專利名稱：含萘四羧酸二酰亞胺衍生物為電子遷移材料的電子照相感光體及采用它的電子照相成像設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種電子照相感光體(electrophotographic photoreceptor)和電子照相成像設(shè)備。更具體地，本發(fā)明涉及一種包含具有硝基的萘四羧酸二酰亞胺衍生物作為電荷生成層中的電子遷移材料的雙層型電子照相感光體，所述電荷生成層包含電荷生成材料。所述感光體具有改進(jìn)的靜電性能如感光性和剩余電位。本發(fā)明還涉及包括該電子照相感光體的電子照相成像設(shè)備。
背景技術(shù)：
電子照相技術(shù)廣泛地應(yīng)用于激光打印機(jī)、影印機(jī)、傳真機(jī)、LED打印機(jī)、CRT打印機(jī)和激光電子照相儀(laser electrophotograph)等。電子照相感光體包括形成在導(dǎo)電性基底上的感光層，并且其可以是板狀、盤狀、片狀、帶狀或滾筒(drum)狀等。在電子照相感光體中，感光層的表面被均勻地且靜電充電，然后帶電的表面被光圖案曝光，從而形成圖像。曝光選擇性地消耗曝光區(qū)的電荷，從而形成帶電和不帶電區(qū)域的圖案，所述曝光區(qū)是光線照射表面的區(qū)域。該圖案稱為潛像。然后在潛像附近提供濕的或干的色調(diào)劑，并且色調(diào)劑液滴或顆粒沉積在帶電區(qū)域或不帶電區(qū)域上，在感光層表面上形成色調(diào)劑圖像。所得到的色調(diào)劑圖像可被轉(zhuǎn)印并定影在適合的最終或中間接受表面如紙上，或者感光層可充當(dāng)接收圖像的最終接受體。
電子照相感光體可分為兩種類型。第一種類型的結(jié)構(gòu)包括電荷生成層(CGL)，其含有電荷生成材料(CGM)和粘結(jié)劑樹脂；及電荷遷移層(CTL)，其含有粘結(jié)劑樹脂和電荷遷移材料(主要是空穴遷移材料(HTM))。一般，雙層型電子照相感光體用于負(fù)(-)型電子照相感光體的制備。另一種類型是單層型感光體，其中粘結(jié)劑樹脂、電荷生成材料、空穴遷移材料(HTM)和電子遷移材料(ETM)包含在單層內(nèi)。通常，單層型感光體用于正(+)型電子照相感光體的制備。
提供電荷生成材料的目的是為了在曝光時產(chǎn)生電荷載體(即，空穴和/或電子)。電荷遷移材料的目的是接收至少一種電荷載體并通過電荷遷移層遷移它們，以達(dá)到促進(jìn)感光體上表面電荷放電的目的。
在雙層型電子照相感光體的電荷生成層中的電荷生成材料的量需要足夠大，以便獲得具有高感光性的電子照相感光體。然而，如果電荷生成材料的量過大，用于形成電荷生成層的涂布漿料的穩(wěn)定性會退化，從而降低了電荷生成層的涂層質(zhì)量。而且，電荷生成層和導(dǎo)電性基底的粘合力以及電荷生成層和電荷遷移層的粘合力降低。相反，如果電荷生成材料的量少，用于形成電荷生成層的涂布漿料的穩(wěn)定性、電荷生成層的涂層質(zhì)量、電荷生成層和導(dǎo)電性基底的粘合力以及電荷生成層和電荷遷移層的粘合力將提高，但靜電性能將完全退化，以致電子照相感光體的感光性會降低并且剩余電位會提高。
而且，不管電荷生成層中的電荷生成材料的量，電荷生成層中的電子遷移不良，從而會負(fù)面影響電子照相感光體的靜電性能，以致電子照相感光體的感光性趨于降低并且其剩余電位趨于提高。具體地，由于電荷主要產(chǎn)生在電荷生成層的上部，因此當(dāng)為了具有高感光性而增加電荷生成層的厚度時，由于電子遷移不良而導(dǎo)致的靜電性能的退化將更嚴(yán)重。
美國專利5547790、5571648和5677094分別公開了用于解決上述問題的電子照相感光體。
美國專利5547790公開了一種電子照相感光體，其至少包括順序堆疊在導(dǎo)電性基底上的電荷生成層和電荷遷移層。電荷生成層包含選自偶氮顏料、紫環(huán)酮(perinone)顏料和方酸(squaraine)中的電荷生成材料以及聚合物電荷遷移材料。電荷遷移層包含聚合物電荷遷移材料。電荷生成層中的聚合物電荷遷移材料選自聚硅烯(polysilylene)，在其主鏈和/或支鏈上具有腙結(jié)構(gòu)的聚合物，及在其主鏈和/或支鏈上具有叔胺結(jié)構(gòu)的聚合物。電荷遷移層中的聚合物電荷遷移材料是具有聚硅烯的聚合物，在其主鏈和/或支鏈上具有腙結(jié)構(gòu)的聚合物，及在其主鏈和/或支鏈上具有叔胺結(jié)構(gòu)的聚合物。
美國專利5571648公開了一種電子照相成像元件，其包括支撐基底，該基底具有導(dǎo)電性底部平面層，該導(dǎo)電性底部平面層包括置于含鈦層上的含鋅層；空穴阻擋層；粘結(jié)層，其包含形成共聚多酯薄膜的樹脂；與粘結(jié)層相接觸的中間層，其中該中間層包含形成薄膜的咔唑聚合物；電荷生成層，其包含分散在形成薄膜的聚碳酸酯和咔唑聚合物的聚合物粘結(jié)劑混合物中的二萘嵌苯或酞菁顆粒；及空穴遷移層，其中該空穴遷移層在光譜區(qū)域內(nèi)基本上不吸收，在該光譜區(qū)域中，電荷生成層產(chǎn)生并注入光生空穴(photogeneratedhole)，但是所述空穴遷移層能夠支持光生空穴從電荷生成層的注入并能夠通過電荷遷移層遷移空穴。
美國專利5677094公開了一種電子照相光電導(dǎo)體，其包括導(dǎo)電性載體和形成在導(dǎo)電性載體上的光電導(dǎo)層，并包括電荷生成層和電荷遷移層，其中該電荷生成層包含具有6.0eV或更低的電離電位的第一聚合物電荷遷移材料；該電荷遷移層包含電荷遷移小分子和粘結(jié)劑。
