專利名稱：用于形成光學圖像的控制電路和方法
技術領域：
本發(fā)明涉及一種在輻射敏感層中形成光學圖像的方法，該方法包括下列步驟-提供輻射源；-提供輻射敏感層；-將多個單獨受控的光閥放置在該輻射源和該輻射敏感層之間；-將多個輻射會聚元件放置在所述多個光閥和該輻射敏感層之間，以使每個會聚元件對應于一個不同的光閥，并用于將來自對應光閥的輻射會聚在輻射敏感層的光點(spot)區(qū)域中；-通過一方面掃描所述層，以及另一方面彼此相對地掃描相關的光閥/會聚元件對，并根據(jù)通過光閥所要寫入的圖像部分來將每個光閥在開和關狀態(tài)之間切換，從而同時在輻射敏感層區(qū)域中寫入圖像部分。
本發(fā)明還涉及一種用于執(zhí)行該方法的裝置、一種供該方法使用的控制電路、以及一種使用這種方法制造設備的方法。
光閥和輻射會聚元件優(yōu)選以二維陣列布置。光閥或光學快門的陣列被理解為指的是可以在兩種狀態(tài)之間切換的可控元件的陣列。在一種狀態(tài)下，入射到這種元件上的輻射受到遮擋，而在另一種狀態(tài)下，該入射輻射被透射或反射以沿著在裝置中規(guī)定的路徑行進，該陣列構成了該裝置的一部分。
這種陣列可以是透射型或反射型的液晶顯示器(LCD)或者數(shù)字反射鏡器件(DMD)。該輻射敏感層例如是在光刻技術中使用的抗蝕劑層或者在印刷(printing)裝置中使用的帶靜電的層。
這種方法和裝置尤其可以用于制造諸如液晶顯示器(LCD)面板、定制IC(集成電路)和PCB(印制電路板)之類的設備。目前，在這種設備的制造中使用接近式曝光(proximity printing)。接近式曝光是一種在設備襯底上的輻射敏感層中形成圖像的快速而廉價的方法，該圖像包括對應于將要在襯底層中配置的設備特征(feature)的特征。利用了以距襯底短距離(稱作鄰近間隙)布置的大的光掩模，并由例如紫外(UV)輻射經由該光掩模照射該襯底。該方法的重要優(yōu)點是大的像場，從而可以在一個成像步驟中對大的設備圖案進行成像。用于接近式曝光的傳統(tǒng)光掩模的圖案是襯底上所需圖像的實際的一比一的復制，即這幅圖像的每個像元(像素)與掩模圖案中的對應像素相同。
接近式曝光具有有限的分辨率，即在襯底上的敏感層中再現(xiàn)作為獨立實體的掩模圖案的點、線等(通常是掩模圖案的特征)的能力。這是由衍射效應造成的，這種衍射效應在特征尺寸相對于用于成像的輻射波長降低的時候出現(xiàn)。例如，對于近UV范圍的波長以及100μm的鄰近間隙的寬度，分辨率是10μm，這意味著可以將相互距離為10μm的圖案特征成像為獨立元件。
為了提高光刻技術中的分辨率，使用了一種實投影裝置，即具有象透鏡投影系統(tǒng)或反射鏡投影系統(tǒng)之類的實投影系統(tǒng)的裝置。這種裝置的實例是晶片步進器或晶片步進和掃描儀。在晶片步進器中，通過投影透鏡系統(tǒng)將整個掩模圖案(例如IC圖案)一次成像到襯底的第一IC區(qū)域上。然后使該掩模和襯底彼此相對移動(步進)，直到第二IC區(qū)域位于投影透鏡之下為止。然后將掩模圖案成像到第二IC區(qū)域上。重復這些步驟，直到襯底的所有IC區(qū)域都具有了掩模圖案的圖像為止。這是一個耗時的過程，原因在于移動、對準和照射的子步驟。在步進和掃描儀中，一次僅照射掩模圖案的一小部分。在照射過程中，該掩模和襯底相對于照射光束同步移動，直到已經照射了整個掩模圖案并且這個圖案的完整圖像已經形成在襯底的IC區(qū)域中為止。然后該掩模和襯底彼此相對移動，直到下一個IC區(qū)域位于投影透鏡之下為止，并且再次掃描照射該掩模圖案，從而在下一個IC區(qū)域上形成該掩模圖案的完整圖像。重復這些步驟，直到襯底的所有IC區(qū)域都具有了掩模圖案的完整圖像為止。該步進和掃描過程比步進過程甚至更耗費時間。
