里葉頻譜的多個(gè)頻譜波峰的波峰頻率W及波 峰強(qiáng)度而分別算出的疊紋的頻率W及頻譜強(qiáng)度。
[0109] 另外，作為疊紋的可見(jiàn)性得W適當(dāng)化的且不包含斷線部的網(wǎng)孔圖案，并不限定于 上述說(shuō)明書(shū)中記載的內(nèi)容，也可為現(xiàn)有公知的疊紋的可見(jiàn)性得W適當(dāng)化的且不包含斷線部 的網(wǎng)孔圖案，應(yīng)用作為本申請(qǐng)人的申請(qǐng)案的日本專利特愿2011-221432號(hào)、日本專利特愿 2011-221434號(hào)、日本專利特愿2012-82706號(hào)W及日本專利特愿2012-166946號(hào)等中記載 的網(wǎng)孔圖案即可。
[0110] 因此，本發(fā)明的導(dǎo)電膜10W及導(dǎo)電膜11中，相對(duì)于顯示單元31的像素陣列圖案， 也即黑色矩陣（W下，也稱作BM)圖案而疊紋可見(jiàn)性方面最佳化的網(wǎng)孔圖案24W及網(wǎng)孔圖 案30、W及兩者的合成網(wǎng)孔圖案滿足上述條件中的至少一個(gè)。
[01川另外，關(guān)于相對(duì)于規(guī)定的BM圖案的網(wǎng)孔圖案的疊紋可見(jiàn)性最佳化的詳情，將在W后進(jìn)行敘述。
[0112] 本發(fā)明的導(dǎo)電膜基本上如W上那樣構(gòu)成。
[0113] 圖8是示意性地表示應(yīng)用本發(fā)明的導(dǎo)電膜的顯示單元的一部分的像素陣列圖案 的一例的概略說(shuō)明圖。
[0114] 如圖8中表示其一部分所示，在顯示單元31上，多個(gè)像素32矩陣狀地排列而構(gòu)成 規(guī)定的像素陣列圖案。一個(gè)像素32是將=個(gè)子像素（紅色子像素32r、綠色子像素32gW 及藍(lán)色子像素32b)沿水平方向排列而構(gòu)成。一個(gè)子像素設(shè)為垂直方向上縱長(zhǎng)的長(zhǎng)方形狀。 像素32的水平方向的陣列間距（水平像素間距Ph)與像素32的垂直方向的陣列間距（垂 直像素間距Pv)大致相同。目P，由一個(gè)像素32及包圍該一個(gè)像素32的黑色矩陣炬M) 34 (圖 案材料）構(gòu)成的形狀（參照由陰影表示的區(qū)域36)設(shè)為正方形。而且，一個(gè)像素32的縱橫 比不為1，而為水平方向（橫）的長(zhǎng)度 >垂直方向（縱）的長(zhǎng)度。
[0115] 如根據(jù)圖8可知那樣，包含多個(gè)像素32的各自的子像素32r、子像素32gW及子像 素32b的像素陣列圖案經(jīng)由分別包圍該些子像素32r、子像素32gW及子像素32b的BM34 的BM圖案38而規(guī)定，顯示單元31與導(dǎo)電膜10或?qū)щ娔?1重疊時(shí)產(chǎn)生的疊紋因顯示單元 31的BM34的BM圖案38與導(dǎo)電膜10或?qū)щ娔?1的網(wǎng)孔圖案24、網(wǎng)孔圖案30的干設(shè)而 產(chǎn)生，因而嚴(yán)格來(lái)說(shuō)，BM圖案38為像素陣列圖案的反轉(zhuǎn)圖案，但此處，作為表示相同的圖案 的而進(jìn)行處理。
[0116] 當(dāng)在具有包含上述BM34的BM圖案38的顯示單元31的顯示面板上，例如配置導(dǎo) 電膜10或?qū)щ娔?1時(shí)，導(dǎo)電膜11的網(wǎng)孔圖案24相對(duì)于BM(像素陣列）圖案38而疊紋可 見(jiàn)性方面最佳化，因此幾乎不會(huì)有像素32的陣列周期與導(dǎo)電膜10或?qū)щ娔?1的金屬細(xì)線 14的配線陣列之間的空間頻率的干設(shè)，從而抑制了疊紋的產(chǎn)生。
[0117] 另外，圖8所示的顯示單元31也可包含液晶面板、等離子體面板、有機(jī)化面板、無(wú) 機(jī)化面板等顯示面板。