在上述美國專利中公開的電子照相感光體，嘗試通過向電荷生成層中除了引入電荷生成材料之外還引入空穴遷移材料來提高靜電性能。然而，仍然需要具有改進(jìn)的靜電性能的電子照相感光體。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明提供一種具有優(yōu)異電特性如高感光性和曝光后的低剩余電位的電子照相感光體。
本發(fā)明還提供一種包括該電子照相感光體的電子照相成像設(shè)備。
根據(jù)本發(fā)明的一個方面，提供電子照相感光體，其包括導(dǎo)電性基底；電荷生成層，其置于導(dǎo)電性基底之上，并包含分散或溶解在粘結(jié)劑樹脂中的電荷生成材料和下面式1所示的且分散或溶解在粘結(jié)劑樹脂中的萘四羧酸二酰亞胺衍生物；及電荷遷移層，其置于電荷生成層之上，并包含分散或溶解在粘結(jié)劑樹脂中的電荷遷移材料。
式中，R1、R2、R3、R4、R5、R6和R7各自獨(dú)立地為選自氫原子，鹵原子，取代或未取代的C1～C20烷基，取代或未取代的C1～C20烷氧基，取代或未取代的C6～C30芳基，及取代或未取代的C7～C30芳烷基中的一種。
根據(jù)本發(fā)明的另一方面，提供電子照相成像設(shè)備，其包括電子照相感光體，其中該電子照相感光體包括導(dǎo)電性基底；電荷生成層，其置于導(dǎo)電性基底之上，并包含分散或溶解在粘結(jié)劑樹脂中的電荷生成材料和下面式1所示的且分散或溶解在粘結(jié)劑樹脂中的萘四羧酸二酰亞胺衍生物；及電荷遷移層，其置于電荷生成層之上，并包含分散或溶解在粘結(jié)劑樹脂中的電荷遷移材料。
式中，R1、R2、R3、R4、R5、R6和R7各自獨(dú)立地為選自氫原子，鹵原子，取代或未取代的C1-C20烷基，取代或未取代的C1～C20烷氧基，取代或未取代的C6～C30芳基，及取代或未取代的C7～C30芳烷基中的一種。
所述電子照相感光體為雙層型電子照相感光體，并在常規(guī)的電荷生成層內(nèi)進(jìn)一步包含式1的不對稱的具有硝基的萘四羧酸二酰亞胺化合物，常規(guī)的電荷生成層包含電荷生成材料和粘結(jié)劑樹脂。因而，所述感光體具有良好的層間粘合力和良好的電特性如高感光性和低剩余電位。假定降低電荷生成材料的量，提高了電荷生成層的涂布漿料的穩(wěn)定性，從而提高電荷生成層的涂層質(zhì)量和層間粘合力，并且向電荷生成層中除了加入電荷生成材料之外還加入電子遷移材料，以便由電荷生成材料產(chǎn)生的電子能快速且容易地遷移到導(dǎo)電性基底并且能容易地從電荷生成層注入到導(dǎo)電性基底中。因此，利用所述電子照相感光體能獲得高質(zhì)量圖像。
本發(fā)明的這些和其它方面將在本發(fā)明下面的詳細(xì)描述中變得明顯，下面的詳細(xì)說明公開了本發(fā)明的各種實施方案。


通過參照附圖詳述其示例性實施方案，本發(fā)明的上述及其它特點(diǎn)和優(yōu)點(diǎn)將變得更加明顯，附圖中圖1示意性地說明根據(jù)本發(fā)明實施方案的成像設(shè)備；圖2為根據(jù)本發(fā)明實施方案在合成實施例1中獲得的萘四羧酸二酰亞胺化合物(1)的NMR譜圖；圖3為根據(jù)本發(fā)明實施方案在合成實施例2中獲得的萘四羧酸二酰亞胺化合物(2)的NMR譜圖；及圖4為根據(jù)本發(fā)明實施方案在合成實施例3中獲得的萘四羧酸二酰亞胺化合物(3)的NMR譜圖。
具體實施例方式
現(xiàn)在將參照附圖對本發(fā)明進(jìn)行更全面的描述，附圖中示出了本發(fā)明的示例性實施方案。
根據(jù)本發(fā)明實施方案的電子照相感光體具有雙層型結(jié)構(gòu)，其中電荷生成層和電荷遷移層順序形成在導(dǎo)電性基底上，作為感光層。
導(dǎo)電性基底可以由導(dǎo)電性材料，例如金屬和導(dǎo)電性聚合物等構(gòu)成，并且其為板狀、盤狀、片狀、帶狀或滾筒狀等。金屬的實例包括鋁、釩、鎳、銅、鋅、鈀、銦、錫、鉑、不銹鋼和鉻等。導(dǎo)電性聚合物的實例包括聚酯樹脂、聚碳酸酯樹脂、聚酰胺樹脂、聚酰亞胺樹脂、其混合物及其共聚物，其中分散有導(dǎo)電性材料如導(dǎo)電的碳、氧化錫、氧化銦。而且，導(dǎo)電性基底可以是金屬片或者其上沉積或?qū)訅航饘俚挠袡C(jī)聚合物片材。
在導(dǎo)電性基底和電荷生成層之間可以形成有中間層，電荷生成層將在下文進(jìn)行描述。中間層通過抑制從導(dǎo)電性基底到感光層的空穴注入來提高圖像特性，改善導(dǎo)電性基底和感光層的層間粘合力，并防止感光層的介電擊穿。中間層的實例包括陽極氧化鋁層；金屬氧化物粉末如氧化鈦、氧化錫、氧化銦等的樹脂分散層；及由聚乙烯醇、酪蛋白、乙基纖維素、白明膠、酚醛樹脂或聚酰胺等形成的樹脂層。中間層的厚度可以為0.05～5μm，但不限于此。
電荷生成層和電荷遷移層作為感光層形成在根據(jù)本實施方案的雙層型電子照相感光體的導(dǎo)電性基底或中間層上。
電荷生成層包含粘結(jié)劑樹脂，該粘結(jié)劑樹脂中分散和/或溶解了電荷生成材料和上面式1的萘四羧酸二酰亞胺衍生物。
電荷生成材料的實例包括有機(jī)材料如酞菁-基化合物、偶氮-基化合物、雙偶氮-基化合物、疊氮基-基化合物、苯醌-基顏料、二萘嵌苯-基化合物、靛藍(lán)-基化合物、雙苯并咪唑-基顏料、蒽醌-基化合物、喹吖啶酮-基化合物、薁(azulenium)-基化合物、方酸內(nèi)鹽(squarylium)-基化合物、吡喃-基化合物、三芳基甲烷-基化合物、菁-基化合物、紫環(huán)酮-基化合物、聚環(huán)醌(polycycloquinone)化合物、吡咯并吡咯化合物和萘酞菁(naphthalocyanine)化合物；及無機(jī)材料如非晶硅、非晶硒、四方晶系的硒、碲、硒-碲合金、硫化鎘、硫化銻、硫化鋅等。感光層的電荷生成材料的實例不限于此，且這些材料可單獨(dú)使用或者兩種或多種組合使用。