如果將1∶1的步進器即放大率為1的步進器用于印制LCD圖案，那么可以獲得3μm的分辨率，然而，這是以很多的成像時間為代價的。此外，如果該圖案大并且必須分成獨立成像的子圖案的話，會出現(xiàn)縫合(stitching)的問題，這意味著相鄰的子域不會精確地配合在一起。
制造光掩模是一個耗時而麻煩的工藝，這使得這種掩模變得昂貴。如果需要多次重新設計光掩?；蛘呷绻仨氈圃炜蛻魧Ｓ玫脑O備(即相對較少量的相同設備)，那么利用光掩模的光刻制造方法是一種昂貴的方法。
D.Gil等人在2000年11月/12月的J.Vac.Sci.Technology B 18(6)第2881-2885頁的論文“Lithographic patterning and confocal imagingwith zone plates(利用波帶片的光刻構圖和共焦成像)”描述了一種光刻方法，其中代替光掩模，使用了DMD陣列和波帶片陣列的組合。如果該波帶片陣列(也稱作菲涅耳透鏡)被照射，那么它在襯底上生成輻射光點陣列，在該論文所述的實驗中為3×3的X射線光點陣列。光點大小約等于波帶片的最小特征尺寸，即外部區(qū)域寬度。由DMD設備的微型機械裝置來獨立地開啟和關閉對每個波帶片的輻射，并借助通過波帶片單元對襯底進行光柵掃描，可以寫入任意的圖案。這樣，由于利用光點陣列進行并行寫入，所以無掩模光刻技術的優(yōu)點與高生產量被結合起來。
在許多靈活(flexible)光刻系統(tǒng)(即具有可改變的光圖案的光刻系統(tǒng))中，透鏡陣列相對于掃描區(qū)域傾斜，使得每個襯底區(qū)域由大量光點掃描。此外，一些光點重疊也沿垂直于掃描方向的方向出現(xiàn)。這兩種情況都對所得的光學圖像的分辨率具有不利的影響，特別是在所制造的設備特征的邊緣處，這對可由該設備實現(xiàn)的對準性能具有不利的影響。
本發(fā)明的目的是為了解決上述問題并提供一種準確且輻射高效的光刻成像方法。
根據(jù)本發(fā)明，提供了一種在輻射敏感層中形成光學圖像的方法，該方法包括下列步驟-提供輻射源；-提供輻射敏感層；-將多個單獨受控的光閥放置在該源和該輻射敏感層之間；-將多個輻射會聚元件放置在所述多個光閥和該輻射敏感層之間，以使每個會聚元件對應于一個不同的光閥，并用于將來自對應光閥的輻射會聚在輻射敏感層的光點區(qū)域中；-通過一方面掃描所述層，以及另一方面彼此相對地掃描相關的光閥/會聚元件對，并根據(jù)通過該光閥所要寫入的圖像部分來將每個光閥在開和關狀態(tài)之間切換，從而同時在該輻射敏感層區(qū)域上寫入圖像部分，其中通過多個由相應的光閥/會聚元件對所產生的光點來掃描在該輻射敏感層中的至少一些光點區(qū)域；該方法的特征在于下述步驟-有選擇地降低在所述輻射敏感層中掃描相同光點區(qū)域的所述多個光點的一個或多個光點的強度，或者切斷所述多個光點的一個或多個光點，以便調整所述光學圖像的邊緣部分在所述輻射敏感層中的位置。
