專利名稱：曝光裝置和器件加工方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及通過投射光學(xué)系統(tǒng)和液體對襯底上的圖案進(jìn)行曝光的曝光裝置，以及器件加工方法。
背景技術(shù)：
半導(dǎo)體器件和液晶顯示設(shè)備是通過所謂的光刻(photolithography)技術(shù)來加工的，其中形成在掩膜上的圖案被轉(zhuǎn)印到光敏襯底上。此光刻過程所使用的曝光裝置包括支撐掩膜的掩膜臺和支撐襯底的襯底臺，并且在逐步移動掩膜臺和襯底臺的同時經(jīng)由投射光學(xué)系統(tǒng)將掩膜的圖案轉(zhuǎn)印到襯底上。近年來出現(xiàn)了對分辨率更高的投射光學(xué)系統(tǒng)的需求，以便處理更高程度的器件圖案集成。所使用的曝光波長越短，投射光學(xué)系統(tǒng)的數(shù)值孔徑越大，投射光學(xué)系統(tǒng)的分辨率就越高。因此，曝光裝置中使用的曝光波長逐年被縮短，投射光學(xué)系統(tǒng)的數(shù)值孔徑也被增大。此外，當(dāng)前的主流曝光波長是248nmKrF受激準(zhǔn)分子激光，但是波長更短的193nm ArF受激準(zhǔn)分子激光也正在商業(yè)化。此外，在執(zhí)行曝光時，除了分辨率外，聚焦深度(DOF)也是很重要的。以下方程分別表達(dá)了分辨率R和聚焦深度δ。
R＝k1·λ/NA，(1)δ＝k2·λ/NA2， (2)其中，λ是曝光波長，NA是投射光學(xué)系統(tǒng)的數(shù)值孔徑，k1和k2是處理系數(shù)。方程(1)和(2)教導(dǎo)，如果曝光λ縮短并且數(shù)值孔徑NA增大以增強(qiáng)分辨率R，則聚焦深度δ變窄。
如果聚焦深度δ變得過窄，則可能難以將襯底表面與投射光學(xué)系統(tǒng)的像平面對準(zhǔn)，并且在曝光操作期間可能會有聚焦裕量不足的危險。因此，例如以下的PCT國際公布WO99/49504中所公開的，已經(jīng)提出了一種液體浸潤方法，作為用于大大縮短曝光波長和增大聚焦深度的方法。此液體浸潤方法在投射光學(xué)系統(tǒng)的下表面和襯底的表面之間填充液體，例如水或有機(jī)溶劑，從而利用液體中的曝光用光的波長是空氣中的1/n這一事實(其中n是液體的折射率，通常約為1.2至1.6)，因此將分辨率提高了約n倍，并且將聚焦深度增大了約n倍。在此在本國際專利申請指定的指定國(或選定州)的國家法律和法規(guī)所允許的程度內(nèi)，通過引用將上述國際公布的內(nèi)容全部包含進(jìn)來。
順便說一下，上述相關(guān)技術(shù)具有下述問題。
上述PCT國際公布No.WO99/49504中公開的曝光裝置具有這樣的構(gòu)造液體被提供和回收以使得浸潤區(qū)域被形成在襯底的一個部分上；但是，如果在浸潤曝光完成之后浸潤區(qū)域中的液體未被充分回收的狀態(tài)下，例如襯底臺被移動到加載/卸載位置(襯底更換位置)以便將襯底卸載到襯底臺上并且加載新襯底，則殘余(附著)在投射光學(xué)系統(tǒng)前部的液體或者供液噴頭、回收噴頭等中的液體可能滴落到周邊器件上，例如臺的導(dǎo)軌面、臺干涉計的反射鏡等。
此外，如果液體殘余在投射光學(xué)系統(tǒng)的前部處的光學(xué)元件上，則有可能在殘余的液體已蒸發(fā)之后附著的殘余物(所謂的水印)會留在投射光學(xué)系統(tǒng)的前部處的光學(xué)元件上，并且將會在執(zhí)行下一曝光過程時不利地影響形成在襯底上的圖案。此外，可以想象到，即使在不執(zhí)行曝光過程時，當(dāng)使用布置在襯底臺上的襯底周圍的參考平面構(gòu)件、基準(zhǔn)標(biāo)構(gòu)件等時，將會形成浸潤區(qū)域，并且有可能這些浸潤區(qū)域中的液體不會被充分回收，并且附著的殘余物將會留在這些構(gòu)件上，或者殘余在這些構(gòu)件上的液體將會擴(kuò)散開來。
此外，還可以想象到，曝光期間來自襯底上的浸潤區(qū)域的液體將會擴(kuò)散開來，并且附著到周邊的裝置、構(gòu)件等上。如果曝光期間從襯底擴(kuò)散開來的液體附著到例如每個臺干涉計的反射鏡上，則可能會有使得干涉計所測量的臺位置的精度下降的危險。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明是在考慮到這種情況的同時做出的，并且本發(fā)明的一個目的是提供這樣一種曝光裝置，其能夠在經(jīng)由投射光學(xué)系統(tǒng)和液體將圖案投射和曝光到襯底上時充分去除和/或回收不必要的液體并且在襯底上形成所需器件圖案，以及提供一種使用此曝光裝置的器件加工方法。
為解決上述問題，本發(fā)明采用了與描述實施例的圖1至22相對應(yīng)的下述構(gòu)造。另外，為了幫助理解，將用描述一個實施例的附圖中的相應(yīng)符號來說明本發(fā)明，但是本發(fā)明不限于此實施例。
本發(fā)明的曝光裝置(EX)是這樣一種曝光裝置，其通過在投射光學(xué)系統(tǒng)(PL)和襯底(P)之間填充液體(l)并且經(jīng)由投射光學(xué)系統(tǒng)(PL)和液體(l)將圖案的圖像投射到襯底(P)上，來對襯底(P)進(jìn)行曝光，該裝置包括液體去除機(jī)構(gòu)(40，60，90)，其間歇性地向液體(l)附著到的組件(2、7、8A、13、23、55、57、LS等)吹氣以便去除液體(l)，所述組件被布置在投射光學(xué)系統(tǒng)(PL)的像平面附近。
此外，本發(fā)明的曝光裝置(EX)是這樣一種曝光裝置，其通過在投射光學(xué)系統(tǒng)(PL)和襯底(P)之間填充液體(l)并且經(jīng)由投射光學(xué)系統(tǒng)(PL)和液體(l)將圖案的圖像投射到襯底(P)上，來對襯底(P)進(jìn)行曝光，該裝置包括液體去除機(jī)構(gòu)(40、60、90)，其向液體(l)附著到的組件(2、7、8A、13、23、55、57、LS等)吹氣以便去除液體(l)，所述組件被布置在投射光學(xué)系統(tǒng)(PL)的像平面附近；其中液體去除機(jī)構(gòu)(40、60、90)在改變氣體的流速的同時吹動氣體。
根據(jù)本發(fā)明，可以通過間歇性地或在改變其流速的同時向布置在投射光學(xué)系統(tǒng)的像平面附近的組件吹氣，來在組件表面上形成湍流，從而成功地去除附著到組件的不必要的液體。因此，可以防止液體從組件滴落、擴(kuò)散等等，以及防止在這些組件上出現(xiàn)附著的殘余物(水印)，從而以良好的精度在襯底上形成所需的圖案。
本發(fā)明的曝光裝置(EX)是這樣一種曝光裝置，其通過在投射光學(xué)系統(tǒng)(PL)和襯底(P)之間填充液體(l)并且經(jīng)由投射光學(xué)系統(tǒng)(PL)和液體(l)將圖案的圖像投射到襯底(P)上，來對襯底(P)進(jìn)行曝光，該裝置包括液體去除機(jī)構(gòu)(40、60、90)，其具有振動裝置(8E、17、43B、92、151)，該振動裝置振動組件(2、7、8A、13、23、55、57、LS等)以便去除附著到組件的液體(l)，所述組件被布置在投射光學(xué)系統(tǒng)(PL)的像平面附近。
根據(jù)本發(fā)明，振動布置在投射光學(xué)系統(tǒng)的像平面附近的組件促進(jìn)了去除附著到組件的液體，并且使得能夠成功地去除不必要的液體。因此，可以防止液體從組件滴落、擴(kuò)散等等，以及防止在這些組件上出現(xiàn)附著的殘余物(水印)，從而以良好的精度在襯底上形成所需的圖案。
本發(fā)明的曝光裝置(EX)是這樣一種曝光裝置，其通過在投射光學(xué)系統(tǒng)(PL)和襯底(P)之間填充液體(l)并且經(jīng)由投射光學(xué)系統(tǒng)(PL)和液體(l)將圖案的圖像投射到襯底(P)上，來對襯底(P)進(jìn)行曝光，該裝置包括液體去除機(jī)構(gòu)(90)，其去除在曝光期間從襯底(P)擴(kuò)散開來的或者附著到布置在投射光學(xué)系統(tǒng)(PL)的像平面附近的組件(55)的液體(l)。
根據(jù)本發(fā)明，即使在浸潤曝光期間液體從襯底擴(kuò)散到周邊，也可以通過去除擴(kuò)散的液體來防止由于液體擴(kuò)散而導(dǎo)致的曝光精度降低的問題，并且以良好的精度在襯底上形成所需的圖案。
本發(fā)明的曝光裝置(EX)是這樣一種曝光裝置，其通過在投射光學(xué)系統(tǒng)(PL)和襯底(P)之間填充液體(l)并且經(jīng)由投射光學(xué)系統(tǒng)(PL)和液體(l)將圖案的圖像投射到襯底(P)上，來對襯底(P)進(jìn)行曝光，該裝置包括液體去除機(jī)構(gòu)(90)，其與對襯底(P)進(jìn)行曝光操作并行地去除附著到組件(55)的液體(l)，所述組件被布置在投射光學(xué)系統(tǒng)(PL)的像平面附近。
根據(jù)本發(fā)明，即使在浸潤曝光期間來自襯底的液體擴(kuò)散并附著到組件，也可以通過與曝光操作并行地執(zhí)行去除附著到組件的液體的操作，來去除液體，而不降低整個曝光的吞吐量。另外，通過去除附著到組件的液體，可以防止由于附著的液體導(dǎo)致的曝光精度下降的問題，并且以良好的精度在襯底上形成所需的圖案。
本發(fā)明的曝光裝置(EX)是這樣一種曝光裝置，其通過在投射光學(xué)系統(tǒng)(PL)和襯底(P)之間填充液體(l)并且經(jīng)由投射光學(xué)系統(tǒng)(PL)和液體(l)將圖案的圖像投射到襯底(P)上，來對襯底(P)進(jìn)行曝光，該裝置包括提供在組件(55)的上側(cè)的遮蔽構(gòu)件(180)，其防止液體(l)附著到組件(55)，所述組件被布置在投射光學(xué)系統(tǒng)(PL)的像平面附近。
根據(jù)本發(fā)明，在曝光期間或完成襯底曝光之后(或之前)，遮蔽構(gòu)件可阻隔從襯底擴(kuò)散開來的液體、從諸如噴頭等部件滴落的液體等等，因此可以防止液體附著到位于該遮蔽構(gòu)件的下側(cè)之上組件的問題。因此，可以防止由附著到組件的液體導(dǎo)致的曝光精度下降的問題，并且以良好的精度在襯底上形成所需的圖案。
本發(fā)明的曝光裝置(EX)是這樣一種曝光裝置，其通過在投射光學(xué)系統(tǒng)(PL)和襯底(P)之間填充液體(l)并且經(jīng)由投射光學(xué)系統(tǒng)(PL)和液體(l)將圖案的圖像投射到襯底(P)上，來對襯底(P)進(jìn)行曝光，該裝置包括具有支持表面的臺(52、PST)，其支持襯底(P)，并且能夠相對于投射光學(xué)系統(tǒng)(PL)移動；以及液體接收構(gòu)件(102)，其被布置在臺(52、PST)周圍，并且被設(shè)置為使得液體接收表面被定位得低于支持表面。
根據(jù)本發(fā)明，液體接收構(gòu)件可接收從臺的末端部分滴落的液體、從布置在投射光學(xué)系統(tǒng)的前部的光學(xué)元件和從支持此光學(xué)元件的鏡框滴落的液體等，因此可以防止液體附著和擴(kuò)散到不希望發(fā)生液體附著的位置，例如臺的驅(qū)動部件、基底等等。因此，可以抑制襯底的定位精度的降低，并且以良好的精度在襯底上形成所需的圖案。
本發(fā)明的曝光裝置(EX)是這樣一種曝光裝置，其通過經(jīng)由被提供給襯底(P)的液體(l)將圖像投射在襯底(P)之上，來對襯底(P)進(jìn)行曝光，該裝置包括能夠支持和移動襯底(P)的臺(52、PST)；位置檢測構(gòu)件(55)，其被提供給臺(52、PST)，用于檢測與臺(52、PST)的位置相關(guān)的信息；以及液體去除機(jī)構(gòu)(90)，其去除附著到位置檢測構(gòu)件(55)的液體(l)。
根據(jù)本發(fā)明，可以去除附著到用于檢測與臺的位置相關(guān)的信息的位置檢測構(gòu)件(例如反射來自激光干涉計的測量光束的可移動鏡)的液體，因此可以抑制對臺的位置測量和襯底的定位精度的不利影響，并且以良好的精度在襯底上形成所需的圖案。
本發(fā)明的曝光裝置(EX)是這樣一種曝光裝置，其通過在襯底(P)上形成液體(l)的浸潤區(qū)域(AR2)并且經(jīng)由浸潤區(qū)域(AR2)的液體(l)將圖像投射到襯底(P)上，來對襯底(P)進(jìn)行曝光，該裝置包括能夠支持和移動襯底(P)的臺裝置(52、PST)；檢測臺裝置(52、PST)的位置信息的干涉計(56)；以及反射表面(55)，其被提供給臺裝置(52、PST)，并且反射來自干涉計(56)的測量光束(56a)；其中，反射表面(55)的上端被定位得低于浸潤區(qū)域(AR2)。
本發(fā)明的曝光裝置(EX)是這樣一種曝光裝置，其通過經(jīng)由提供給襯底(P)的液體(l)將圖像投射到襯底(P)上來對襯底(P)進(jìn)行曝光，該裝置包括能夠支持和移動襯底(P)的襯底支撐構(gòu)件(52、PST)；檢測襯底支持構(gòu)件(52、PST)的位置信息的干涉計(56)；板狀構(gòu)件(180)，其被安裝在襯底支持構(gòu)件(52、PST)的上表面之上，并且是斥液性的；以及反射表面(55)，其被提供給板狀構(gòu)件(180)下方的襯底支持構(gòu)件(52、PST)，并且反射來自干涉計(56)的測量光束(56a)；其中，板狀構(gòu)件(140)的末端部分的至少一部分在測量光束(56a)撞擊反射表面(55)的方向一側(cè)上沿入射方向伸出得比反射表面(55)多。
本發(fā)明的曝光裝置(EX)是這樣一種曝光裝置，其通過投射光學(xué)系統(tǒng)(PL)在襯底(P)上形成圖像，該裝置包括襯底支持構(gòu)件(52、PST)，其至少能夠支持襯底(P)并至少在平面內(nèi)移動襯底(P)；檢測襯底支持構(gòu)件(52、PST)在平面內(nèi)的位置信息的干涉計(56)；以及反射表面(55)，其被提供給襯底支持構(gòu)件(52、PST)，并且反射來自干涉計(56)的測量光束(56a)；其中，撞擊反射表面(55)的測量光束(56a)的光徑的至少一部分經(jīng)過襯底支持構(gòu)件(52、PST)的至少一部分的下方。
本發(fā)明的器件加工方法使用上述曝光裝置(EX)。根據(jù)本發(fā)明，可以在抑制環(huán)境變化及附著到投射光學(xué)系統(tǒng)的像平面附近的光學(xué)元件的殘余物的出現(xiàn)等的狀態(tài)下，加工具有所需性能的器件。


圖1是示出本發(fā)明的曝光裝置的一個實施例的示意性框圖。
圖2是示出用于形成浸潤區(qū)域的供液機(jī)構(gòu)和液體回收機(jī)構(gòu)的示意性框圖。
圖3是示出襯底臺的平面圖。
圖4示出臺液體回收裝置的一個示例。
圖5A和圖5B是示出第一液體去除裝置的一個示例的示意圖，該裝置是液體去除機(jī)構(gòu)。
