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令透明基板上透明電極不可見的處理方法

文檔序號:2679874閱讀:151來源:國知局
專利名稱:令透明基板上透明電極不可見的處理方法
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明有關(guān)于一種令透明基板上透明電極不可見的處理方法,尤指在一透明玻璃基板上布設(shè)多條透明電極后,將一非導(dǎo)電納米材料粒子所形成的溶液涂布在該透明基板及該等透明電極上,形成一平整且均勻的遮蔽層,以使該透明基板上未布設(shè)該等透明電極的部位與布設(shè)該等透明電極的部位對光線具有相同的折射率的處理方法。
背景技術(shù)
近年來,由于各方面技術(shù)的突飛猛進(jìn),帶動(dòng)了各項(xiàng)產(chǎn)業(yè)的蓬勃發(fā)展,其中尤以在電子、信息及通訊等產(chǎn)品上的進(jìn)步特別顯著,不僅在結(jié)構(gòu)及功能上更為創(chuàng)新,在使用及輸入方式上也更符合人性化的需求,且呈現(xiàn)更多元化的面貌,觸控面板(Touch Panel)的出現(xiàn),改變了傳統(tǒng)電子產(chǎn)品的輸入模式,令使用者不再局限于使用傳統(tǒng)輸入裝置(例如按鍵或鼠標(biāo))輸入數(shù)據(jù)或操控指令,僅需由觸控面板的人性化輸入接口,依照畫面上的功能圖標(biāo),直接以手指或觸控筆等點(diǎn)選欲執(zhí)行的功能及指令,幾乎完全無需任何教導(dǎo)及學(xué)習(xí),即可順利完成欲執(zhí)行的工作。查,觸控面板目前除已被廣泛地應(yīng)用在各式各樣的個(gè)人化的電子產(chǎn)品上外,例如掌上電腦(Palm-Sized PC)、個(gè)人數(shù)字助理(PDA)、信息家電(InformationAppliance)等,也已被廣泛使用于醫(yī)療、交通、旅游及教育等相關(guān)用途的公共信息站中,使得觸控面板的應(yīng)用范圍及市場需求,有不斷擴(kuò)大的趨勢。
一般言,觸控面板是在一透明玻璃基板(Glass)上布設(shè)所需的透明導(dǎo)電薄膜(ITO Film),形成一透明導(dǎo)電玻璃(ITO Glass),再搭配所需的排線及電路板,電路板上所設(shè)的控制IC可根據(jù)使用者在該觸控面板上的觸壓位置,啟動(dòng)該位置相對應(yīng)的控制指令,達(dá)成直接在該觸控面板輸入數(shù)據(jù)及指令的目的。由于,此種觸控面板現(xiàn)已普遍被安裝在各式電子產(chǎn)品上,作為液晶顯示屏(liquid crystal display,簡稱LCD),故使用者可由直接觸壓該觸控面板,輸入數(shù)據(jù)及指令,而不需再裝設(shè)其它的傳統(tǒng)輸入裝置(如鍵盤、鼠標(biāo)),如此,即能騰出更多的工作空間,或安裝更大的顯示面板,方便使用者瀏覽及輸入資料。
