)為水，或與有機(jī)溶劑的混合溶劑中，在相對(duì)于有機(jī)溶劑的水的比率高的混合溶劑的情況，使用硅酸液以形成被覆層也可。硅酸液是指，將水玻璃等堿金屬硅酸鹽的水溶液進(jìn)行離子交換處理進(jìn)行脫堿的硅酸的低聚合物的水溶液。硅酸液，是添加于多孔質(zhì)粒子(空洞粒子的情況為空洞粒子前體)分散液中，同時(shí)添加堿使硅酸低聚合物在多孔質(zhì)粒子(空洞粒子的情況為空洞粒子前體)表面沉淀。另外，使硅酸液與上述烷氧基硅烷并用使用于被覆層形成用也可。使用于被覆層形成用的有機(jī)硅化合物或硅酸液的添加量，若為可將膠體粒子表面充分被覆的程度就可以，最終使所得二氧化硅被覆層的厚度成為1~20nm的量那樣地在多孔質(zhì)粒子(空洞粒子的情況為空洞粒子前體)分散液中添加。還有，在形成該二氧化硅保護(hù)膜的情況，使二氧化硅保護(hù)膜與二氧化硅被覆層的合計(jì)厚度成為1~20nm的范圍的量那樣地添加有機(jī)硅化合物或硅酸液。接著，將被覆層所形成的粒子的分散液進(jìn)行加熱處理。通過(guò)加熱處理，在多孔質(zhì)粒子的情況，使多孔質(zhì)粒子表面被覆的二氧化硅被覆層致密化，可獲得多孔質(zhì)粒子以二氧化硅被覆層所被覆的復(fù)合粒子的分散液。還有，在空洞粒子前體的情況，所形成的被覆層進(jìn)行致密化成為空洞粒子壁，可獲得內(nèi)部為溶劑、氣體或多孔質(zhì)固形成分所充填的具有空洞的空洞粒子的分散液。此時(shí)的加熱處理溫度，若為可使二氧化硅被覆層的微細(xì)孔閉塞的程度則并無(wú)特別限制，以80~300"C的范圍為佳。加熱處理溫度不足80r時(shí)，二氧化硅被覆層的微細(xì)孔完全閉塞而無(wú)法致密化，且處理時(shí)間需要長(zhǎng)時(shí)間。還有，加熱處理溫度超過(guò)300'C進(jìn)行長(zhǎng)時(shí)間處理時(shí)會(huì)成為致密粒子，而無(wú)法獲得低折射率的效果。如此所得無(wú)機(jī)微粒子的折射率，低至不足1.44。推測(cè)是這樣的無(wú)機(jī)微粒子雖可保持多孔質(zhì)粒子內(nèi)部的多孔性，但因內(nèi)部空洞，折射率變低。本發(fā)明所使用的低折射率層除了中空微粒子以外，其它以含有烷氧基硅化合物的水解物、及接著通過(guò)縮合反應(yīng)所形成的縮合物為佳。尤其是，以下述通式(1)及/或(2)所示的經(jīng)調(diào)整烷氧基硅化合物或其水解物的含有Si02溶膠為佳。通式(1)R廣Si(OR2)3通式(2)Si(OR2)4上述通式(1)，(2)中，l為曱基，乙基，乙烯基，或丙烯?；?，甲基丙烯酰基，氨基或者含環(huán)氧基的有機(jī)基，R2表示甲基或乙基。硅醇鹽、硅烷偶合劑的水解是將硅醇鹽、硅烷偶合劑溶解于適當(dāng)?shù)娜軇┲羞M(jìn)行溶解。使用的溶劑方面，可例舉例如甲基乙基酮等的酮類，甲醇、乙醇、異丙醇、丁醇等的醇類，乙酸乙酯等的酯類，或這些的混合物。在將上述硅醇鹽或硅烷偶合劑溶解于溶劑的溶液，添加比水解的必要量更多若干量的水，在15~35'C,優(yōu)選20。C~30'C的溫度進(jìn)行1~48小時(shí)，優(yōu)選3~36小時(shí)攪拌。上述水解中，以使用催化劑為佳，作為這樣的催化劑，鹽酸、硝酸、硫酸或乙酸等的酸可適當(dāng)使用。這些酸是以0.001~20.0摩爾/L，優(yōu)選0.0055.0摩爾/L左右的水溶液來(lái)使用。該催化劑水溶液中水分可作為水解用的水分。將烷氧基硅化合物以設(shè)定之時(shí)間進(jìn)行水解反應(yīng)，將所調(diào)制的烷氧基硅水解液以溶劑稀釋，與必要的其它添加劑等混合，來(lái)調(diào)制低折射率層用涂布液，通過(guò)將其在基材例如薄膜上涂布、干燥，使低折射率層形成于基材上。<烷氧基硅化合物〉作為本發(fā)明中低折射率層涂布液的調(diào)制所使用的烷氧基硅化合物(以后也稱為烷氧基硅烷)，以下述通式(3)所示的為佳。通式(3)R廣nSi(0R，)n上述通式(3)中，R，為烷基，R表示氫原子或1價(jià)取代基，n表示3或4。作為R，所示的烷基，可例舉例如甲基，乙基，丙基，丁基等的基團(tuán)，也可具有取代基，作為取代基，若為可顯示烷氧基硅烷的性質(zhì)者并無(wú)特別限制，可以例如氟等的卣原子、烷氧基等所取代，更優(yōu)選為無(wú)取代的烷基，尤其是甲基，乙基優(yōu)選。作為R所示的l價(jià)取代基并無(wú)特別限定，可例舉例如烷基，環(huán)烷基，鏈烯基，芳基，芳香族雜環(huán)基，單硅烷基等。其中優(yōu)選為烷基，環(huán)烷基，鏈烯基。還有，這些可進(jìn)而被取代也可。作為R的取代基，可例舉氟原子、氯原子等卣原子，氨基，環(huán)氧基，氫硫基，羥基，乙酰氧基等。作為該通式(3)所示的烷氧基硅烷的優(yōu)選例，具體而言，可例舉四甲氧基硅烷，四乙氧基硅烷(TEOS)，四正丙氧基硅烷，四異丙氧基硅烷，四正丁氧基硅烷，四-叔丁氧基硅烷，四個(gè)(甲氧基乙氧基)硅烷，四個(gè)(曱氧基丙氧基)硅烷，甲基三曱氧基硅烷，曱基三乙氧基硅烷，乙基三甲氧基硅烷，乙基三乙氧基硅烷，正丙基三甲氧基硅烷，正丙基三乙氧基硅烷，正丁基三曱氧基硅烷，異丁基三甲氧基硅烷，正己基三甲氧基硅烷，3-環(huán)氧丙基丙基三甲氧基硅烷，3-氨基丙基三乙氧基硅烷，2-(3,4-環(huán)氧基環(huán)己基)乙基三甲氧基硅烷，3-氯丙基三曱氧基硅烷，3-氫硫基丙基三甲氧基硅烷，乙酰氧基三乙氧基硅烷，(十七氟-l，l，2,2-四氫癸基)三甲氧基硅烷，(3，3，3-三氟丙基)三甲氧基硅烷，(3，3，3-三氟丙基)三曱氧基硅烷，五氟苯基丙基三甲氧基硅烷，進(jìn)而可例舉乙烯基三甲氧基硅烷，乙烯基三乙氧基硅烷，苯基三甲氧基硅烷，乙烯基三曱氧基硅烷，乙烯基三乙氧基硅烷等。還有，這些的化合物可為部分縮合的多摩化學(xué)制硅酸鹽40，硅酸鹽45，硅酸鹽48,M硅酸鹽51那樣的多倍體的硅化合物。該烷氧基硅烷，因具有可水解縮聚硅醇鹽基，故通過(guò)這些烷氧基硅烷的水解、縮合，進(jìn)行交聯(lián)，可形成高分子化合物的網(wǎng)絡(luò)構(gòu)造，使其作為低折射率層涂布液使用，通過(guò)在基材上涂布、干燥，可在基材上形成含有均勻氧化硅的層。水解反應(yīng)，可以公知的方法進(jìn)行，以使疏水的烷氧基硅烷與水易于混合的方式，在使設(shè)定量的水與如甲醇、乙醇、乙腈那樣的親水性有機(jī)溶劑共存，進(jìn)行溶解.混合后，添加水解催化劑，使烷氧基硅烷水解、縮合。通常，通過(guò)在IO'C100'C進(jìn)行水解、縮合反應(yīng)，可生成具有2個(gè)以上羥基的液狀硅酸鹽寡聚物而可形成水解液。水解的程度，可以使用的水量而適當(dāng)調(diào)節(jié)。本發(fā)明中，在烷氧基硅烷與水一起添加的溶劑方面，因甲醇、乙醇為廉價(jià)，所得被膜的特性優(yōu)異，硬度良好，故優(yōu)選。也可使用異丙醇，正丁醇，異丁醇，辛醇等，而存在所得被膜的硬度變低的傾向。溶劑量在相對(duì)于水解前四烷氧基硅烷IOO質(zhì)量份為50~400質(zhì)量份，優(yōu)選為100~250質(zhì)量份。如此調(diào)制水解液，使其以溶劑稀釋，可根據(jù)需要添加添加劑，與形成低折射率層涂布液所必要成分混合，制成低折射率層涂布液。<水解催化劑>作為水解催化劑，可例舉酸，堿，有機(jī)金屬，金屬醇鹽等，但本發(fā)明中以硫酸，鹽酸，硝酸，次氯酸，硼酸等的無(wú)機(jī)酸或有機(jī)酸為佳，尤其是硝酸，乙酸等的羧酸，聚丙烯酸，苯磺酸，對(duì)甲苯磺酸，甲基磺酸等為佳，這些之中，尤以硝酸，乙酸，檸檬酸或酒石酸等可優(yōu)選使用。