圖6是示出第二液體去除裝置的操作的一個示例的示意圖，該裝置是液體去除機(jī)構(gòu)。
圖7A和圖7B是用于說明吹氣操作的示意圖。
圖8是示出第二液體去除裝置的操作的一個示例的示意圖，該裝置是液體去除機(jī)構(gòu)。
圖9示出振動裝置的另一個實施例。
圖10是示出第二液體去除裝置的另一個示例的示意圖，該裝置是液體去除機(jī)構(gòu)。
圖11是示出第二液體去除裝置的另一個示例的示意圖，該裝置是液體去除機(jī)構(gòu)。
圖12示出振動裝置的另一個實施例。
圖13是示出第一液體去除裝置的另一個示例的示意圖，該裝置是液體去除機(jī)構(gòu)。
圖14是示出第一液體去除裝置的另一個示例的示意圖，該裝置是液體去除機(jī)構(gòu)。
圖15是示出第一液體去除裝置的另一個示例的示意圖，該裝置是液體去除機(jī)構(gòu)。
圖16是示出第三液體去除裝置的一個示例的示意圖，該裝置是液體去除機(jī)構(gòu)。
圖17是示出第三液體去除裝置的另一個示例的示意圖，該裝置是液體去除機(jī)構(gòu)。
圖18是示出第三液體去除裝置的另一個示例的示意圖，該裝置是液體去除機(jī)構(gòu)。
圖19是示出第三液體去除裝置的另一個示例的示意圖，該裝置是液體去除機(jī)構(gòu)。
圖20是示出第二液體去除裝置的另一個示例的示意圖，該裝置是液體去除機(jī)構(gòu)。
圖21是示出這樣一個方面的示意圖，在該方面中，在可移動鏡的上部提供遮蔽構(gòu)件。
圖22是示出用于制造半導(dǎo)體器件的過程的一個示例的流程圖。
具體實施例方式
以下參考

本發(fā)明的曝光裝置。圖1是示出根據(jù)本發(fā)明的曝光裝置的一個實施例的示意性框圖。
在圖1中，曝光裝置EX包括支撐掩膜M的掩膜臺MST；支撐襯底P的襯底臺PST；用曝光用光EL照射由掩膜臺MST支撐的掩膜M的曝光用光學(xué)系統(tǒng)IL；將被EL照射的掩膜M的圖案圖像投射和曝光到由襯底臺PST支撐的襯底P上的投射光學(xué)系統(tǒng)PL；以及提供對整個曝光裝置EX的操作控制的控制裝置CONT。整個曝光裝置EX被容納在箱裝置CH內(nèi)。
本發(fā)明的曝光裝置EX是液體浸潤型曝光裝置，其應(yīng)用液體浸潤方法以大大縮短曝光波長、提高分辨率以及大大增大聚焦深度，并且包括將液體1提供給襯底P的供液機(jī)構(gòu)10以及回收襯底P上的液體1的液體回收機(jī)構(gòu)20。在本實施例中，純水被用作液體1。至少在將掩膜M的圖案圖像轉(zhuǎn)印到襯底P期間，曝光裝置EX以供液機(jī)構(gòu)10提供的液體1在襯底P上包括投射光學(xué)系統(tǒng)PL的投射區(qū)域AR1的至少一個部分中形成浸潤區(qū)域AR2。具體而言，曝光裝置EX通過在PL的前部處的光學(xué)元件2和襯底P的表面(曝光表面)之間填充液體1，然后經(jīng)由此投射光學(xué)系統(tǒng)PL和襯底P之間的液體1以及經(jīng)由投射光學(xué)系統(tǒng)PL將掩膜M的圖案圖像投射到襯底P上，從而對襯底P進(jìn)行曝光。
現(xiàn)在將通過用掃描型曝光裝置(所謂的掃描步進(jìn)器)作為曝光裝置EX的情況為例，來說明本實施例，該掃描型曝光裝置利用形成在掩膜M上的圖案對襯底P進(jìn)行曝光，同時在相互不同的方向(相反方向)上沿掃描方向(規(guī)定的方向)同步移動掩膜M和襯底P。在以下說明中，水平平面內(nèi)掩膜M和襯底P同步移動的方向(掃描方向)是X軸方向，水平平面內(nèi)與X軸方向正交的方向是Y軸方向(非掃描方向)，與X軸和Y軸方向垂直并且與投射光學(xué)系統(tǒng)PL的光軸AX一致的方向是Z軸方向。此外，繞X、Y和Z軸的旋轉(zhuǎn)(傾斜)方向分別是θX、θY和θZ方向。此外，這里的“襯底”包括其中半導(dǎo)體晶片被涂覆以光阻材料的襯底，“掩膜”包括其中形成被縮小投射到襯底上的器件圖案的刻線。
曝光用光學(xué)系統(tǒng)IL以曝光用光EL照射由掩膜臺MST支撐的掩膜M，并且包括曝光光源；使從曝光光源發(fā)射出的光通量的強(qiáng)度均勻的光學(xué)積分器；聚集來自光學(xué)積分器的曝光用光EL的聚光透鏡；中繼透鏡系統(tǒng)；以及將掩膜M上被曝光用光EL照射的照射區(qū)域設(shè)置成狹縫形的可變場闌；等等。曝光用光學(xué)系統(tǒng)IL利用曝光用光EL照射掩膜M上的規(guī)定照射區(qū)域，該曝光用光EL具有均勻的照射強(qiáng)度分布?？捎米鲝钠毓庥霉鈱W(xué)系統(tǒng)IL發(fā)射出的曝光用光EL的光的示例包括深紫外光(DUV光)，例如從汞燈發(fā)射出的紫外范圍中的亮線(g、h和i線)，以及KrF受激準(zhǔn)分子激光(248nm波長)；以及真空紫外光(VUV光)，例如ArF受激準(zhǔn)分子激光(193nm波長)和F2激光(157nm波長)。本實施例中使用ArF受激準(zhǔn)分子激光。如上所述，本實施例中的液體1是純水，并且曝光用光EL能夠透射經(jīng)過該液體，即使光是來自受激準(zhǔn)分子激光器的。此外，紫外范圍的亮線(g、h和i線)以及深紫外光(DUV光)，例如KrF受激準(zhǔn)分子激光(248nm波長)也可穿透純水。
掩膜臺MST支撐掩膜M，并且可以在與投射光學(xué)系統(tǒng)PL的光軸AX垂直的平面(即XY平面)上二維移動，并且可以在θZ方向上精微地旋轉(zhuǎn)。掩膜臺驅(qū)動裝置MSTD，例如直線電動機(jī)，驅(qū)動掩膜臺MST。在掩膜臺MST上提供了可移動鏡50。此外，在與可移動鏡50相對的位置處提供了激光干涉計51?？刂蒲b置CONT控制掩膜臺驅(qū)動裝置MSTD。激光干涉計51實時測量掩膜臺MST上的掩膜M在二維方向上的位置和旋轉(zhuǎn)角，并且將這些測量結(jié)果輸出到控制裝置CONT?？刂蒲b置CONT基于激光干涉計51的測量結(jié)果驅(qū)動掩膜臺驅(qū)動裝置MSTD，從而定位由掩膜臺MST支撐的掩膜M。
投射光學(xué)系統(tǒng)PL以規(guī)定的投射放大率β將掩膜M投射和曝光到襯底P上，并且包括投射光學(xué)系統(tǒng)主體MPL和光學(xué)元件2，該投射光學(xué)系統(tǒng)主體MPL包括多個光學(xué)元件，該光學(xué)元件2是在襯底P側(cè)(投射光學(xué)系統(tǒng)PL的像平面?zhèn)壬?的前部提供的。構(gòu)成投射光學(xué)系統(tǒng)主體MPL的多個光學(xué)元件被透鏡鏡筒PK所支持，而投射光學(xué)系統(tǒng)PL的前部處的光學(xué)元件2被鏡框LS所支持。此外，支持光學(xué)元件2的鏡框LS和透鏡鏡筒PK的前部被耦合設(shè)備150所耦合，該耦合設(shè)備包括多個連接部件151。
在本實施例中，投射光學(xué)系統(tǒng)PL是具有例如1/4或1/5的投射放大率β的縮小系統(tǒng)。此外，投射光學(xué)系統(tǒng)PL可以是單位放大系統(tǒng)或放大系統(tǒng)。光學(xué)元件2和鏡框LS接觸浸潤區(qū)域AR2中的液體1。
光學(xué)元件2是由熒石制成的。由于熒石對于純水有較高的親合力，所以液體1可被附著到光學(xué)元件2的液體接觸表面2a的幾乎整個表面上。即，由于本實施例中提供的液體(水)1對于光學(xué)元件2的液體接觸表面2a具有較高的親合力，因此光學(xué)元件2的液體接觸表面2a和液體1具有強(qiáng)烈的附著特性，因此光學(xué)元件2可以由對于水有強(qiáng)親合力的石英制成。此外，可以對光學(xué)元件2的液體接觸表面2a進(jìn)行親水(親液)處理，以便進(jìn)一步提供它對液體1的親和力。
此外，曝光裝置EX包括焦點檢測系統(tǒng)4。在包括光發(fā)射部件4a和光接收部件4b的焦點檢測系統(tǒng)4中，檢測光從光發(fā)射部件4a經(jīng)過液體1從對角方向投射到襯底P的表面(曝光表面)上，并且其反射光被光接收部件4b接收。控制裝置CONT控制焦點檢測系統(tǒng)4的操作，并且基于光接收部件4b的光接收結(jié)果，檢測Z軸方向上襯底P的表面相對于規(guī)定的參考表面的位置(焦點位置)。此外，通過得出襯底P的表面上的多個位置中的每一個處的焦點位置，焦點檢測系統(tǒng)4可得出傾斜方向上襯底P的俯仰角。此外，可以用例如日本未經(jīng)審查專利申請首次公布No.H08-37149和相應(yīng)的美國專利申請No.6,327,025中公開的焦點檢測系統(tǒng)構(gòu)成焦點檢測系統(tǒng)4。此外，在此在本國際專利申請指定的指定國(或選定州)的國家法律和法規(guī)所允許的程度內(nèi)，通過引用將上述日本公布和相應(yīng)的美國專利的公開內(nèi)容全部包含進(jìn)來。
襯底臺PST支撐襯底P并且包括經(jīng)由襯底支持器支持襯底P的Z臺52、支撐Z臺52的XY臺53和支撐XY臺53的基底54。襯底臺驅(qū)動裝置PSTD，例如直線電動機(jī)，驅(qū)動襯底臺PST?？刂蒲b置CONT控制襯底臺驅(qū)動裝置PSTD。此外，當(dāng)然也可以整體提供Z臺和XY臺。襯底P在XY方向上的位置(與投射光學(xué)系統(tǒng)PL的像平面基本平等的方向上的位置)是通過驅(qū)動襯底臺PST的XY臺53來控制的。
可移動鏡(反射鏡)55被提供到襯底臺PST的側(cè)邊部分(Z臺52)。此外，在與可移動鏡55中的每一個相對的位置處提供激光干涉計56。每個激光干涉計56實時測量襯底臺PST上的襯底P的二維方向上的位置和旋轉(zhuǎn)角，并且這些測量結(jié)果被輸出到控制裝置CONT。基于每個激光干涉計56的測量結(jié)果，控制裝置CONT經(jīng)由襯底臺驅(qū)動裝置PSTD驅(qū)動XY臺53，該襯底臺驅(qū)動裝置PSTD在X軸方向和Y軸方向上定位由襯底臺PST支撐的襯底P。
此外，通過經(jīng)由襯底臺驅(qū)動裝置PSTD驅(qū)動襯底臺PST的Z臺52，控制裝置CONT在Z軸方向(焦點位置)和θX、θY方向上控制由Z臺52支撐的襯底P的位置。即，Z臺52基于來自控制裝置CONT的基于焦點檢測系統(tǒng)4的檢測結(jié)果的命令進(jìn)行操作，控制襯底P的焦點位置(Z位置)和傾斜角，并且將其表面(曝光表面)與通過投射光學(xué)系統(tǒng)PL和液體1形成的像平面對準(zhǔn)。
在襯底臺PST(Z臺52)上提供輔助板57以便它圍繞襯底P。輔助板57包括在與襯底支持器支持的襯底P的表面的高度基本相同的高度處的平坦表面。這里，在襯底P和輔助板57的邊緣之間有約0.1-1mm的縫隙，但是由于液體1的表面張力，實際上沒有液體1流進(jìn)該縫隙中，因此即使當(dāng)對襯底P的四周邊緣進(jìn)行曝光時，液體1也可被輔助板57保持在投射光學(xué)系統(tǒng)PL下方。
此外，在襯底臺PST(Z臺52)上提供了參考構(gòu)件7，該參考構(gòu)件7具有用于對掩膜M和襯底P進(jìn)行對準(zhǔn)的過程中的基準(zhǔn)標(biāo)記MFM、PFM。另外，在投射光學(xué)系統(tǒng)PL的前部附近提供了襯底對準(zhǔn)系統(tǒng)5，該襯底對準(zhǔn)系統(tǒng)5檢測襯底P上的對準(zhǔn)標(biāo)記或提供給參考構(gòu)件7的基準(zhǔn)標(biāo)記PFM。此外，在掩膜臺MST的附近提供了掩膜對準(zhǔn)系統(tǒng)6，該掩膜對準(zhǔn)系統(tǒng)6通過掩膜M和投射光學(xué)系統(tǒng)PL檢測提供給參考構(gòu)件7的基準(zhǔn)標(biāo)記MFM。另外，例如在日本未經(jīng)審查專利申請首次公布No.H04-65603和相應(yīng)的美國專利No.5,493,403中公開的系統(tǒng)可用于構(gòu)成襯底對準(zhǔn)系統(tǒng)5，在日本未經(jīng)審查專利申請首次公布No.H07-176468和相應(yīng)的美國專利No.5,646,413中公開的系統(tǒng)可用于構(gòu)成掩膜對準(zhǔn)系統(tǒng)6。
另外，在此在本國際專利申請指定的指定國(或選定州)的國家法律和法規(guī)所允許的程度內(nèi)，通過引用將上述日本公布和相應(yīng)美國專利的公開的內(nèi)容全部包含進(jìn)來。
另外，在襯底臺PST(Z臺52)上提供了光接收設(shè)備8，該光接收設(shè)備8接收經(jīng)過投射光學(xué)系統(tǒng)PL輻照到其像平面?zhèn)?襯底P側(cè))的光。光接收設(shè)備8包括由Z臺52上提供的玻璃板構(gòu)成的光透射構(gòu)件8A，和嵌在Z臺52中的光接收元件8B，該光接收元件8B通過光透射構(gòu)件8A接收光。
在襯底對準(zhǔn)系統(tǒng)5附近提供了第一液體去除裝置(液體去除機(jī)構(gòu))40，其去除殘余和附著在提供給Z臺52的參考構(gòu)件7上的液體1。此外，向襯底臺PST提供了回收液體1的液體回收裝置(液體回收機(jī)構(gòu))30。
供液機(jī)構(gòu)10從上方將規(guī)定的液體1提供到襯底P上以便形成浸潤區(qū)域AR2，并且包括供液裝置11，其能夠饋送液體1；以及供給噴頭13，其通過具有通道的供給管12連接到供液裝置11，其中每個供給噴頭13具有供給端口，從這個供液裝置11饋送來的液體1經(jīng)過該供給端口被提供給襯底P。供液裝置11包括存儲供液裝置11的罐、加壓泵等，并且通過供給管12和供給噴頭13將液體1提供給襯底P。控制裝置CONT控制供液裝置11提供液體的操作，并且可獨(dú)立控制每單位時間由供液裝置11提供給襯底P的液體量。此外，供液裝置11包括用于調(diào)整液體1的溫度的機(jī)構(gòu)，并且向襯底P提供溫度與容納裝置的箱裝置CH內(nèi)部溫度基本相同(例如23℃)的液體1。供給噴頭13被布置在襯底P附近，并且從襯底P上方向襯底P提供液體1。此外，在浸潤曝光期間，供給噴頭13接觸浸潤區(qū)域AR2中的液體1。
液體回收機(jī)構(gòu)20從襯底P上方回收液體1，并且包括各自具有布置在襯底P的表面附近的回收端口的回收噴頭23和通過具有通道的回收管22連接到回收噴頭23的液體回收裝置21。液體回收裝置21包括諸如真空泵之類的真空系統(tǒng)(抽吸裝置)，存儲回收的液體1的罐等，并且通過回收噴頭23和回收管22回收襯底P上的液體1。CONT控制液體回收裝置21的回收液體操作，并且可以控制其每單位時間回收的液體量。在浸潤曝光期間回收噴頭23接觸浸潤區(qū)域AR2中的液體1，并且液體回收機(jī)構(gòu)20通過回收噴頭23從襯底P上方吸取和回收液體1。