由前揭說明可知,透明導(dǎo)電玻璃(ITO Glass)是觸控面板的主要構(gòu)件,該透明導(dǎo)電玻璃主要是透明玻璃基板及透明導(dǎo)電層所構(gòu)成,其制作原理是在原本不導(dǎo)電的該透明玻璃基板上,鍍上一層可導(dǎo)電的透明金屬材料,以在該透明玻璃基板上形成該透明導(dǎo)電層。一般言,該透明導(dǎo)電層的材質(zhì)為「氧化銦錫」(Indium Tin Oxide,簡稱ITO),而該透明導(dǎo)電層是由多條布設(shè)在該透明玻璃基板的ITO透明電極所組成,為更能了解該透明導(dǎo)電玻璃的構(gòu)造,特將其制作工藝過程說明如下,請參閱圖1所示清洗101在對該透明玻璃基板進(jìn)行加工前,需清洗該透明玻璃基板的表面,以除去其上所沾附的塵埃及微粒;鍍膜102在該透明玻璃基板的一側(cè)表面鍍上一層氧化銦錫薄膜;涂布光阻(P/R)層103利用滾輪印刷,在該透明玻璃基板上鍍有氧化銦錫薄膜的一側(cè)表面涂布一層光阻劑;預(yù)烤104緩慢地對該透明玻璃基板進(jìn)行加熱,以將涂布在該透明玻璃基板上的光阻層予以定型,以便進(jìn)行后續(xù)處理;曝光105以定量的紫外線光(Ultraviolet,簡稱UV)照射該透明玻璃基板上的光阻層,使該光阻層產(chǎn)生化學(xué)變化,而在該光阻層上產(chǎn)生一遮蔽圖形區(qū)及一曝光區(qū);顯影106以一顯影液清洗該曝光區(qū),以洗去該曝光區(qū)內(nèi)的光阻層,如此,該氧化銦錫薄膜即可露出;
蝕刻(Etching)107再以王水洗去該曝光區(qū)所露出的該氧化銦錫薄膜;剝離(Stripping)108使用一堿性溶液(通常使用KOH,即氫氧化納)對該遮蔽圖形區(qū)進(jìn)行清洗,使該遮蔽圖形區(qū)上的該光阻層溶于該堿性溶液,即可在該透明玻璃基板上形成所需的該等ITO透明電極;電檢(After Etching Inspect)109對該透明玻璃基板進(jìn)行電極檢查,若發(fā)現(xiàn)ITO電極間有短路現(xiàn)象時(shí),利用一雷射修正機(jī)將短路點(diǎn)打掉,即完成該透明導(dǎo)電玻璃的制作,即可再進(jìn)行后續(xù)處理以裝配在該觸控面板內(nèi)。
但,將該透明導(dǎo)電玻璃作為液晶顯示屏使用時(shí),使用者通過該透明導(dǎo)電玻璃所觀察到的顯示畫面,經(jīng)常有斷層、影像模糊化、顯示顆?;蚍直媛式档偷惹樾伟l(fā)生,究其原因,乃該透明導(dǎo)電玻璃各個(gè)位置對光線的折射率互不相同所致,如圖2所示,為依前揭流程所制出的透明導(dǎo)電玻璃1,該透明導(dǎo)電玻璃1是由一透明玻璃基板10及其上所布設(shè)的多條ITO透明電極12所組成,其中該透明玻璃基板10上未設(shè)有該等ITO透明電極12的部份,對光線的折射率介于1.4~1.5間,而該等ITO透明電極12對光線的折射率則介于1.8~2.2間,由于兩者對光線的折射率互不相同,不僅導(dǎo)致使用者所觀察到的畫面品質(zhì)大打折扣,并使較小的圖標(biāo)及文字變得模糊不清,進(jìn)而無法供使用者順利地觸壓到正確的觸壓位置上,以啟動(dòng)該位置所對應(yīng)的控制指令,造成使用者無法順利地輸入數(shù)據(jù)或指令。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供一種令透明基板上透明電極不可見的處理方法,以改進(jìn)已知技術(shù)所產(chǎn)生的缺失。
本發(fā)明的目的是這樣實(shí)現(xiàn)的,一種令透明基板上透明電極不可見的處理方法,該方法是在一透明基板上布設(shè)多條透明電極后,將一非導(dǎo)電納米材料粒子所形成的溶液涂布在該透明基板及該等透明電極上,而該非導(dǎo)電納米材料粒子對光線的折射率與該等透明電極相同,對該透明基板進(jìn)行高溫?zé)崽幚?,?jīng)過一熱處理時(shí)間后,在該透明基板及該等透明電極上形成一平整且均勻的遮蔽層。