電荷生成材料可以是酞菁-基顏料。酞菁-基顏料可以是下面式2所示的不含金屬的酞菁-基化合物、式3所示的金屬酞菁-基化合物或其混合物，[式2] [式3]
式中，R1～R16各自獨(dú)立地為氫原子、鹵原子、硝基、取代或未取代的C1～C20烷基或者取代或未取代的C1～C20烷氧基，且M為銅、氯鋁(chloroaluminium)、氯銦(chloroindium)、氯鎵(chlorogallium)、氯鍺(chlorogermanium)、氧釩(oxyvanadyl)、氧鈦(oxytitanyl)、羥基鍺(hydroxygermanium)或羥基鎵(hydroxygallium)。
酞菁顏料的實例是氧鈦酞菁(oxytitanyl phthalocyanine)顏料如d型或y型氧鈦酞菁，其在粉末X射線衍射圖中27.1°的布拉格角(2θ±0.2°)具有最強(qiáng)衍射峰；β型氧鈦酞菁，其在26.1°的布拉格角(2θ±0.2°)具有最強(qiáng)衍射峰；或者α型氧鈦酞菁，其在7.5°的布拉格角(2θ±0.2°)具有最強(qiáng)衍射峰；或者不含金屬的酞菁顏料如X型不含金屬的酞菁或τ(tau)型不含金屬的酞菁，其在粉末X射線衍射圖中7.5°和9.2°的布拉格角(2θ±0.2°)具有最強(qiáng)衍射峰。因為它們在780～800nm的波長范圍顯示出最高感光性，所以酞菁顏料在本發(fā)明中是有效的，并且感光性可根據(jù)其晶體結(jié)構(gòu)進(jìn)行選擇。
雙層型的電子照相感光體的電荷生成層除了包含電荷生成材料之外，還包含作為電荷遷移材料的下面式1所示的萘四羧酸二酰亞胺衍生物。
下面式1所示的萘四羧酸二酰亞胺衍生物具有不對稱結(jié)構(gòu)，因而具有在有機(jī)溶液中的良好溶解性并具有與聚合物粘結(jié)劑樹脂的高相容性。而且，通過引入具有高電子親合性的硝基，改善了電子遷移能力。因此，當(dāng)向電荷生成層中加入萘四羧酸二酰亞胺衍生物作為ETM時，能獲得具有良好層間粘合力和良好電特性的雙層型的電子照相感光體。
式中，R1、R2、R3、R4、R5、R6和R7各自獨(dú)立地為選自氫原子，鹵原子，取代或未取代的C1～C20烷基，取代或未取代的C1～C20烷氧基，取代或未取代的C6～C30芳基，及取代或未取代的C7～C30芳烷基中的一種。
鹵原子代表氟、氯、溴或碘。
烷基為C1～C20直鏈或支鏈烷基，優(yōu)選為C1～C12直鏈或支鏈烷基。烷基的實例包括甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基、異丁基、仲丁基、叔丁基、戊基、己基、1，2-二甲基丙基和2-乙基己基。烷基可用鹵原子如氟、氯、溴或碘取代。
烷氧基為C1～C20直鏈或支鏈烷氧基，優(yōu)選為C1～C12直鏈或支鏈烷氧基。烷氧基的實例包括甲氧基、乙氧基和丙氧基。烷氧基可用鹵原子如氟、氯、溴或碘取代。
芳烷基為C7～C30直鏈或支鏈芳烷基，優(yōu)選為C7～C15直鏈或支鏈芳烷基。芳烷基的實例包括苯甲基、甲苯甲基、苯乙基、萘甲基和萘乙基。芳烷基可用鹵原子如氟、氯、溴或碘取代，或者可用烷基、烷氧基、硝基、羥基或磺酸基取代。
芳基為C6～C30芳環(huán)。芳基的實例包括苯基、甲苯基、二甲苯基、聯(lián)苯基、鄰-三聯(lián)苯基、萘基、蒽基、菲基等。芳基可用烷基、烷氧基、硝基、羥基、磺酸基或鹵原子取代。
根據(jù)式1不對稱的具有硝基的萘四羧酸二酰亞胺衍生物的具體實例包括以下化合物
從化合物(1)至(8)的結(jié)構(gòu)明顯可以看出，根據(jù)本發(fā)明實施方案的萘四羧酸二酰亞胺衍生物具有不對稱的結(jié)構(gòu)。術(shù)語“不對稱”是指在一種結(jié)構(gòu)中，取代兩個苯環(huán)中的每個苯環(huán)的取代基的種類、數(shù)量或取代位置(H原子可以看作是取代基)中的至少有一種是不同的，所述兩個苯環(huán)結(jié)合到萘四羧酸二酰亞胺結(jié)構(gòu)的兩個酰亞胺鍵的氮上。由于這種不對稱結(jié)構(gòu)，本發(fā)明的二酰亞胺衍生物具有在有機(jī)溶劑中改善了的溶解性和與聚合物粘結(jié)劑樹脂的優(yōu)異的相容性。因此，根據(jù)本發(fā)明實施方案的萘四羧酸二酰亞胺衍生物展示了顯著提高的電子遷移能力。另外，通過向其中引入具有高電子親合性的硝基，根據(jù)本發(fā)明實施方案的二酰亞胺衍生物的電子遷移能力得到進(jìn)一步增強(qiáng)。
接著，將描述根據(jù)本發(fā)明實施方案制備萘四羧酸二酰亞胺衍生物的方法。
通過使式4的萘四羧酸二酐與式5和6的取代或未取代的苯胺化合物反應(yīng)，制備萘四羧酸二酰亞胺衍生物[式4] [式5] [式6] 式中，R1、R2、R3、R4、R5、R6和R7如上述定義的。
在反應(yīng)中，可使用極性有機(jī)溶劑如二甲基甲酰胺(DMF)、二甲基乙酰胺(DMAc)、六甲基磷酰胺(HMPA)或N-甲基-2吡咯烷酮(NMP)。反應(yīng)溫度可設(shè)置為低于溶劑沸點(diǎn)20℃至溶劑沸點(diǎn)，優(yōu)選為低于溶劑沸點(diǎn)10℃至溶劑沸點(diǎn)。