[0118] 其次，一邊參照?qǐng)D9 一邊對(duì)裝入了本發(fā)明的導(dǎo)電膜的顯示裝置進(jìn)行說(shuō)明。圖9中， 作為顯示裝置40,列舉裝入了本發(fā)明的第2實(shí)施形態(tài)的導(dǎo)電膜11的投影型靜電電容方式的 觸摸屏為代表例進(jìn)行說(shuō)明，但本發(fā)明當(dāng)然并不限定于此。
[0119] 如圖9所示，顯示裝置40包括；可顯示彩色圖像W及/或單色圖像的顯示單元 31 (參照?qǐng)D8)，對(duì)來(lái)自輸入面42 (箭頭Z1方向側(cè)）的接觸位置進(jìn)行檢測(cè)的觸摸屏44,W及 收容顯示單元31W及觸摸屏44的框體46。用戶可經(jīng)由設(shè)置于框體46的一面（箭頭Z1方 向側(cè)）的大的開(kāi)口部觸及觸摸屏44。
[0120] 觸摸屏44除上述導(dǎo)電膜11 (參照?qǐng)D5、圖6W及圖7)之外，還包括；層疊于導(dǎo)電 膜11的一面（箭頭Z1方向側(cè)）的蓋構(gòu)件48,經(jīng)由電纜50而電性連接于導(dǎo)電膜11的可提 性基板52,W及配置于可提性基板52上的檢測(cè)控制部54。
[0121] 在顯示單元31的一面（箭頭Z1方向側(cè)），經(jīng)由粘接層56而粘接導(dǎo)電膜11。導(dǎo)電 膜11使另一主面?zhèn)龋ǖ?配線層1化偵。與顯示單元31對(duì)向，而配置于顯示畫(huà)面上。
[0122] 蓋構(gòu)件48通過(guò)被覆導(dǎo)電膜11的一面，而發(fā)揮作為輸入面42的功能。而且，通過(guò) 防止接觸體58 (例如手指或觸控筆）的直接接觸，而可抑制擦傷的發(fā)生或塵埃的附著等，從 而可使導(dǎo)電膜11的導(dǎo)電性穩(wěn)定。
[0123] 蓋構(gòu)件48的材質(zhì)例如也可為玻璃、樹(shù)脂膜。也可在利用氧化娃等涂布蓋構(gòu)件48 的一面（箭頭Z2方向側(cè)）的狀態(tài)下，密接于導(dǎo)電膜11的一面（箭頭Z1方向側(cè)）。而且，為 防止由摩擦等所致的損傷，也可貼合導(dǎo)電膜11W及蓋構(gòu)件48而構(gòu)成。
[0124] 可提性基板52為具備可提性的電子基板。本圖示例中，其固定于框體46的側(cè)面 內(nèi)壁，但配設(shè)位置也可進(jìn)行各種變更。檢測(cè)控制部54構(gòu)成如下的電子電路，即，在使作為導(dǎo) 體的接觸體58與輸入面42接觸（或靠近）時(shí)，捕捉接觸體58與導(dǎo)電膜11之間的靜電電 容的變化，而檢測(cè)其接觸位置（或接近位置）。
[0125] 應(yīng)用本發(fā)明的導(dǎo)電膜的顯示裝置基本上如W上那樣構(gòu)成。
[0126] 其次，本發(fā)明中，說(shuō)明對(duì)相對(duì)于顯示裝置的規(guī)定的BM圖案的導(dǎo)電膜的網(wǎng)孔圖案的 疊紋可見(jiàn)性進(jìn)行評(píng)價(jià)W及使其最佳化的順序。也即，本發(fā)明的導(dǎo)電膜中，說(shuō)明相對(duì)于顯示裝 置的規(guī)定的BM圖案而疊紋W不被人的視覺(jué)所察覺(jué)的方式得W最佳化的網(wǎng)孔圖案的決定順 序。
[0127] 圖10是表示本發(fā)明的導(dǎo)電膜的網(wǎng)孔圖案的決定方法的一例的流程圖。