如上所述,本發(fā)明由該遮蔽層內(nèi)的非導(dǎo)電納米材料粒子,即可使該透明基板上未布設(shè)該等透明電極的部位及布設(shè)該等透明電極的部位,對光線均具有相同的折射率,可有效避免該透明基板上各個(gè)部位對光線的折射率不同,所導(dǎo)致的畫面影像品質(zhì)不佳等問題。


圖1已知的透明導(dǎo)電玻璃的制作流程圖;圖2已知的透明導(dǎo)電玻璃的示意圖;圖3本發(fā)明的透明基板的示意圖;圖4本發(fā)明的透明基板及遮蔽層的制作流程圖;圖5本發(fā)明的一實(shí)施例流程圖;圖6本發(fā)明的另一實(shí)施例流程圖。
附圖標(biāo)號透明基板.............2透明電極.............20遮蔽層...............具體實(shí)施方式
本發(fā)明為一種令透明基板上透明電極不可見的處理方法,請參閱圖3所示,該方法是先在一透明基板2布設(shè)多條透明電極20,再將一非導(dǎo)電納米材料粒子所形成的溶液涂布在該透明基板2及該等透明電極20上,該非導(dǎo)電納米材料粒子對光線的折射率是與該等透明電極20相同,隨后,對該透明基板2進(jìn)行高溫?zé)崽幚恚?jīng)過一熱處理時(shí)間后,即在該透明基板2及該等透明電極20上形成一平整且均勻的遮蔽層21,如此,由該遮蔽層21內(nèi)的該非導(dǎo)電納米材料粒子,即可使該透明基板2上未布設(shè)該等透明電極20的部位及布設(shè)該等透明電極20的部位,對光線均具有相同的折射率,可有效避免該透明基板2的各部位對光線的折射率不同,所導(dǎo)致的畫面影像品質(zhì)不佳等問題。
本發(fā)明的處理方法是應(yīng)用在布設(shè)多條透明電極20的透明基板2上,請參閱圖4所示,包括下列步驟401將具有與該等透明電極20相同的折射率的一非導(dǎo)電納米材料粒子所形成的溶液,均勻地涂布在該透明基板2及該等透明電極20上;402對該透明基板2進(jìn)行高溫?zé)崽幚?,?jīng)過一段熱處理時(shí)間后,在該透明基板2及該等透明電極20上形成一平整且均勻的遮蔽層21。
在本發(fā)明的一實(shí)施例中,請參閱圖5所示,該方法在將該非導(dǎo)電納米材料粒子所形成的溶液,涂布在該透明基板2及該等透明電極20上前,需對該非導(dǎo)電納米材料粒子進(jìn)行下列處理501將該非導(dǎo)電納米材料粒子添加至一溶劑中;502將一分散劑添加至該溶劑中;503以超聲波對該溶劑進(jìn)行處理,使該非導(dǎo)電納米材料粒子得均勻地分散在該溶劑中,以形成該溶液,如此,該非導(dǎo)電納米材料粒子始可被均勻地涂布在該透明基板2及透明電極20上。
在該實(shí)施例中,再請參閱圖3所示,該非導(dǎo)電納米材料粒子可為對光線的折射率介于1.8~2.2間的一種非導(dǎo)電納米粒子,該非導(dǎo)電納米材料粒子可為氧化銻(Sb2O3)、氧化鉻(Cr2O3)、氧化銦(In2O3)、氧化鉭(Ta2O3)、氧化鈦(TiO2)或氧化鋯(ZrO2)等材料或其混合物,且該納米粒子的大小介于10~100nm間,如此,當(dāng)該納米粒子被均勻地涂布在該透明基板2及該等透明電極20上形成一平整且均勻的遮蔽層21時(shí),該納米粒子將使該透明基板2上未布設(shè)該等透明電極20的部位與布設(shè)該等透明電極20的部位,對光線的折射率均維持在1.8~2.2間,有效避免了已知透明導(dǎo)電玻璃因各部位對光線的折射率不同所產(chǎn)生的影像模糊化、顯示顆粒化或分辨率降低等諸多缺失。