一般，反應(yīng)可按以下方式進(jìn)行。首先，式4所示的萘四羧酸二酐化合物溶解在極性有機(jī)溶劑如DMF、DMAc、HMPA或NMP中，接著向所得到的溶液中滴加具有式5和6的化合物。然后，混合物回流3～24小時，優(yōu)選3～10小時，以獲得不對稱的具有硝基的萘四羧酸二酰亞胺衍生物。在反應(yīng)中，按1∶1∶1的摩爾比使用式4的萘四羧酸二酐、式5的苯胺化合物和式6的苯胺化合物。在反應(yīng)中，當(dāng)式5的化合物與式4的兩個酰亞胺氮原子反應(yīng)或者式6的化合物與式4的兩酰亞胺氮原子反應(yīng)時，獲得對稱的萘四羧酸二酰亞胺衍生物。該對稱的萘四羧酸二酰亞胺衍生物與根據(jù)本發(fā)明實施方案的不對稱的萘四羧酸二酰亞胺衍生物相比，具有在有機(jī)溶劑中的較小的溶解度。因此，根據(jù)本發(fā)明實施方案的不對稱的具有硝基的萘四羧酸二酰亞胺衍生物可根據(jù)在有機(jī)溶劑中溶解度的不同而分離出來。
相對于100重量份的電荷生成材料，式1的電子遷移材料的量可以優(yōu)選為5～50重量份，優(yōu)選為10～40重量份。如果電子遷移材料的量低于5重量份，則電子遷移材料不足并且剩余電位不能有效地降低。如果電子遷移材料的量高于50重量份，則電荷生成材料不足并且電荷不能有效地產(chǎn)生。
電荷生成層的電荷生成材料和電子遷移材料分散和/或溶解在粘結(jié)劑樹脂中。粘結(jié)劑樹脂的實例包括聚乙烯醇縮醛如聚乙烯醇縮甲醛或聚乙烯醇縮丁醛，聚酯，聚酰胺，聚乙烯醇，聚乙酸乙烯酯，聚氯乙烯，聚氨基甲酸酯，聚碳酸酯，(甲基)丙烯酸樹脂，聚偏二氯乙烯，聚苯乙烯，苯乙烯-丁二烯共聚物，苯乙烯-甲基丙烯酸甲酯共聚物，偏二氯乙烯-丙烯腈共聚物，氯乙烯-乙酸乙烯酯共聚物，氯乙烯-乙酸乙烯酯-馬來酐共聚物，乙烯-丙烯酸共聚物，乙烯-乙酸乙烯酯共聚物，甲基纖維素，乙基纖維素，硝化纖維素，羧甲基纖維素，有機(jī)硅樹脂，有機(jī)硅-醇酸樹脂，苯酚-甲醛樹脂，甲酚-甲醛樹脂，苯氧基樹脂，苯乙烯-醇酸樹脂，聚N-乙烯基咔唑樹脂，聚羥基苯乙烯，聚降冰片烯，多環(huán)石蠟(polycyclo-olefin)，聚乙烯基吡咯烷酮，聚(2-乙基唑啉)，聚砜，密胺樹脂，脲醛樹脂，氨基樹脂，異氰酸酯樹脂，及環(huán)氧樹脂。這些聚合物可以單獨(dú)使用或者兩種或多種組合使用。
相對于100重量份的電荷生成材料，粘結(jié)劑樹脂的量可以為5～350重量份，優(yōu)選為10～200重量份。如果粘結(jié)劑樹脂的量少于5重量份，則電荷生成材料不能被充分地分散，因而電荷生成層的分散體穩(wěn)定性降低，當(dāng)涂布在導(dǎo)電性基底上時難于獲得均勻的電荷生成層，且粘結(jié)力會下降。如果粘結(jié)劑樹脂的量高于350重量份，則難于保持電荷電位，并且由于粘結(jié)劑樹脂太多導(dǎo)致感光性不足而不能獲得所需圖像。
用來制造形成電荷生成層的涂布漿料(分散體)的溶劑可以根據(jù)使用的粘結(jié)劑樹脂的類型變化，并且優(yōu)選地，當(dāng)形成電荷生成層時不會對相鄰層產(chǎn)生不利影響。該溶劑的實例包括甲基異丙酮，甲基異丁酮，4-甲氧基-4-甲基-2-戊酮，乙酸異丙酯，乙酸叔丁酯，異丙醇，異丁醇，丙酮，甲乙酮，環(huán)己酮，1，2-二氯乙烷，1，1，2-三氯乙烷，1，1，1-三氯乙烷，三氯乙烯，四氯乙烷，二氯甲烷，四氫呋喃，二氧雜環(huán)己烷，二氧戊環(huán)，甲醇，乙醇，1-丙醇，1-丁醇，2-丁醇，1-甲氧基-2-異丙醇，乙酸乙酯，乙酸丁酯，二甲亞砜，甲基溶纖劑，丁胺，二乙胺，乙二胺，異丙醇胺，三乙醇胺，三亞乙基二胺，N，N′-二甲基甲酰胺，1，2-二甲氧基乙烷，苯，甲苯，二甲苯，甲苯，乙苯，環(huán)己烷，及苯甲醚。溶劑可以單獨(dú)使用或者兩種或多種組合使用。
現(xiàn)在將說明用于電荷生成層的涂布漿料的制備。首先，將100重量份的包括酞菁顏料如氧鈦酞菁的電荷生成材料，5～50重量份，優(yōu)選10～40重量份的式1的電子遷移材料，及5～350重量份，優(yōu)選10～200重量份的粘結(jié)劑樹脂與適量的，例如100～10000重量份，優(yōu)選500～8000重量份的溶劑混合。向所得到的混合物中加入玻璃珠、鋼珠、氧化鋯珠、氧化鋁珠、氧化鋯球、氧化鋁球或鋼球，并且利用分散器(disperser)分散2～50小時。在這個情況下，使用機(jī)械研磨方法?？刹捎玫难心ピO(shè)備的實例包括磨碎機(jī)，球磨機(jī)，砂磨機(jī)，及密煉機(jī)，輥磨機(jī)，三輥機(jī)，微粒機(jī)(nanomizer)，微射流機(jī)(microfluidizer)，搗碎機(jī)，行星軋機(jī)，振動磨碎機(jī)，碎紙機(jī)，均化器，超微粉磨機(jī)，油漆搖動器，高速攪拌器，ultimizer，超聲波研磨機(jī)等。所述研磨設(shè)備可以單獨(dú)使用或者兩種或多種組合使用。
將如此制備的用于電荷生成層的涂布漿料涂布在上述導(dǎo)電性基底上。涂布方法的實例包括浸涂，環(huán)涂(ring coating)，輥涂，噴涂等。被涂布的導(dǎo)電性基底在90～200℃下干燥0.1～2小時，形成電荷生成層。
電荷生成層的厚度可以為0.001～10μm，優(yōu)選為0.01～10μm，更優(yōu)選為0.05～3μm。如果電荷生成層的厚度低于0.001μm，則電荷生成層不能容易形成均勻。如果電荷生成層的厚度大于10μm，則其充電能力和感光性會降低。
然后，在電荷生成層上形成包含電荷遷移材料和粘結(jié)劑樹脂的電荷遷移層。
電荷遷移材料包括可遷移空穴的空穴遷移材料(HTM)和遷移電子的電子遷移材料(ETM)。當(dāng)雙層型感光體帶負(fù)電荷時，利用HTM作為電荷遷移材料，當(dāng)雙層型感光體具有雙極性，即帶正電荷/帶負(fù)電荷時，可以利用HTM和ETM的組合作為電荷遷移材料。