除了上述檸檬酸或酒石酸以外，以乙酰丙酸，曱酸，丙酸，蘋(píng)果酸，琥珀酸，曱基琥珀酸，反丁烯二酸，草酸根乙酸，丙酮酸，2-氧代戊二酸，乙醇酸，D-甘油酸，D-葡糖酸，丙二酸，順丁烯二酸，草酸，異檸檬酸，乳酸等也可適當(dāng)使用。在其中，以在干燥時(shí)酸為揮發(fā)，在膜中不殘留者為佳，沸點(diǎn)低者也可。因此，以乙酸，硝酸最佳。添加量上，相對(duì)于使用的烷氧基硅化合物(例如，四烷氧基硅烷)IOO質(zhì)量份為0.001~10質(zhì)量份，優(yōu)選為0.005~5質(zhì)量份。還有，就水的添加量而言，部分水解物在理論上若為100%水解所得量以上即可，優(yōu)選添加100~300%相當(dāng)量，較優(yōu)選為100~200%相當(dāng)量。將上述烷氧基硅烷水解之際，以混合下述無(wú)機(jī)微粒子為佳。開(kāi)始水解之后在設(shè)定之時(shí)間放置水解液，在水解的進(jìn)行達(dá)到設(shè)定的程度后使用。放置時(shí)間是上述水解且縮合所致交聯(lián)為獲得所希望膜特性而進(jìn)行充分程度之時(shí)間。具體而言，雖依使用的酸催化劑種類而異，但在例如乙酸于室溫經(jīng)15小時(shí)以上，在硝酸經(jīng)2小時(shí)以上為佳。老化溫度會(huì)影響到老化時(shí)間，一般在高溫老化進(jìn)行加快，而加熱至100X:以上時(shí)因會(huì)引起凝膠化，故在20~60'C的加熱，保溫為宜。如此通過(guò)以水解、縮合所形成的硅酸鹽寡聚物溶液中添加上述中空微粒子、添加劑，進(jìn)行必要的稀釋，來(lái)調(diào)制低折射率層涂布液，通過(guò)使其在前述的薄膜上涂布、干燥，可形成含有優(yōu)異氧化硅膜的層作為低折射率層。還有，在本發(fā)明中，除了上述烷氧基硅烷以外，例如通過(guò)具有環(huán)氧基，氨基，異氰酸酯基，羧基等官能基的硅烷化合物(單體，寡聚物，聚合物)等經(jīng)改性的改性物也可，單獨(dú)使用或并用也可。<氟化合物〉本發(fā)明所使用的低折射率層，以可含有中空微粒子與氟化合物為佳，作為粘合劑基質(zhì)，以含有通過(guò)熱或電離輻射線而交聯(lián)的含氟樹(shù)脂(以下，稱為「交聯(lián)前的含氟樹(shù)脂J)為佳。通過(guò)含有該含氟樹(shù)脂，可提供良好防污性、防反射薄膜。作為交聯(lián)前的含氟樹(shù)脂，可適當(dāng)例舉含氟乙烯單體與賦予交聯(lián)性基用的單體所形成的含氟共聚合物。上述含氟乙烯單體單位的具體例方面，可例舉例如氟烯烴類(例如氟乙烯，偏氟乙晞，四氟乙烯，六氟乙烯，六氟丙烯，全氟-2，2-二甲基-1，3-二喁茂等)，(甲基)丙烯酸的部分或完全氟化烷基酯衍生物類(可例舉例如bisuko-to6FM(大阪有機(jī)化學(xué)制)或M-2020(大金制)等)，完全或部分氟化乙烯醚類等。賦予交聯(lián)性基用的單體方面，有環(huán)氧丙基甲基丙烯酸酯，或乙烯基三曱氧基硅烷，Y-甲基丙烯?；醣籽趸柰?，乙烯環(huán)氧丙基醚等的分子內(nèi)預(yù)先具有交聯(lián)性官能基的乙烯單體，除此以外，具有羧基或羥基，氨基，磺酸基等的乙烯單體(例如(甲基)丙烯酸，羥甲基(曱基)丙烯酸酯，羥基烷基(甲基)丙烯酸酯，烯丙基丙烯酸酯，羥基烷基乙烯醚，羥基烷基烯丙基醚等)。后者在共聚后，通過(guò)添加與聚合物中官能基反應(yīng)的基和具有另一個(gè)以上反應(yīng)性基的化合物而可導(dǎo)入交聯(lián)構(gòu)造，是記載于日本特開(kāi)平10-25388號(hào)，特開(kāi)平10-147739號(hào)。作為交聯(lián)性基的例，可例舉丙烯酰基，曱基丙烯?；惽杷狨?，環(huán)氧基，氮雜環(huán)丙烷，喁唑啉，醛，羰基，肼，羧基，羥曱基及活性亞甲基等。含氟共聚物是，通過(guò)加熱而反應(yīng)的交聯(lián)基，或者通過(guò)乙烯性不飽和基與熱自由基引發(fā)劑、或者環(huán)氧基與熱酸引發(fā)劑等的組合，在以加熱交聯(lián)的情況，為熱固化型，通過(guò)乙烯性不飽和基與光自由基引發(fā)劑或者，環(huán)氧基與光酸引發(fā)劑等的組合，通過(guò)光(較佳為紫外線，電子束等)的照射而交聯(lián)的情況，為電離輻射線固化型。上述單體之外，可使含氟乙烯單體及賦予交聯(lián)性基用的單體以外的單體并用所形成含氟共聚物作為交聯(lián)前含氟樹(shù)脂使用。對(duì)可并用的單體并無(wú)特別限定，可例舉例如烯烴類(例如，乙烯，丙烯，異戊二烯，氯乙烯，偏氯乙烯等)，丙烯酸酯類(例如丙烯酸甲酯，丙烯酸曱酯，丙烯酸乙酯，丙烯酸2-乙基己酯)，甲基丙烯酸酯類(例如，曱基丙烯酸甲酯，甲基丙烯酸乙酯，甲基丙烯酸丁酯，乙二醇二甲基丙烯酸酯等)，苯乙烯衍生物(例如苯乙烯，二乙烯苯，乙烯曱苯，a-曱基苯乙烯等)，乙烯醚類(例如，甲基乙烯醚等)，乙烯酯類(例如乙酸乙烯酯，丙酸乙烯酯，桂皮酸乙烯酯等)，丙烯酸酰胺類(例如，N-叔丁基丙烯酸酰胺，N-環(huán)己基丙烯酸酰胺等)，甲基丙烯酰胺類，丙烯腈衍生物等。還有，在含氟共聚物中，為賦予潤(rùn)滑性、防污性，以導(dǎo)入聚有機(jī)硅氧烷骨架，或全氟聚醚骨架為佳。這是，例如在末端具有丙烯酸基，甲基丙烯酸基，乙烯醚基，苯乙烯基等的聚有機(jī)硅氧烷或全氟聚醚與上述單體的聚合，在末端具有自由基發(fā)生基的聚有機(jī)硅氧烷或通過(guò)全氟聚醚所致的上述單體的聚合，具有官能基的聚有機(jī)硅氧烷或全氟聚醚，與含氟共聚合物的反應(yīng)等而可獲得。為形成交聯(lián)前含氟共聚合物所使用的上述各單體的使用比率，在含氟乙烯單體優(yōu)選為20~70摩爾％，更優(yōu)選為40~70摩爾％，賦予交聯(lián)性基用的單體優(yōu)選為1~20摩爾％，更優(yōu)選為5~20摩爾％，可并用的其它單體優(yōu)選為10~70摩爾％，更優(yōu)選為10~50摩爾％的比率。含氟共聚物，是使這些單體在自由基聚合引發(fā)劑的存在下，可通過(guò)溶液聚合，塊狀聚合，乳化聚合，懸濁聚合法等手段的聚合而獲得。交聯(lián)前的含氟樹(shù)脂可使用市售品。市售的交聯(lián)前含氟樹(shù)脂的例方面，可例舉Cytop(旭硝子制)，鐵氟龍(注冊(cè)商標(biāo))AF(Dupont制)，聚偏氟乙烯，lumiflon(旭硝子制)，0pstar(JSR制)等。使經(jīng)交聯(lián)的含氟樹(shù)脂作為構(gòu)成成分的低折射率層，動(dòng)摩擦系數(shù)在0.03~0.15的范圍，對(duì)水的接觸角為90~120度的范圍為佳?！刺砑觿翟诘驼凵渎蕦油坎家褐?，進(jìn)而可根據(jù)需要，可含有硅烷偶合劑、固化劑等的添加劑。硅烷偶合劑，是該通式(2)所示的化合物。具體而言，可例舉乙烯三乙氧基硅烷，Y-曱基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷，Y-環(huán)氧丙基丙基三曱氧基硅烷，3-(2-氨基乙基氨基丙基)三曱氧基硅烷等。固化劑方面，可例舉乙酸鈉、乙酸鋰等的有機(jī)酸金屬鹽，尤其優(yōu)選乙酸鈉。相對(duì)于硅烷氧基硅烷水解溶液的添加量，是存在于水解溶液中固形成分100質(zhì)量份以0.1~1質(zhì)量份左右的范圍為佳。還有，在本發(fā)明所使用的低折射率層的涂布液，以添加各種均平劑、表面活性劑、硅油等的低表面張力物質(zhì)為佳。