在該實(shí)施例中,當(dāng)該分散劑添加至該溶劑后,以超聲波對該溶劑進(jìn)行處理前,可再添加一接著劑在該溶劑中,該接著劑可為一硅氧烷化合物,而該溶劑可為乙醇,如此,經(jīng)過超聲波處理后,即可形成具有該錫銻氧化物納米粒子的溶液,當(dāng)該納米粒子所形成的溶液涂布在該透明基板2及該等透明電極20上后,對該透明基板2經(jīng)過至少30分鐘,且溫度介于攝氏100~200度間的高溫?zé)崽幚?,即可在該透明基?及該等透明電極20上形成平整且均勻的該遮蔽層21,使該錫銻氧化物的納米粒子均勻地附著在該透明基板2及透明電極20上。
在本發(fā)明的另一實(shí)施例中,請參閱圖6所示,該方法在制作該非導(dǎo)電納米材料粒子所形成的溶液時(shí),包括下列步驟601將氧烷金屬化合物添加至一溶劑中,并對該溶劑進(jìn)行攪拌;602再將一凝膠反應(yīng)催化劑添加至該溶劑中;603對該溶劑進(jìn)行溫度介于攝氏50~80度間的低溫?zé)崽幚?,?jīng)過溶膠凝膠反應(yīng)(sol-gel)所需的一反應(yīng)時(shí)間后,即形成均勻地含有該氧烷金屬化合物納米粒子的溶液。
在該另一實(shí)施例中,再請參閱圖3所示,該氧烷金屬化合物的納米粒子對光線的折射率介于1.8~2.2間,其材料可為四氧丁烷基鈦(Ti(OCH2CH2CH2CH3)4),如此,當(dāng)該氧烷金屬化合物的納米粒子被均勻地涂布在該透明基板2及該等透明電極20上形成一平整且均勻的遮蔽層21時(shí),該氧烷金屬化合物的納米粒子將使該透明基板2上未布設(shè)該等透明電極20的部位與布設(shè)該等透明電極20的部位,對光線的折射率均維持在1.8~2.2間,有效避免了已知的透明導(dǎo)電玻璃因各部位對光線的折射率不同所產(chǎn)生的影像模糊、顏色差異、顯示顆粒化或分辨率降低等缺失。
在該另一實(shí)施例中,該溶劑可為乙基丙酮(acetylacetone),而該凝膠反應(yīng)催化劑可為一硝酸及水,當(dāng)該溶劑經(jīng)過至少60分鐘的溶膠凝膠反應(yīng)后,即可形成具有該氧烷金屬化合物納米粒子的溶液,并可將其涂布在該透明基板2及透明電極20上,當(dāng)該透明基板2經(jīng)過至少60分鐘,且溫度介于攝氏200~300度間的高溫?zé)崽幚砗?,即在該透明基?及該等透明電極20上形成平整且均勻的該遮蔽層21,使該氧烷金屬化合物納米粒子均勻地附著在該透明基板2及透明電極20上。
由本發(fā)明的方法,不僅可消除該透明基板2與該等透明電極20間蝕刻線所造成的不良影響,并可有效避免該透明基板2布設(shè)該等透明電極20的部位及未布設(shè)該等透明電極20的部位,因?qū)饩€的折射率不同,所產(chǎn)生的畫面影像品質(zhì)不佳的問題。
雖然本發(fā)明已以具體實(shí)施例揭示,但其并非用以限定本發(fā)明,任何本領(lǐng)域的技術(shù)人員,在不脫離本發(fā)明的構(gòu)思和范圍的前提下所作出的等同組件的置換,或依本發(fā)明專利保護(hù)范圍所作的等同變化與修飾,皆應(yīng)仍屬本專利涵蓋之范疇。
權(quán)利要求
1.一種令透明基板上透明電極不可見的處理方法,該方法應(yīng)用在布設(shè)有多條透明電極的一透明基板上,其特征在于包括下列步驟將具有與該等透明電極相同的折射率的一非導(dǎo)電納米材料粒子所形成的溶液涂布在該透明基板及該等透明電極上;對該透明基板進(jìn)行高溫?zé)崽幚恚?jīng)過一段熱處理時(shí)間后,在該透明基板及該等透明電極上形成一平整且均勻的遮蔽層。