可用于本發(fā)明實施方案中的HTM沒有限制并且包括常規(guī)的HTM。HTM的具體實例包括含氮環(huán)狀化合物或者稠合的多環(huán)化合物，如腙化合物；丁二烯-基胺化合物，其包括N，N′-雙-(3-甲基苯基)-N，N′-雙(苯基)聯(lián)苯胺，N，N，N′，N′-四(3-甲基苯基)聯(lián)苯胺，N，N，N′，N′-四(4-甲基苯基)聯(lián)苯胺，N，N′-二(萘-1-基)-N，N′-二(4-甲基苯基)聯(lián)苯胺，及N，N′-二(萘-2-基)-N，N′-二(3-甲基苯基)聯(lián)苯胺等；聯(lián)苯胺化合物；芘化合物；咔唑化合物；芳基甲烷化合物；噻唑化合物；苯乙烯化合物；吡唑啉化合物；芳基胺化合物；唑化合物；二唑化合物；吡唑啉化合物；吡唑啉酮化合物；均二苯乙烯化合物；多芳基烷烴化合物；聚乙烯基咔唑化合物及其衍生物；N-丙烯酰胺甲基咔唑聚合物；三苯甲烷聚合物；苯乙烯共聚物；聚苊；聚茚；苊和苯乙烯的共聚物；及甲醛-基縮合脂等。此外，還可以采用在主鏈或支鏈上具有上述化合物的官能團(tuán)的高分子量化合物或聚硅烷化合物。
能夠用于本發(fā)明實施方案的ETM包括常規(guī)的ETM。ETM的具體實例包括吸電子的低分子量化合物如苯醌化合物，萘醌化合物，蒽醌化合物，丙二腈化合物，芴酮化合物，丙烯腈化合物，氰基醌二甲烷(cyanoquinodimethane)化合物，呫噸酮化合物，菲醌化合物，無水苯二甲酸化合物，硫代吡喃化合物，二氰基芴酮(dicyanofluorenone)化合物，包括式1的化合物的萘四羧酸二酰亞胺化合物，苯醌亞胺化合物，二苯酚合苯醌(diphenoquinone)化合物，芪醌化合物，二亞氨基醌(diiminoquinone)化合物，二氧并四苯二酮(dioxotetracenedione)化合物，及吡喃硫化物等。
另外，還可采用含有具有諸如上述的吸電子低分子量化合物結(jié)構(gòu)作為主鏈或支鏈的聚合物；或者具有n-型半導(dǎo)體特性的有機(jī)顏料如二萘嵌苯顏料，蒽嵌蒽醌顏料，紫環(huán)酮顏料，雙偶氮顏料等；無機(jī)顏料如氧化鈦，氧化鋅，硫化鎘等。
在根據(jù)本發(fā)明實施方案的電子照相感光體中，相對于100重量份的電荷遷移層中的粘結(jié)劑樹脂，電荷遷移層中的電荷遷移材料的量可以為5～200重量份，優(yōu)選為10～150重量份。如果電荷遷移材料的量低于5重量份，則電荷遷移能力不足，因而感光性不足，并且剩余電位可能增加。如果電荷遷移材料的量大于200重量份，則粘結(jié)劑樹脂的量降低，因而機(jī)械強(qiáng)度降低。
然而，能用于本發(fā)明實施方案的電荷遷移材料不限于上述的HTM或ETM，并且可以包括任何電荷遷移率大于10-8cm2/V秒的HTM或者ETM。上述電荷遷移材料可以單獨(dú)使用或者兩種或多種組合使用。
當(dāng)電荷遷移材料能夠形成薄膜時，不使用粘結(jié)劑樹脂，就能形成電荷遷移層，但低分子量材料通常不具有成膜能力。因而，電荷遷移材料溶解或分散在粘結(jié)劑樹脂中，獲得用于電荷遷移層的涂層組合物。然后將組合物涂布在電荷生成層上并干燥，從而形成電荷遷移層。能用于電荷遷移層的粘結(jié)劑樹脂的實例包括具有成膜能力的絕緣樹脂，如聚乙烯丁縮醛，多芳基化合物(例如，雙酚A和苯二甲酸的縮合聚合物等)，聚碳酸酯，聚酯樹脂，苯氧基樹脂，聚乙酸乙烯酯，丙烯酸樹脂，聚丙烯酰胺樹脂，聚酰胺，聚乙烯吡啶，纖維素-基樹脂，聚氨基甲酸酯樹脂，環(huán)氧樹脂，有機(jī)硅樹脂，聚苯乙烯，聚酮，聚氯乙烯，聚氯乙烯-丙烯酸共聚物，聚乙烯醇縮乙醛，聚丙烯腈，酚醛樹脂，密胺樹脂，酪蛋白，聚乙烯醇，聚乙烯基吡咯烷酮等；以及有機(jī)光導(dǎo)樹脂如聚N-乙烯基咔唑，聚乙烯基蒽，聚乙烯基芘等。
本發(fā)明人發(fā)現(xiàn)用于電荷遷移層的粘結(jié)劑樹脂優(yōu)選為聚碳酸酯樹脂，具體地為源于亞環(huán)己基雙酚的聚碳酸酯-Z，而不是源于雙酚A的聚碳酸酯-A或源于甲基雙酚A的聚碳酸酯-C，這是因為聚碳酸酯-Z具有更高的玻璃態(tài)轉(zhuǎn)變溫度并更耐磨。
根據(jù)本發(fā)明實施方案的電子照相感光體的電荷遷移層可以包含磷酸鹽化合物，氧化膦化合物，或其混合物，及硅油，以增加電荷遷移層的耐磨性并向電荷遷移層表面提供平滑度(滑動性質(zhì))。
用于制備根據(jù)本發(fā)明實施方案的電子照相感光體的電荷遷移層的涂層組合物的溶劑可根據(jù)所使用的粘結(jié)劑樹脂的類型變化，并且優(yōu)選不會對位于電荷遷移層下的電荷生成層產(chǎn)生不利影響。
溶劑的實例包括芳香烴，如苯，二甲苯，石油醚，一氯苯，及二氯苯等；酮，如丙酮，甲乙酮，及環(huán)己酮；醇，如甲醇，乙醇，及異丙醇；酯，如乙酸乙酯和甲基溶纖劑；鹵代脂肪烴，如四氯化碳，氯仿，二氯甲烷，二氯乙烷，及三氯乙烯；醚，如四氫呋喃，二氧雜環(huán)己烷，二氧戊環(huán)，乙二醇，及單甲醚；酰胺，如N，N-二甲基甲酰胺和N，N-二甲基乙酰胺；以及亞砜，如二甲亞砜。溶劑可以單獨(dú)使用或者兩種或多種組合使用。
現(xiàn)在將說明，用于電荷遷移層的涂層組合物的制備。首先，將100重量份的粘結(jié)劑樹脂，5～200重量份的電荷遷移材料，任選地0.01～10重量份的磷酸鹽化合物和/或氧化膦化合物，及任選地0.01～1重量份的硅油與適量例如為100～1500重量份，優(yōu)選為300～1200重量份的溶劑混合，然后將所得到的混合物均勻攪拌。