圖2示出投射光學(xué)系統(tǒng)PL的投射區(qū)域AR1、在X軸方向上提供液體1的供給噴頭13(13A-13C)和回收液體1的回收噴頭23(23A、23B)之間的位置關(guān)系。在圖2中，投射光學(xué)系統(tǒng)PL的投射區(qū)域AR1的形狀是在Y軸方向上長且細(xì)的矩形，并且掩膜M的圖案圖像的一部分被投射到該投射區(qū)域AR1。三個供給噴頭13A-13C被布置在+X方向一側(cè)，兩個回收噴頭23A、23B被布置在-X方向一側(cè)，以便投射區(qū)域AR1在X軸方向上被置于其間。另外，供給噴頭13A-13C經(jīng)由供給管12連接到供液裝置11，回收噴頭23A、23B經(jīng)由回收管22連接到液體回收裝置21。此外，供給噴頭15A-15C和回收噴頭25A、25B被布置在這樣的位置該位置是通過將供給噴頭13A-13C和回收噴頭23A、23B的位置旋轉(zhuǎn)幾乎180°獲得的。供給噴頭13A-13C和回收噴頭25A、25B在Y軸方向上交替排列，供給噴頭15A-15C和回收噴頭23A、23B在Y軸方向上交替排列，供給噴頭15A-15C經(jīng)由供給管14連接到供液裝置11，回收噴頭25A、25B經(jīng)由回收管24連接到液體回收裝置21。
此外，襯底P經(jīng)由XY臺53以速度β·V(其中β是投射放大率)在+X方向(或-X方向)上移動，這與掩膜M相對于投射光學(xué)系統(tǒng)PL在-X方向(或+X方向)上以速度V進(jìn)行的移動同步。在一個曝光區(qū)域(shot region)的曝光完成后，下一曝光區(qū)域通過襯底P的步進(jìn)移動到掃描開始位置，然后通過步進(jìn)掃描系統(tǒng)對每個曝光區(qū)域相繼執(zhí)行曝光過程。
在本實施例中，控制裝置CONT使液體1沿著襯底P的移動方向流動。例如，如果正通過在例如由箭頭Xa所示的掃描方向(-X方向)上移動襯底P來執(zhí)行掃描曝光，則液體1被供液裝置11和液體回收裝置21通過用供給管12、供給噴頭13A-13C、回收管22和回收噴頭23A、23B提供和回收。即，當(dāng)襯底P在-X方向上移動時，液體1從供液裝置11通過供給管12和供給噴頭13(13A-13C)提供在投射光學(xué)系統(tǒng)PL和襯底P之間，被液體回收裝置21通過回收噴頭23(23A、23B)和回收管22回收，從而在-X方向上流動，以便它填充光學(xué)元件2和襯底P之間的空間。同時，如果正通過在例如由箭頭Xb所示的掃描方向(+X方向)上移動襯底P來執(zhí)行掃描曝光，則液體1被供液裝置11和液體回收裝置21通過用供給管14、供給噴頭15A-15C、回收管24和回收噴頭25A、25B提供和回收。即，當(dāng)襯底P在+X方向上移動時，液體1從供液裝置11通過供給管14和供給噴頭15(15A-15C)提供在投射光學(xué)系統(tǒng)PL和襯底P之間，被液體回收裝置21通過回收噴頭25(25A、25B)和回收管24回收，從而在+X方向上流動，以便它填充光學(xué)元件2和襯底P之間的空間。從而，控制裝置CONT利用供液裝置11和液體回收裝置21來使液體1在與襯底P的移動方向完全相同的方向上沿著襯底P的移動方向流動。在此情況下，例如從供液裝置11通過供給噴頭13提供的液體1隨著襯底P在-X方向上的移動而流動，以便它被吸引到投射光學(xué)系統(tǒng)PL和襯底P之間的空間中，因此即使供液裝置11提供的能量較小，也可以很容易地向其提供液體1。另外，通過根據(jù)掃描方向切換液體1的流動方向，則不論是在+X方向還是-X方向上掃描襯底P，都可以將液體1填充在投射光學(xué)系統(tǒng)PL前部處的光學(xué)元件2和襯底P之間，并且獲得高分辨率和深聚焦深度。
另外，本發(fā)明不特別限于上述噴頭配置，液體1例如可以通過沿投射區(qū)域AR1的長邊布置的兩對噴頭來提供和回收。另外，在此情況下，液體1也可以從+X方向或-X方向提供和回收，并且供給噴頭和回收噴頭因此可以垂直排列。此外，提供和回收液體1的噴頭是以規(guī)定間隔提供在投射光學(xué)系統(tǒng)PL的光學(xué)元件2周圍的的，因此即使襯底P在不同于掃描方向(+X方向和-X方向)的方向上移動，也可以使液體1在與襯底P的移動方向平行或相同的方向上流動，圖3是從上方看的襯底臺PST的Z臺52的示意性俯視圖?？梢苿隅R55(55X，55Y)被部署在矩形Z臺52的兩個相互垂直的側(cè)面上。具體而言，可移動鏡55X被提供到Z臺52的+X一側(cè)上的末端部分，以便它在Y軸方向上延伸，而可移動鏡55Y被提供到Z臺52的+Y一側(cè)上的末端部分，以便它在X軸方向上延伸。另外，襯底P經(jīng)由支持器(未示出)被支持在Z臺52的基本上中央處。
用激光(測量光束)輻照可移動鏡55的激光干涉計56(56X，56Y)分別被布置在與可移動鏡55(55X，55Y)相對的位置處。另外，在位于襯底臺PST的外側(cè)的每個激光干涉計56附近提供吹出噴頭91，，并且每個吹出噴頭91包括氣體吹出端口91A，并且構(gòu)成第二液體去除裝置(液體去除機(jī)構(gòu))90的一部分，該液體去除裝置90通過向相應(yīng)的可移動鏡55吹送氣體來去除附著到其上的液體1。在本實施例中，吹出噴頭91是在每個激光干涉計56的兩側(cè)提供的，或者說將每個激光干涉計56夾在中間。
凹槽部件(上方凹槽部件)58沿著每個可移動鏡55的長度方向形成在其上部。振動裝置92被提供在每個可移動鏡55的凹槽部件58的內(nèi)側(cè)上的多個規(guī)定位置處，并且振動每個可移動鏡55。在本實施例中，每個振動裝置92是由作為壓電器件的壓電薄膜制成的，并且被粘貼在每個可移動鏡55的凹槽部件58的中心位置和兩端位置處的沿長度方向的三個位置中的每個位置處。另外，振動裝置92的安裝位置和數(shù)目可以任意設(shè)置。
在襯底P周圍提供了如上所述的在與襯底P的表面的高度基本相同的高度處的平坦表面的輔助板57。另外，在輔助板57周圍提供了液體吸收部件31，其構(gòu)成回收液體1的臺液體回收裝置30的一部分。液體吸收部件31是具有規(guī)定寬度的環(huán)狀構(gòu)件，并且被布置在以環(huán)狀形式形成在Z臺52中的凹槽部件(回收端口)33中。液體吸收部件31由多孔材料制成，例如由多孔陶瓷等制成?；蛘撸＞d這種多孔材料可用作形成液體吸收部件31的材料。由多孔材料制成的液體吸收部件31可保存規(guī)定量的液體1。
在Z臺52的一個角落處提供參考構(gòu)件7。以規(guī)定的位置關(guān)系向參考構(gòu)件7提供由襯底對準(zhǔn)系統(tǒng)5檢測的基準(zhǔn)標(biāo)記PFM和由掩膜對準(zhǔn)系統(tǒng)6檢測的基準(zhǔn)標(biāo)記MFM。此外，參考構(gòu)件7的表面基本上是平坦的，并且充當(dāng)焦點檢測系統(tǒng)4的參考表面。
另外，可以在Z臺52上以與參考構(gòu)件7相分離的方式提供焦點檢測系統(tǒng)4的參考表面。此外，可整體地提供參考構(gòu)件7和輔助板57。
另外，在Z臺52上參考構(gòu)件7附近提供回收由第一液體去除裝置40從參考構(gòu)件7去除的液體1的液體吸收構(gòu)件42。液體吸收構(gòu)件42被布置在形成在Z臺52中的凹槽部件44中。另外，在Z臺52的單獨(dú)的角度處提供構(gòu)成第三液體去除裝置(液體去除機(jī)構(gòu))60的噴頭部件64的氣體噴放端口64A，該液體去除裝置60去除殘余和附著在投射光學(xué)系統(tǒng)PL前部處的光學(xué)元件2和支持此光學(xué)元件2的鏡框LS上的液體1，并且在氣體吹出端口64A的附近提供回收從光學(xué)元件2去除的液體1的液體吸收材料65。液體吸收材料65被布置在形成在Z臺52中的凹槽部件66中。
此外，在Z臺52的單獨(dú)的角落處提供光透射構(gòu)件8A，該光透射構(gòu)件8A構(gòu)成接收通過投射光學(xué)系統(tǒng)PL輻照到其像平面?zhèn)?襯底P側(cè))的光的光接收設(shè)備8的一部分。光透射構(gòu)件8A是以玻璃板的表面上的包括遮光材料(例如鉻)的薄膜形成圖案的，并且在其中央部分處提供了狹縫部件8S，該狹縫部件8S是光透射部件，其長度方向在Y軸方向上。通過投射光學(xué)系統(tǒng)PL輻照到其像平面?zhèn)鹊墓饨?jīng)過狹縫部件8S，并且被嵌入在Z臺52中的光接收元件8B接收。另外，在Z臺52上光透射構(gòu)件8A附近提供了液體吸收構(gòu)件142，該液體吸收構(gòu)件142回收從光透射構(gòu)件8A去除的液體1。液體吸收構(gòu)件142被布置在形成在Z臺52中的凹槽構(gòu)件144中。
圖4是示出臺液體回收裝置30的截面圖。臺液體回收裝置30包括上述液體吸收部件31，其被布置在以環(huán)狀方式形成在Z臺52中的凹槽部件(回收端口)33中；形成在Z臺52內(nèi)部并且與凹槽部件33相連的通道32；在Z臺52外部提供的一端連接到通道32的管道36；連接到管道36的另一端并且在Z臺52提供的罐37；以及通過具有閥38A的38連接到此罐37的泵39，該泵39是真空系統(tǒng)(抽吸裝置)。罐37具有排放通道37A，并且其構(gòu)造使得當(dāng)積累了規(guī)定量時液體1被從排放通道37A排放出。另外，在臺液體回收裝置30中，泵39被驅(qū)動收集由液體吸收部件31回收的液體1，以便其被吸取到罐37中。
以下說明使用上述曝光裝置EX來用掩膜M的圖案對襯底P進(jìn)行曝光的過程。
在從供液機(jī)構(gòu)10提供液體1之前，首先在襯底P上沒有液體1的狀態(tài)下執(zhí)行測量過程。控制裝置CONT在監(jiān)視激光干涉計56的輸出的同時移動XY臺53，以便投射光學(xué)系統(tǒng)PL的光軸AX沿圖3中的波紋線箭頭18前進(jìn)。在該移動期間，襯底對準(zhǔn)系統(tǒng)5檢測(雖然不通過液體1)襯底P上形成的與曝光區(qū)域S1-S11相對應(yīng)的多個對準(zhǔn)標(biāo)記(未示出)(步驟SA1)。另外，當(dāng)襯底對準(zhǔn)系統(tǒng)5檢測到對準(zhǔn)標(biāo)記時，XY臺53停止。這樣，在激光干涉計56定義的坐標(biāo)系統(tǒng)內(nèi)測量每個對準(zhǔn)標(biāo)記的位置信息。另外，襯底對準(zhǔn)系統(tǒng)5可檢測襯底P上的所有對準(zhǔn)標(biāo)記或一部分對準(zhǔn)標(biāo)記。
此外，在XY臺53移動期間，焦點檢測系統(tǒng)4檢測(雖然不通過液體1)襯底P的表面信息(步驟SA2)。焦點檢測系統(tǒng)4檢測襯底P上的所有曝光區(qū)域S1-S11的表面信息，并且將檢測結(jié)果存儲在與掃描方向(X軸方向)上襯底P上的位置相關(guān)聯(lián)的控制裝置CONT中，另外，焦點檢測系統(tǒng)4可以只檢測一部分曝光區(qū)域的表面信息。
當(dāng)對襯底P上的對準(zhǔn)標(biāo)記和襯底P的表面信息的檢測完成之后，控制裝置CONT移動XY臺53，以便襯底對準(zhǔn)系統(tǒng)5的檢測區(qū)域被定位在參考構(gòu)件7上。襯底對準(zhǔn)系統(tǒng)5檢測參考構(gòu)件7上的基準(zhǔn)標(biāo)記PFM，并在激光干涉計56定義的坐標(biāo)系統(tǒng)內(nèi)測量基準(zhǔn)標(biāo)記PFM的位置信息(步驟SA3)。
基準(zhǔn)標(biāo)記PFM和襯底P上的多個對準(zhǔn)標(biāo)記之間的位置關(guān)系，即基準(zhǔn)標(biāo)記PFM和襯底P上的多個曝光區(qū)域S1-S11之間的位置關(guān)系，分別是通過完成檢測PFM的過程而得出的。此外，由于基準(zhǔn)標(biāo)記PFM和基準(zhǔn)標(biāo)記MFM有規(guī)定的位置關(guān)系，因此基準(zhǔn)標(biāo)記MFM和襯底P上的多個曝光區(qū)域S1-S11之間的位置信息分別在XY平面內(nèi)被確定。
此外，在通過襯底對準(zhǔn)系統(tǒng)5檢測基準(zhǔn)標(biāo)記PFM之前和之后，控制裝置CONT通過焦點檢測系統(tǒng)4檢測參考構(gòu)件7(參考表面)的表面信息(步驟SA4)。參考構(gòu)件7的表面和襯底P的表面之間的關(guān)系是通過完成檢測此參考構(gòu)件7的表面的過程而得出的。
接下來，控制裝置CONT移動XY臺53，以便參考構(gòu)件7上的基準(zhǔn)標(biāo)記MFM能夠被掩膜對準(zhǔn)系統(tǒng)6檢測。正如可預(yù)期的，在此狀態(tài)下，投射光學(xué)系統(tǒng)PL的前部與參考構(gòu)件7相對。此時，控制裝置CONT開始通過供液機(jī)構(gòu)10和液體回收機(jī)構(gòu)20提供和回收液體1，并且通過在投射光學(xué)系統(tǒng)PL和參考構(gòu)件7之間填充液體1形成浸潤區(qū)域。
接下來，控制裝置CONT經(jīng)由掩膜M、投射光學(xué)系統(tǒng)PL和液體L通過掩膜對準(zhǔn)系統(tǒng)6檢測基準(zhǔn)標(biāo)記MFM(步驟SA5)。從而，基準(zhǔn)標(biāo)記MFM被用于通過投射光學(xué)系統(tǒng)PL和液體1檢測掩膜M在XY平面內(nèi)的位置，即掩膜M的圖案圖像的投射位置信息。
當(dāng)上述測量過程完成時，控制裝置CONT停止通過供液機(jī)構(gòu)10將液體1提供到參考構(gòu)件7的操作。但是，控制裝置CONT在規(guī)定時間段中繼續(xù)通過液體回收機(jī)構(gòu)20回收參考構(gòu)件7上的液體1的操作。然后，在經(jīng)過上述規(guī)定時間段之后，控制裝置CONT停止通過液體回收機(jī)構(gòu)20進(jìn)行的回收操作，并且移動襯底臺PST以便去除未被液體回收機(jī)構(gòu)20完成回收因而殘余在參考構(gòu)件7上的液體1。
圖5A和5B示出了一個方面，其中第一液體去除裝置40去除殘余在襯底臺PST(Z臺52)上提供的參考構(gòu)件7上的液體1；圖5A是示意性斜視圖，圖5B是截面圖。在圖5A和圖5B中，第一液體去除裝置40包括向著參考構(gòu)件7吹氣的吹氣裝置41，以及振動參考構(gòu)件7的振動裝置43B。如圖5B中所示，參考構(gòu)件7由安裝在形成于Z臺52中的凹陷部件52A中的支撐部件7A支撐，空間7S被形成在參考構(gòu)件7和凹陷部件52A之間。參考構(gòu)件7是板狀構(gòu)件，支撐部件7A支撐參考構(gòu)件7的下表面參考構(gòu)件7的邊緣部分。另外，振動裝置43B是在參考構(gòu)件7的下表面參考構(gòu)件7的中央部分處提供的。振動裝置43B包括壓電設(shè)備，控制裝置CONT通過向壓電設(shè)備(振動裝置)振動裝置43B施加規(guī)定的電壓，來此壓電設(shè)備43B振動參考構(gòu)件7。