2.如權(quán)利要求1所述的令透明基板上透明電極不可見的處理方法,其特征在于在將該溶液涂布在該透明基板及該等透明電極前,尚包括下列步驟將該非導(dǎo)電納米材料粒子添加至一溶劑中;將一分散劑添加至該溶劑中;以超聲波對該溶劑進(jìn)行處理,將該非導(dǎo)電納米材料粒子均勻地分散在該溶劑中,以形成該溶液。
3.如權(quán)利要求2所述的令透明基板上透明電極不可見的處理方法,其特征在于在該分散劑添加至該溶劑后,及超聲波對該溶劑進(jìn)行處理前,添加一接著劑在該溶劑中。
4.如權(quán)利要求3所述的令透明基板上透明電極不可見的處理方法,其特征在于該非導(dǎo)電納米材料粒子折射率介于1.8~2.2間,且為氧化銻、氧化鉻、氧化銦、氧化鉭、氧化鈦或氧化鋯材料,或所述材料的混合物。
5.如權(quán)利要求4所述的令透明基板上透明電極不可見的處理方法,其特征在于該接著劑為硅氧烷化合物。
6.如權(quán)利要求5所述的令透明基板上透明電極不可見的處理方法,其特征在于該溶劑是一乙醇溶液。
7.如權(quán)利要求6所述的令透明基板上透明電極不可見的處理方法,其特征在于該非導(dǎo)電納米材料粒子的大小介于10~100nm間。
8.如權(quán)利要求7所述的令透明基板上透明電極不可見的處理方法,其特征在于該高溫?zé)崽幚淼臏囟冉橛跀z氏100~200度間。
9.如權(quán)利要求1所述的令透明基板上透明電極不可見的處理方法,其特征在于該方法在該溶液進(jìn)行涂布前包括下列步驟將氧烷金屬化合物添加至一溶劑中,并對該溶劑進(jìn)行攪拌;將一凝膠反應(yīng)催化劑添加至該溶劑中;對該溶劑進(jìn)行低溫?zé)崽幚?,?jīng)過一反應(yīng)時(shí)間即形成具有該非導(dǎo)電納米材料粒子的溶液。
10.如權(quán)利要求9所述的令透明基板上透明電極不可見的處理方法,其特征在于該氧烷金屬化合物為四氧丁烷基鈦。
11.如權(quán)利要求10所述的令透明基板上透明電極不可見的處理方法,其特征在于該溶劑為乙基丙酮溶劑。
12.如權(quán)利要求11所述的令透明基板上透明電極不可見的處理方法,其特征在于該凝膠反應(yīng)催化劑為硝酸及水。
13.如權(quán)利要求12所述的令透明基板上透明電極不可見的處理方法,其特征在于該高溫?zé)崽幚淼臏囟冉橛跀z氏200~300度間。
14.如權(quán)利要求13所述的令透明基板上透明電極不可見的處理方法,其特征在于該低溫?zé)崽幚淼臏囟冉橛跀z氏50~80度間。
全文摘要
本發(fā)明為一種令透明基板上透明電極不可見的處理方法,是在一透明基板上布設(shè)多條透明電極后,將一非導(dǎo)電納米材料粒子所形成的溶液,涂布在該透明基板及該等透明電極上,該納米材料具有與該透明電極相同的折射率,隨后對該透明基板進(jìn)行高溫?zé)崽幚恚?jīng)過一段熱處理時(shí)間后,在該透明基板及該等透明電極上形成一平整且均勻的遮蔽層,如此,由該遮蔽層,即可使該透明基板上未布設(shè)該等透明電極的部位與布設(shè)該等透明電極的部位對光線都具有相同的折射率,以有效避免該透明基板上因折射率的不同所導(dǎo)致的畫面影像品質(zhì)降低的問題。
文檔編號G03F7/26GK101078820SQ200610080960
公開日2007年11月28日 申請日期2006年5月23日 優(yōu)先權(quán)日2006年5月23日
發(fā)明者胡俊明 申請人:宸鴻光電科技股份有限公司
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