娃油的具體商品方面，以日本Unicar7〉司的L-"，L-9300，F(xiàn)Z—3704,FZ-3703,FZ-3720,FZ-3786,FZ-3501,FZ-3504，F(xiàn)Z-3508，F(xiàn)Z-3705,FZ-3707,FZ-3710,FZ-3750,FZ-3760，F(xiàn)Z-3785,FZ-3785,Y-7499,信越化學(xué)公司的KF96L，KF96,KF96H，KF99，KF54,KF965,KF968,KF56,KF995,KF351,KF352,KF353,KF354,KF355,KF615,KF618,KF945,KF6004,FL100等。這些成分可提高對(duì)基材或下層的涂布性。在添加于層合體最表面層的情況，并非僅使涂膜的憎水、憎油性，防污性提高，也可發(fā)揮表面的耐擦傷性效果。這些成分的添加量過(guò)多時(shí)，在涂布時(shí)因成為小凹洞(cissing)的原因，故相對(duì)于涂布液中固形成分，以在0.01~3質(zhì)量％的范圍添加為佳。〈溶劑〉在涂布低折射率層時(shí)使用于涂布液的溶劑，可例舉甲醇，乙醇，l-丙醇，2-丙醇，丁醇等的醇類；丙酮，甲基乙基酮，環(huán)己酮等的酮類；苯，曱苯，二甲苯等的芳香族烴類；乙二醇，丙二醇，己二醇等的二醇類；乙基溶纖劑，丁基溶纖劑，乙基卡必醇，丁基卡必醇，二乙基溶纖劑，二乙基卡必醇，丙二醇單甲基醚等的二醇醚類；N-甲基吡咯咬酮，二曱基甲酰胺，乳酸曱酯，乳酸乙酯，乙酸曱酯，乙酸乙酯，水等，這些可單獨(dú)或混合2種以上使用。〈涂布方法〉作為低折射率層的涂布方法，可使用浸漬，旋轉(zhuǎn)涂布，刮刀涂布，棒涂布，氣刀涂布，刀涂布，壓榨涂布，逆輥涂布，凹版印刷(gravure)輥涂布，簾涂布，噴淋涂布，模涂布等公知的涂布方法或公知的噴墨法，以可連續(xù)涂布或薄膜涂布的涂布方法優(yōu)選使用。涂布量是以濕膜厚在0.l-30jum為宜，優(yōu)選為0.5~15jjm。涂布速度以10~80m/min為佳。將本發(fā)明的組合物涂布于基材時(shí)，通過(guò)涂布液中固形成分濃度或涂布量的調(diào)整，可控制層的膜厚及涂布均勻性等。在本發(fā)明，進(jìn)而設(shè)置下述中折射率層、高折射率層，以形成具有復(fù)數(shù)層的防反射層為佳?？捎糜诒景l(fā)明的防反射層的構(gòu)成例如下述所示，但并非限定于這些。纖維素酯薄膜/硬涂覆層/低折射率層纖維素酯薄膜/硬涂覆層/中折射率層/低折射率層纖維素酯薄膜/硬涂覆層/高折射率層/低折射率層纖維素酯薄膜/硬涂覆層/中折射率層/高折射率層/低折射率層纖維素酯薄膜/防靜電層/硬涂覆層/中折射率層/高折射率層/低折射率層纖維素酯薄膜/硬涂覆層/防靜電層/中折射率層/高折射率層/低折射率層防靜電層/纖維素酯薄膜/硬涂覆層/中折射率層/高折射率層/低折射率層纖維素酯薄膜/硬涂覆層/高折射率層/低折射率層/高折射率層/低折射率層(中折射率層、高折射率層)中折射率層、高折射率層若可得設(shè)定的折射率層則在構(gòu)成成分并無(wú)特別限制，以由下迷折射率高的金屬氧化物微粒子、粘合劑等所構(gòu)成為佳。其它也可含有添加劑。中折射率層的折射率以1.55~1.75為佳，高折射率層的折射率以1.75~2.20為佳。高折射率層及中折射率層的厚度以5nm~1jam為佳，以10nm~0.2pm更佳，以30nm0.1(am最佳。涂布可與該低折射率層的涂布方法同樣地進(jìn)行?！唇饘傺趸镂⒘Ｗ印到饘傺趸镂⒘Ｗ?，并無(wú)特別限定，例如二氧化鈦，氧化鋁，氧化鋯，氧化鋅，銻摻雜氧化錫(ATO)，五氧化銻，氧化銦-錫(ITO)，氧化鐵等作為主成分使用。還有，這些的混合物也可。在使用二氧化鈦的情況是以二氧化鈦為核，殼則以使用氧化鋁，二氧化硅，氧化鋯，AT0，ITO,五氧化銻等所被覆的核/殼構(gòu)造的金屬氧化物粒子，從可抑制光催化劑活性的觀點(diǎn)為佳。金屬氧化物微粒子的折射率以1.80~2.60為佳，以1.90~2.50更佳。金屬氧化物微粒子的一次粒子的平均粒徑為5nm200nm，以10~150nffl更佳。粒徑過(guò)小時(shí)，金屬氧化物微粒子易于凝集，使得分散性劣化。粒徑過(guò)大時(shí)，霧度上升而不佳。無(wú)機(jī)微粒子的形狀，以米粒狀，針狀，球形狀，立方體狀，紡錘形狀或不定形狀為佳。金屬氧化物微粒子，可通過(guò)有機(jī)化合物進(jìn)行表面處理。在用于表面處理的有機(jī)化合物的例，可含有聚醇，烷醇胺，硬脂酸，硅烷偶合劑及鈦酸酯偶合劑。其中以后述的硅烷偶合劑最佳。將二種以上表面處理進(jìn)行組合也可。通過(guò)金屬氧化物的種類、添加比率的適當(dāng)選擇，可獲得所希望具有折射率的高折射率層、中折射率層。(粘合劑)粘合劑，是為提高涂膜的成膜性或物理特性而添加的。作為粘合劑，例如，可使用前述電離輻射線固化型樹(shù)脂，丙烯酸酰胺衍生物，多官能丙烯酸酯，丙烯酸樹(shù)脂或甲基丙烯酸樹(shù)脂等。(金屬化合物，硅烷偶合劑)作為其它添加劑，可添加金屬化合物、硅烷偶合劑等。金屬化合物、硅烷偶合劑可作為粘合劑使用。作為金屬化合物，可使用下述通式(4)所示的化合物或其螯合物。通式(4)上述通式(4)中，M為金屬原子，A為可水解的官能基或具有可水解官能基的烴基，B表示在金屬原子M有共價(jià)鍵或離子鍵的原子團(tuán)。x表示金屬原子M的原子價(jià)，n為2以上x(chóng)以下的整數(shù)。作為可水解的官能基A，可例舉例如烷氧基，氯原子等的卣素，酯基，酰氨基等。屬于上述通式(4)的金屬化合物，可含有與金屬原子直接結(jié)合的烷氧基2個(gè)以上的醇鹽，或其螯合物。作為優(yōu)選金屬化合物，從折射率或涂膜強(qiáng)度的補(bǔ)強(qiáng)效果，處理容易性，材料成本等觀點(diǎn)而言，可例舉鈦醇鹽，鋯醇鹽，硅醇鹽或這些的螯合化合物。鈦醇鹽的反應(yīng)速度快、折射率高，處理容易，但因具有光催化劑作用，故大量添加時(shí)耐旋光性劣化。鋯醇鹽折射率雖高但易于白法，故涂布時(shí)的露點(diǎn)管理等需進(jìn)行注意。硅醇鹽反應(yīng)速度慢，折射率也低，但處理容易且耐旋光性優(yōu)異。硅烷偶合劑是和無(wú)機(jī)微粒子與有機(jī)聚合物兩者都互相反應(yīng)，故可制作強(qiáng)韌的涂膜。還有，鈦醇鹽因具有可促進(jìn)紫外線固化樹(shù)脂，金屬醇鹽反應(yīng)的效果，故即使少量添加也可提高涂膜之物理特性。鈦醇鹽方面，可例舉例如四甲氧基鈦，四乙氧基鈦，四-異丙氧基鈦，四-正丙氧基鈦，四-正丁氧基鈦，四-仲丁氧基鈦，四7f又丁氧基鈦等。鋯醇鹽方面，可例舉例如四曱氧基鋯，四乙氧基鋯，四異丙氧基鋯，四正丙氧基鋯，四正丁氧基鋯，四-仲丁氧基鋯，四叔丁氧基鋯等。硅醇鹽及硅烷偶合劑可例舉下述通式(5)所示的化合物。通式(5)RraSi(0R，)n上述通式(5)中，R表示烷基(優(yōu)選碳數(shù)1~10的烷基)，或乙烯基，(曱基)丙烯?；?，環(huán)氧基，酰氨基，磺?；?，羥基，羧基，烷氧基等的反應(yīng)性基，R，表示烷基(優(yōu)選碳數(shù)1~10的烷基)，m+n為4。具體而言，可例舉四甲氧基硅烷，四乙氧基硅烷，四異丙氧基硅烷，四-正丙氧基硅烷，四-正丁氧基硅烷，四-仲丁氧基硅烷，四-叔丁氧基硅烷，四-五乙氧基硅烷，甲基三甲氧基硅烷，甲基三乙氧基硅烷，曱基三丙氧基硅烷，甲基三丁氧基硅烷，二曱基二甲氧基硅烷，二甲基二乙氧基硅烷，己基三曱氧基硅烷，乙烯三乙氧基硅烷，Y-甲基丙烯酰氧基丙基三曱氧基硅烷，Y-環(huán)氧丙基丙基三甲氧基硅烷，3-(2-氨基乙基氨基丙基)三曱氧基硅烷等。