因此，寫入該輻射敏感層的特征的邊緣可被有效地“細調”，使得由輻射會聚元件的間距(pitch)和會聚元件組相對于襯底的角度所限定的寫入柵格(grid)可以得到改善，并且可以獲得更好的對準性能。
通常，在光刻技術中使用的抗蝕劑需要最小“劑量”(即光點強度)以“清除”(即寫入圖像部分)。因此，在這種情況下，特征的邊緣由在閾值和施加到光點區(qū)域的總強度之間的交點(如果用圖顯示)所限定。因此，在優(yōu)選實施例中，一個或多個光點被有選擇地切斷(或降低它們的強度)，同時維持在光點區(qū)域處的總強度等于或高于閾值。
本發(fā)明的該方法的進一步的特征在于，在連續(xù)的子照射之間，輻射敏感層和陣列彼此相對移動了一定距離，該距離至多等于在輻射敏感層中形成的光點的尺寸。
這樣，可在整個特征上以恒定強度寫入圖像特征，即圖案特征。根據(jù)該裝置中存在的光束成形孔徑的設計，該光點可具有圓形、方形、菱形或矩形形狀。光點的大小被理解為指的是在這個光點內最大尺寸的大小。
如果將要寫入的圖像特征彼此非常接近，那么這些特征可以變寬并彼此混合，該現(xiàn)象被稱為鄰近效應。該方法的一個實施例防止了鄰近效應的出現(xiàn)，其特征在于，在圖像特征的邊沿處的光點強度適合于在這個特征邊沿與相鄰特征之間的距離。
該方法可用于若干應用。第一個應用是在光刻領域。該方法的一個實施例適合于構成用于在襯底中制造設備的光刻過程的一部分，其特征在于，輻射敏感層是設置在襯底上的抗蝕劑層，并且其特征在于，圖像圖案對應于將要被制造的設備的特征圖案。
該方法的這個實施例的進一步的特征在于，該圖像被分成子圖像，每幅子圖像屬于要被制造的設備的不同層，并且其特征在于，在形成不同子圖像的過程中，抗蝕劑層表面被設置在距多個會聚元件(其可包括折射透鏡陣列)不同的距離處。
該方法的這個實施例允許在襯底的不同平面上成像并從而制造多層設備。
第二個應用是在印刷領域。該方法的一個實施例適于構成用于印刷一張紙的過程的一部分，其特征在于，該輻射敏感層是帶靜電的材料層。
光閥和會聚元件優(yōu)選以相應的二維陣列進行布置。
該方法的進一步的特征在于，放置光閥的二維陣列以直接面對會聚元件(例如折射透鏡)的相應陣列。
兩個陣列彼此接近地放置，而在它們之間沒有布置成像裝置，因此該方法可由緊湊裝置執(zhí)行。如果光閥陣列是調制入射輻射的偏振的LCD單元的陣列，那么將檢偏器布置在LCD和會聚元件(例如衍射單元或折射透鏡)陣列之間。
可選地，該方法的特征在于，將光閥陣列成像在會聚元件陣列上。
通過投影透鏡將一個陣列成像在另一陣列上提供了在穩(wěn)定性、熱效應和串擾方面的優(yōu)點。
本發(fā)明還涉及一種用于執(zhí)行上述方法的裝置。該裝置包括-輻射源；-定位裝置，用于將輻射敏感層相對于該輻射源進行定位；-多個單獨可控的光閥，其被布置在該源和該輻射敏感層的位置之間；-成像元件，其包括被布置在多個光閥和輻射敏感層的位置之間的多個輻射會聚元件，使得每個會聚元件對應于一個不同的光閥，并用于將來自對應光閥的輻射會聚在輻射敏感層的光點區(qū)域中；-寫入裝置，用于通過一方面掃描所述層，以及另一方面彼此相對地掃描相關的光閥/會聚元件對，并根據(jù)通過該光閥所要寫入的圖像部分來將每個光閥在開和關狀態(tài)之間切換，從而同時在該輻射敏感層區(qū)域上寫入圖像部分，其中通過多個由相應的光閥/會聚元件對所產生的光點來掃描在該輻射敏感層中的至少一些光點區(qū)域；該裝置的特征在于-控制裝置，用于有選擇地降低在所述輻射敏感層中掃描相同光點區(qū)域的所述多個光點的一個或多個光點的強度，或者切斷所述多個光點的一個或多個光點，以便調整所述光學圖像的邊緣部分在所述輻射敏感層中的位置。