將如此制備的用于電荷遷移層的涂層組合物涂布在電荷生成層上。如上所述，涂布方法的實例包括浸涂，環(huán)涂，輥涂，及噴涂等。涂布后的基底在90～200℃下干燥0.1～2小時，形成電荷遷移層。
電荷生成層的厚度可以為2～100μm，優(yōu)選為5～50μm，更優(yōu)選為10～40μm。如果電荷遷移層的厚度低于2μm，則太薄，因而電荷遷移層的耐用性不足并且充電性能惡化。如果電荷遷移層的厚度大于100μm，物理耐磨性增加，但響應(yīng)速度和圖像質(zhì)量降低。
根據(jù)本發(fā)明實施方案的電子照相感光體可在電荷遷移層和/或電荷生成層中包含添加劑如抗氧化劑、光穩(wěn)定劑、增塑劑、均化劑、分散穩(wěn)定劑等，以提高耐環(huán)境性、對有害光的穩(wěn)定性或可加工性。
抗氧化劑的實例包括常規(guī)的抗氧化劑如受阻酚-基化合物，硫化物，膦酸酯-基化合物，亞磷酸酯-基化合物，及胺化合物。光穩(wěn)定劑的實例包括常用的光學(xué)穩(wěn)定劑如苯并三唑-基化合物，二苯甲酮-基化合物，及受阻胺化合物，但不限于此。
此外，當(dāng)需要時，根據(jù)本發(fā)明實施方案的電子照相感光體還可以包括表面保護(hù)層。
根據(jù)本發(fā)明實施方案的雙層型電子照相感光體可并入到電子照相成像設(shè)備如激光打印機(jī)，影印機(jī)，及傳真機(jī)上。
圖1是根據(jù)本發(fā)明實施方案的電子照相成像設(shè)備的示意圖。參照圖1，附圖標(biāo)記1表示半導(dǎo)體激光器。依據(jù)圖像信息通過控制電路11進(jìn)行信號調(diào)制的激光，在輻射后通過光學(xué)校正系統(tǒng)2校正并在被多邊旋光鏡3反射的同時進(jìn)行掃描。掃描透鏡4使激光聚焦于電子照相感光體5的表面上，根據(jù)圖像信息曝光表面的區(qū)域。電子照相感光體通過充電設(shè)備6被預(yù)充電，因而靜電潛像通過曝光過程形成在表面上，然后通過顯影設(shè)備7轉(zhuǎn)變成著色圖像。著色圖像通過轉(zhuǎn)印設(shè)備8轉(zhuǎn)印到圖像接受體12如紙上，然后通過定影設(shè)備10作為打印產(chǎn)物定影。電子照相感光體可以通過使用清洗設(shè)備9來去除殘留在表面上的著色劑而被重復(fù)使用。盡管圖1中的電子照相感光體為滾筒型，但是可以將根據(jù)本發(fā)明的電子照相感光體形成為板狀或帶狀。
在下文中，將參照下面的實施例詳述本發(fā)明。然而，這些實施例僅是為了說明性目的，并不是限制本發(fā)明的范圍。
實施例合成實施例(1)化合物(1)的合成下面描述具有下式的萘四羧酸二酰亞胺化合物(1)的合成。
用氮?dú)馇逑囱b有回流冷凝器的250ml三頸燒瓶，然后向其中倒入13.4g(0.05mol)萘-1，4，5，8-四羧酸二酐和500ml DMF并攪拌，得到溶液。在將溶液加熱至回流溫度后，向燒瓶中慢慢滴加9.15g(0.05mol)的5-甲氧基-2-甲基-4-硝基苯胺和4.7g(0.05mol)苯胺在50ml DMF中的溶液，然后將混合物回流4小時并冷卻至室溫。將混合物加到1000ml甲醇中并沉淀，獲得固體。將所獲得的固體從氯仿/甲醇溶劑中重結(jié)晶，并在真空中干燥，獲得22.0g淡黃色晶體-化合物(1)(收率為88％)。所獲得的化合物(1)的1H-NMR(300MHz，CDCl3溶劑)譜圖示于圖2中。
合成實施例2化合物(2)的合成下面描述具有下式的萘四羧酸二酰亞胺化合物(2)的合成。
按照與合成實施例1相同的方法制備21.2g萘四羧酸二酰亞胺化合物(2)，其為淡黃色晶體，所不同的是，用5.34g(0.05mol)4-甲基苯胺代替了苯胺(收率為81％)。所獲得的化合物(2)的1H-NMR(300MHz，CDCl3)譜圖示于圖3中。
合成實施例3化合物(3)的合成下面描述具有下式的萘四羧酸二酰亞胺化合物(3)的合成。
按照與合成實施例1相同的方法制備22.8g萘四羧酸二酰亞胺化合物(3)，其為淡黃色晶體，所不同的是，用6.86g(0.05mol)的5-甲氧基-2-甲苯胺代替苯胺(收率為83％)。所獲得的化合物(3)的1H-NMR(300MHz，CDCl3)譜圖示于圖4中。
實施例1將20重量份作為電荷生成材料的下面式9所示的y-氧鈦酞菁(y-TiOPc)，2重量份作為電子遷移材料的萘四羧酸二酰亞胺化合物(1)，13重量份的粘結(jié)劑樹脂(DENKI KAGAKU KOGYO KABUSHIKI KAISHA，PVB 6000-C)，及635重量份的四氫呋喃(THF)砂磨2個小時并且用超聲波均勻地分散。采用環(huán)涂法，將所得到的用于電荷生成層的涂布漿料涂布在外徑為24mm、長為236mm的陽極氧化鋁滾筒上(陽極氧化膜的厚度為5μm)，并在120℃下干燥約20分鐘，制備0.5μm厚的電荷生成層(CGL)。
接下來，將45重量份作為HTM的下面的烯胺芪-基化合物(10)，55重量份下面化合物(11)的聚碳酸酯-Z粘結(jié)劑樹脂(Mitsubishi Gas Chemical，PCZ200)溶解在426重量份的THF/甲苯(重量比＝4/1)的混合溶劑中，制備用于電荷遷移層的涂布溶液。將所獲得的涂布溶液均勻地涂布在電荷生成層上，并在烘箱中于120℃下干燥30分鐘，制備20μm厚的電荷遷移層(CTL)，因而制得帶負(fù)電荷(-)型雙層感光滾筒。
實施例2按照與實施例1相同的方法制備帶負(fù)電荷(-)型雙層感光滾筒，所不同的是，萘四羧酸二酰亞胺化合物(1)的量變成5重量份。
實施例3按照與實施例1相同的方法制備帶負(fù)電荷(-)型雙層感光滾筒，所不同的是，萘四羧酸二酰亞胺化合物(1)的量變成7重量份。