作為配位于游離金屬化合物而形成螯合物的優(yōu)選螯合劑，可例舉二乙醇胺，三乙醇胺等的烷醇胺類，乙二醇，二乙二醇，丙二醇等的二醇類，乙酰基丙酮，乙酰乙酸乙酯等，其中分子量在l萬(wàn)以下。通過(guò)使用這些螯合劑，即使對(duì)于水分的混入等也為穩(wěn)定，可形成涂膜的增強(qiáng)效果優(yōu)異的螯合物。金屬化合物的添加量，在中折射率組合物中換算成金屬氧化物以不足5質(zhì)量％為佳，在高折射率組合物中換算成金屬氧化物以不足20質(zhì)量％較佳。<偏光板〉接著，就本發(fā)明的偏光板進(jìn)行說(shuō)明。本發(fā)明的偏光板，厚度優(yōu)選為70~140Mm。該偏光板如前所述，以具有與本發(fā)明相關(guān)的相位差薄膜和以至少1片偏光板保護(hù)薄膜所挾持的構(gòu)造為佳。該偏光板的厚度指，將偏光膜、該相位差薄膜及偏光板保護(hù)薄膜合在一起的合計(jì)厚度，并不含粘接層，但在上述偏光板保護(hù)薄膜含有硬涂覆層或功能性層時(shí)也含有這些層。在獲得本發(fā)明的效果上，偏光板的厚度以在上述范圍為佳，更優(yōu)選為80~120|am的范圍。厚度不足70pm時(shí)，偏光板的韌性(toughness)降低，在貼合于液晶盒時(shí)，易有皺、氣泡的含入(inclusionofairbubbles)等故障發(fā)生。厚度超過(guò)140jum時(shí)，因干燥，經(jīng)時(shí)保存的偏光板不均，扭曲發(fā)生，故不優(yōu)選。本發(fā)明的偏光板中，有必要使有兩面折射率差的薄膜作為至少單面的保護(hù)薄膜使用，在貼合該薄膜的方向，以使高折射率的面朝向PVA(偏光膜)側(cè)而來(lái)的方式為佳。還有，使與本發(fā)明相關(guān)的相位差薄膜的膜厚為dl，使與其相向的偏光板保護(hù)薄膜的膜厚為d2時(shí)，該相位差薄膜與該偏光板保護(hù)薄膜的膜厚比(d2/dl)為1.1~2.0，且偏光板的厚度為70140jam的范圍更佳。即，通過(guò)相對(duì)于液晶盒以較遠(yuǎn)側(cè)的偏光板保護(hù)薄膜與液晶盒較近側(cè)的偏光板保護(hù)薄膜(在本發(fā)明為相位差薄膜)比較使膜厚更厚，而可使使用本發(fā)明相位差薄膜的偏光板自身的粘接層朝向外側(cè)而來(lái)的巻曲易于附上，因而可降低貼合于偏光板的液晶盒時(shí)的故障。偏光板可以一般方法制作。將本發(fā)明的相位差薄膜進(jìn)行堿化處理，將處理了的相位差薄膜，在與本發(fā)明相關(guān)的偏光膜的至少一面，使用完全堿化型聚乙烯醇水溶液進(jìn)行貼合為佳。另一面可使用本發(fā)明的相位差薄膜，也可使用其它偏光板保護(hù)薄膜。相對(duì)于本發(fā)明的相位差薄膜，在另一面所使用的偏光板保護(hù)薄膜可使用市售的纖維素酯薄膜。例如市售的纖維素酯薄膜方面，有KC8UX2M，KC4UX，KC5UX，KC4UY，KC8UY，KC12UR，KC8UX-RHA(以上，KonicaMinoltaOpt.公司制)等可適當(dāng)使用。還有，使用兼有具有盤(pán)狀(discotic)液晶、棒狀液晶、膽固醇液晶等液晶化合物進(jìn)行定向而形成的光學(xué)各向異性層的光學(xué)補(bǔ)償薄膜的偏光板保護(hù)薄膜為佳。例如在日本特開(kāi)2003-98348號(hào)記載的方法可形成光學(xué)各向異性層。還有，本發(fā)明所使用的偏光板保護(hù)薄膜在附有防反射層的偏光板保護(hù)薄膜的情況，可獲得具有防反射性優(yōu)異，穩(wěn)定的視角擴(kuò)大效果的偏光板。偏光膜因?yàn)槭窃趩屋S方向(通常在長(zhǎng)邊方向)拉伸，故使偏光板置于高溫高濕的環(huán)境下時(shí)拉伸方向(通常在長(zhǎng)邊方向)縮小，而在與拉伸呈垂直方向(通常為寬方向)則延伸。偏光板保護(hù)用薄膜的膜厚越薄則偏光板的伸縮率變化越大，尤其是偏光膜的拉伸方向的收縮量大。通常，偏光膜的拉伸方向是與偏光板保護(hù)用薄膜的流延方向(MD方向)貼合，故在使偏光板保護(hù)用薄膜薄膜化的情況，尤其是抑制流延方向的伸縮率更為重要。本發(fā)明的相位差薄膜因尺寸穩(wěn)定優(yōu)異，作為這樣的偏光板保護(hù)薄膜可適當(dāng)使用。即，在即使通過(guò)6(TC、90%RH的條件下耐久性試驗(yàn)，波浪狀的不勻也不增加，在耐久性試驗(yàn)后視角特性并不變動(dòng)而可提供良好的視辨性。偏光板是進(jìn)而在該偏光板的一面將保護(hù)薄膜貼合，在反面將分隔薄膜貼合而構(gòu)成。保護(hù)薄膜及分隔薄膜是在偏光板出貨時(shí)，在制品檢査時(shí)等，為保護(hù)偏光板的目的而使用。在此情況，保護(hù)薄膜是以保護(hù)偏光板的表面為目的而貼合，使偏光板在對(duì)液晶板貼合的面的相反側(cè)所使用的。還有，分隔薄膜是對(duì)液晶板貼合的粘接層進(jìn)行覆蓋的目的而使用，使偏光板在對(duì)液晶盒貼合的面?zhèn)人褂?。通過(guò)使用該偏光板，可提供高顯示性能的液晶顯示裝置。尤其是在使用正下方型背光的液晶顯示裝置中，可獲得環(huán)境變動(dòng)少，畫(huà)面周邊部的漏光降低的液晶顯示裝置。〈顯示裝置〉通過(guò)使本發(fā)明的偏光板使用于顯示裝置，而可制造各種視辨性優(yōu)異的本發(fā)明的顯示裝置。本發(fā)明的相位差薄膜可使用于STN，TN,0CB，HAN，VA(MVA，PVA)，IPS等各種驅(qū)動(dòng)方式的液晶顯示裝置。優(yōu)選為VA(MVA，PVA)型液晶顯示裝置。即使是畫(huà)面為30型以上大畫(huà)面的液晶顯示裝置，也可獲得環(huán)境變動(dòng)少，畫(huà)面周邊部的漏光降低的液晶顯示裝置。尤其是在使用本發(fā)明相位差薄膜所制造的液晶顯示裝置中，可降低漏光發(fā)生的頻率。還有，在使用本發(fā)明偏光板的液晶顯示裝置中所使用的背光即使為側(cè)光型或正下方型，或這些的組合，但以正下方型背光在亮度的觀觀點(diǎn)或?qū)Ρ榷鹊挠^點(diǎn)為佳。最佳的正下方型背光，是在具有紅色(R)LED,綠色(G)LED,及藍(lán)色(B)LED的彩色液晶顯示裝置用LED背光中，例如，上述紅色(R)LED的峰值波長(zhǎng)為610nm以上，上述綠色(G)LED的峰值波長(zhǎng)在530土10nm的范圍內(nèi)，上述藍(lán)色(B)LED的峰值波長(zhǎng)為480nm以下可適當(dāng)使用。作為峰值波長(zhǎng)在上述范圍內(nèi)的綠色(G)LED的種類，可例舉例如DG1112H(Stanley電氣公司制),UG1112H(Stanley電氣公司制)，E1L51-3G(豐田合成公司制)，E1L49-3G(豐田合成公司制)，NSPG500S(日亞化學(xué)工業(yè)公司制)等。在作為紅色(R)LED使用的LED的種類方面，可例舉例如FR1112H(Stanley電氣公司制)，F(xiàn)R5366X(Stanley電氣公司制)，NSTM515AS(日亞化學(xué)工業(yè)公司制)，GL3ZR2D1C0S(夏普公司制)，GMlJJ35200AE(夏普公司制)等。在作為藍(lán)色(B)LED使用的LED的種類方面，可例舉DB1112H(Stanley電氣乂^司制)，DB5306X(Stanley電氣公司制),E1L51-3B(豐田合成公司制)，E1L4E-SB1A(豐田合成公司制)，NSPB630S(日亞化學(xué)工業(yè)公司制)，NSPB310A(日亞化學(xué)工業(yè)公司制)等?？