該裝置的第一實施例適合于在襯底上的抗蝕劑層中形成圖像，該圖像包括對應于將要在所述襯底中配置的設備特征的特征，其特征在于，輻射敏感層是抗蝕劑層，以及其特征在于，該定位裝置是由襯底臺承載的襯底支架。
該實施例可適于允許子圖像形成在襯底的不同平面中，于是其特征在于，它包括用于在形成不同子圖像時調整(adapt)在抗蝕劑層表面和成像元件之間的距離的裝置。
該裝置的第二實施例適合于在一張紙上印刷數(shù)據(jù)，其特征在于，該輻射敏感層是帶靜電的輻射敏感材料的層，以及其特征在于，該定位裝置是用于使所述層相對于光閥陣列和折射透鏡陣列移動并用于將所述層保持在這些陣列的圖像場位置處的裝置。
術語“數(shù)據(jù)”被理解為包含可以印刷到紙上的所有可視信息，例如文本、圖形、照片等。
該裝置進一步的特征在于，該成像元件被布置在多個光閥(優(yōu)選為光閥陣列)之后，而不干擾成像裝置。
該間隙例如空氣間隙可以非常小，以使本實施例具有夾層形狀。如果光閥陣列是LCD，那么將檢偏器布置在光閥陣列和成像元件之間。
該裝置的一個實施例是夾層實施例的替代，其特征在于，將投影透鏡布置在光閥陣列和成像元件之間。
該投影透鏡將每個光閥成像在成像元件中與其相關的折射透鏡上，從而消除了串擾、光學像差和溫度效應。此外，成像元件的襯底可以相對較厚，以使該裝置更穩(wěn)定。
本發(fā)明還涉及一種在襯底的至少一個處理層上制造設備的方法，該方法包括以下步驟-在設置在該處理層上的抗蝕劑層中形成圖像，該圖像包括對應于將要在該處理層中配置的設備特征的特征；以及-從該處理層的區(qū)域上除去材料或者向該區(qū)域添加材料，該區(qū)域是由在抗蝕劑層中形成的圖像來描繪(delineate)的。
本方法的特征在于，利用如上所述的方法形成圖像。
利用本方法和裝置可制造的設備是液晶顯示器、客戶專用IC、電子模塊、印制電路板和MOEMS(集成微光機電系統(tǒng))等。這種設備的一個實例是集成光通信設備，其包括二極管激光器和/或檢測器、光導、光開關以及可能是在光導和二極管激光器之間的透鏡或檢測器。
本發(fā)明還擴充至一種供在上述裝置和方法中使用的控制電路，該控制電路的特征在于，它被配置為有選擇地降低在該輻射敏感層中掃描相同區(qū)域的所述多個光點的一個或多個光點的強度，或者切斷所述多個光點的一個或多個光點，以便調整邊緣光學圖像在該輻射敏感層中的位置。
通過非限定性實例的方式并參考下文所述的實施例，本發(fā)明的這些和其它方面是顯而易見的，并將對其進行闡明。
現(xiàn)在將僅通過實例并參考附圖來描述本發(fā)明的實施例，其中

圖1示意性地說明傳統(tǒng)的接近式曝光裝置；圖2示出根據(jù)本發(fā)明的成像裝置的實施例；圖3示意性地說明光點重疊的出現(xiàn)；圖4示意性地說明如參考圖3所述的光點重疊的表現(xiàn)形式；以及圖5用圖說明典型的總光點區(qū)域強度與在輻射敏感層中光點的位置的關系曲線。