實施例4按照與實施例1相同的方法制備帶負(fù)電荷(-)型雙層感光滾筒，所不同的是，采用2重量份的萘四羧酸二酰亞胺化合物(2)代替萘四羧酸二酰亞胺化合物(1)。
實施例5按照與實施例1相同的方法制備帶負(fù)電荷(-)型雙層感光滾筒，所不同的是，采用5重量份的萘四羧酸二酰亞胺化合物(2)代替萘四羧酸二酰亞胺化合物(1)。
實施例6按照與實施例1相同的方法制備帶負(fù)電荷(-)型雙層感光滾筒，所不同的是，采用7重量份的萘四羧酸二酰亞胺化合物(2)代替萘四羧酸二酰亞胺化合物(1)。
實施例7按照與實施例1相同的方法制備帶負(fù)電荷(-)型雙層感光滾筒，所不同的是，采用2重量份的萘四羧酸二酰亞胺化合物(3)代替萘四羧酸二酰亞胺化合物(1)。
實施例8按照與實施例1相同的方法制備帶負(fù)電荷(-)型雙層感光滾筒，所不同的是，采用5重量份的萘四羧酸二酰亞胺化合物(3)代替萘四羧酸二酰亞胺化合物(1)。
實施例9按照與實施例1相同的方法制備帶負(fù)電荷(-)型雙層感光滾筒，所不同的是，采用7重量份的萘四羧酸二酰亞胺化合物(3)代替萘四羧酸二酰亞胺化合物(1)。
對比例1
將通過混合20重量份作為電荷生成材料的上面式9所示的y-氧鈦酞菁(y-TiOPc)，18重量份上面化合物(12)的PVB粘結(jié)劑樹脂(DENKI KAGAKUKOGYO KABUSHIKI KAISHA，PVB 6000-C)，及635重量份的四氫呋喃(THF)所獲得的混合物砂磨兩小時然后超聲波處理。將所獲得的用于電荷生成層的漿料均勻地涂布在外徑為24mm、長度為236mm的陽極氧化鋁滾筒上(陽極氧化層厚度5μm)，并在烘箱中于120℃下干燥20分鐘，因而制得0.5μm厚的電荷生成層。
然后，45重量份作為HTM的上面的烯胺芪-基化合物(10)，及55重量份的上面的化合物(11)的聚碳酸酯-Z粘結(jié)劑樹脂(Mitsubishi Gas Chemical，PCZ200)溶解在426重量份的THF/甲苯(重量比＝4/1)的混合溶劑中，制備用于電荷遷移層的涂布溶液。將所獲得的涂布溶液均勻地涂布在電荷生成層上，然后在烘箱中于120℃下干燥30分鐘，制備20μm厚的電荷遷移層(CTL)，因而制得帶負(fù)電荷(-)型雙層型感光滾筒。
對比例2按照與對比例1相同的方法制備帶負(fù)電荷(-)型雙層感光滾筒，所不同的是，PVB粘結(jié)劑樹脂的量變成13重量份。
對比例3按照與實施例1相同的方法制備帶負(fù)電荷(-)型雙層感光滾筒，所不同的是，采用2重量份的二氰基芴酮化合物(13)代替萘四羧酸二酰亞胺化合物(1)。
對比例4按照與實施例1相同的方法制備帶負(fù)電荷(-)型雙層感光滾筒，所不同的是，采用5重量份的二氰基芴酮化合物(13)代替萘四羧酸二酰亞胺化合物(1)。
對比例5按照與實施例1相同的方法制備帶負(fù)電荷(-)型雙層感光滾筒，所不同的是，采用7重量份的二氰基芴酮化合物(13)代替萘四羧酸二酰亞胺化合物(1)。
電性能的測量在23℃和50％的濕度下，采用滾筒型感光體評價設(shè)備(由QEA制造的“PDT-2000”)測量在實施例1至9以及對比例1至5中制得的各電子照相感光體的電性能如下。按照充電設(shè)備和感光體的100mm/秒的相對速度，向電子照相感光滾筒施加-7.5KV的電暈電壓，以便使電子照相感光滾筒的電荷電位值Vo為800V。接著，將波長為780nm的單色光照射到電子照相感光滾筒的表面上，并記錄感光滾筒的表面電位值，測量曝光能和感光滾筒表面電位之間的關(guān)系。結(jié)果列于表1中。在表1中，E1/2(μJ/cm2)表示感光體表面電位為初始電位Vo的1/2所需的光能，E200(μJ/cm2)表示感光體表面電位為200V所需的光能。這些值越小，電子照相感光體的感光性越好。E0.25(V)表示照射0.25μJ/cm2的光能時感光體的表面電位，并表明剩余電位的量。
表1

參照表1，實施例1至9的電子照相感光體中，除了電荷生成材料y-TiOPc外，還包含用作電子遷移材料的不對稱的具有硝基的萘四羧酸二酰亞胺化合物(1)、(2)或(3)，與對比例1至5的電子照相感光體相比，其具有較低的E1/2、E200和E0.25值。因此，根據(jù)本發(fā)明的實施例1至9的電子照相感光體與對比例1至5的電子照相感光體相比，具有更好的感光性和更低的剩余電位。具體地，實施例1至9的E0.25明顯小于對比例1和2的E0.25，在對比例1和2中，如在常規(guī)的兩層型電子照相感光體一樣，電荷生成層中不包含ETM。這表明當(dāng)使用實施例1至9的電子照相感光體時，剩余電位大大降低，從而獲得良好的圖像。可推斷在電荷生成層中產(chǎn)生的電子通過ETM有效地流動，這又促進(jìn)電荷產(chǎn)生，從而降低E0.25。因此，當(dāng)雙層型電子照相感光體的CGL包含用作ETM的含有硝基的不對稱的萘四羧酸二酰亞胺化合物時，電子照相感光體的電性能得到改善。
再參照表1，可以注意到在包含用作ETM的二氰基芴酮化合物(13)的對比例3至5中，與在電荷生成層中不包含ETM的對比例1和2相比，其E1/2、E200、E0.25較大。這表明對比例3至5的兩層型電子照相感光體的電性能要比CGL中不包含ETM的對比例1和2的電性能差。
同時，在實施例1至9的電子照相感光體中CGL的粘結(jié)劑樹脂的量足夠多，因而CGL與鋁滾筒之間以及CGL與CTL之間的粘合力良好。
如上所述，除了包含電荷生成材料外，在電荷生成層中還包含不對稱的具有硝基的萘四羧酸二酰亞胺化合物的雙層型電子照相感光體，具有良好的層間粘合力和高感光性，并且曝光后剩余電位低。因此，能夠獲得高質(zhì)量圖像。