蓪⑸鲜?色的LED進(jìn)行組合作為背光?；蚩墒褂冒咨獿ED。除此之外，在正下方型背光(或者正下方方式)方面，可例舉日本特開(kāi)2001-281656號(hào)記載的正下方型背光，或日本特開(kāi)2001-305535號(hào)記載的使用LED等點(diǎn)狀光源的正下方型背光、日本特開(kāi)2002-311412號(hào)記載的正下方方式背光等，但并非僅限定于這些。實(shí)施方式[實(shí)施例]以下例舉實(shí)施例具體說(shuō)明本發(fā)明，但本發(fā)明并非限定于這些。實(shí)施例1《相位差薄膜的制作》(相位差薄膜101的制作)關(guān)于纖維素酯，是使用表1所示取代度及取代基的種類進(jìn)行變化之物。[表l]<table>tableseeoriginaldocumentpage58</column></row><table>〈微粒子分散液〉微粒子(AerosilR972V(日本Aerosi1公司制))11質(zhì)量份(一次粒子的平均徑16nm，表觀比重90g/升)乙醇89質(zhì)量份以上用溶解器經(jīng)50分鐘攪拌混合后，以Manton-Gaulin進(jìn)行分散?！次⒘Ｗ犹砑右骸翟谘b入二氯曱烷的溶解槽添加纖維素酯A，加熱并進(jìn)行完全溶解后，對(duì)其使用安積濾紙公司制的安積濾紙No.244進(jìn)行過(guò)濾。使過(guò)濾后的纖維素酯溶液進(jìn)行充分?jǐn)嚢?，同時(shí)在此將上述微粒子分散液緩緩添加。還有，使二次粒子粒徑成為i殳定大小的方式用磨碎機(jī)(attritor)進(jìn)行分散。使其用日本精線公司制的FinemetNF過(guò)濾，來(lái)調(diào)制微粒子添力o液。二氯甲烷99質(zhì)量份纖維素酯A4質(zhì)量份微粒子分散液ll質(zhì)量份調(diào)制下述組成的主摻雜液。首先在加壓溶解槽添加二氯曱烷與乙醇。在裝入溶劑的加壓溶解槽使纖維素酯C一邊攪拌一邊投入。使其加熱、攪拌同時(shí)完全地溶解，進(jìn)而添加、溶解增塑劑及紫外線吸收劑。使其使用安積濾紙公司制的安積濾紙No.244進(jìn)行過(guò)濾，來(lái)調(diào)制主摻雜液。在主摻雜液100質(zhì)量份中添加微粒子添加液5質(zhì)量份，以聯(lián)機(jī)混合器(inlinemixer)(Toray靜止型管內(nèi)混合機(jī)Hi-Mixer，SWJ)進(jìn)行充分混合，接著使用帶流延(beltflowcasting)裝置，在寬2m的不銹鋼帶支持體進(jìn)行均勻地流延。在不銹鋼帶支持體上，將溶劑蒸發(fā)使殘留溶劑量成為110%為止，從不銹鋼帶支持體剝離。在剝離時(shí)施加張力拉伸，以使縱(MD)拉伸倍率為1.1倍。接著，使用如圖l記載的彎曲裝置，將氛圍氣溫度120'C，運(yùn)送滾筒5的徑進(jìn)行變化所致彎曲的半徑a(mm)所求得的1/a(mm—"0.022，彎曲回?cái)?shù)以2秒間隔設(shè)定350次，在20m/分的運(yùn)送速度使網(wǎng)狀物運(yùn)送。進(jìn)而，以拉幅機(jī)將網(wǎng)狀物兩端部把持，拉伸以使寬幅(TD)方向拉伸倍率為1.3倍。拉伸后，在原樣維持其寬度并保持?jǐn)?shù)秒，使寬方向的張力緩和后，解放寬保持，進(jìn)而在設(shè)定于125C的干燥區(qū)域經(jīng)30分鐘運(yùn)送而進(jìn)行干燥，來(lái)制作寬1.5m，且端部具有寬lcm，高8pm的壓花的膜厚50ym的相位差薄膜101?！粗鲹诫s液的組成〉二氯甲烷390質(zhì)量份乙醇80質(zhì)量份纖維素酯CIOQ質(zhì)量份增塑劑三羥甲基丙烷三苯曱酸酯5質(zhì)量份增塑劑乙基鄰苯二?；一u乙酸酯5.5質(zhì)量份紫外線吸收劑TINUVIN109(千葉特用品化學(xué)公司制)l質(zhì)量份紫外線吸收劑TINUVIN171(千葉特用品化學(xué)公司制)l質(zhì)量份通過(guò)摻雜液的組成(纖維素酯)，氛圍氣溫度，運(yùn)送滾筒5的徑進(jìn)行變化所致彎曲半徑a(mm)，彎曲次數(shù)，膜厚進(jìn)行如表2記載的那樣變更以外，其它則與上述相同地制作相位差薄膜102~114。就所得相位差薄膜101~114,通過(guò)下述測(cè)定來(lái)測(cè)定面內(nèi)遲延值Ro，厚度方向的遲延值Rt及表里面的折射率，結(jié)果如表2所示?！催t延值的測(cè)定〉<formula>formulaseeoriginaldocumentpage3</formula>(式中，nx，ny，nz表示各折射率橢圓體的主軸x，y，z方向的折射率，且，nx,ny為薄膜面內(nèi)方向的折射率，nz為薄膜厚度方向的折射率。還有，nx>ny，d表示薄膜的厚度(nm))。在阿倍折射率計(jì)(1T)裝上附偏光板接眼鏡(eyepiece)，使用分光光源測(cè)定相位差薄膜兩面的薄膜面內(nèi)的一方向和與其直行方向及在薄膜面呈垂直方向的折射率，從這些的平均值來(lái)求得平均折射率。還有，使用市售的測(cè)微計(jì)來(lái)測(cè)定薄膜的厚度。使用自動(dòng)雙折射計(jì)K0BRA-21ADH(王子計(jì)測(cè)機(jī)器公司制)，在23。C、55%RH的環(huán)境下經(jīng)24小時(shí)放置的薄膜中，進(jìn)行在同環(huán)境下，波長(zhǎng)590nm的薄膜的遲延測(cè)定。將上述平均折射率與膜厚輸入上述式，獲得面內(nèi)遲延值(Ro)及厚度方向的遲延值(Rt)的值?！幢砝锩娴恼凵渎实臏y(cè)定〉在23'C、55%RH的環(huán)境放置試樣(薄膜)24小時(shí)，在相同環(huán)境使用阿倍折射率計(jì)(1T)來(lái)測(cè)定相位差薄膜的表面及里面的平均折射率。在此，薄膜表面是指使摻雜流延時(shí)的與不銹鋼帶支持體為相反的面，薄膜里面是指使摻雜流延時(shí)的不銹鋼帶支持體側(cè)的面。[表2]<table>tableseeoriginaldocumentpage62</column></row><table>*1:使薄膜彎曲時(shí)的半徑為a(mm)時(shí)的1/a(mm一1)《偏光板保護(hù)薄膜的制作》(偏光板保護(hù)薄膜201的制作)(二氧化硅分散液)Aerosi972V(日本Aerosi1乂>司制)12質(zhì)量份(一次粒子的平均徑16nm，表觀比重90g/升)乙醇88質(zhì)量份以上在溶解器經(jīng)30分鐘攪拌混合后，以Manton-Gaulin進(jìn)行分散。在二氧化硅分散液中將88質(zhì)量份的二氯甲烷一邊攪拌一邊投入，用溶解器經(jīng)30分鐘攪拌混合，來(lái)制作二氧化硅分散稀釋液。(聯(lián)機(jī)添加液的制作)TINUVIN109(千葉特用品化學(xué)公司制)ll質(zhì)量份TINUVIN171(千葉特用品化學(xué)公司制)5質(zhì)量份二氯甲烷IOO質(zhì)量份將以上組成投入密閉容器，加熱、攪拌的同時(shí)，進(jìn)行完全溶解，并過(guò)濾。在其中將二氧化硅分散稀釋液36質(zhì)量份一邊攪拌一邊添加，進(jìn)而攪拌30分鐘后，一邊攪拌下述纖維素三乙酸酯6質(zhì)量份一邊添加，進(jìn)而經(jīng)60分鐘攪拌后，用Advantech東洋公司的聚丙烯線繞式濾芯(WOUNDCARTRIDGE)過(guò)濾器TCW-PPS-IN過(guò)濾，來(lái)調(diào)制聯(lián)機(jī)添加液。