圖1非常示意性地示出用于制造例如LCD設備的傳統(tǒng)的接近式曝光裝置。此裝置包括用于承載襯底3的襯底支架1，所述設備將在該襯底上制造。該襯底涂敷了輻射敏感或抗蝕劑層5，在該層中將要形成具有對應于設備特征的特征的圖像。圖像信息被包含在掩模8中，該掩模被布置在掩模支架7中。該掩模包括透明襯底9，該襯底的下表面具有由透明和不透明的條帶和區(qū)域構成的圖案10，其代表圖像信息。小的空氣間隙11的間隙寬度w約為100μm，其將圖案10與抗蝕劑層5分開。該裝置還包括輻射源12。這種源可以包括例如汞弧燈的燈13和反射器15。這個反射器反射所述燈沿朝向掩模背面和側面方向發(fā)出的輻射。該反射器可以是拋物面反射器，并且該燈可以位于反射器的焦點處，從而來自該輻射源的輻射束17基本上是準直光束?？梢詫⑵渌幕蛘吒郊拥墓鈱W元件例如一個或多個透鏡布置在輻射源中以確保光束17基本上是準直的。這種光束相當寬并照射了整個掩模圖案10，該圖案的尺寸可以從7.5×7.5cm2到40×40cm2。例如，照射步驟的持續(xù)時間大約為10秒。在將掩模圖案成像在抗蝕劑層中后，以公知的方式進行處理，即使該層顯影并刻蝕，從而將光學圖像轉印到所處理的襯底層的表面結構中。
圖1的設備具有相對簡單的結構，并且非常適于將大面積的掩模圖案一次成像到抗蝕劑層上。然而，光掩模是昂貴的部件，并且只有當制造大量相同設備時，利用這種掩模制造的設備的價格才能保持得比較低。掩模制造是一項專門的技術，只有相對較少量的掩模制造廠商掌握該項技術。設備制造商開發(fā)并制造新設備或者修改現(xiàn)有設備所需的時間主要取決于由掩模制造商設定的交貨時間。特別是在設備的開發(fā)階段，當需要經常重新設計該掩模時，該掩模是一種性能有限的元件。對于少量、客戶專用設備的情況也是如此。
通過例如電子束寫入器或激光束寫入器在抗蝕劑層上直接寫入圖案可以提供所需的靈活性，但不是一種真正的可選方案，因為這個過程花費了太多的時間。
圖2示出無掩模方法和裝置的原理，利用這個原理能夠在合理的時間內將任意的且輕易可變的圖像圖案形成到抗蝕劑層上。圖2非常示意性地并以垂直橫截面的形式示出用于執(zhí)行該方法并構成該裝置一部分的裝置的一小部分。該裝置包括用于容納襯底3的襯底支架1，該襯底涂敷了抗蝕劑層5。參考數(shù)字20表示光閥設備，例如液晶顯示器(LCD)，其目前被用于顯示裝置中來直觀地或者以投影來顯示信息。設備20包括大量光閥，其也被稱作像素(像元)，在圖2中僅示出幾個，并用參考數(shù)字21到25表示。該光閥設備由計算機結構30(未按比例)控制，其中把將要在襯底層中配置的圖案引入軟件中。因此，該計算機確定在寫入過程的任何時刻每個光閥是閉合的還是開啟的，閉合即遮擋了入射到這個光閥上的照射光束17的部分，開啟即將這部分光束傳輸?shù)娇刮g劑層。成像元件40被布置在光閥陣列20和抗蝕劑層5之間。這個元件包括透明襯底41和輻射會聚元件43的陣列42。這些元件的數(shù)量對應于光閥的數(shù)量，并且該陣列42與光閥陣列對準，從而使每個會聚元件屬于一個不同的光閥。
由于輻射源(其可能為紫外(UV)，但也可能為多種其它輻射類型之一)、襯底支架和掩模支架對理解本新方法具有較少的關系，因此對這些元件將不進行詳細描述。