盡管已經(jīng)參照其示例性實施方案具體地給出和描述了本發(fā)明，但是本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)理解其中可以做出各種形式和細(xì)節(jié)上的變化，而不脫離由所附的權(quán)利要求書定義的本發(fā)明的構(gòu)思和范圍。
權(quán)利要求
1.一種電子照相感光體，包括導(dǎo)電性基底；電荷生成層，其置于導(dǎo)電性基底之上，并包含分散或溶解在粘結(jié)劑樹脂中的電荷生成材料，及如下面式1所示并且分散或溶解在粘結(jié)劑樹脂中的萘四羧酸二酰亞胺衍生物；以及電荷遷移層，其置于電荷生成層之上，并包含分散或溶解在粘結(jié)劑樹脂中的電荷遷移材料，[式1] 式中，R1、R2、R3、R4、R5、R6和R7各自獨(dú)立地選自氫原子，鹵原子，取代或未取代的C1～C20烷基，取代或未取代的C1～C20烷氧基，取代或未取代的C6～C30芳基，及取代或未取代的C7～C30芳烷基。
2.根據(jù)權(quán)利要求1的電子照相感光體，其中所述電荷生成材料為下面式2所示的不含金屬的酞菁化合物，下面式3所示的金屬酞菁化合物，或者它們的混合物，[式2] [式3] 式中，R1～R16各自獨(dú)立地為氫原子、鹵原子、硝基、取代或未取代的C1～C20烷基或者取代或未取代的C1～C20烷氧基，且M為銅、氯鋁、氯銦、氯鎵、氯鍺、氧釩、氧鈦、羥基鍺或羥基鎵。
3.根據(jù)權(quán)利要求1的電子照相感光體，其中，相對于100重量份的電荷生成材料，所述電荷生成層中的粘結(jié)劑樹脂的量為5～350重量份。
4.根據(jù)權(quán)利要求1的電子照相感光體，其中，相對于100重量份的電荷生成材料，式1所示的電子遷移材料的量為5～50重量份。
5.根據(jù)權(quán)利要求1的電子照相感光體，其中所述電荷遷移層中的電荷遷移材料為空穴遷移材料。
6.根據(jù)權(quán)利要求1的電子照相感光體，其中，相對于100重量份所述電荷遷移層的粘結(jié)劑樹脂，所述電荷遷移層中的電荷遷移材料的量為5～200重量份。
7.根據(jù)權(quán)利要求1的電子照相感光體，其中所述電荷生成層的粘結(jié)劑樹脂為聚乙烯醇縮丁醛樹脂，及所述電荷遷移層的粘結(jié)劑樹脂為聚碳酸酯-Z樹脂。
8.根據(jù)權(quán)利要求1的電子照相感光體，其中所述萘四羧酸二酰亞胺的不對稱衍生物選自
9.一種包括電子照相感光體的電子照相成像設(shè)備，其中所述電子照相感光體包括導(dǎo)電性基底；電荷生成層，其置于導(dǎo)電性基底之上，并包含分散或溶解在粘結(jié)劑樹脂中的電荷生成材料，及如下面式1所示并且分散或溶解在粘結(jié)劑樹脂中的萘四羧酸二酰亞胺衍生物；以及電荷遷移層，其置于電荷生成層之上，并包含分散或溶解在粘結(jié)劑樹脂中的電荷遷移材料，[式1] 式中，R1、R2、R3、R4、R5、R6和R7各自獨(dú)立地選自氫原子，鹵原子，取代或未取代的C1～C20烷基，取代或未取代的C1～C20烷氧基，取代或未取代的C6～C30芳基，及取代或未取代的C7～C30芳烷基。
10.根據(jù)權(quán)利要求9的電子照相成像設(shè)備，其中所述電荷生成材料為下面式2所示的不含金屬的酞菁化合物，下面式3所示的金屬酞菁化合物，或者它們的混合物，[式2] [式3] 式中，R1～R16各自獨(dú)立地為氫原子、鹵原子、硝基、取代或未取代的C1～C20烷基或者取代或未取代的C1～C20烷氧基，且M為銅、氯鋁、氯銦、氯鎵、氯鍺、氧釩、氧鈦、羥基鍺或羥基鎵。
11.根據(jù)權(quán)利要求9的電子照相成像設(shè)備，其中，相對于100重量份的所述電荷生成材料，所述電荷生成層中的粘結(jié)劑樹脂的量為5～350重量份。
12.根據(jù)權(quán)利要求9的電子照相成像設(shè)備，其中，相對于100重量份的所述電荷生成材料，式1的電子遷移材料的量為5～50重量份。
13.根據(jù)權(quán)利要求9的電子照相成像設(shè)備，其中所述電荷遷移層中的電荷遷移材料為空穴遷移材料。
14.根據(jù)權(quán)利要求9的電子照相成像設(shè)備，其中，相對于100重量份的所述電荷遷移層的粘結(jié)劑樹脂，電荷遷移層中的電荷遷移材料的量為5～200重量份。
15.根據(jù)權(quán)利要求9的電子照相成像設(shè)備，其中所述電荷生成層的粘結(jié)劑樹脂為聚乙烯醇縮丁醛樹脂，且所述電荷遷移層的粘結(jié)劑樹脂為聚碳酸酯-Z樹脂。
16.根據(jù)權(quán)利要求9的電子照相成像設(shè)備，其中所述萘四羧酸二酰亞胺的不對稱衍生物選自
全文摘要
一種電子照相感光體，其包括導(dǎo)電性基底；電荷生成層，其置于導(dǎo)電性基底之上，并包含分散或溶解在粘結(jié)劑樹脂中的電荷生成材料和分散或溶解在粘結(jié)劑樹脂中不對稱的具有硝基的萘四羧酸二酰亞胺衍生物。該感光體還具有電荷遷移層，其置于電荷生成層之上，并包含分散或溶解在粘結(jié)劑樹脂中的電荷遷移材料。包括電子照相感光體的電子照相成像設(shè)備。所述雙層型電子照相感光體具有良好的層間粘合力以及良好的電特性如良好的感光性和曝光后的低剩余電位。
文檔編號G03G5/05GK1971431SQ20061016893
公開日2007年5月30日 申請日期2006年9月18日 優(yōu)先權(quán)日2005年9月16日
發(fā)明者金承柱, 金范俊, 橫田三郎, 連卿烈, 牧野要, 李桓求, 李知英 申請人:三星電子株式會社