[012引本發(fā)明的導(dǎo)電膜的網(wǎng)孔圖案的決定方法為如下；根據(jù)通過(guò)使用了顯示裝置的顯 示單元的BM(像素陣列）圖案與導(dǎo)電膜的網(wǎng)孔圖案的高速傅里葉變換（FastFourier Transformation,FFT)進(jìn)行的頻率分析所獲得的波峰頻率W及波峰強(qiáng)度，來(lái)算出疊紋的頻 率W及頻譜強(qiáng)度，將所算出的疊紋的頻率W及頻譜強(qiáng)度與根據(jù)經(jīng)驗(yàn)而決定的疊紋不可見(jiàn)的 疊紋的頻率W及頻譜強(qiáng)度的條件相比，將滿足了該些條件的網(wǎng)孔圖案決定為W疊紋不可見(jiàn) 的方式得W最佳化的網(wǎng)孔圖案。上述本發(fā)明法中，關(guān)于疊紋的頻率W及頻譜強(qiáng)度一般而言 利用FFT，但對(duì)象物的頻率W及頻譜強(qiáng)度根據(jù)利用方法的不同而大幅變化，因此規(guī)定W下的 順序。
[0129] 本發(fā)明法中，首先，作為順序1，進(jìn)行BM圖案化及網(wǎng)孔圖案的透過(guò)率周期圖像數(shù)據(jù) (W下，也稱作透過(guò)率圖像數(shù)據(jù)）的制作。也即，如圖10所示，步驟S10中，制作并獲取圖9 所示的顯示裝置40的顯示單元31的BM圖案38炬M34)(參照?qǐng)D8)的透過(guò)率周期圖像數(shù) 據(jù)、與導(dǎo)電膜60的包含斷線部26的網(wǎng)孔圖案62 (金屬細(xì)線14)(參照?qǐng)D11炬)）的透過(guò)率 周期圖像數(shù)據(jù)。另外，在預(yù)先準(zhǔn)備或存儲(chǔ)了BM圖案38的透過(guò)率圖像數(shù)據(jù)與包含多個(gè)斷線 部26的網(wǎng)孔圖案62的透過(guò)率圖像數(shù)據(jù)的情況下，也可從已準(zhǔn)備或者存儲(chǔ)的圖像數(shù)據(jù)中獲 取。
[0130] 顯示單元31的BM圖案38例如如圖11(A)W及作為其部分放大圖的圖11(C)所 示，可形成每一像素32包含RGB的=色的子像素32r、子像素32gW及子像素32b的圖案， 但當(dāng)利用單色，例如僅利用G通道的子像素32g時(shí)，R通道W及B通道的透過(guò)率圖像數(shù)據(jù)優(yōu) 選設(shè)為0。本發(fā)明中，作為BM34的圖像數(shù)據(jù)、也即BM圖案38的透過(guò)率圖像數(shù)據(jù)，如圖11 (A) 所示，不限定為具有BM34的長(zhǎng)方形的開(kāi)口（子像素32r、子像素32g化及子像素32b)的圖 像數(shù)據(jù)，只要為可使用的BM圖案則也可為不具有BM34的長(zhǎng)方形的開(kāi)口的圖案，還可指定 并使用具有任意的BM開(kāi)口的BM圖案。例如，不限定于單純的矩形狀的圖案，也可為W不復(fù) 雜的字符狀彎曲的圖案或鉤狀的圖案。另外，BM圖案38的透過(guò)率圖像數(shù)據(jù)例如設(shè)為如下 的2值化數(shù)據(jù)，即，W1270(Mpi左右的分辨率，將開(kāi)口部設(shè)為1. 0,將其他部分設(shè)為0. 0。
[0131] 另一方面，導(dǎo)電膜60的網(wǎng)孔圖案62例如如圖11炬）所示為如下的配線圖案，即， 可設(shè)為成為配線的金屬細(xì)線14W45° [deg]傾斜而成的正方格子，且多個(gè)金屬細(xì)線14利 用多個(gè)斷線部26而斷線。該網(wǎng)孔圖案62的透過(guò)率圖像數(shù)據(jù)作為包含斷線部（斷線）26而 形成周期的圖像數(shù)據(jù)而制作。另外，網(wǎng)孔圖案62的透過(guò)率圖像數(shù)據(jù)例如設(shè)為如下的2值化 數(shù)據(jù)，即，W1270(Mpi左右的分辨率，將網(wǎng)形狀內(nèi)的開(kāi)口部23、開(kāi)口部29內(nèi)設(shè)為0. 0,將成 為配線的金屬細(xì)線14的部分設(shè)為1. 0。