通常，透鏡陣列42(以及光閥20)的布置相對于掃描方向是傾斜的，以使抗蝕劑層5中的至少一些光點區(qū)域由多個由透鏡/光閥對所產生的光點掃描。換言之，冗余輻射(比方說UV)光點可用于將相同的掃描線覆蓋在襯底3上。根據(jù)陣列42、20的傾斜，在正好相同位置處可獲得多個(比方說3至20個)冗余光點。這些光點很可能大于“虛間距(virtual pitch)”，因此光點重疊也趨于在橫向于掃描方向的方向出現(xiàn)，如圖3中所示。
參考附圖的圖3，在由M×N個小透鏡形成的傾斜的微透鏡陣列中，每個小透鏡沿X位移P.sin(Q)，假設Q為傾斜角。圖4中示意性地示出光點的重疊。
落在抗蝕劑層中光點區(qū)域的總強度為各個光點強度之和。參考附圖的圖5，如果光點區(qū)域可由高斯曲線(ganssian)描繪，則總強度可由曲線500示出。
在光刻技術中使用的抗蝕劑通常需要最小劑量(即強度)以“清除”(即對于將要寫入的圖像部分)。因此，特征的邊緣由所謂的“閥值”(線502)和總強度的交點所確定。如果所有的光點都為相等的強度，則總強度(曲線500)是對稱的且處于與閾值502的交點處，該特征的邊緣將產生。
然而，如果編號為3的光點(參見圖4)被切斷(或其強度低于其它光點)，則所得的曲線504(即這些光點的總強度)變得不對稱。因此在左側(由曲線504和閾值502之間的交點所限定)的特征邊緣稍微地向右移動。在右側的邊緣不受影響，因為光點3距離該邊緣足夠遠。
因此，上面所提供的實例說明本發(fā)明提供了以精細的、高分辨率的方式(小于光點的間距)調整特征的位置的可能性，并且如果特征的寬度足夠大，那么相對的邊緣不會受到影響。
應當理解的是，可切斷多于一個的光點(或降低其強度)以便調整邊緣位置，只要剩余的總強度足夠“清除”該特征。
本發(fā)明可應用于任何靈活的光刻系統(tǒng)，在所述光刻系統(tǒng)中，掩模由光閥陣列以及靠近襯底的相應的輻射會聚元件(優(yōu)選為微透鏡)陣列形成。
應當注意，上述實施例是說明而非限制本發(fā)明，并且本領域熟練技術人員能夠設計大量可替換的實施例而不背離如由所附的權利要求書限定的本發(fā)明的范圍。在權利要求書中，置于括號內的任何附圖標記都不應被解釋為限制該權利要求。詞“包含”和“包括”及類似用詞并不排除那些整體未列入任何權利要求或說明書中的元件或步驟的存在。對元件的單個引用并不排除對這種元件的多個引用，反之亦然。本發(fā)明可以借助包含若干不同元件的硬件以及借助適當編程的計算機來實現(xiàn)。在列舉了若干裝置的設備權利要求中，這些裝置中的一些可由同一項硬件實現(xiàn)。僅僅在相互不同的從屬權利要求中陳述了某些措施的事實并不表示這些措施的組合不能被有利地利用。
權利要求
1.一種在輻射敏感層(5)中形成光學圖像的方法，該方法包括下列步驟-提供輻射源(17)；-提供輻射敏感層(5)；-將多個單獨受控的光閥(21-25)放置在該輻射源(17)和該輻射敏感層(5)之間；-將多個輻射會聚元件(43)放置在所述多個光閥(21-25)和該輻射敏感層(5)之間，以使每個會聚元件(43)對應于一個不同的光閥(21-25)，并用于將來自對應光閥的輻射會聚在輻射敏感層(5)的光點區(qū)域中；-通過一方面掃描所述層(5)，以及另一方面彼此相對地掃描相關的光閥/會聚元件對，并根據(jù)通過該光閥(21-25)所要寫入的圖像部分來將每個光閥(21-25)在開和關狀態(tài)之間切換，從而同時在該輻射敏感層區(qū)域中寫入圖像部分，其中通過多個由相應的光閥/會聚元件對所產生的光點來掃描在該輻射敏感層(5)中的至少一些光點區(qū)域；該方法的特征在于下述步驟-有選擇地降低在所述輻射敏感層(5)中掃描相同光點區(qū)域的所述多個光點的一個或多個光點的強度，或者切斷所述多個光點的一個或多個光點，以便調整所述光學圖像的邊緣部分在所述輻射敏感層(5)中的位置。