(摻雜液的調(diào)制)纖維素酯(自棉絨所合成的纖維素三乙酸酯)IOO質(zhì)量份(Mn-148000，Mw=310000，Mw/Mn=2.1，乙?；〈?.92)三羥甲基丙烷三苯甲酸酯5.O質(zhì)量份乙基鄰苯二?；一u乙酸酯5.5質(zhì)量份二氯甲烷440質(zhì)量份乙醇40質(zhì)量份以上組成投入密閉容器，加熱、攪拌，同時(shí)進(jìn)行完全溶解，使用安積濾紙公司制的安積濾紙No.24進(jìn)行過(guò)濾，來(lái)調(diào)制摻雜液。在制膜線中用日本精線公司制的FinemetNF使摻雜液過(guò)濾。在聯(lián)機(jī)添加液線中，用日本精線公司制的FinemetNF使聯(lián)機(jī)添加液過(guò)濾。相對(duì)于將已過(guò)濾的摻雜液IOO質(zhì)量份，添加已過(guò)濾的聯(lián)機(jī)添加液2質(zhì)量份，在聯(lián)機(jī)混合器(inlinemixer)(Toray靜止型管內(nèi)混合機(jī)Hi-Mixer，SWJ)進(jìn)行充分混合，接著，使用帶流延裝置，在溫度35'C,1.8m寬的不銹鋼帶支持體均勻地流延。在不銹鋼帶支持體，溶劑蒸發(fā)以使殘留溶劑量至120%為止，從不銹鋼帶支持體上剝離。經(jīng)剝離的纖維素酯的網(wǎng)狀物在35。C使溶劑蒸發(fā)，作成1.65m寬的縫隙，其后，以拉幅機(jī)在TD方向(與薄膜的運(yùn)送方向成正交的方向)進(jìn)行1.05倍拉伸，同時(shí)在135。C的干燥溫度，進(jìn)行干燥。此時(shí)，以拉幅機(jī)開(kāi)始拉伸時(shí)的殘留溶劑量為30%。其后，將IIO'C、120。C的干燥區(qū)域以多數(shù)滾筒運(yùn)送同時(shí)完成干燥，作成1.5m寬縫隙，在薄膜兩端實(shí)施寬15mm，平均高10口m的壓花加工，來(lái)制作平均膜厚80jum的偏光板保護(hù)薄膜201。進(jìn)行遲延值的測(cè)定時(shí)，Ro、Rt為各自3nm、20nm，這不是本發(fā)明的相位差薄膜。(偏光板保護(hù)薄膜202的制作)除了使平均膜厚變更為60nm以外，其它則與偏光板保護(hù)薄膜1的制作同樣地制作1.5m寬，平均膜厚60pm的偏光板保護(hù)薄膜202。遲延值Ro、Rt各自為2nm、17nm,這不是本發(fā)明的相位差薄膜。(偏光板保護(hù)薄膜203的制作)除了使平均膜厚變更為40um以外，其它則與偏光板保護(hù)薄膜1的制作同樣地制作1.5m寬，平均膜厚40Mm的偏光板保護(hù)薄膜203。遲延值Ro、Rt為各lnm、15nm，這不是本發(fā)明的相位差薄膜?！镀獍宓闹谱鳌贰雌獍宓闹谱鳌祵⒑穸?，120inm的聚乙晞醇薄膜，進(jìn)行單軸拉伸(溫度IIOX:，拉伸倍率5倍)。使其在碘Q.075g、碘化鉀5g、水100g所構(gòu)成水溶液經(jīng)6Q秒浸漬，接著在碘化鉀6g、硼酸7.5g、水lQQg所構(gòu)成68。C的水溶液浸漬。使其水洗，干燥獲得膜厚20jam的偏光膜。依照下述步驟1~5將上述制作的偏光膜，通過(guò)以上述經(jīng)制作的相位差薄膜101~114及偏光板保護(hù)薄膜201~203挾持的方式，以下述表3記載的組合進(jìn)行貼合來(lái)制作偏光板1~22。另外，相位差薄膜101~114是將顯示高折射率的面貼合于偏光膜側(cè)。步驟l:在60'C的2摩爾/L的氫氧化鈉溶液經(jīng)90秒浸漬，接著水洗，干燥，獲得與偏光膜貼合的側(cè)經(jīng)堿化的相位差薄膜及偏光板保護(hù)薄膜。步驟2:使該偏光膜在固形成分2質(zhì)量％的聚乙烯醇粘接劑槽中經(jīng)1~2秒浸漬。步驟3:將在步驟2附著于偏光膜的過(guò)剩粘接劑進(jìn)行輕輕擦除，將其載置于步驟1所處理的相位差薄膜及偏光板保護(hù)薄膜的上而配置。步驟4:在步驟3層合的相位差薄膜與偏光膜與里面?zhèn)绕獍灞Ｗo(hù)薄膜在壓力20~30N/cm2，運(yùn)送速度約2m/分下貼合。步驟5:將步驟4制作的偏光膜與相位差薄膜及偏光板保護(hù)薄膜進(jìn)行貼合的試樣在8(TC干燥機(jī)中經(jīng)5分鐘干燥，來(lái)制作偏光板1~22?！兑壕э@示裝置的制作》液晶面板用以下方式制作，來(lái)評(píng)價(jià)偏光板及液晶顯示裝置的特性。將SONY制20型顯示器KLV-20AP2的預(yù)先貼合有兩面偏光板進(jìn)行剝離，使上述制作的偏光板1~22各自貼合于液晶盒的玻璃面。此時(shí)，偏光板的貼合方向，是使該相位差薄膜的面成為液晶盒側(cè)的那樣，且，在與預(yù)先貼合有偏光板相同方向使吸收軸朝向的那樣進(jìn)行，各自制作液晶顯示裝置1~22。《評(píng)價(jià)》(偏光板巻曲)從偏光板試樣將5mmx5cm的試樣切出，在溫度23C、5"/。RH的恒溫恒濕室放置24小時(shí)后，置于平板上，使用曲率標(biāo)尺，求得具有與試樣一致曲線的曲率半徑，巻曲的大小與處理容易性以下述排序進(jìn)行評(píng)價(jià)。曲率半徑具有與1/試樣一致曲線的圓半徑(l/m)◎:0~不足5〇5~不足10△:10~不足30x:30以上在此，◎、O是處理容易性為可實(shí)用的評(píng)價(jià)，A以下為處理極端困難。(使偏光板貼合于液晶盒時(shí)的良品收率)將SONY制20型顯示器KLV-20AP2的被預(yù)先貼合有偏光板進(jìn)行剝離，進(jìn)行上述制作的偏光板1~22的貼合作業(yè)求得以各偏光板經(jīng)重復(fù)IO次時(shí)的良品收率，以下述基準(zhǔn)評(píng)價(jià)。在偏光板發(fā)生浮出、氣泡、或角度的錯(cuò)位的情況為不良品，良品收率以下述式求得。良品收率(%)=良品片數(shù)+(良品片數(shù)+不良品片數(shù))x100◎:良品率95%以上100%:良品率85%以上不足95%△:良品率70%以上不足85%x:良品率不足70%上述評(píng)價(jià)結(jié)果示于表3。[表3]<table>tableseeoriginaldocumentpage67</column></row><table>由上表可知，使用本發(fā)明相位差薄膜的偏光板巻曲優(yōu)異，還有貼合于液晶盒之際的良品收率也有優(yōu)異結(jié)果。尤其是，偏光板的厚度為70~140ym的范圍，在成為相位差薄膜(膜厚dl)與偏光板保護(hù)薄膜的膜厚(d2)時(shí)的膜厚比(d2/dl)為1.1~2.0以內(nèi)，還有，本發(fā)實(shí)施例2(帶有防反射層的偏光板保護(hù)薄膜的制作)使用上述制作的偏光板保護(hù)薄膜201~203，由下述順序制作各個(gè)帶有防反射層的偏光板保護(hù)薄膜。構(gòu)成防反射層的各層折射率以下述方法測(cè)定。(折射率)各折射率層的折射率，是就使各層單獨(dú)涂布于下述制作的硬涂覆薄膜上的試樣，由分光光度計(jì)的分光反射率的測(cè)定結(jié)果而求得。分光光度計(jì)是使用U-4000型(日立制作所制)，使試樣的測(cè)定側(cè)里面進(jìn)行粗面化處理后，以黑色噴淋進(jìn)行光吸收處理防止在里面的光反射，在5度正反射的條件進(jìn)行可見(jiàn)光區(qū)域(400nm~700nm)的反射率的測(cè)定。(金屬氧化物微粒子的粒徑)使用的金屬氧化物微粒子的粒徑是以電子顯微鏡觀察(SEM)觀察各100個(gè)微粒子，與各微粒子外接的圓直徑作為粒徑，以其平均值作為粒徑?！