專(zhuān)利名稱(chēng)：一次成型金屬網(wǎng)版的制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明關(guān)于一種網(wǎng)版的制造方法，尤其是涉及一種一次成型金屬網(wǎng)版的制造方法。
背景技術(shù)：
圖1顯示一現(xiàn)有印刷網(wǎng)版(stencil)的剖面圖；圖2顯示該現(xiàn)有印刷網(wǎng)版的局部立體示意圖。配合參考圖1及圖2，該現(xiàn)有印刷網(wǎng)版1以鋼絲11交錯(cuò)編織成網(wǎng)目(mesh/ screen)，并以感光乳劑(emulsion) 12定義印刷圖案13以及印刷膜厚t。由于受限于鋼絲 11的線徑尺寸、編織的方式，以及利用感光乳膠12不易精確定義印刷膜厚t，并且現(xiàn)有網(wǎng)版印刷使用的油墨材料大都具較高黏度，因此，現(xiàn)有印刷網(wǎng)版1的實(shí)施架構(gòu)無(wú)法達(dá)到精密印刷的要求，尤其是高解析度，以及印刷膜厚t僅為數(shù)十微米(μ m)，甚至是次微米的印刷圖案13。現(xiàn)有印刷網(wǎng)版1的網(wǎng)目寬度僅可達(dá)約30 μ m，網(wǎng)目的間距僅可達(dá)約50 μ m,且印刷膜厚t僅可達(dá)約40 μ m。以下為現(xiàn)有印刷網(wǎng)版的缺點(diǎn)1.受限于鋼絲11線徑尺寸，使得網(wǎng)目無(wú)法增加，影響印刷圖案13的線寬及解析度。2.受限于網(wǎng)目編織方式，在小線寬圖案印刷條件下(例如鋼絲11線徑為25μπι， 線距為50 μ m，其開(kāi)口率只有25% G257502)X100%= 25% )。開(kāi)口率定義為(線徑d2/ 線距a2) X 100% (參考圖3)。3.在小線寬印刷條件下，因網(wǎng)目開(kāi)孔太小，在表面張力作用下，導(dǎo)致透墨效果不佳，影響印刷品質(zhì)。4.因?yàn)殇摻z11從張網(wǎng)到實(shí)施網(wǎng)印操作過(guò)程中長(zhǎng)期承受拉應(yīng)力，使得網(wǎng)版1壽命受到限制，一般為3000次。5.以感光乳劑12定義印刷圖案13，其印刷圖案13的特征的解析度不佳。6.因感光乳劑12包覆著鋼絲11，若感光乳劑12太薄，包覆性會(huì)不佳，則印刷過(guò)程中可能會(huì)因?yàn)闄M向剪力，使得鋼絲11與感光乳劑12分離而損壞，因此，感光乳劑12的厚度將有所限制，尤其不利于薄膜的印刷。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明解決的技術(shù)問(wèn)題是提供一種一次成型金屬網(wǎng)版的制造方法，改善圖樣解析度。本發(fā)明的技術(shù)解決方案是一種一次成型金屬網(wǎng)版的制造方法，其包括以下步驟(a)提供一基板，該基板具有一設(shè)置面；(b)形成一第一光阻于該設(shè)置面上方，以定義一圖樣區(qū)域；(c)形成一種子層于該設(shè)置面上方且覆蓋該第一光阻；(d)形成一第二光阻于該種子層的一表面，以于該圖樣區(qū)域上方相對(duì)位置定義一網(wǎng)目圖樣；(e)形成一金屬層于該種子層的該表面以形成一網(wǎng)版，該金屬層覆蓋該種子層及該第二光阻且顯露部分該第二光阻；及(f)移除該第一光阻及該第二光阻且分離該網(wǎng)版與該基板。本發(fā)明的一次成型金屬網(wǎng)版的制造方法具有下列優(yōu)點(diǎn)1.