吹氣裝置41包括能夠饋送氣體的供氣部件41A，以及連接到供氣部件41A的噴頭部件43。噴頭部件43的氣體吹出端口43A形成為狹縫形，并且被布置在參考構(gòu)件7附近。供氣部件41A和噴頭部件43由獨(dú)立于投射光學(xué)系統(tǒng)PL的支撐部件(未示出)支撐。
在Z臺52上參考構(gòu)件7附近的位置處提供回收(保存)由第一液體去除裝置40從參考構(gòu)件7去除的液體的液體吸收構(gòu)件42。液體吸收構(gòu)件42是在與噴頭部件43的氣體吹出端口43A相對的位置處提供的，以便參考構(gòu)件7被置于其間。液體吸收構(gòu)件42被布置在凹槽部件44中，該凹槽部件44是在Z臺52中提供的回收端口。與臺液體回收裝置30的液體吸收部件31類似，液體吸收構(gòu)件42是由諸如多孔陶瓷、海綿之類的多孔材料制成的，并且能夠保存一定量的液體1。
供氣部件41A饋送氣體，從而高速氣體從對角方向通過噴頭部件43的氣體吹出端口43A被吹向參考構(gòu)件7?？刂蒲b置CONT通過從液體去除裝置40的噴頭部件43向參考構(gòu)件7吹氣，來吹掉和去除殘余和附著在參考構(gòu)件7上的液體1。此時，控制裝置CONT在相對于第一液體去除裝置40的噴頭部件43(氣體吹出端口43A)移動襯底臺PST(即參考構(gòu)件7)的同時，從噴頭部件43向著參考構(gòu)件7吹氣，從而氣體被吹向參考構(gòu)件7的整個表面，不漏掉任何部分。被吹掉的液體1被布置在與噴頭部件43的氣體吹出端口43A相對的位置處的液體吸收構(gòu)件42所保存(回收)。
在本實施例中，在用壓電設(shè)備43B振動參考構(gòu)件7的同時，來自噴頭部件43的氣體吹出端口43A的氣體被吹向參考構(gòu)件7。振動參考構(gòu)件7促進(jìn)了液體1的去除(抖落)，從而可通過向參考構(gòu)件7吹氣而成功地從參考構(gòu)件7去除液體1。
與凹槽部件44相連的通道45形成在Z臺52內(nèi)，并且布置在凹槽部件44中的液體吸收構(gòu)件42的底部連接到通道45。連接到其中布置了液體吸收構(gòu)件42的凹槽部件44的通道45被連接到在Z臺52外部提供的管道46的一端。同時，管道46的另一端通過在Z臺52外部提供的罐47和具有閥48A的管道48而連接到泵49，該泵49是抽吸裝置。排放通道47A被提供給罐47，并且其構(gòu)造使得當(dāng)積累規(guī)定量的液體1時，液體1從排放通道47A排放。然后，控制裝置CONT驅(qū)動第一液體去除裝置40的供氣部件41A并驅(qū)動泵49，從而由液體吸收構(gòu)件42回收的液體1被收集以及它被吸取到罐47中。即，液體吸收構(gòu)件42、罐47、泵49等構(gòu)成回收從參考構(gòu)件7去除的液體1的液體回收機(jī)構(gòu)(第二液體回收機(jī)構(gòu))。
然后，為了對襯底P上的曝光區(qū)域S1-S11中的每一個進(jìn)行曝光，控制裝置CONT驅(qū)動XY臺53以便使投射光學(xué)系統(tǒng)PL和襯底P相對(步驟SA6)。在使投射光學(xué)系統(tǒng)PL和襯底P相對之后，控制裝置CONT驅(qū)動供液機(jī)構(gòu)10以開始提供液體到襯底P上的操作。從供液機(jī)構(gòu)10的供液裝置11饋送來的以便在襯底P上形成浸潤區(qū)域AR2的液體通過供給管12被遞送，然后通過供給噴頭13被提供到襯底P上，從而在投射光學(xué)系統(tǒng)PL和襯底P之間形成AR2。提供到襯底P上的液體1在襯底P上形成浸潤區(qū)域AR2，該浸潤區(qū)域AR2的面積至少與投射區(qū)域AR1的同樣大。此外，控制裝置CONT控制液體回收機(jī)構(gòu)20的液體回收裝置21，并且供液機(jī)構(gòu)10與提供液體1的操作并行地執(zhí)行回收襯底P上的液體的操作。換言之，為了在襯底P曝光期間形成浸潤區(qū)域AR2，控制裝置CONT同時執(zhí)行由供液機(jī)構(gòu)10提供液體和由液體回收機(jī)構(gòu)20回收液體的操作。襯底P上的液體1是從回收噴頭23的回收端口回收的(步驟SA7)。
然后襯底P上的曝光區(qū)域S1-S11中的每一個被用先述測量過程期間得出的各種信息掃描曝光(步驟SA8)。即，在曝光區(qū)域S1-S11中的每一個的掃描曝光期間，襯底P上的每個曝光區(qū)域基于以下信息與掩膜M對準(zhǔn)在提供液體1之前得出的基準(zhǔn)標(biāo)記PFM和曝光區(qū)域S1-S11中的每一個之間的位置關(guān)系的信息；以及在提供液體1之后利用基準(zhǔn)標(biāo)記MFM得出的掩膜M的圖案圖像的投射位置信息。
此外，在曝光區(qū)域S1-S11中的每一個的掃描曝光期間，基于提供液體1之前得出的襯底P的表面信息和掃描曝光期間利用焦點檢測系統(tǒng)4檢測到的襯底P的表面信息，在不使用焦點檢測系統(tǒng)4的情況下，調(diào)整襯底P的表面和通過液體1形成的像平面之間的位置關(guān)系。
在曝光區(qū)域S1-S11中的每一個的掃描曝光期間，來自襯底P上形成的浸潤區(qū)域AR2的液體可能擴(kuò)散到襯底P外側(cè)。例如，如果在襯底P的曝光期間從襯底P擴(kuò)散開來的液體1附著到可移動鏡55的反射表面，則由于附著到可移動鏡55的液體1，由激光干涉計56輻照到其上的測量光束將會發(fā)生擴(kuò)散之類的，因此可能不再能夠通過激光干涉計56精確測量襯底臺PST的位置。因此，當(dāng)控制裝置CONT已確定從襯底P擴(kuò)散開來的液體1已附著到可移動鏡55時，它開始通過第二液體去除裝置90從可移動鏡55去除液體的操作。
此時，當(dāng)激光干涉計56利用測量光束輻照可移動鏡55時，如果液體1已附著到可移動鏡55，則由激光干涉計56接收到的來自該可移動鏡55的反射光量減小?？刂蒲b置CONT可基于激光干涉計56的測量結(jié)果(光接收結(jié)果)，即基于從該可移動鏡55接收到的反射光的量來確定液體1是否已附著到可移動鏡55。
例如，如果在第六曝光區(qū)域S6的曝光期間確定液體1已附著到可移動鏡55，則在第六曝光區(qū)域S6的掃描曝光完成之后，控制裝置CONT在接下來的第七曝光區(qū)域S7的掃描曝光開始之前，通過第二液體去除裝置90執(zhí)行去除液體的過程。
圖6是示出利用第二液體去除裝置90去除附著到可移動鏡55(55X)的液體1的操作的截面圖。另外，以下說明去除出附著到提供到+X側(cè)Z臺52的末端部分的可移動鏡55X的液體1的情況，但是對于去除附著到提供到+Y側(cè)Z臺52的末端部分的可移動鏡55Y的液體1的情況也執(zhí)行類似操作。
在圖6中，可移動鏡55(55X)包括在可移動鏡55(55X)的上部沿其長度方向(Y軸方向)形成為凹口形狀的上方凹槽部件58和在可移動鏡55(55X)的下部沿其長度方向形成為凹口形狀的下方凹槽部件59，并且截面基本形成H形。在截面形成H形的可移動鏡55內(nèi)，形成在網(wǎng)狀部件55C的一側(cè)之上的內(nèi)側(cè)凸緣部件55A連接到Z臺52，形成在網(wǎng)狀部件55C的另一側(cè)上的外側(cè)凸緣部件55B的外側(cè)表面55S包括用于激光干涉計56所輻照的測量光束的反射表面。另外，可移動鏡55的外側(cè)凸緣部件55B的中央部分在其高度方向(Z軸方向)上被網(wǎng)狀部件55C支撐，并且上方末端部分55J構(gòu)成自由端。來自激光干涉計56的測量光束被輻照在外側(cè)凸緣部件55B的反射表面(外側(cè)表面)55S的上方末端部分55J附近(即自由端附近)。另外，整個可移動鏡55是由陶瓷、光學(xué)玻璃之類的制成的，并且通過在外側(cè)表面55S上真空淀積具有光反射屬性的材料(例如金屬)從而在外側(cè)表面55S上形成反射表面。
第二液體去除裝置90包括在激光干涉計56附近提供的具有氣體吹出端口91A的吹出噴頭91，和在可移動鏡55的凹槽部件58內(nèi)側(cè)之上提供的并且振動可移動鏡55的壓電薄膜(振動裝置)92。振動裝置92被粘貼到具有可移動鏡55的反射表面55S的外側(cè)凸緣部件55B的內(nèi)側(cè)表面55D，該內(nèi)側(cè)表面55D面向凹槽部件58。更具體而言，壓電薄膜92被粘貼在外側(cè)凸緣部件55B的內(nèi)側(cè)表面55D的作為振動的自由端的上方末端部分55J附近。壓電薄膜92的構(gòu)造使得在粘貼到內(nèi)側(cè)表面55D的狀態(tài)下在如圖6中箭頭z1所示的垂直方向(Z軸方向)上膨脹和收縮，并且此壓電薄膜92的膨脹和收縮操作在由箭頭b1所示的θY方向上振動外側(cè)凸緣部件55B的上方末端部分55J附近，其中網(wǎng)狀部件(支撐部件)55C作為基本端。通過壓電薄膜92振動外側(cè)凸緣部件55B促進(jìn)了對附著到該外側(cè)凸緣部件55B(反射表面55S)的液體1的去除。尤其是通過振動作為外側(cè)凸緣部件55B的自由端的上方末端部分55J的附近，來自激光干涉計56的測量光束輻照反射表面55S的位置尤其被振動，并且附著在測量光束輻照反射表面55S的位置處(即上方末端部分55J的附近)的液體1可被成功去除。
吹出噴頭91被分別提供在每個激光干涉計56的兩側(cè)(參考圖3)，并且氣體吹出端口91A從沿對角向上的方向向著可移動鏡55吹氣。每個吹出噴頭91被驅(qū)動機(jī)構(gòu)(未示出)提供為可在垂直方向(Z軸方向)上移動，因此氣體可被吹向可移動鏡55，而不漏掉任何部分。
在襯底臺PST的外側(cè)上提供了第二液體回收機(jī)構(gòu)100，該第二液體回收機(jī)構(gòu)100回收從可移動鏡55去除的液體1。第二液體回收機(jī)構(gòu)100包括處理機(jī)構(gòu)101，該處理機(jī)構(gòu)101是在襯底臺PST的外側(cè)上提供的，并且處理從可移動鏡55去除和滴落的液體1。處理機(jī)構(gòu)101被提供在襯底臺PST外側(cè)上吹出噴頭91下方處，并且包括回收液體1的排液構(gòu)件102和排放由排液構(gòu)件102回收的液體1的排放機(jī)構(gòu)103。排放機(jī)構(gòu)103包括通過管道104連接到排液構(gòu)件102的罐105，以及泵107，該泵107是通過管道106連接到罐105的真空系統(tǒng)(抽吸裝置)。在管道106中部提供了打開和關(guān)閉管道106的通道的閥門106A。排液構(gòu)件102被布置在箱裝置CH內(nèi)部，排放機(jī)構(gòu)103被布置在箱裝置CH外部。排放通道105A被提供給罐105，并且其構(gòu)造使得當(dāng)積累了規(guī)定量的來自排液構(gòu)件102的液體1時，該液體1從排放通道105A被排放。另外，在排放機(jī)構(gòu)103中，泵107被驅(qū)動，并且，由排液構(gòu)件102回收的液體1被收集以便它被吸取到罐105中。
例如，如果在第六曝光區(qū)域S6的曝光期間確定液體1已附著到可移動鏡55，則控制裝置CONT在其掃描曝光完成之后存儲與第六曝光區(qū)域S6相關(guān)的那些信息。與第六曝光區(qū)域S6相關(guān)的信息包括在第六曝光區(qū)域S6被曝光時襯底臺PST的位置信息(即第六曝光區(qū)域S6的位置信息)。該時刻襯底臺PST的位置信息可基于激光干涉計56的測量結(jié)果得出。另外，在存儲與第六曝光區(qū)域S6相關(guān)的信息之后，控制裝置CONT移動襯底臺PST以便可移動鏡55向作為液體去除過程位置的吹出噴頭91的附近靠近。
控制裝置CONT移動襯底臺PST以便可移動鏡55在第二液體回收機(jī)構(gòu)100和作為液體去除過程位置的吹出噴頭91之間移動，然后驅(qū)動壓縮空氣供給裝置(未示出)并從沿對角向上的方向從吹出噴頭91的氣體吹出端口91A向可移動鏡55的反射表面55S吹氣。另外，與從吹出噴頭91吹氣的操作并行地，控制裝置CONT驅(qū)動壓電薄膜92以振動可移動鏡55?？梢苿隅R55的振動促進(jìn)了液體1的去除(抖落)，并且附著到反射表面55S(從吹出噴頭91的氣體吹出端口91A向其吹氣)的液體1被從反射表面55S去除和滴落。此時，可通過在在垂直方向上移動吹出噴頭91和在水平方向(Y軸方向)上移動襯底臺PST的同時，從吹出噴頭91向可移動鏡55吹氣，從而在不漏掉任何部分的情況下向可移動鏡55吹氣。另外，由于吹出噴頭91分別是在激光干涉計56的兩側(cè)提供的，因此可在襯底臺PST的移動范圍受到限制的狀態(tài)下不漏掉任何部分地向可移動鏡55吹氣。
另外，當(dāng)從吹出噴頭91向可移動鏡55吹氣時，可以以使得吹出噴頭91也可在水平方向(Y軸方向)上移動的方式來提供吹出噴頭91，并且可以在不在水平方向(Y軸方向)上移動襯底臺PST的情況下在水平方向(Y軸方向)上移動吹出噴頭91，并且可以在水平方向(Y軸方向)上移動襯底臺PST和吹出噴頭91兩者。類似地，取代在垂直方向(Z軸方向)上移動吹出噴頭91，可以在垂直方向上移動襯底臺PST，并且可以在垂直方向上移動襯底臺PST和吹出噴頭91兩者。
從可移動鏡55去除和滴落的液體1在第二液體回收機(jī)構(gòu)100的排液構(gòu)件102中被回收，并且被排放機(jī)構(gòu)103排放到箱裝置CH外部。這樣，液體1不積累在排液構(gòu)件102中，從而可防止箱裝置CH內(nèi)部的環(huán)境波動(濕度波動)。
在本實施例中，吹出噴頭91可通過從沿對角向上方向連續(xù)向可移動鏡55吹氣來去除附著到可移動鏡55的液體1，從而確保液體1不附著到可移動鏡55。此外，如前所述，可間歇性地向可移動鏡55吹氣，而不是連續(xù)吹氣。這樣，可更成功地去除附著到可移動鏡55的液體1。換言之，如果正如圖7A所示的示意圖中那樣，從吹出噴頭91連續(xù)向可移動鏡55吹氣，則往往會在可移動鏡55的表面(反射表面)上形成薄層狀氣體流動區(qū)域，并且例如如果附著的液體1的微滴(滴)較小的話，則存在難以去除此液體1的情況。但是，通過像圖7B所示的示意圖中那樣間歇性地向可移動鏡55吹氣，湍流形成在可移動鏡55的表面上，并且該湍流區(qū)域可順利地去除附著到可移動鏡55的液體1。
此外，取代間歇性地向可移動鏡55吹氣，也可能通過以高頻率改變所吹氣體的流速來在可移動鏡55的表面上形成湍流，從而使得能夠順利地去除附著到可移動鏡55的液體1。
另外，即使像參考圖5A和圖5B所說明的那樣，氣體是從噴頭部件43吹向參考構(gòu)件7的，也可以間歇性地吹氣或者在改變其流速的同時吹氣。