2.根據(jù)權利要求1的方法，其中特征的邊緣部分由在閾值和施加于光點區(qū)域的輻射的總強度之間的交點來確定。
3.根據(jù)權利要求2的方法，其中所述閾值是在輻射敏感層(5)上形成該圖像部分所需的輻射的最小強度，并且有選擇地切斷所述一個或多個光點(或降低其強度)，同時維持在光點區(qū)域處的總強度等于或高于該閾值。
4.根據(jù)權利要求1至3中任何一項的方法，其特征在于，在連續(xù)的子照射中，輻射敏感層(5)和光閥/會聚元件對彼此相對位移一定距離，該距離至多等于在輻射敏感層(5)中形成的光點的大小。
5.根據(jù)權利要求1至4中任何一項的方法，其特征在于，在圖像特征的邊沿處的光點的強度適于在該特征邊沿和相鄰特征之間的距離。
6.根據(jù)權利要求1至5中任何一項的方法，形成用于在襯底(3)中制造設備的光刻過程的一部分，其特征在于，該輻射敏感層(5)是設置在該襯底(3)上的抗蝕劑層，以及其特征在于，圖像圖案相應于將要制造的設備的特征的圖案。
7.根據(jù)權利要求6的方法，其特征還在于，該圖像被分成子圖像，每幅子圖像屬于要被制造的設備的不同層，以及其特征在于，在形成不同子圖像的過程中，該抗蝕劑層表面被設置在距多個會聚元件不同的距離處。
8.根據(jù)權利要求1至5中任何一項的方法，形成用于印刷一張紙的過程的一部分，其特征在于，該輻射敏感層(5)是帶靜電的材料層。
9.根據(jù)權利要求1至8中任何一項的方法，其中放置所述多個光閥(21-25)以直接面對所述多個會聚元件(43)。
10.根據(jù)權利要求1至9中任何一項的方法，其中所述光閥(21-25)和會聚元件(43)以相應的二維陣列進行布置。
11.根據(jù)權利要求1至8中任何一項或權利要求10的方法，其特征在于，所述多個光閥(21-25)被成像在所述多個會聚元件(43)上。
12.用于執(zhí)行根據(jù)權利要求1至11中任何一項的方法的裝置，該裝置包括-輻射源(17)；-定位裝置，用于將輻射敏感層(5)相對于該輻射源(17)進行定位；-多個單獨可控的光閥(21-25)，其被布置在該源(17)和該輻射敏感層(5)的位置之間；-成像元件(40)，其包括布置在多個光閥(21-25)和輻射敏感層(5)的位置之間的多個輻射會聚元件(43)，以使每個會聚元件(43)對應于一個不同的光閥(21-25)，并用于將來自對應光閥(21-25)的輻射會聚在該輻射敏感層(5)的光點區(qū)域中；-寫入裝置，用于通過一方面掃描所述層(5)，以及另一方面彼此相對地掃描相關的光閥/會聚元件對，并根據(jù)通過該光閥(21-25)所要寫入的圖像部分來將每個光閥(21-25)在開和關狀態(tài)之間切換，從而同時在該輻射敏感層區(qū)域上寫入圖像部分，其中通過多個由相應的光閥/會聚元件對所產生的光點來掃描在該輻射敏感層(5)中的至少一些光點區(qū)域；該裝置的特征在于-控制裝置，用于有選擇地降低在所述輻射敏感層(5)中掃描相同光點區(qū)域的所述多個光點的一個或多個光點的強度，或者切斷所述多個光點的一個或多個光點，以便調整所述光學圖像的邊緣部分在所述輻射敏感層(5)中的位置。