利用微影制程，可將網(wǎng)目及印刷圖樣域區(qū)同時(shí)定義完成后，再將網(wǎng)版一體成型， 有別現(xiàn)有技術(shù)以?xún)傻拦こ虂?lái)完成的制造方法。2.網(wǎng)目的幾何形狀可依需要任意變化，以達(dá)成最佳注墨效果，及印刷品質(zhì)。3.可依需要設(shè)計(jì)網(wǎng)目的分布密度，以獲得各種開(kāi)口率。4.精密微影制程技術(shù)可達(dá)到更小的圖樣線寬及間隔。5.印刷圖樣可經(jīng)由微影制程精確定義，可改善圖樣的解析度。6.因圖樣區(qū)域的膜厚由光阻層厚度所定義，所以可輕易完成各種膜厚的定義。7.經(jīng)由適當(dāng)?shù)哪ず穸x，可達(dá)成膜厚為數(shù)微米或次微米的圖樣的印刷。8.定義的網(wǎng)版在實(shí)施網(wǎng)印操作過(guò)程中，網(wǎng)版可平貼于印刷底材，在操作過(guò)程中幾乎無(wú)因張力而網(wǎng)版損壞的問(wèn)題。9.藉由印刷方式的改變，例如，可以滾輪取代刮刀，以增加網(wǎng)版的使用壽命。10.簡(jiǎn)化制程技術(shù)及工程步驟，可降低制造成本，增加產(chǎn)能，并且有效降低能源的消耗。11.基板材質(zhì)可為導(dǎo)體或非導(dǎo)體。


圖1為一現(xiàn)有印刷網(wǎng)版(stencil)的剖面圖； 圖2為該現(xiàn)有印刷網(wǎng)版的局部立體示意圖； 圖3為計(jì)算該現(xiàn)有印刷網(wǎng)版的開(kāi)口率的示意圖； 圖4為本發(fā)明以此成型金屬網(wǎng)版的制造防范的流程圖； 圖5至圖10為本發(fā)明一次成型金屬網(wǎng)版的制造過(guò)程示意圖； 圖11為本發(fā)明形成雙層第一光阻于一基板的設(shè)置面的示意圖( 主要元件標(biāo)號(hào)說(shuō)明
I現(xiàn)有印刷網(wǎng)版 2 基板 4:圖樣區(qū)域5:種子層 7:網(wǎng)目圖樣 8:金屬層
II鋼絲12 感光乳劑 21 設(shè)置面 31 下層光阻 a 線距 d 線徑 t:印刷膜厚 χ :網(wǎng)目寬度
3 第一光阻 6 第二光阻 9 網(wǎng)版 13 印刷圖案 32 上層光阻 s:網(wǎng)目間距 y 印刷膜厚
具體實(shí)施例方式為了對(duì)本發(fā)明的技術(shù)特征、目的和效果有更加清楚的理解，現(xiàn)對(duì)照

本發(fā)明的具體實(shí)施方式

。圖4顯示本發(fā)明一次成型金屬網(wǎng)版的制造方法的流程圖；圖5至圖10顯示本發(fā)明一次成型金屬網(wǎng)版的制造過(guò)程示意圖。配合參考步驟S41及圖5，首先提供一基板2，該基板2具有一設(shè)置面21。該基板2可為導(dǎo)體基板或非導(dǎo)體基板。在本實(shí)施例中，在步驟S41 中該基板2使用玻璃基板。配合參考步驟S42及圖6，利用一第一光阻3于該設(shè)置面21上方定義一圖樣區(qū)域 4。配合參考步驟S42及圖11，在其他實(shí)施例中，形成該第一光阻3的步驟S42可包括以下步驟形成一下層光阻31的步驟；及一上層光阻32的步驟。該下層光阻31覆蓋該設(shè)置面 21，該上層光阻32形成于該下層光阻31的上表面且定義出該圖樣區(qū)域4。其中，該下層光阻31與該上層光阻32為同型光阻。配合參考步驟S43及圖7，形成一種子層5于該設(shè)置面21上方且覆蓋該第一光阻 3。在本實(shí)施例中，在步驟S43中以金屬沉積(如濺鍍)方式形成該種子層5。較佳地，該種子層5為金(Au)。