在通過第二液體去除裝置90去除可移動鏡55上的液體的過程完成之后，控制裝置CONT基于早前存儲的與第六曝光區(qū)域S6相關(guān)信息(第六曝光區(qū)域S6的位置信息)移動襯底臺PST，以將第七曝光區(qū)域S7布置在曝光形式位置，以便執(zhí)行其下一掃描曝光。另外，在第七曝光區(qū)域S7被布置在曝光開始位置之后，控制裝置CONT開始第七曝光區(qū)域S7的掃描曝光，并且接下來相繼對第八至第十一曝光區(qū)域進(jìn)行曝光。
當(dāng)襯底P上的曝光區(qū)域S1-S11中的每一個的掃描曝光完成之后，控制裝置CONT停止通過供液機(jī)構(gòu)10提供液體，并且移動襯底臺PST以便提供到襯底臺PST的臺液體回收裝置30的凹槽部件33與投射光學(xué)系統(tǒng)PL相對。另外，控制裝置CONT結(jié)合使用液體回收機(jī)構(gòu)20和臺液體回收裝置30來回收投射光學(xué)系統(tǒng)PL下方的液體1。從而，由于浸潤區(qū)域AR2中的液體1被液體回收機(jī)構(gòu)20(其中回收端口被布置在襯底臺PST(襯底P)之上)和臺液體回收裝置30(其中回收端口被布置在襯底臺PST中)同時回收，因此可以減少殘余在投射光學(xué)系統(tǒng)PL前部和襯底P上的液體1。
此外，在襯底P的曝光完成之后，臺液體回收裝置30可回收浸潤區(qū)域AR2中的液體1，以及在浸潤曝光期間流到襯底P外側(cè)(輔助板57)的液體1。此外，考慮到襯底P的曝光完成之后襯底臺PST的移動方向，雖然臺液體回收裝置30的凹槽部件33是以環(huán)(環(huán)面)狀提供在襯底P周圍的，但是它也可以部分地被提供在襯底P附近的規(guī)定位置處(輔助板57)。此外，在浸潤曝光之前和之后，伴隨回收操作的振動較大是可接受的，因此可以使液體回收機(jī)構(gòu)20的回收功率大于浸潤曝光期間的回收功率。
此外，如果在浸潤曝光完成之后襯底P上的液體1未被完全回收，則例如以下操作是可接受的移動支撐襯底P的襯底臺PST以便它被布置在與投射光學(xué)系統(tǒng)PL間隔開來的位置處，具體而言是布置在吹氣裝置41下方，然后向襯底P吹氣并通過臺液體回收裝置30回收吹掉的液體1。當(dāng)然，此吹氣操作也可向輔助板57、輔助板57外側(cè)上的Z臺52的表面等執(zhí)行，而不是只向襯底P執(zhí)行。在此情況下，也能通過間歇性地(或在改變流速的同時)吹氣來成功去除殘余的附著液體1。
換言之，雖然第一液體去除裝置40去除了殘余在參考構(gòu)件7上的液體1，但是也可以去除殘余在襯底臺PST上除參考構(gòu)件7外的部分之上的液體1。例如，在其中在浸潤曝光期間液體1流出或擴(kuò)散到布置在襯底臺PST(Z臺52)上的襯底P外部的狀態(tài)的情況下，第一液體去除裝置40可在襯底P的曝光完成之后去除其上的液體1。在此情況下，被第一液體去除裝置40的第一液體去除裝置40吹掉的液體1可被布置在臺液體回收裝置30的凹槽部件(回收端口)33中的液體吸收部件31回收。
此外，可預(yù)先以相對于襯底臺PST可移動的方式提供吹氣裝置41的噴頭部件43，并且可在襯底P的曝光期間或之后回收流到襯底P的外側(cè)的液體1。
如上所述，通過向布置在投射光學(xué)系統(tǒng)PL的像平面附近的可移動鏡55(或7)間歇性地或在改變流束地同時吹氣，從而在可移動鏡55的表面上形成了湍流，因此可以成功地去除附著在可移動鏡55上的不必要的液體1。另外，與吹氣操作并行地振動可移動鏡55促進(jìn)了對附著在可移動鏡55上的液體1的去除，這使得能夠成功去除該液體1。
另外，如果本實施例中的控制裝置CONT已基于激光干涉計56的測量結(jié)果確定從襯底P擴(kuò)散開來的液體1已附著到可移動鏡55，則不等襯底P上的所有曝光區(qū)域S1-S11的曝光完成，立即在這些曝光的中間(在第六曝光區(qū)域S6的曝光之后到第七曝光區(qū)域S7的曝光開始的時間段中)執(zhí)行液體去除過程。同時，即使液體1附著到了可移動鏡55，并且由激光干涉計56接收到的來自可移動鏡55的反射光量減小，如果接收到的光量被保持大于或等于規(guī)定值(大于或等于閾值)，則也可以測量襯底臺PST的位置，所述規(guī)定值例如是由激光干涉計56的性能預(yù)定的。因此，即使例如在一個襯底P的曝光期間液體1附著到了可移動鏡55，控制裝置CONT也可在完成這一個襯底P上的所有曝光區(qū)域S1-S11的曝光之后通過第二液體去除裝置90執(zhí)行液體去除過程。換言之，當(dāng)順序?qū)Χ鄠€襯底P進(jìn)行曝光時，控制裝置CONT可在一個襯底(第一襯底)P上的第十一曝光區(qū)域S11的曝光完成之后到下一襯底(第二襯底)P上的第一曝光區(qū)域S1的曝光開始的時間段期間，通過用第二液體去除裝置90去除附著到可移動鏡55的液體1。
此外，在上述實施例中，CONT基于激光干涉計56的測量結(jié)果(光接收結(jié)果)評估液體1是否附著到可移動鏡55，然后基于該評估結(jié)果確定執(zhí)行液體去除過程的時機(jī)。另一方面，如果如上所述只有微量液體1附著到可移動鏡55，則可以測量襯底臺PST的位置。因此，控制裝置CONT可以以預(yù)定的規(guī)定時間間隔(或以規(guī)定數(shù)目的經(jīng)處理的襯底的間隔)周期性地通過第二液體去除裝置90執(zhí)行去除液體的過程，而不依賴于激光干涉計56的測量結(jié)果。
如上所述，用于去除附著到可移動鏡55的液體1的液體去除操作可在一個襯底P的曝光操作期間執(zhí)行。這里，上述實施例中的液體去除操作是在第六曝光區(qū)域S6的曝光和第七曝光區(qū)域S7的曝光之間執(zhí)行的，并且在液體去除操作期間曝光操作被暫時中斷。但是，如圖8中所示，也可能存在這樣的構(gòu)造其中，通過在繼續(xù)襯底P的曝光操作的同時(與襯底P的曝光操作并行)，吹出噴頭91(和第二液體回收機(jī)構(gòu)100)接近(在X軸方向上靠近)襯底臺PST的可移動鏡55并且向可移動鏡55吹氣，從而去除液體1。此時，吹出噴頭91被提供在激光干涉計56的兩側(cè)，并且因而可接近可移動鏡55并向其吹氣，同時在X軸方向上與該可移動鏡55同步地移動，而不干擾激光干涉計56的測量光束的光徑。另外，最好將吹動的氣體的流速等設(shè)置為不降低位置測量精度的最優(yōu)值，而不驅(qū)動振動裝置，以便激光干涉計56的位置測量精度不會被由于液體去除操作而引起的可移動鏡55的振動所降低。此外，如果曝光操作和液體去除操作被并行執(zhí)行，則液體去除操作除了吹氣以外，還可以是抽吸液體或提供干燥氣體的操作。
另外，當(dāng)液體1已附著到可移動鏡55時，控制裝置CONT也可從吹出噴頭91向可移動鏡55的表面(反射表面)的整個區(qū)域吹氣，并且也可向附著液體1的那部分區(qū)域吹氣。如果液體1附著到可移動鏡55的一部分區(qū)域，則僅當(dāng)測量光束被輻照到該部分區(qū)域上時接收到的反射光的量才會減少，因此控制裝置CONT可基于從可移動鏡55接收到的激光干涉計56所輻照的測量光束的反射光的量，來得出可移動鏡55上附著液體1的區(qū)域。因此，可以僅向可移動鏡55的該部分區(qū)域吹氣。這樣做可降低吹氣的工作時間。從而，基于激光干涉計56的測量結(jié)果，控制裝置CONT可確定第二液體去除裝置90執(zhí)行液體去除過程的時機(jī)，并且還可確定第二液體去除裝置90執(zhí)行液體去除過程的區(qū)域。
另外，在上述實施例中，為去除附著到可移動鏡55的液體1，壓電薄膜92的振動操作與從氣體吹出端口91A吹氣的操作并行執(zhí)行；但是，也可通過只執(zhí)行振動操作或吹氣操作來去除附著到可移動鏡55的液體1。具體而言，因為可移動鏡55的反射表面55S被提供為與水平平面垂直(或基本上垂直)，則可以通過執(zhí)行振動操作或吹氣操作，從而通過液體1的自重(自重作用)來成功去除液體1。
另外，如果，例如在振動時可移動鏡55變得錯位，然后襯底臺PST基于位置測量結(jié)果而被移動，其中該位置測量結(jié)果是基于輻照到該錯位的可移動鏡55上的測量光束的，則例如在相對于XY平面內(nèi)的參考坐標(biāo)系統(tǒng)的正交性上可能出現(xiàn)誤差。因此，最好周期性地執(zhí)行補(bǔ)償包括正交性誤差在內(nèi)的襯底臺位置測量誤差的校準(zhǔn)過程。
在上述實施例中，為了在第六曝光區(qū)域S6的曝光之后執(zhí)行液體去除過程，控制裝置CONT移動襯底臺PST以便可移動鏡55接近吹出噴頭91附近(液體去除過程位置)。但是，本發(fā)明不限于此，而是也可以向吹出噴頭和排液構(gòu)件102(第二液體去除機(jī)構(gòu)100)提供移動機(jī)構(gòu)，以便它們可以接近可移動鏡55，而無需在對第六曝光區(qū)域S6進(jìn)行曝光之后移動襯底臺PST?；蛘?，排液構(gòu)件102可以與襯底臺PST和吹出噴頭91一起被移動。
在上述實施例中，振動可移動鏡55的振動裝置92是由附著(粘貼)到可移動鏡55的壓電薄膜制成的，但是它不被附著到可移動鏡55的構(gòu)造也是可能的。例如，如圖9中所示，振動裝置121，例如壓電設(shè)備，被附著到臂狀機(jī)構(gòu)120的前部，該臂狀機(jī)構(gòu)120被驅(qū)動以使粘貼到臂狀機(jī)構(gòu)120的前部的壓電設(shè)備振動裝置121與可移動鏡55相接觸；另外，當(dāng)振動可移動鏡55以去除液體1時，可通過在可移動鏡55與振動裝置121接觸的狀態(tài)下向壓電設(shè)備121施加電壓以驅(qū)動它，從而來振動可移動鏡55。在液體去除操作完成之后，壓電設(shè)備121被臂狀機(jī)構(gòu)120收回。另外，也可能是以下這種構(gòu)成其中臂狀機(jī)構(gòu)120和附著在其前部的壓電設(shè)備121被布置在激光干涉計56的兩側(cè)上。
在上述實施例中，振動裝置(壓電設(shè)備)被附著到諸如可移動鏡55和參考構(gòu)件7的每個組件，并且被振動，但是支撐所有這些組件的整個襯底臺PST可能在液體去除過程期間被振動裝置振動，或者可通過驅(qū)動襯底臺驅(qū)動裝置PSTD而被推動(振動)。這樣，可以促進(jìn)對附著到輔助板57等-而不只是附著到可移動鏡55、參考構(gòu)件7等-的液體1的去除。
在上述實施例中，附著到可移動鏡55的液體是通過向其吹氣來去除的，但是也可以通過使用抽吸裝置130來去除附著到可移動鏡55的液體1，如圖10中所示。在圖10中，抽吸裝置130包括抽吸部件131和抽吸噴頭132，其中該抽吸部件131包括罐和泵，該抽吸噴頭132連接到抽吸部件131。另外，抽吸噴頭132的抽吸端口133被緊鄰可移動鏡55布置。當(dāng)去除附著到可移動鏡55的液體1時，控制裝置CONT驅(qū)動抽吸部件131以通過抽吸噴頭132抽吸和回收可移動鏡55上的液體1。另外，如果用抽吸裝置130來回收液體1，則振動操作可被振動裝置92并行執(zhí)行，并且只通過抽吸裝置130執(zhí)行抽吸操作也是可接受的。
或者，也可以利用干燥裝置160去除附著到可移動鏡55的液體1，如圖11中所示。在圖11中，干燥裝置160包括覆蓋可移動鏡55的覆蓋構(gòu)件161，以及向覆蓋構(gòu)件161內(nèi)的空間提供干燥氣體的干燥氣體供給部件162。干燥氣體供給部件162通過管道163向覆蓋可移動鏡55的覆蓋構(gòu)件161內(nèi)的空間提供干燥氣體。這促進(jìn)了附著到可移動鏡55的液體1的蒸發(fā)，這種蒸發(fā)去除液體1。
另外，在上述實施例中，是用諸如壓電致動器這樣的壓電設(shè)備為例來說明振動裝置的，但是也可使用其他利用洛輪茲力的致動器，例如音圈電動機(jī)，來作為振動裝置。
圖12是示出振動可移動鏡55的振動裝置的另一個實施例的示意性斜視圖。在本實施例中，可移動鏡55不具有凹槽部件，并且被附著到Z臺52的末端部分。在圖12中，從側(cè)面看來呈L形的步進(jìn)部件52D被形成在+X側(cè)Z臺52的末端部分處，并且在Y軸方向上延伸。另外，位于可移動鏡55的與Z臺52相對的表面上的下部區(qū)域55G連接到Z臺52，并且隔離物28被形成在上部區(qū)域55H和Z臺52之間。即，(其下部連接到Z臺52的)可移動鏡55的上部構(gòu)成振動的自由端。
充當(dāng)振動裝置的壓電設(shè)備17(17A、17B)被附著在上部區(qū)域55H的多個規(guī)定位置處，該上部區(qū)域55H位于可移動鏡55的與Z臺52相對的表面上。另外，其他致動器，例如音圈電動機(jī)，也可用作振動裝置。在本實施例中，壓電設(shè)備17A、17B分別在長度方向上被附著到可移動鏡55的55H的兩個末端部分。另外，重物構(gòu)件19A、19B分別被連接到這些壓電設(shè)備17A、17B。此時，粘貼到可移動鏡55和重物構(gòu)件19的壓電設(shè)備17與Z臺52間隔開來。壓電設(shè)備17A、17B通過在圖中箭頭x1、x2所示的方向上膨脹和收縮來振動可移動鏡55。此時，放大振動力(動量)的重物構(gòu)件19A、19B連接到壓電設(shè)備17A、17B。
在本實施例中，控制裝置CONT通過分別用兩個壓電設(shè)備17A、17B在多個(兩個)位置處振動可移動鏡55，從而在可移動鏡55中生成行波。具體而言，通過在兩個壓電設(shè)備17A、17B附著的位置中的每一個處生成異相且波長相同的高頻在可移動鏡55中生成行波。
例如，可以通過行波和反向波的和來表達(dá)可移動鏡55上的單個給定點處生成的駐波U0。
-方程1-U0＝A0sin2π(x/λ-t/T)+A0sin2π(x/λ+t/T)＝2A0sin2πx/λ·cos2πt/T(1)其中A0幅度λ波長T周期x任意點t任意時刻行波U是通過將方程(1)中的駐波中的兩個駐波相加并移動其中之一的相位來生的。
-方程2-U＝Asin2πx/λ·cos2πt/λ+Asin2π(x+α)/λ·cos2π(2πt/T+β)＝Asin2π(x/λ-t/T) (2)其中A幅度α位置偏量β相位偏量控制裝置CONT通過用兩個壓電設(shè)備17A、17B中的每一個振動可移動鏡55來在可移動鏡55中生成行波，以便滿足上述方程(2)。這樣，可以成功去除附著到可移動鏡55的液體1。
以下說明液體去除裝置的另一個實施例。在以下說明中，與上述實施例中相同或等同的構(gòu)成部件被分配相同的標(biāo)號，并且對其的說明被簡化或省略。
圖13示出第一液體去除裝置40的另一實施例中。在圖13中，第一液體去除裝置40包括抽吸裝置81，其吸取附著到參考構(gòu)件7上的液體1。抽吸裝置81包括抽吸部件81A和抽吸噴頭82，該抽吸部件81A包括罐和泵，該抽吸噴頭82連接到抽吸部件81A。另外，抽吸噴頭82的抽吸端口82A被緊鄰參考構(gòu)件7布置。當(dāng)去除殘余在參考構(gòu)件7上的液體1時，吹氣裝置41向其吹氣，并且抽吸裝置81吸取參考構(gòu)件7上的液體1。