13.根據(jù)權利要求12的用于在襯底(3)上的抗蝕劑層(5)中形成圖像的裝置，該圖像包括對應于將要在所述襯底(3)中配置的設備特征的特征，其特征在于，該輻射敏感層(5)是抗蝕劑層，以及其特征在于，該定位裝置是由襯底臺承載的襯底支架(1)。
14.根據(jù)權利要求13的裝置，其特征在于，它包括用于在襯底(3)的不同平面中形成不同的子圖像時調整在該抗蝕劑層表面(5)和該成像元件(40)之間的距離的裝置。
15.根據(jù)權利要求12的裝置，用于在一張紙上印刷數(shù)據(jù)，其特征在于，該輻射敏感層(5)是帶靜電的輻射敏感材料層，以及其特征在于，該定位裝置是用于使所述層(5)相對于所述多個光閥(21-25)和所述多個會聚元件(43)移動并用于將所述層(5)保持在所述光閥/會聚元件對的圖像場位置的裝置。
16.根據(jù)權利要求12至15中任何一項的裝置，其特征還在于，該成像元件(40)被布置在所述多個光閥(21-25)之后而不干擾成像裝置。
17.根據(jù)權利要求12至16中任何一項的裝置，其中所述光閥(21-25)和會聚元件(43)以相應的二維陣列進行布置。
18.根據(jù)權利要求12至17中任何一項的裝置，其中所述多個光閥(21-25)包括LCD，以及檢偏器被布置在所述多個光閥(21-25)和該成像元件(40)之間。
19.根據(jù)權利要求12至17中任何一項的裝置，其中投影透鏡被布置在所述多個光閥(21-25)和該成像元件(40)之間。
20.一種在襯底(3)的至少一個處理層(5)中制造設備的方法，該方法包括下列步驟-在設置在該處理層上的抗蝕劑層中形成圖像，該圖像包括對應于將要在該處理層中配置的設備特征的特征；以及-從該處理層的區(qū)域上除去材料或者向該區(qū)域添加材料，該區(qū)域是由在抗蝕劑層中形成的圖像來描繪的，其特征在于，該圖像通過根據(jù)權利要求1至11中任何一項的方法來形成。
21.一種供在根據(jù)權利要求1至11中任何一項的方法使用的控制電路，該控制電路的特征在于，它被配置為有選擇地降低在該輻射敏感層(5)中掃描相同區(qū)域的所述多個光點的一個或多個光點的強度，或者切斷所述多個光點的一個或多個光點，以便調整邊緣光學圖像在該輻射敏感層(5)中的位置。
全文摘要
光學圖像是由多個子照射在輻射敏感層(5)中形成的，在每個子照射中，光閥陣列(21－25)和相應的會聚元件(43)的陣列(40)用于根據(jù)子圖像圖案在抗蝕劑層(5)中形成光點圖案。在子照射之間，相對于該陣列(21－25、40)移動抗蝕劑層(5)。透鏡陣列(40)可相對于掃描區(qū)域傾斜，以使得每個抗蝕劑層區(qū)域由多個光點掃描。此外，在垂直于掃描方向的方向上也出現(xiàn)一些光點重疊。通過有選擇地降低該冗余光點中的一個或多個光點的強度或者切斷所述冗余光點中的一個或多個光點以便改變設備特征的邊緣的位置，即“細調”該位置，該光點冗余得到了利用。
文檔編號G03F7/20GK1842746SQ200480024407
公開日2006年10月4日 申請日期2004年8月9日 優(yōu)先權日2003年8月27日
發(fā)明者R·蒂默曼斯 申請人:皇家飛利浦電子股份有限公司