配合參考步驟S44及圖8，形成一第二光阻6于該種子層5的上表面，以于該圖樣區(qū)域4上方相對(duì)位置定義一網(wǎng)目圖樣7。要說(shuō)明的是，在步驟S42及S44中，該第一光阻3及該第二光阻6可為正光阻及負(fù)光阻的任一組合。亦即，該第一光阻3及該第二光阻6的組合可為正/正光阻、負(fù)/負(fù)光阻、正/負(fù)光阻、負(fù)/正光阻。在本實(shí)施例中，該第一光阻3及該第二光阻6皆為負(fù)光阻(如 SU-83035)。配合參考步驟S45及圖9，形成一金屬層8于該種子層5的該表面以形成一網(wǎng)版 9，該金屬層8覆蓋該種子層5及該第二光阻6且顯露部分該第二光阻6，藉由顯露部分該第二光阻6以形成該網(wǎng)版9的網(wǎng)目。在本實(shí)施例中，在步驟S45中以電鑄方式形成該金屬層 8。較佳地，該金屬層8為鎳鈷(Ni-Co)合金。配合參考步驟S46、圖9及圖10，移除該第一光阻3及該第二光阻6且分離該網(wǎng)版 9與該基板2，以制作完成該網(wǎng)版9(本發(fā)明的一次成型金屬網(wǎng)版)。其中，該網(wǎng)版9及該種子層5為異質(zhì)材料，其介面結(jié)合強(qiáng)度較弱，因此在移除該第一光阻3后，該網(wǎng)版9即與該種子層5剝離分開(kāi)。在本發(fā)明的一次成型金屬網(wǎng)版的制造方法中，利用微影(photolithography)制程，一并將網(wǎng)目及印刷圖樣區(qū)域4同時(shí)定義，并可以電鑄(electroforming)造模技術(shù)，以一次加工的方式將網(wǎng)版9制造完成，而形成一體成型的金屬網(wǎng)版。本發(fā)明的一次成型金屬網(wǎng)版的制造方法所制得的網(wǎng)版9，其網(wǎng)目寬度χ可達(dá)15 μ m，網(wǎng)目間距s可達(dá)15 μ m,且印刷膜厚y可達(dá)3μπι以下。本發(fā)明的一次成型金屬網(wǎng)版的制造方法具有下列優(yōu)點(diǎn)1.利用微影制程，可將網(wǎng)目及印刷圖樣域區(qū)同時(shí)定義完成后，再將網(wǎng)版一體成型， 有別現(xiàn)有技術(shù)以?xún)傻拦こ虂?lái)完成的制造方法。2.網(wǎng)目的幾何形狀可依需要任意變化，以達(dá)成最佳注墨效果，及印刷品質(zhì)。3.可依需要設(shè)計(jì)網(wǎng)目的分布密度，以獲得各種開(kāi)口率。4.精密微影制程技術(shù)可達(dá)到更小的圖樣線寬及間隔。5.印刷圖樣可經(jīng)由微影制程精確定義，可改善圖樣的解析度。6.因圖樣區(qū)域的膜厚由光阻層厚度所定義，所以可輕易完成各種膜厚的定義。7.經(jīng)由適當(dāng)?shù)哪ず穸x，可達(dá)成膜厚為數(shù)微米或次微米的圖樣的印刷。8.定義的網(wǎng)版在實(shí)施網(wǎng)印操作過(guò)程中，網(wǎng)版可平貼于印刷底材，在操作過(guò)程中幾乎無(wú)因張力而網(wǎng)版損壞的問(wèn)題。9.藉由印刷方式的改變，例如，可以滾輪取代刮刀，以增加網(wǎng)版的使用壽命。10.簡(jiǎn)化制程技術(shù)及工程步驟，可降低制造成本，增加產(chǎn)能，并且有效降低能源的消耗。11.基板材質(zhì)可為導(dǎo)體或非導(dǎo)體。上述實(shí)施例僅為說(shuō)明本發(fā)明的原理及其功效，并非限制本發(fā)明。因此習(xí)于此技術(shù)的人士對(duì)上述實(shí)施例進(jìn)行修改及變化仍不脫本發(fā)明的精神。本發(fā)明的權(quán)利范圍應(yīng)如后述的申請(qǐng)專(zhuān)利范圍所列。以上所述僅為本發(fā)明示意性的具體實(shí)施方式