另外，在參考圖13說明的示例中，吹氣裝置41和抽吸裝置81是聯(lián)合向第一液體去除裝置40提供的，但是只提供抽吸裝置81的配置也是可接受的。抽吸裝置81通過抽吸端口82A吸取殘余在參考構(gòu)件7上的液體1，從而此液體1被去除(回收)。此外，當(dāng)然也可以以與抽吸裝置81的抽吸操作并行的方式通過振動裝置43B執(zhí)行振動操作。另外，抽吸裝置81的抽吸噴頭82可提供為相對于襯底臺PST可移動，并且流到襯底P外部的液體1可在其曝光期間或之后被回收。
圖14是示出第一液體去除裝置40的另一實施例的截面圖。如圖14中所示，第一液體去除裝置40包括覆蓋參考構(gòu)件7的覆蓋構(gòu)件84，以及向覆蓋構(gòu)件84內(nèi)的空間提供干燥氣體的干燥氣體供給部件85。干燥氣體供給部件85通過管道86向其中布置了參考構(gòu)件7的覆蓋構(gòu)件84內(nèi)的空間提供干燥氣體。這促進(jìn)了殘余在參考構(gòu)件7上的液體1的蒸發(fā)，這種蒸發(fā)去除液體1。
圖15示出光接收設(shè)備8的一個方面，其中附著到提供在襯底臺PST上的光透射構(gòu)件8A的液體1被去除。在本實施例中，光接收設(shè)備8是傳感器(AIS傳感器)，其通過接收通過投射光學(xué)系統(tǒng)PL向其像平面?zhèn)?襯底P側(cè))輻照的光(曝光用光EL)來測量成像特性調(diào)整信息以便補(bǔ)償投射光學(xué)系統(tǒng)PL的成像特征的變化，并且通過投射光學(xué)系統(tǒng)PL測量測量標(biāo)記的虛像。光接收設(shè)備8包括光透射構(gòu)件8A，其被提供在襯底臺PST(Z臺52)上，使玻璃板表面上的光遮蔽膜形成圖案，并且其中在中央部分形成了作為光透射部件的狹縫部件8S；聚光光學(xué)系統(tǒng)8C，其被嵌入在Z臺52中，并且經(jīng)過光透射構(gòu)件8A的狹縫部件8S的光被輻照在其上；以及光接收元件8B，其接收經(jīng)過聚光光學(xué)系統(tǒng)8C的光。另外，例如在聚光光學(xué)系統(tǒng)8C和光接收元件8B之間提供了中繼光學(xué)系統(tǒng)，并且光接收元件8B也可被布置在Z臺52的外側(cè)。
當(dāng)通過光接收設(shè)備8測量虛像時，可以執(zhí)行這樣一個操作其中在投射光學(xué)系統(tǒng)PL和光透射構(gòu)件8A相對的情況下，液體1被填充在投射光學(xué)系統(tǒng)PL和光接收設(shè)備8的光透射構(gòu)件8A之間，并且光(曝光用光EL)通過投射光學(xué)系統(tǒng)PL和液體1被輻照在光接收設(shè)備8上。在測量通過液體1的虛像之后，控制裝置CONT移動襯底臺PST以將光透射構(gòu)件8A(光接收設(shè)備8)布置在第一液體去除裝置40的噴頭部件43下方。光透射構(gòu)件8A被支撐在形成于Z臺52中的孔隙部件52C中，并且振動裝置8E被提供在光透射構(gòu)件8A的下表面光接收設(shè)備8上的狹縫部件8S外的規(guī)定位置處。壓電設(shè)備8E包括壓電設(shè)備，并且控制裝置CONT通過向壓電設(shè)備8E施加規(guī)定電壓，從而利用此壓電設(shè)備8E振動光透射構(gòu)件8A。
在Z臺52上光透射構(gòu)件8A附近的位置處提供了液體吸收構(gòu)件142，該液體吸收構(gòu)件142回收由第一液體去除裝置40從光透射構(gòu)件8A去除的液體1。液體吸收構(gòu)件142是在與噴頭部件43的氣體吹出端口43A相對的位置處提供的，以便光透射構(gòu)件8A被置于其間。液體吸收構(gòu)件142被布置在凹槽構(gòu)件144中，該凹槽構(gòu)件144是在Z臺52中提供的回收端口。與臺液體回收裝置30的液體吸收部件31類似，液體吸收構(gòu)件142是由諸如多孔陶瓷、海綿之類的多孔材料制成的，并且可保存規(guī)定量的液體1?？刂蒲b置CONT通過經(jīng)由第一液體去除裝置40的噴頭部件43向光透射構(gòu)件8A吹氣，來吹掉和去除殘余和附著在光透射構(gòu)件8A上的液體1。吹掉的液體1被布置在與噴頭部件43的氣體吹出端口43A相對的位置處的液體吸收構(gòu)件142保存(回收)。
另外，在利用壓電設(shè)備8E振動光透射構(gòu)件8A的同時，來自噴頭部件43的氣體吹出端口43A的氣體吹向該光透射構(gòu)件8A。光透射構(gòu)件8A的振動促進(jìn)了液體1的去除(抖落)，使得能夠通過吹氣將其從參考構(gòu)件7上成功去除。此外，即使在此情況下，也可間歇性地向光透射構(gòu)件8A吹氣。
與凹槽構(gòu)件144相連的通道145被形成在Z臺52內(nèi)部，并且布置在凹槽構(gòu)件144中的液體吸收構(gòu)件142的底部被連接到通道145。連接到其中布置了液體吸收構(gòu)件142的凹槽構(gòu)件144的通道145，被連接到管道146的一端，該管道146是在Z臺52的外部提供的。另一方面，管道146的另一端通過管道148連接到作為抽吸裝置的泵149，該管道148具有在Z臺52外部提供的罐147和閥148A。排放通道147A被提供給罐147，并且當(dāng)積累了規(guī)定量的液體1時，液體1從排放通道147A中排放。另外，控制裝置CONT驅(qū)動第一液體去除裝置40的供氣部件41A并且驅(qū)動泵149，該泵149收集由液體吸收構(gòu)件142回收的液體1以便它被吸取到罐147中。
另外，通過用用于測量投射光學(xué)系統(tǒng)PL的圖像特性調(diào)整信息的空間圖像測量傳感器為例，描述了光透射構(gòu)件8A，但是，也可用例如檢測輻照到投射光學(xué)系統(tǒng)PL的像平面?zhèn)鹊钠毓庥霉釫L的照射強(qiáng)度的照射強(qiáng)度傳感器，或者用于測量投射區(qū)域AR1的照射強(qiáng)度分布的照射強(qiáng)度均一性傳感器，來作為光接收設(shè)備8。
以下參考圖16說明第三液體去除裝置60，該第三液體去除裝置60去除殘余在投射光學(xué)系統(tǒng)PL的前部處的光學(xué)元件2、支持光學(xué)元件2的鏡框LS等上的液體1。在圖16中，第三液體去除裝置60包括吹氣裝置61，該吹氣裝置61向構(gòu)成投射光學(xué)系統(tǒng)PL的前部的光學(xué)元件2、支持光學(xué)元件2的鏡框LS等吹氣。回收裝置(第二液體回收機(jī)構(gòu))62回收殘余在投射光學(xué)系統(tǒng)PL前部以及由于吹氣裝置61吹氣而被吹掉和滴落的液體。吹氣裝置61包括供氣部件63和噴頭部件64，該噴頭部件64被連接到供氣部件63并且提供到回收裝置62的凹陷部件64B，并且噴頭部件64的64A可被布置在投射光學(xué)系統(tǒng)PL的前部附近，并且朝向上方。同時，回收裝置62包括回收端口(凹槽部件)65，其被提供到Z臺52；凹槽部件66，其被布置在回收端口65中，并且是由多孔材料制成的；通道67，其被形成在Z臺52內(nèi)部，并且與凹槽部件66相連；管道68，其被提供在回收裝置62外部，并且其一端連接到通道67；罐69，其被連接到管道68的另一端并且提供在Z臺52外部；以及泵71，其是抽吸裝置，通過具有閥70A的管道70連接到這個罐69。排放通道69A被提供到罐69，并且當(dāng)積累規(guī)定量的液體1時，液體1被從排放通道69A排放出。另外，在回收裝置62中，泵71被驅(qū)動并且收集由液體吸收材料66回收液體1，以便它被吸取到罐69中。
在本實施例中，吹氣裝置61的噴頭部件64的氣體吹出端口64A是狹縫形的，其中其長度方向被設(shè)置為Y軸方向(參考圖3)，并且回收裝置62的回收端口65被形成為矩形，其中其長度方向被設(shè)置為Y軸方向，其位置在+X側(cè)與氣體吹出端口64A相鄰。另外，在襯底P的曝光完成之后，第三液體去除裝置60不僅去除殘余在在襯底P的曝光期間接觸浸潤區(qū)域AR2中的液體1的投射光學(xué)系統(tǒng)PL前部的液體1，還去除殘余在供液機(jī)構(gòu)10的供給噴頭13和液體回收機(jī)構(gòu)20的回收噴頭23上的液體1。
在襯底P的浸潤曝光完成之后(在步驟SA8完成之后)，控制裝置CONT利用液體回收機(jī)構(gòu)20回收襯底P上的液體1。另外，在完成用液體回收機(jī)構(gòu)20回收襯底P上的液體1之后，控制裝置CONT移動襯底臺PST以便第三液體去除裝置60被布置在投射光學(xué)系統(tǒng)PL下方。另外，第三液體去除裝置60從吹氣裝置61的噴頭部件64從對角方向向投射光學(xué)系統(tǒng)PL的前部吹氣，從而吹掉和去除殘余其上的液體1。此時，可通過間歇性地吹氣來更成功地去除液體1。
吹掉的液體1下落并且被回收在回收端口65中，在回收端口65中布置了回收裝置62的液體吸收材料66。此時，控制裝置CONT驅(qū)動第三液體去除裝置60，同時例如在與氣體吹出端口64A和回收端口65的長度方向(Y軸方向)正交的X軸方向上移動襯底臺PST。這樣，氣體被吹向投射光學(xué)系統(tǒng)PL的前部，并且當(dāng)然也被吹向布置在投射光學(xué)系統(tǒng)PL前部周圍的供液機(jī)構(gòu)10的供給噴頭13和液體回收機(jī)構(gòu)20的回收噴頭23，因此殘余在這些供給噴頭13和回收噴頭23上的液體1也可被去除。
此外，也可在振動投射光學(xué)系統(tǒng)PL前部的光學(xué)元件2的同時向其吹氣。光學(xué)元件2被鏡框LS支持，并且鏡框LS和投射光學(xué)系統(tǒng)主體MPL的透鏡鏡筒PK被多個(例如六個)連接部件151所耦合，這些連接部件具有致動器(振動裝置)，例如音圈電動機(jī)和壓電設(shè)備?？刂蒲b置CONT可通過驅(qū)動被內(nèi)置在連接部件151中的上述致動器來振動鏡框LS和被其支持的光學(xué)元件2。另外，通過用提供多個各自具有內(nèi)置致動器的連接部件151來構(gòu)成并行連接機(jī)構(gòu)，可通過驅(qū)動上述并行連接機(jī)構(gòu)來吸收/去除在襯底P的浸潤曝光期間通過液體1傳播到光學(xué)元件2的振動。
如上所述，通過去除殘余在在曝光期間接觸浸潤區(qū)域AR2中的液體1的投射光學(xué)系統(tǒng)PL前部、供給噴頭13和回收噴頭23之上的液體1，即使襯底臺PST從投射光學(xué)系統(tǒng)PL下方(曝光過程位置)移動到襯底P被加載和卸載的位置(襯底更換位置)的情況下，也可以抑制諸如以下問題殘余在投射光學(xué)系統(tǒng)PL的前部等之上的液體1下落并導(dǎo)致不利地影響周邊裝置的環(huán)境變化。尤其可以通過確保液體1不殘余在投射光學(xué)系統(tǒng)PL前部處的光學(xué)元件2來抑制附著的殘余物(水印)的出現(xiàn)。
另外，通過向襯底臺PST提供第三液體去除裝置60，則如果在驅(qū)動襯底臺PST的同時，第三液體去除裝置60被驅(qū)動，就可以在不提供新的致動器的情況下，在掃描第三液體去除裝置60的同時向投射光學(xué)系統(tǒng)PL、供給噴頭和回收噴頭吹氣。此外，通過在浸潤曝光完成之后在將襯底臺PST從曝光過程位置移動到襯底更換位置的同時執(zhí)行通過第三液體去除裝置60吹氣的操作，可以同時執(zhí)行液體去除操作(吹氣操作)和臺移動操作，這樣可提高時間效率。第三液體去除裝置60可預(yù)先被提供在這樣一個位置在襯底臺PST從曝光過程位置移動到襯底更換位置的同時，它經(jīng)過投射光學(xué)系統(tǒng)PL下方。
另外，還可以向供給噴頭13和回收噴頭23中的每一個附接振動裝置，例如壓電設(shè)備，并且振動供給噴頭13和回收噴頭23以去除液體。
圖17和圖18是第三液體去除裝置60的經(jīng)修改的示例。如圖17中所示，大凹槽部件72可被形成在Z臺52中，并且吹氣裝置61的噴頭部件64和回收裝置62的通道(回收端口)67可被布置在凹槽部件72中。另外，在圖17中所示的示例中，未提供液體吸收材料66。從而，也可以有其中不提供凹槽部件66的構(gòu)造。此外，如圖18中所示，可在凹槽部件72內(nèi)部提供吹氣裝置61的多個噴頭部件64(圖18所示的示例中為兩個)。正如圖17和圖18所示的示例中那樣，通過提供比投射光學(xué)系統(tǒng)PL的前部大的凹槽部件72并且將噴頭部件64和回收端口67布置在其中，凹槽部件72可抑制被氣體吹動的液體1擴(kuò)散到周邊。另外，即使在此情況下，控制裝置CONT也可通過間歇性地吹氣來成功去除液體1。
或者，如圖19中所示，也可在噴頭部件64的氣體吹出端口64A和回收端口65周圍提供覆蓋構(gòu)件73，以便防止被氣體吹動的液體1擴(kuò)散到周圍區(qū)域。在俯視圖中，圖19中所示的覆蓋構(gòu)件73被形成為U形，其內(nèi)可布置投射光學(xué)系統(tǒng)PL的前部，并且其構(gòu)造使得投射光學(xué)系統(tǒng)PL的前部可從U形的開口側(cè)進(jìn)出覆蓋構(gòu)件73的。另外，通過使覆蓋構(gòu)件73的長度方向與襯底臺PST的移動方向(X軸方向)對準(zhǔn)，并且通過在覆蓋構(gòu)件73內(nèi)提供氣體吹出端口64A和回收端口65以使得其長度方向被設(shè)置為Y軸方向，可以在一次掃描動作中高效地去除液體，并防止其擴(kuò)散。
另外，還可以通過第三液體去除裝置60的回收裝置62的回收端口65，來回收在襯底P的曝光期間流到襯底P外側(cè)的液體1。此時，最好預(yù)先在襯底P周圍以規(guī)定間隔提供回收裝置62的多個回收端口65。
圖20是示出在襯底更換位置(加載和卸載位置)處提供的構(gòu)成液體去除機(jī)構(gòu)的吹氣噴頭的示意圖。在圖20中，襯底臺PST在曝光過程位置A和襯底更換位置B之間移動。在完成在曝光過程位置A處對襯底P進(jìn)行曝光的過程之后，控制裝置CONT將支持經(jīng)曝光處理的襯底P的襯底臺PST移動到襯底更換位置B。然后，控制裝置CONT間歇性地從吹出噴頭171向已移動到襯底更換位置B的襯底臺PST的可移動鏡55吹氣。這樣，可在襯底更換位置B處去除在曝光期間從襯底P擴(kuò)展開來并且附著到可移動鏡55的液體1。另外，在B處還提供了如參考圖6所說明的具有排液構(gòu)件的液體回收機(jī)構(gòu)，并且從每個可移動鏡55去除的液體1被該液體回收機(jī)構(gòu)回收。另外，在去除附著到可移動鏡55的液體1的工作之后(或之前)，襯底傳輸裝置(未示出)從襯底臺PST卸載已對其完成曝光過程的襯底P，并且向其上加載未曝光的襯底P。
圖21是示出這樣一個實施例的側(cè)視圖，在該實施例中，遮蔽構(gòu)件(或檐式構(gòu)件)180被提供到可移動鏡55的上側(cè)以防止液體1附著到其上。在圖21中，可移動鏡55被附接到Z臺52(襯底臺PST)的側(cè)部。另外，遮蔽構(gòu)件180被附接到Z臺52的上表面，以便它部分地伸出到其外。通過提供遮蔽構(gòu)件180遮蔽了可移動鏡55，因此即使例如液體1從襯底P擴(kuò)散到其外側(cè)，液體1也不會附著到可移動鏡55。