[0132] 另外，此處，規(guī)定網(wǎng)孔圖案62W及BM圖案38的透過(guò)率圖像數(shù)據(jù)的尺寸，例如，設(shè) 為5020 (像素）X2423 (像素）。而且，為了防止或減少后述的順序2的FFT處理時(shí)的周期 的偽像（arti化ct)，優(yōu)選為W保持連續(xù)性的方式按照重復(fù)周期切下。例如，圖像尺寸優(yōu)選設(shè) 為四圖像的區(qū)域內(nèi)的圖像。
[0133] 其次，作為順序2,對(duì)于W順序1制作的網(wǎng)孔圖案62W及BM圖案38的透過(guò)率圖像 數(shù)據(jù)，進(jìn)行二維高速傅里葉變換（2DFFT(基底2))，并抽出規(guī)定強(qiáng)度的頻譜（波峰）。
[0134] 也即，如圖10所示，步驟S12中，對(duì)步驟S10中制作的網(wǎng)孔圖案62W及BM圖案38 的各透過(guò)率圖像數(shù)據(jù)進(jìn)行2DFFT處理，獲取至少正面觀察時(shí)的包含斷線部（斷線）26的網(wǎng) 孔圖案62W及BM圖案38的各空間頻率特性（二維傅里葉頻譜）。此時(shí)，網(wǎng)孔圖案62W 及BM圖案38的各透過(guò)率圖像數(shù)據(jù)的二維傅里葉頻譜由復(fù)數(shù)（包含相位信息）表示，將頻 譜（復(fù)數(shù)）除W圖像尺寸（縱X橫（pix2))而使其標(biāo)準(zhǔn)化。W圖像尺寸（Pix2)標(biāo)準(zhǔn)化的 頻譜例如由頻譜（復(fù)數(shù)）/圖像尺寸（5020X2433pix2)而賦予。
[0135] 其次，作為順序3,根據(jù)由順序2獲取的網(wǎng)孔圖案62W及BM圖案38的空間頻率特 性，算出由兩者的卷積表示的疊紋的頻率W及頻譜強(qiáng)度。
[0136] 也即，如圖10所示，步驟S14中，根據(jù)步驟S12中獲取的網(wǎng)孔圖案62的空間頻率 特性與BM圖案38的空間頻率特性，算出由兩空間頻率特性的卷積（積分）表示的疊紋的 頻率W及頻譜強(qiáng)度。
[0137] 另外，該步驟14的疊紋的頻率W及頻譜強(qiáng)度的算出可通過(guò)W下的步驟16W及步 驟18來(lái)進(jìn)行。
[0138] 此處，二維傅里葉頻譜的頻譜強(qiáng)度為了配合人的視覺(jué)，而由常用對(duì)數(shù)來(lái)定義復(fù)數(shù) 的絕對(duì)值。
[013引如圖10所示，步驟S16中，根據(jù)步驟S12中獲取的網(wǎng)孔圖案62W及BM圖案38的 各空間頻率特性，從各圖案62W及圖案38的頻譜內(nèi)，抽出所有由常用對(duì)數(shù)定義而定義的頻 譜強(qiáng)度（Logw(頻譜的絕對(duì)值））為-4.5W上的頻譜（波峰）的空間頻率。也即，從網(wǎng)孔圖 案62W及BM圖案38的二維傅里葉頻譜的多個(gè)頻譜波峰內(nèi)，抽出所有其波峰強(qiáng)度W常用對(duì) 數(shù)計(jì)為-4. 5W上的頻譜波峰，并算出所抽出的所有頻譜波峰的波峰頻率W及波峰強(qiáng)度。
[0140] 該時(shí)間點(diǎn)所獲得的信息為頻譜的波峰值的空間頻率fx、fy、復(fù)數(shù)（a+bi)信息。另 夕F，此處，波峰強(qiáng)度作為絕對(duì)值而處理。
[0141] 此處，圖12(A)化及圖12做分異是表示網(wǎng)孔圖案62化及BM圖案38的各透過(guò)率 圖像數(shù)據(jù)的二維傅里葉頻譜的強(qiáng)度特性的圖。
[0142] 另外，圖12(A)W及圖12炬）中，白色部分的強(qiáng)度高，顯示出頻譜波峰，因而根據(jù)圖 12 (A)W及圖12做所示的結(jié)果，關(guān)于各個(gè)網(wǎng)孔圖案62W及BM圖案38,算出各頻譜波峰的 波峰頻率W及波峰強(qiáng)度。也即，圖12(A)W及圖12炬）中分異所示的網(wǎng)孔圖案62化及BM 圖案3