，并非用以限定本發(fā)明的范圍。任何本領(lǐng)域的技術(shù)人員，在不脫離本發(fā)明的構(gòu)思和原則的前提下所作出的等同變化與修改，均應(yīng)屬于本發(fā)明保護(hù)的范圍。
權(quán)利要求
1.一種一次成型金屬網(wǎng)版的制造方法，包括以下步驟(a)提供一基板，該基板具有一設(shè)置面；(b)形成一第一光阻于該設(shè)置面上方，以定義一圖樣區(qū)域；(c)形成一種子層于該設(shè)置面上方且覆蓋該第一光阻；(d)形成一第二光阻于該種子層的一表面，以于該圖樣區(qū)域上方相對(duì)位置定義一網(wǎng)目圖樣；(e)形成一金屬層于該種子層的該表面以形成一網(wǎng)版，該金屬層覆蓋該種子層及該第二光阻且顯露部分該第二光阻；及(f)移除該第一光阻及該第二光阻且分離該網(wǎng)版與該基板。
2.如權(quán)利要求1所述的一次成型金屬網(wǎng)版的制造方法，其特征在于，在步驟(a)中該基板使用玻璃基板。
3.如權(quán)利要求1所述的一次成型金屬網(wǎng)版的制造方法，其特征在于，在步驟(b)及(d) 中，該第一光阻及該第二光阻為正光阻及負(fù)光阻的任意組合。
4.如權(quán)利要求1所述的一次成型金屬網(wǎng)版的制造方法，其特征在于，在步驟(c)中是以濺鍍方式形成該種子層。
5.如權(quán)利要求1所述的一次成型金屬網(wǎng)版的制造方法，其特征在于，在步驟(c)中該種子層為金。
6.如權(quán)利要求1所述的一次成型金屬網(wǎng)版的制造方法，其特征在于，在步驟(e)中以電鑄方式形成該金屬層。
7.如權(quán)利要求1所述的一次成型金屬網(wǎng)版的制造方法，其特征在于，在步驟(e)中該金屬層為鎳鈷合金。
8.如權(quán)利要求1所述的一次成型金屬網(wǎng)版的制造方法，其特征在于，在步驟(b)中形成該第一光阻的步驟包括依序形成一下層光阻及一上層光阻的步驟，該下層光阻覆蓋該設(shè)置面，該上層光阻形成于該下層光阻的上表面且定義出該圖樣區(qū)域。
全文摘要
本發(fā)明公開(kāi)了一種一次成型金屬網(wǎng)版的制造方法，其利用一第一光阻于一基板的設(shè)置面上方定義一圖樣區(qū)域；形成一種子層于該設(shè)置面上方且覆蓋該第一光阻；形成一第二光阻于該種子層的一表面，以于該圖樣區(qū)域上方相對(duì)位置定義一網(wǎng)目圖樣；形成一金屬層于該種子層的該表面以形成一網(wǎng)版，該金屬層覆蓋該種子層及該第二光阻且顯露部分該第二光阻；及移除該第一光阻及該第二光阻且分離該網(wǎng)版與該基板。藉此，可同時(shí)定義網(wǎng)目及印刷圖樣區(qū)域，將網(wǎng)版一體成型，且可改善印刷圖樣的解析度并提升注墨效果及印刷品質(zhì)、可達(dá)次微米的圖樣印刷、減少網(wǎng)版的損壞及增加網(wǎng)版的使用壽命、簡(jiǎn)化制程、降低成本及增加產(chǎn)能。
文檔編號(hào)B41C1/14GK102555418SQ20111030019
公開(kāi)日2012年7月11日 申請(qǐng)日期2011年9月28日 優(yōu)先權(quán)日2010年12月6日
發(fā)明者曾健明, 黃俊維 申請(qǐng)人:財(cái)團(tuán)法人金屬工業(yè)研究發(fā)展中心