遮蔽構(gòu)件180的上表面和輔助板57的表面的高度基本上相同。在遮蔽構(gòu)件180和輔助板57之間有約0.1-1mm的縫隙，并且由于其表面張力而基本上沒有液體1流到該隙縫中。由于可移動鏡55(內(nèi)側(cè)凸緣部件55A)被提供在遮蔽構(gòu)件180下方，因此來自激光干涉計56的測量光56a經(jīng)過與襯底臺PST一起移動的遮蔽構(gòu)件180的下方，并且撞擊可移動鏡55的反射表面55a?？梢苿隅R55(反射表面55a)的上端位于浸潤區(qū)域AR2下方，但是液體1不附著到被遮蔽構(gòu)件180的伸出部分所遮蔽的可移動鏡55的反射表面55a。
遮蔽構(gòu)件180是板狀構(gòu)件，并且至少其上表面是斥液性的。在本實施例中，遮蔽構(gòu)件180是由諸如聚四氟乙烯之類的斥液性材料制成的。另外，充當(dāng)遮蔽構(gòu)件180的板狀構(gòu)件的表面(上表面)例如是由規(guī)定的金屬材料或合成樹脂材料制成的，并且可經(jīng)歷表面處理，例如用諸如氟化合物之類的斥液性材料涂覆它。通過使遮蔽構(gòu)件180的上表面排斥液體，即使擴(kuò)散的液體1附著到了遮蔽構(gòu)件180的上表面，它也會被抖落，并且易于被具有布置在遮蔽構(gòu)件180下方的排液構(gòu)件102的處理機(jī)構(gòu)100回收，而不會匯聚在遮蔽構(gòu)件180上(襯底臺PST上)。
遮蔽構(gòu)件180的端面和下表面-不只是上表面-也可被預(yù)先處理，以使它排斥液體。此外，可以遮蔽構(gòu)件180的下表面中其末端部分附近提供凹槽180a，該凹槽180a在可移動鏡55的長度方向上跨過可移動鏡55的反射表面。此凹槽180a可防止從遮蔽構(gòu)件180末端來的液體1附著到可移動鏡55。
在本實施例中，構(gòu)成第二液體去除機(jī)構(gòu)100的排液構(gòu)件102的大小是根據(jù)遮蔽構(gòu)件180的大小、遮蔽構(gòu)件180和排液構(gòu)件102之間的距離H以及支撐遮蔽構(gòu)件180的襯底臺PST的行進(jìn)速度V來設(shè)置的。更具體而言，例如，當(dāng)襯底臺PST以速度V在+X方向上移動，然后停止在液體去除過程位置SH時，遮蔽構(gòu)件180的前部和排液構(gòu)件102在+X側(cè)的端部之間的距離L1是根據(jù)襯底臺PST的行進(jìn)速度V和遮蔽構(gòu)件180和排液構(gòu)件102在Z軸方向上的距離H來設(shè)置的。即，如果如圖21中所示，一滴液體1被置于遮蔽構(gòu)件180的上表面的前部處，則襯底臺PST以速度V在+X方向上移動，然后停止在液體去除過程位置SH。用該停止時間作為參考，時間t之后液滴在X軸方向上的位置x由x＝Vt定義，在Z軸方向上的位置z由z＝H-(gt2)/2(其中g(shù)是重力加速度)。因此，可以從這兩個方程中得出排液構(gòu)件102的大小L1的最小值，以便從遮蔽構(gòu)件180滴落的液體1可被排液構(gòu)件102回收。此時，遮蔽構(gòu)件180的上表面是斥液性的，因此附著到該上表面的液體1被順利地與其相分離，并滴落到排液構(gòu)件102。
此外，如圖21所示，包括壓電設(shè)備等的振動裝置182可被附接到遮蔽構(gòu)件180。利用壓電設(shè)備(振動裝置)182振動遮蔽構(gòu)件180促進(jìn)了從遮蔽構(gòu)件180去除液體1。此外，可在多個規(guī)定位置處提供壓電設(shè)備182以便它們能夠在遮蔽構(gòu)件180生成行波。
此外，本實施例中使用的排液構(gòu)件102不僅可以放置在可移動鏡55的下部，還可放置在Z臺52的底部環(huán)繞其整個外圍。例如，圖6中所說明的第二液體回收機(jī)構(gòu)100可被提供在支撐Z臺52的XY臺53上，并且此第二液體去除機(jī)構(gòu)100的排液構(gòu)件102可被布置成圍繞Z臺52。在此情況下，如圖中所示，排液構(gòu)件102接收液體的表面被設(shè)置成位于Z臺52支持襯底P的支持表面(例如襯底支持器的支撐表面)、構(gòu)成在輔助板57的上表面中和Z臺52中形成的液體回收裝置30的一部分的凹槽構(gòu)件(回收端口)33的孔隙表面等的下方(在-Z方向上)。此外，Z臺52的支持表面的末端部分(包括可移動鏡55的末端部分)被預(yù)先定位在排液構(gòu)件102的接收排液的部分上方。根據(jù)這種構(gòu)造，未被液體回收裝置30完全回收并從Z臺52的末端部分滴落的液體被排液構(gòu)件102接收，并且該液體被液體去除機(jī)構(gòu)100去除或回收。此外，從投射光學(xué)系統(tǒng)PL的前部處的光學(xué)元件2和支持光學(xué)元件2的鏡框LS滴落的液體被此排液構(gòu)件102接收，并且可被去除或回收。
另外，排液構(gòu)件102還可防止液體滴落和附著到XY臺53上。因此，可以防止液體擴(kuò)散到不希望其附著到的位置，例如Z臺52和XY臺53的驅(qū)動部件、基底54的表面等等。因此，可以抑制襯底定位精度的下降，并以良好精度在其上形成所需的圖案。另外，排液構(gòu)件102也可被提供在XY臺53的上表面之上(在XY臺53的表面與Z臺52相對的那一側(cè)上)，以便它充當(dāng)Z臺52的下表面和端面的側(cè)部的遮蔽(在Z臺52的表面與XY臺相對的那一側(cè)上)。
如上所述，本實施例中的液體1包括純水。純水的有利之處在于在半導(dǎo)體加工廠等易獲得大量純水，并且純水對于光學(xué)元件(透鏡)、襯底P上的光阻材料等沒有不利影響。此外，由于純水對環(huán)境沒有不利影響，并且具有極低的雜質(zhì)儲量，因此也可預(yù)期它具有清除襯底P的表面和在投射光學(xué)系統(tǒng)PL的前表面上提供的光學(xué)元件的表面的作用。
另外，由于純水(水)對于波長約為193nm的曝光用光EL的折射率n基本上為1.44，因此使用ArF受激準(zhǔn)分子激光(193nm波長)作為曝光用光EL的光源會將襯底P上的波長縮短為1/n，即約134nm，從而獲得的高分辨率。另外，由于聚焦深度將會增大為空氣中的約n倍，即1.44倍，因此如果優(yōu)選地確保聚焦深度與在空氣使用時相同，則投射光學(xué)系統(tǒng)PL的數(shù)值孔徑可進(jìn)一步增大，并且從這個觀點來看分辨率也提高了。
在本實施例中，光學(xué)元件2被附接到投射光學(xué)系統(tǒng)PL的前部，并且此透鏡可調(diào)整投射光學(xué)系統(tǒng)PL的光學(xué)特性，例如象差(球狀象差、慧形象差等)。另外，附接到投射光學(xué)系統(tǒng)PL前部的光學(xué)元件可以是用于調(diào)整投射光學(xué)系統(tǒng)PL的光學(xué)特性的光學(xué)板。或者，它可以是能夠透射曝光用光EL的平行平面板。
另外，如果由投射光學(xué)系統(tǒng)PL的前部處的光學(xué)元件和襯底P之間的液體1的流動而生成的壓力較大，則光學(xué)元件可以被該壓力嚴(yán)格固定以使其不移動，而不是使該光學(xué)元件可更換。
另外，本發(fā)明的構(gòu)造使得液體1被填充在投射光學(xué)系統(tǒng)PL和襯底P的表面之間，但是它的構(gòu)造例如也可以是在以下狀態(tài)下填充液體1包括平行平面板的覆蓋玻璃被附接到襯底P的表面。
另外，雖然本發(fā)明中的液體1是水，但是也可以是除水之外的其他液體，例如，如果曝光用光EL的光源是F2激光，則F2激光將不會透射經(jīng)過水，因此用能夠透射F2激光的基于氟的液體，例如全氟聚醚(PFPE)或基于氟的油。在此情況下，例如通過用具有包含氟的低極性分子結(jié)構(gòu)的物質(zhì)形成薄膜，來對接觸液體1的部分進(jìn)行親液處理。此外，還可以用對曝光用光EL透明、具有盡可能高的折射率并且對于投射光學(xué)系統(tǒng)PL和涂覆在襯底P表面上的光阻材料穩(wěn)定的液體(例如香柏油)，來作為液體1。在此情況下，也根據(jù)所使用的液體1的極性執(zhí)行表面處理。
另外，在上述每個實施例中的襯底P不限于用于加工半導(dǎo)體器件的半導(dǎo)體晶片，也適用于用于顯示設(shè)備的玻璃襯底、用于薄膜磁頭的陶瓷晶片或曝光裝置使用的十字線(合成石英、硅晶片)掩膜或原始板等等。
除了通過同步移動掩膜M和襯底P來對掩膜M的圖案進(jìn)行掃描和曝光的步進(jìn)掃描系統(tǒng)掃描型曝光裝置(掃描步進(jìn)器)外，在靜止?fàn)顟B(tài)下用掩膜M和襯底P對掩膜M的整個圖案進(jìn)行曝光并且順序步進(jìn)襯底P的步進(jìn)重復(fù)系統(tǒng)投射曝光裝置(步進(jìn)器)也可用作曝光裝置EX。此外，本發(fā)明也適用于部分地并疊加地將至少兩個圖案轉(zhuǎn)印到襯底P上的步進(jìn)縫合系統(tǒng)曝光裝置。
此外，本發(fā)明也適用于日本未經(jīng)審查專利申請首次公布No.H10-163099和相應(yīng)的美國專利No.6,341,007、日本未經(jīng)審查專利申請首次公布No.H10-214783和相應(yīng)的美國專利No.6,341,007、PCT國際公布的已公布日本譯文No.2000-505958和相應(yīng)的美國專利No.5,969,441等中公開的雙臺型掃描步進(jìn)器。
另外，在此在本國際專利申請指定的指定國(或選定州)的國家法律和法規(guī)所允許的程度內(nèi)，通過引用將上述日本公布和相應(yīng)的美國專利各自的公開內(nèi)容全部包含進(jìn)來。
此外，在上述實施例中，使用了在襯底P和襯底P之間局部填充液體的曝光裝置，但是本發(fā)明也適用于在日本未經(jīng)審查專利申請首次公布No.H06-124873中公開的在液體浴中移動支持要曝光的襯底的臺的液體浸潤曝光裝置。
此外，在此在本國際專利申請指定的指定國(或選定州)的國家法律和法規(guī)所允許的程度內(nèi)，通過引用將上述日本公布的公開內(nèi)容全部包含進(jìn)來。
曝光裝置EX的類型不限于對襯底P上的半導(dǎo)體器件的圖案進(jìn)行曝光的半導(dǎo)體器件加工曝光裝置，而是廣泛適用于用于加工液晶設(shè)備或顯示器的曝光裝置、用于加工薄膜磁頭、成像設(shè)備(CCD)或刻線和掩膜的曝光裝置等等。
如果像美國專利No.5,623,853和美國專利No.5,528,118中公開的那樣，直線電動機(jī)被用于襯底臺PST或掩膜臺MST中，則可使用利用氣浮的空氣懸浮型或利用洛倫茲力或電抗力的磁懸浮型。此外，臺PST、MST中的每一個可以是沿導(dǎo)軌移動的類型或未配備導(dǎo)軌的無導(dǎo)軌型。
在此在本國際專利申請指定的指定國(或選定州)的國家法律和法規(guī)所允許的程度內(nèi)，通過引用將上述美國專利各自的公開內(nèi)容全部包含進(jìn)來。
對于臺PST、MST中的每一個的驅(qū)動機(jī)構(gòu)，可使用平面電動機(jī)，這種平面電動機(jī)與磁體單元相對，其中以二維形式將磁體布置到電樞單元，其中以二維形式布置線圈，并且通過電磁力驅(qū)動臺PST、MST中的每一個。在此情況下，磁體單元和電樞單元中的任何一個被連接到臺PST、MST，而磁體單元和電樞單元中的另一個應(yīng)當(dāng)被提供在臺PST、MST的移動表面?zhèn)戎稀?br> 正如日本未經(jīng)審查專利申請首次公布No.H08-166475和相應(yīng)的美國專利No.5,528,118中所闡述的，可利用框架構(gòu)件將由襯底臺PST的移動所生成的反作用力以機(jī)械方式釋放到地面(地)，以便它不被傳遞到投射光學(xué)系統(tǒng)PL。
在此在本國際專利申請指定的指定國(或選定州)的國家法律和法規(guī)所允許的程度內(nèi)，通過引用將上述日本公布和相應(yīng)的美國專利各自的公開內(nèi)容全部包含進(jìn)來。
正如日本未經(jīng)審查專利申請首次公布No.H08-330224和相應(yīng)的美國專利No.5,874,820中所闡述的，可利用框架構(gòu)件將由掩膜臺MST的移動所生成的反作用力以機(jī)械方式釋放到地面(地)，以便它不被傳遞到投射光學(xué)系統(tǒng)PL。
在此在本國際專利申請指定的指定國(或選定州)的國家法律和法規(guī)所允許的程度內(nèi)，通過引用將上述日本公布和相應(yīng)的美國專利各自的公開內(nèi)容全部包含進(jìn)來。
如上所述的本申請中的實施例的曝光裝置EX是通過組裝包括本申請的權(quán)利要求中所述的每個構(gòu)成元件在內(nèi)的各種子系統(tǒng)來制造的，以便保持規(guī)定的機(jī)構(gòu)精度、電氣精度和光學(xué)精度。為了確保這些各種各樣的精度，在此組裝之前后之后執(zhí)行調(diào)整，包括用于實現(xiàn)各種光學(xué)系統(tǒng)的光學(xué)精度的調(diào)整、用于實現(xiàn)各種機(jī)械系統(tǒng)的機(jī)械精度的調(diào)整以及用于實現(xiàn)各種電氣系統(tǒng)的電氣精度的調(diào)整。從各種子系統(tǒng)到曝光裝置的組裝過程包括各種子系統(tǒng)的相互機(jī)械連接、電路的配線和連接、大氣壓電路的管道安裝和連接等等。當(dāng)然，在從這些各種各樣的子系統(tǒng)到曝光裝置的組裝過程之前，有用于組裝各子系統(tǒng)中的過程。當(dāng)完成從各種子系統(tǒng)到曝光裝置的組裝過程之后，執(zhí)行綜合調(diào)整以從整體上確保曝光裝置的各種精度。另外，最好在溫度、清潔水平等受到控制的清潔的房間中制造曝光裝置。
如圖22中所示，諸如半導(dǎo)體器件這樣的微器件是通過以下步驟來制造的步驟201，該步驟設(shè)計微器件的功能和性能；步驟202，該步驟基于此設(shè)計步驟加工掩膜(刻線)；步驟203，該步驟加工作為器件基底材料的襯底；襯底處理步驟204，其中以上所述的實施例的曝光裝置EX將掩膜的圖案曝光到襯底上；器件組裝步驟205(包括切割過程、焊接過程和封裝過程)；檢查步驟206；等等。
工業(yè)應(yīng)用性根據(jù)本發(fā)明，通過去除在曝光后殘余并附著的不必要的液體以及在曝光期間擴(kuò)散并附著的不必要的液體，可以防止由于不必要的液體而引起的曝光精度的惡化，并且以良好的精度在襯底上形成所需的圖案。
權(quán)利要求