队餐扛矊拥男纬伞吩谏鲜鲋谱鞯钠獍灞Ｗo(hù)薄膜201~203上，將下述硬涂覆層用涂布液以孔徑0.4pm的聚丙烯制過(guò)濾器過(guò)濾來(lái)調(diào)制硬涂覆層涂布液，對(duì)其使用微凹版印刷(gravure)涂布器進(jìn)行涂布，在90t:千燥后，使用紫外線燈使照射部的照度為100mW/cm2，照射量為0.1J/cm2將涂布層固化，形成干膜厚5jum的硬涂覆層來(lái)制作硬涂覆薄膜。(硬涂覆層涂布液)將下述材料攪拌、混合作為硬涂覆層涂布液。丙烯酸單體；KAYARADDPHA(二新戊四醇六丙烯酸酯，日本化藥制)220質(zhì)量份Irgacure184(千葉特用品化學(xué)公司制)丙二醇單曱基醚乙酸乙酯20質(zhì)量份IIO質(zhì)量份IIO質(zhì)量份《帶有防反射層的偏光板保護(hù)薄膜的制作》在上述制作的硬涂覆薄膜上，以下述方式以高折射率層，接著為低折射率層的順序涂布防反射層，來(lái)制作帶有防反射層的偏光板保護(hù)薄膜?！斗婪瓷鋵拥男纬筛哒凵渎蕦印吩谏鲜鲇餐扛矊由希瑢⑾率龈哒凵渎蕦油坎冀M合物擠壓，以涂布器涂布，在80C經(jīng)1分鐘干燥，接著以紫外線進(jìn)行0.lJ/cm2照射進(jìn)行固化，進(jìn)而在100°C經(jīng)1分鐘熱固化，設(shè)置高折射率層使厚度成為78nm。該高折射率層的折射率為1.62。〈高折射率層涂布組合物〉金屬氧化物微粒子的異丙基醇溶液(固形成分20°/，ITO粒子，粒徑5nm)55質(zhì)量份金屬化合物Ti(OBu)4(四-正丁氧基鈦)1.3質(zhì)量份電離輻射線固化型樹(shù)脂二季戊四醇六丙烯酸酯3.2質(zhì)量份光聚合引發(fā)劑Irgacure184(千葉特用品化學(xué)公司制)0.8質(zhì)量份直鏈二甲基聚硅氧-EO嵌段共聚物(FZ-2207，日本Unicar公司制)的10%丙二醇單甲基醚液1.5質(zhì)量份丙二醇單甲基醚120質(zhì)量份異丙基醇240質(zhì)量份曱基乙基酮40質(zhì)量份《防反射層的形成低折射率層》在該高折射率層上使下述低折射率層涂布組合物擠壓，以涂布器涂布，在IOO'C經(jīng)1分鐘干燥后，在紫外線燈以紫外線照射0.1J/cm2使的固化，在耐熱性塑料芯以巻繞長(zhǎng)2500m進(jìn)行巻繞，接著進(jìn)行80°C，3日加熱處理來(lái)制作帶有防反射層的偏光板保護(hù)薄膜301~303。此外，該低折射率層的厚度95nm，折射率為1.37。(低折射率層涂布組合物的調(diào)制)〈四乙氧基硅烷水解物A的調(diào)制>將四乙氧基硅烷289g與乙醇553g混合，在其中添加0.15%乙酸水溶液157g，在25。C的水浴中經(jīng)30小時(shí)攪拌下調(diào)制水解物A。四乙氧基硅烷水解物A110質(zhì)量份中空二氧化硅系微粒子分散液30質(zhì)量份KBM503(硅烷偶合劑，信越化學(xué)公司制)4質(zhì)量份直鏈二甲基聚硅氧-EO嵌段共聚物(FZ-2207，日本Unicar公司制)的10%丙二醇單甲基醚液3質(zhì)量份丙二醇單甲基醚400質(zhì)量份異丙基醇400質(zhì)量份〈中空二氧化硅系微粒子分散液的調(diào)制〉將平均粒徑5nm，Si02濃度20質(zhì)量％的二氧化硅溶膠100g與純水1900g的混合物加溫至80'C。該反應(yīng)母液的pH為10.5,在同母液中同時(shí)添加作為Si02的0.98質(zhì)量％的硅酸鈉水溶液9000g與作為厶1203的1.02質(zhì)量。/。的鋁酸鈉水溶液9000g。在其間，使反應(yīng)液的溫度保持于80。C。反應(yīng)液的pH在剛添加之后，上升至12.5，其后，幾乎無(wú)變化。添加完成后，將反應(yīng)液冷卻至室溫，以超濾膜洗滌來(lái)調(diào)制固形成分濃度20質(zhì)量％的Si02.Al力3核粒子分散液。(步驟(a))在該核粒子分散液5QGg添加純水17GQg加溫至98。C,在保持該溫度的同時(shí)，添加將硅酸鈉水溶液以陽(yáng)離子交換樹(shù)脂脫堿所得的硅酸液(SiO,濃度3.5質(zhì)量％)3000g獲得形成第1二氧化硅被覆層的核粒子分散液。(步驟(b))接著，以超濾膜洗滌在成為固形成分濃度13質(zhì)量％的在形成第1二氧化硅被覆層的核粒子分散液500g中添加純水1125g，進(jìn)而滴下濃鹽酸(35.5%)變?yōu)閜H1.0，進(jìn)行脫鋁處理。接著，添加pH3的鹽酸水溶液10L與純水5L，同時(shí)將以超濾膜溶解鋁鹽進(jìn)行分離，來(lái)調(diào)制將形成第1二氧化硅被覆層的核粒子構(gòu)成成分的一部份除去的Si02.Al203多孔質(zhì)粒子的分散液(步驟(c))。將上述多孔質(zhì)粒子分散液1500g，與純水500g、乙醇1750g及28%氨水626g的混合液加溫至35。C后，添加硅酸乙酯(Si(k28質(zhì)量。/。)104g，將形成第l二氧化硅被覆層的多孔質(zhì)粒子表面以硅酸乙酯的水解縮聚物被覆形成第2二氧化硅被覆層。接著，使用超濾膜來(lái)調(diào)制使溶劑置換為乙醇的固形成分濃度20質(zhì)量％之中空二氧化硅系微粒子分散液。該中空二氧化硅系微粒子的第1二氧化硅被覆層的厚度為3nm,平均粒徑為47nm，MOx/Si02(摩爾比)為0.0017,折射率為1.28。由此，平均粒徑可通過(guò)動(dòng)態(tài)光散射法來(lái)測(cè)定。使用所得的帶有防反射層的偏光板保護(hù)薄膜301~303，與在實(shí)施例1制作的相位差薄膜101~114，在實(shí)施例1的偏光板1~22，液晶顯示裝置1~22的構(gòu)成進(jìn)行各自對(duì)應(yīng)的方式，與實(shí)施例1同樣地來(lái)制作偏光板301-322,液晶顯示裝置301~322。關(guān)于所得的偏光板、液晶顯示裝置，與實(shí)施例l同樣地，在實(shí)施偏光板巻曲，使偏光板貼合于液晶盒時(shí)的良品收率評(píng)價(jià)時(shí)，使實(shí)施例1再現(xiàn)，包含本發(fā)明相位差薄膜的偏光板、液晶顯示裝置各自具有優(yōu)異特性。進(jìn)而，通過(guò)使用帶有防反射層的偏光板保護(hù)薄膜301~303，可改善液晶顯示裝置的視辨性，對(duì)畫(huà)面的周圍的炫光(glare)也可大幅度降低，且耐擦傷性(scratchresistance)也可提高。實(shí)施例3在制作實(shí)施例1的相位差薄膜101時(shí)，進(jìn)而除了增加下述加熱處理以外其它同樣地來(lái)制作下述相位差薄膜401~403。〈加熱處理〉在拉幅機(jī)的拉伸后，在使網(wǎng)狀物上下復(fù)數(shù)配置的滾筒所致運(yùn)送干燥步驟以105X:的干燥風(fēng)使的干燥，獲得殘留溶劑量至0.3質(zhì)量％為止而干燥的薄膜后，進(jìn)而將所得的薄膜在110。C及氛圍氣置換率25次/小時(shí)的氛圍氣內(nèi)經(jīng)20分鐘熱處理時(shí)以多段設(shè)置的壓料輥(niproll)在薄膜的厚度方向以10kPa的壓力施予加壓處理后，冷卻至室溫進(jìn)行巻繞，來(lái)制作寬1.5m，且端部具有寬lcm，高8Mm的壓花(knurling)的膜厚50jam的相位差薄膜401。除了加熱處理溫度、氛圍氣置換率、加壓處理的有無(wú)等變更為表4記載的條件，并控制自由體積半徑以外，其它同樣地制作相位差薄膜402~403。上述加熱熱處理步驟的氛圍氣置換率，是使熱處理室的氛圍氣容量為V(m3)，新鮮空氣送風(fēng)量為FA(m7hr)的情況，以下式來(lái)求得的每單位時(shí)間的氛圍氣以新鮮空氣置換的次數(shù)。