1.一種曝光裝置，其通過在投射光學(xué)系統(tǒng)和襯底之間填充液體并且經(jīng)由所述投射光學(xué)系統(tǒng)和所述液體將圖案的圖像投射到所述襯底上，來對所述襯底進(jìn)行曝光，所述裝置包括液體去除機(jī)構(gòu)，其間歇性地向所述液體附著到的組件吹氣以便去除所述液體，所述組件被布置在所述投射光學(xué)系統(tǒng)的像平面附近。
2.一種曝光裝置，其通過在投射光學(xué)系統(tǒng)和襯底之間填充液體并且經(jīng)由所述投射光學(xué)系統(tǒng)和所述液體將圖案的圖像投射到所述襯底上，來對所述襯底進(jìn)行曝光，所述裝置包括液體去除機(jī)構(gòu)，其向所述液體附著到的組件吹氣以便去除所述液體，所述組件被布置在所述投射光學(xué)系統(tǒng)的像平面附近；其中，所述液體去除機(jī)構(gòu)在改變所述氣體的流速的同時吹動所述氣體。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的曝光裝置，其中所述液體去除機(jī)構(gòu)具有氣體吹出端口，該氣體吹出端口可相對于所述組件移動。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的曝光裝置，其中所述液體去除機(jī)構(gòu)具有振動裝置，該振動裝置振動所述液體附著到的所述組件。
5.一種曝光裝置，其通過在投射光學(xué)系統(tǒng)和襯底之間填充液體并且經(jīng)由所述投射光學(xué)系統(tǒng)和所述液體將圖案的圖像投射到所述襯底上，來對所述襯底進(jìn)行曝光，所述裝置包括液體去除機(jī)構(gòu)，其具有振動裝置，該振動裝置振動組件以便去除附著到所述組件的所述液體，所述組件被布置在所述投射光學(xué)系統(tǒng)的像平面附近。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的曝光裝置，其中所述組件的一部分被支撐，并且所述振動裝置振動所述一部分被支撐的組件的自由端。
7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的曝光裝置，其中所述振動裝置具有壓電設(shè)備。
8.根據(jù)權(quán)利要求5所述的曝光裝置，其中所述振動裝置在多個位置處振動所述組件，從而在所述組件中生成行波。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的曝光裝置，其中附著到所述組件的所述液體是殘余的液體或在曝光期間從所述襯底擴(kuò)散開來的液體中的至少之一。
10.根據(jù)權(quán)利要求1至9中任何一項所述的曝光裝置，其中去除所述液體的操作被所述液體去除機(jī)構(gòu)與對所述襯底進(jìn)行曝光的操作并行地執(zhí)行。
11.一種曝光裝置，其通過在投射光學(xué)系統(tǒng)和襯底之間填充液體并且經(jīng)由所述投射光學(xué)系統(tǒng)和所述液體將圖案的圖像投射到所述襯底上，來對所述襯底進(jìn)行曝光，所述裝置包括液體去除機(jī)構(gòu)，其去除在曝光期間從所述襯底擴(kuò)散開來的并且附著到布置在所述投射光學(xué)系統(tǒng)的像平面附近的組件的所述液體。
12.一種曝光裝置，其通過在投射光學(xué)系統(tǒng)和襯底之間填充液體并且經(jīng)由所述投射光學(xué)系統(tǒng)和所述液體將圖案的圖像投射到所述襯底上，來對所述襯底進(jìn)行曝光，所述裝置包括液體去除機(jī)構(gòu)，其與對所述襯底進(jìn)行曝光操作并行地去除附著到組件的所述液體，所述組件被布置在所述投射光學(xué)系統(tǒng)的像平面附近。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的曝光裝置，其中所述液體去除機(jī)構(gòu)具有向所述組件吹氣的氣體吹出端口。
14.根據(jù)權(quán)利要求12所述的曝光裝置，其中所述液體去除機(jī)構(gòu)具有吸取附著到所述組件的所述液體的抽吸裝置。
15.根據(jù)權(quán)利要求12所述的曝光裝置，其中所述液體去除機(jī)構(gòu)具有提供干燥氣體的干燥裝置。
16.根據(jù)權(quán)利要求12所述的曝光裝置，其中所述組件被提供到能夠支持和移動所述襯底的襯底支持構(gòu)件。
17.根據(jù)權(quán)利要求12所述的曝光裝置，其中所述組件包括能夠支持和移動所述襯底的襯底支持構(gòu)件的至少一部分。
18.根據(jù)權(quán)利要求12所述的曝光裝置，其中所述組件具有光接收部件，該光接收部件被提供在能夠支持和移動所述襯底的襯底支持構(gòu)件上，光被輻照到其上。
19.根據(jù)權(quán)利要求12所述的曝光裝置，其中所述組件包括反射鏡，該反射鏡被來自干涉計的光輻照以便測量能夠支持和移動所述襯底的襯底支持構(gòu)件的位置信息。
20.根據(jù)權(quán)利要求19所述的曝光裝置，其中所述液體去除機(jī)構(gòu)被提供在所述干涉計的附近。
21.根據(jù)權(quán)利要求19所述的曝光裝置，其中所述液體去除機(jī)構(gòu)被提供在所述干涉計的兩側(cè)上。
22.根據(jù)權(quán)利要求19所述的曝光裝置，其中去除所述液體的過程被所述液體去除機(jī)構(gòu)基于所述干涉計的測量結(jié)果來執(zhí)行。
23.根據(jù)權(quán)利要求12所述的曝光裝置，其中所述組件包括光接收設(shè)備，該光接收設(shè)備被提供在能夠支持和移動所述襯底的襯底支持構(gòu)件上，并且接收穿過所述投射光學(xué)系統(tǒng)輻照到其像平面?zhèn)鹊墓狻?br> 24.根據(jù)權(quán)利要求12所述的曝光裝置，其中所述組件具有提供在能夠支持和移動所述襯底的襯底支持構(gòu)件上的光透射構(gòu)件，以及接收穿過所述光透射構(gòu)件的光的光接收設(shè)備；并且所述組件具有所述光透射構(gòu)件。
25.根據(jù)權(quán)利要求12所述的曝光裝置，其中所述組件具有參考構(gòu)件，該參考構(gòu)件被提供到能夠支持和移動所述襯底的的襯底支持構(gòu)件。
26.根據(jù)權(quán)利要求12所述的曝光裝置，其中在所述襯底的曝光期間，所述組件接觸所述液體。
27.根據(jù)權(quán)利要求12所述的曝光裝置，其中所述組件具有所述投射光學(xué)系統(tǒng)的前部組件。
28.根據(jù)權(quán)利要求12所述的曝光裝置，還包括液體供給機(jī)構(gòu)，其具有提供所述液體的供給噴頭；其中，所述組件具有所述供給噴頭。
29.根據(jù)權(quán)利要求12所述的曝光裝置，還包括液體回收機(jī)構(gòu)，其具有回收所述液體的回收噴頭；其中，所述組件具有所述回收噴頭。
30.根據(jù)權(quán)利要求12所述的曝光裝置，其中所述液體去除機(jī)構(gòu)被提供在襯底更換位置處。
31.根據(jù)權(quán)利要求12所述的曝光裝置，還包括第二液體回收機(jī)構(gòu)，其回收從所述組件去除的所述液體。
32.根據(jù)權(quán)利要求31所述的曝光裝置，其中所述第二液體回收機(jī)構(gòu)被提供在能夠支持和移動所述襯底的襯底支持構(gòu)件的外側(cè)上。
33.根據(jù)權(quán)利要求32所述的曝光裝置，其中所述第二液體回收機(jī)構(gòu)具有處理機(jī)構(gòu)，該處理機(jī)構(gòu)被提供在所述襯底支持構(gòu)件外側(cè)之上，并且處理從所述組件去除的所述液體。
34.根據(jù)權(quán)利要求33所述的曝光裝置，其中所述處理機(jī)構(gòu)具有提供在所述襯底支持構(gòu)件的外側(cè)之上并且回收所述液體的排液構(gòu)件，以及排放由所述排液構(gòu)件回收的所述液體的排放構(gòu)件。
35.根據(jù)權(quán)利要求1所述的曝光裝置，其中在所述襯底上設(shè)置的多個曝光區(qū)域被順序曝光；并且在完成第一曝光區(qū)域的曝光之后到開始下一個第二曝光區(qū)域的曝光之間的時間段的至少一部分中，通過所述液體去除機(jī)構(gòu)去除所述液體。
36.根據(jù)權(quán)利要求35所述的曝光裝置，其中所述第一曝光區(qū)域和所述第二曝光區(qū)域被設(shè)置在一個襯底上。
37.根據(jù)權(quán)利要求35所述的曝光裝置，其中所述第一曝光區(qū)域被設(shè)置在第一襯底上，所述第二曝光區(qū)域被設(shè)置在所述第一襯底之后的第二襯底上。
38.根據(jù)權(quán)利要求35所述的曝光裝置，其中在所述第一曝光區(qū)域和所述第二曝光區(qū)域之間的時間段中，當(dāng)所述液體被去除時，所述第一曝光區(qū)域的曝光信息被存儲；并且在去除所述液體之后，基于所述存儲信息開始對所述第二曝光區(qū)域進(jìn)行曝光過程。
39.根據(jù)權(quán)利要求11至38中任何一項所述的曝光裝置，其中所述液體被所述液體去除機(jī)構(gòu)周期性地去除。
40.根據(jù)權(quán)利要求39所述的曝光裝置，其中防止所述液體附著到所述組件的遮蔽構(gòu)件被提供在所述組件的上側(cè)。
41.一種曝光裝置，其通過在投射光學(xué)系統(tǒng)和襯底之間填充液體并且經(jīng)由所述投射光學(xué)系統(tǒng)和所述液體將圖案的圖像投射到所述襯底上，來對所述襯底進(jìn)行曝光，所述裝置包括遮蔽構(gòu)件，其防止所述液體附著到所述組件，所述遮蔽構(gòu)件被提供在所述組件的上側(cè)，所述組件被布置在所述投射光學(xué)系統(tǒng)的像平面附近。
42.根據(jù)權(quán)利要求41所述的曝光裝置，其中所述組件被附接到能夠支持和移動所述襯底的襯底支持構(gòu)件的側(cè)部。
43.根據(jù)權(quán)利要求42所述的曝光裝置，其中所述組件包括反射鏡，來自測量所述襯底支持構(gòu)件的位置信息的干涉計的光被輻照在該反射鏡之上。
44.根據(jù)權(quán)利要求40至43中任何一項所述的曝光裝置，其中至少所述遮蔽構(gòu)件的上表面是斥液性的。
45.根據(jù)權(quán)利要求40至44中任何一項所述的曝光裝置，還包括被布置在所述遮蔽構(gòu)件下方的排液構(gòu)件。
46.根據(jù)權(quán)利要求45所述的曝光裝置，其中所述排液構(gòu)件的大小是根據(jù)所述遮蔽構(gòu)件的大小、所述遮蔽構(gòu)件和所述排液構(gòu)件之間的距離、以及支撐所述遮蔽構(gòu)件并且能夠支持和移動所述襯底的襯底支持構(gòu)件的移動速度來設(shè)置的。
47.根據(jù)權(quán)利要求41所述的曝光裝置，還包括振動所述遮蔽構(gòu)件的振動裝置。
48.一種曝光裝置，其通過在投射光學(xué)系統(tǒng)和襯底之間填充液體并且經(jīng)由所述投射光學(xué)系統(tǒng)和所述液體將圖案的圖像投射到所述襯底上，來對所述襯底進(jìn)行曝光，所述裝置包括具有支持表面的臺，其支持所述襯底，并且能夠相對于所述投射光學(xué)系統(tǒng)移動；以及液體接收構(gòu)件，其被布置在所述臺周圍，并且具有接收所述液體并且被定位得低于所述支持表面的表面。
49.一種曝光裝置，其通過經(jīng)由被提供給襯底的液體將圖像投射在所述襯底之上，來對所述襯底進(jìn)行曝光，所述裝置包括能夠支持和移動所述襯底的臺；位置檢測構(gòu)件，其被提供給所述臺，并且檢測與所述臺的位置相關(guān)的信息；以及液體去除機(jī)構(gòu)，其去除附著到所述位置檢測構(gòu)件的所述液體。
50.一種器件加工方法，其中使用了根據(jù)權(quán)利要求40-49中任何一項的曝光裝置。
51.一種曝光裝置，其通過在襯底上形成液體的浸潤區(qū)域并且經(jīng)過所述浸潤區(qū)域的所述液體將圖像投射到所述襯底上，來對所述襯底進(jìn)行曝光，所述裝置包括能夠支持和移動所述襯底的臺裝置；檢測所述臺裝置的位置信息的干涉計；以及反射表面，其被提供給所述臺裝置，并且反射來自所述干涉計的測量光束；其中，所述反射表面的上端被定位得低于所述浸潤區(qū)域。
52.一種曝光裝置，其通過經(jīng)由提供給所述襯底的液體將圖像投射到襯底上來對所述襯底進(jìn)行曝光，所述裝置包括能夠支持和移動所述襯底的襯底支持構(gòu)件；檢測所述襯底支持構(gòu)件的位置信息的干涉計；板狀構(gòu)件，其被安裝在所述襯底支持構(gòu)件的上表面上，并且是斥液性的；以及反射表面，其被提供給所述板狀構(gòu)件下方的所述襯底支持構(gòu)件，并且反射來自所述干涉計的測量光束；其中，所述板狀構(gòu)件的末端部分的至少一部分在所述測量光束撞擊所述反射表面的方向一側(cè)上沿所述入射方向伸出得比所述反射表面多。
53.一種曝光裝置，其通過投射光學(xué)系統(tǒng)在襯底上形成圖像，所述裝置包括襯底支持構(gòu)件，其能夠支持所述襯底并至少在平面內(nèi)移動所述襯底；檢測所述襯底支持構(gòu)件在所述平面內(nèi)的位置信息的干涉計；以及反射表面，其被提供給所述襯底支持構(gòu)件，并且反射來自所述干涉計的測量光束；其中，撞擊所述反射表面的所述測量光束的光路徑的至少一部分經(jīng)過所述襯底支持構(gòu)件的至少一部分的下方。
54.根據(jù)權(quán)利要求53所述的曝光裝置，其中所述襯底支持構(gòu)件還能夠在平行于與所述平面正交的軸的方向上移動。
55.根據(jù)權(quán)利要求53所述的曝光裝置，其中通過在所述投射光學(xué)系統(tǒng)和所述襯底之間填充液體并經(jīng)由所述投射光學(xué)系統(tǒng)和所述液體將圖像投射到所述襯底上來對所述襯底進(jìn)行曝光；并且所述襯底支持構(gòu)件的至少一部分是防止所述液體附著到所述反射表面的構(gòu)件。
全文摘要
曝光裝置EX通過在投射光學(xué)系統(tǒng)PL和襯底P之間填充液體l并且經(jīng)由投射光學(xué)系統(tǒng)PL和液體l將圖案的圖像投射到襯底P上，來對襯底P進(jìn)行曝光，該裝置包括液體去除機(jī)構(gòu)40，其間歇性地向液體l附著到的布置在投射光學(xué)系統(tǒng)PL的像平面附近的參考構(gòu)件7、可移動鏡55等吹氣，以便去除液體l。通過這種構(gòu)造，可以提供一種能夠在通過經(jīng)由投射光學(xué)系統(tǒng)和液體將圖案投射到襯底上來對襯底進(jìn)行曝光時去除不必要的液體的曝光裝置，以及在襯底上形成所需的器件圖案。
文檔編號G03F7/20GK1842893SQ200480024379
公開日2006年10月4日 申請日期2004年8月27日 優(yōu)先權(quán)日2003年8月29日
發(fā)明者原英明, 高巖宏明 申請人:株式會社尼康