氛圍氣置換率-FA/V(次/時(shí)間)〈正電子湮沒(méi)壽命須'J量法(positronannihilationlifemeasuringmethod)所求得自由體積半徑的測(cè)定>各相位差薄膜的自由體積半徑是以該正電子湮沒(méi)壽命測(cè)量法來(lái)測(cè)定。表4<table>tableseeoriginaldocumentpage72</column></row><table>使用上述制作的相位差薄膜401~403，實(shí)施例2制作的帶有防反射層的偏光板保護(hù)薄膜301、302，及聚乙烯醇偏光膜(膜厚20jam),與實(shí)施例l、2同樣地以表5的構(gòu)成制作偏光板401~406、液晶顯示裝置401~406，將偏光板巻曲，及偏光板貼合于液晶晶胞時(shí)的良品收率加以評(píng)價(jià)。結(jié)果如表5所示。[表5]<table>tableseeoriginaldocumentpage73</column></row><table>進(jìn)行與本發(fā)明相關(guān)的彎曲處理，且使用自由體積半徑調(diào)整到適宜范圍的0.250~0.310nm的相位差薄膜401、402的偏光板401~404，可知偏光板巻曲、良品收率，相對(duì)于偏光板405、406更優(yōu)異。尤其可知使用進(jìn)行加壓處理的相位差薄膜401的偏光板401、402，具有對(duì)偏光板的厚度無(wú)影響的優(yōu)異巻曲、良品收率。權(quán)利要求1.一種薄膜，其為貼合于偏光板的偏光元件的薄膜，其特征在于膜厚為10μm以上，70μm以下，具有A面和與該A面呈相向的B面，該薄膜的A面和與該A面呈相向的B面的折射率差為5×10-4以上、5×10-3以下。2.如權(quán)利要求1記載的薄膜，其中該薄膜為相位差薄膜，在下述式(A)所示的波長(zhǎng)590nm的面內(nèi)相位差Ro為30mn以上、300nm以下，且厚度方向的相位差Rt為80nm以上、400nm以下，式(A)Ro=(nx-ny)xdRt={(nx+ny)/2-nz)xd〔式中，nx為薄膜面內(nèi)滯相軸方向的折射率，ny為薄膜面內(nèi)進(jìn)相軸方向的折射率，nz為薄膜厚度方向的折射率，d為薄膜的膜厚(nm)〕。3.如權(quán)利要求1記載的薄膜，其中該薄膜為偏光元件的保護(hù)薄膜。4.如權(quán)利要求1~3中任一記載的薄膜，其中該薄膜的主成分為纖維素酯。5.如權(quán)利要求4記載的薄膜，其中以該纖維素酯的乙?；娜〈葹閄，以丙?；蚨□；娜〈葹閅時(shí)，同時(shí)滿足下述式(I)及(II)，式(I)2.0《X+Y^2.6式(II)0.l化l丄6.如權(quán)利要求4記載的薄膜，其中相對(duì)于該纖維素酯含有1質(zhì)量%以上20質(zhì)量％以下的增塑劑。7.如權(quán)利要求6記載的薄膜，其中該增塑劑的含量為3質(zhì)量％以上、13質(zhì)量％以下。8.—種偏光板，其特征在于具有偏光元件和貼合于該偏光元件第一面上的權(quán)利要求1記栽的薄膜，該偏光板的厚度為70jam以上、140Mm以下。9.如權(quán)利要求8記載的偏光板，其中該薄膜為膜厚dl的相位差薄膜，具有貼合于與該偏光元件的第一面呈相向的第二面的膜厚d2的偏光板保護(hù)薄膜，該偏光板保護(hù)薄膜與該相位差薄膜的膜厚比(d2/dl)為1.1以上、4.0以下。10.如權(quán)利要求9記栽的偏光板，其中該膜厚比(d2/dl)為1.1以上、2.0以下。11.一種液晶顯示裝置，其特征在于具有液晶晶胞和貼合于該液晶晶胞的視辨?zhèn)鹊臋?quán)利要求8記載的偏光板，該偏光板，相對(duì)于該液晶晶胞，將貼合于偏光元件第一面的薄膜，貼合于該偏光元件與該液晶晶胞之間的位置。12.如權(quán)利要求11記載的液晶顯示裝置，其中在該偏光元件的第二面貼合有保護(hù)薄膜。13.如權(quán)利要求12記載的液晶顯示裝置，其中貼合于該偏光元件第二面的該保護(hù)薄膜，具有至少一層選自防反射膜、防靜電膜及防眩層。14.一種薄膜的制造方法，其為貼合于偏光板的偏光元件的薄膜的制造方法，其特征在于包括下述步驟，使薄膜溶液在支持體上流延形成網(wǎng)狀物的流延步驟，自支持體使網(wǎng)狀物剝離的剝離步驟，運(yùn)送該網(wǎng)狀物的運(yùn)送步驟，將運(yùn)送而來(lái)的該網(wǎng)狀物進(jìn)行干燥的干燥步驟，和裁剪該網(wǎng)狀物，以設(shè)定的尺寸形成膜厚為10jam以上、70jam以下的薄膜的形成步驟，其中，該運(yùn)送步驟包括該網(wǎng)狀物的A面與呈相向的B面以互為內(nèi)側(cè)的方式彎曲的彎曲步驟，該彎曲步驟，當(dāng)以該網(wǎng)狀物弄彎時(shí)的半徑為a(mm)時(shí)，1/a的值為0.013mm1以上、0.033mn^以下，且，使彎曲重復(fù)150次以上、不足1000次。15.如權(quán)利要求14記栽的薄膜的制造方法，其中該網(wǎng)狀物的與該支持體接觸的面為B面，不接觸該支持體的面為A面時(shí)，通過(guò)該彎曲步驟使B面的折射率比A面高，其折射率差為5xl0—以上、5xl0-s以下。16.如權(quán)利要求14或15記載的薄膜的制造方法，其中該1/a的值為0.017mm—'以上、0.025mm—、乂下。17.如權(quán)利要求14記載的薄膜的制造方法，其中該彎曲次數(shù)為250次以上、不足1000次。18.如權(quán)利要求17記載的薄膜的制造方法，其中該彎曲次數(shù)為350次以上、不足1000次。19.如權(quán)利要求14記載的薄膜的制造方法，其中該彎曲步驟中氛圍氣溫度是該網(wǎng)狀物的構(gòu)成材料的玻璃化轉(zhuǎn)變溫度±30。C。20.如權(quán)利要求14記載的薄膜的制造方法，其中該彎曲步驟中氛圍氣溫度是該網(wǎng)狀物的構(gòu)成材料的玻璃化轉(zhuǎn)變溫度,士20'C。21.如權(quán)利要求14記載的薄膜的制造方法，其中該彎曲步驟中的氛圍氣是至少由惰性氣體構(gòu)成的。22.如權(quán)利要求14記載的薄膜的制造方法，其中該彎曲步驟中的運(yùn)送速度為10m/分鐘以上、150m/分鐘以下。23.如權(quán)利要求14記栽的薄膜的制造方法，其在運(yùn)送而來(lái)的該網(wǎng)狀物的干燥步驟前具有進(jìn)行拉伸的拉伸步驟，該薄膜為相位差薄膜，下述式(A)所示的波長(zhǎng)590nm的面內(nèi)相位差Ro為30nm以上、300nm以下，且厚度方向的相位差Rt為80nm以上、400nmn以下，式(A)Ro=(nx-ny)xdRt={(nx+ny)/2-nz)xd〔式中，nx為薄膜面內(nèi)的滯相軸方向的折射率，ny為薄膜面內(nèi)的進(jìn)相軸方向的折射率，nz為薄膜的厚度方向的折射率，d為薄膜的膜厚(nm)〕。全文摘要本發(fā)明提供一種適于可改善卷曲的薄膜的偏光板的薄膜及其制造方法，與使用該薄膜的偏光板及液晶顯示裝置。該薄膜，是貼合于偏光板的偏光元件的薄膜，其膜厚為10μm以上，70μm以下，具有A面和與該A面呈相向的B面，該薄膜的A面和與該A面呈相向的B面的折射率差為5×10^-4以上，5×10^-3以下。文檔編號(hào)G02F1/13GK101243338SQ200680030420公開(kāi)日2008年8月13日申請(qǐng)日期2006年8月25日優(yōu)先權(quán)日2005年8月26日發(fā)明者梅田博紀(jì),稻垣真治,葛原憲康申請(qǐng)人:柯尼卡美能達(dá)精密光學(xué)株式會(huì)社