專利名稱：含顯影性增強化合物的輻射敏感性元件的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及含獨特顯影性增強化合物的正性工作可成像元件。本發(fā)明還涉及使這 些元件成像而提供可以用作平版印刷板的成像元件的方法。
背景技術(shù)：
在平版印刷中，油墨接受區(qū)(稱為圖像區(qū)域)在親水性表面上產(chǎn)生。當表面用水 潤濕并施用油墨時，該親水區(qū)保持水并排斥油墨，油墨接受區(qū)接受油墨并排斥水。然后將油 墨轉(zhuǎn)移到其上將復(fù)制圖像的適合材料的表面上。在某些情況下，可以首先將油墨轉(zhuǎn)移到中 間轉(zhuǎn)印布上，它進而用于將油墨轉(zhuǎn)移到其上將復(fù)制圖像的材料的表面上?？捎糜谥苽淦桨嬗∷?或膠版)印刷板的可成像元件通常包含一個或多個施加在 基材(或中間層)的親水性表面上的可成像層。該可成像層(或多層)可以包含分散于適 合的粘結(jié)劑內(nèi)的一種或多種輻射敏感性組分。在成像之后，通過適合的顯影劑將可成像層 (或多層)的曝光區(qū)或未曝光區(qū)除去，而使基材的基礎(chǔ)性的親水性表面露出。如果除去曝光 區(qū)域，則元件被認為是正性工作的。反之，如果除去未曝光區(qū)域，則元件被認為是負性工作 的。在每種情況下，可成像層(或多層)的保留區(qū)域是油墨接受性的，而通過顯影過程露出 的親水表面的區(qū)域接受水或含水溶液(通常是潤版溶液)并排斥油墨。類似地，正性工作組合物可以用來在印刷電路板(PCB)制造、厚膜和薄膜電路、電 阻器、電容器和電感器、多片器件、集成電路和有源半導(dǎo)體器件中形成抗蝕劑圖案?！凹す庵苯映上?方法(LDI)是已知的，它們使用來自計算機的數(shù)字數(shù)據(jù)直接地 形成膠版印刷板或印刷電路板，并且提供優(yōu)于使用感光掩膜的在前方法的許多優(yōu)點。在這 一領(lǐng)域已存在更有效激光、改進的可成像組合物及其組分的相當大的發(fā)展。熱敏可成像元件可以分類為響應(yīng)于適合量的熱能，暴露到該熱能中，或吸收該熱 能而經(jīng)歷化學轉(zhuǎn)變的那些。熱誘導(dǎo)的化學轉(zhuǎn)變的性質(zhì)可以燒蝕元件中的可成像組合物，或 改變其在特定顯影劑中的溶解度，或改變熱敏層的表面層的粘性或親水性或疏水性。因而， 熱成像可以用來使可以充當平版印刷表面或PCB制造中的抗蝕劑圖案的可成像層的預(yù)定 區(qū)域暴露出來。包含酚醛清漆或其它酚醛聚合物粘結(jié)劑和二偶氮醌成像組分的正性工作可成像 組合物在平版印刷板和光致抗蝕劑工業(yè)中已經(jīng)流行多年?；诟鞣N酚醛樹脂和紅外輻射吸 收性化合物的可成像組合物也是熟知的?？捎米鳠岢上裼涗洸牧系拇蠓秶臒峥沙上窠M合物在GB專利出版物 1,245, 924(Brinckman)中進行了描述。該出版物描述了通過間接暴露到短持續(xù)期、高強度 可見光或紅外輻射中加熱可成像層而提高可成像層的任何給定區(qū)域在給定溶劑中的溶解 度。這種輻射可以從原始與記錄材料接觸的圖形的背景區(qū)域傳送或反射。該出版物描述了 各種機理和顯影材料并且酚醛清漆樹脂包括在水性可顯影組合物當中，所述水性可顯影組 合物還可以包括輻射吸收性化合物例如炭黑或C. I.顏料藍27。WO 2004/081662 (Memetea等人)描述了酸性性質(zhì)的顯影性增強化合物與酚醛聚 合物或聚(乙烯醇縮醛)一起用來提高正性工作組合物和元件的敏感性的應(yīng)用以致降低所要求的成像能。用于這樣的組合物和元件的一些尤其有用的聚(乙烯醇縮醛)在美國專利 6，255，033 (Levanon 等人)和 6，541，181 (Levanon 等人)中進行了描述。工業(yè)已經(jīng)聚焦于需要減弱酚醛粘結(jié)劑的曝光區(qū)域在曝光之前在可成像層中的溶 解性(溶解抑制劑)并提高它們在暴露到合適熱能中之后的溶解性(溶解提高劑)。已經(jīng) 描述了能夠提高正性工作組合物的敏感性的若干材料。通常，所述的在前溶解提高劑具有 酸性性質(zhì)，并包括磺酸類、亞磺酸類、烷基硫酸類、膦酸類、次膦酸類、磷酸酯類、羧酸類、酚 類、磺酰胺類或磺酰亞胺類。將含某些堿性含氮的顯影性增強材料的熱可成像元件與聚(乙烯醇縮醛)一起使 用，該顯影性增強材料包含堿性含氮的有機醇化合物，如共同未決和共同受讓的美國序列 號 11/677，599 (由 M. Levanon,L. Postel、M. Rubin 和 T. Kurtser 于 2007 年 2 月 22 日提交) 所述。也可以用于正性工作可成像元件的獨特聚(乙烯醇縮醛)在共同未決和共同受讓的 美國序列號11/769，766 (由Μ·、E. Lurie和V. Kampel于2007年6月28日提交)中進行了 描述。待解決的問題雖然本領(lǐng)域中描述的組合物在本領(lǐng)域中提供了重要的進展，但是持續(xù)需要更加改 進正性工作組合物和元件的敏感性，尤其是它們對紅外輻射的響應(yīng)，而不會損失其它所需 的性能。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明用新型輻射敏感性可成像元件提供了本領(lǐng)域中的進展。因此，本發(fā)明提供 正性工作可成像元件，其包括基材和在基材上的可成像層，該可成像層包含含水堿性顯影劑可溶性聚合物粘結(jié)劑、顯影性增強化 合物和輻射吸收性化合物，其中所述顯影性增強化合物是具有至少一個氨基和至少一個羧酸基的有機化合 物。在許多實施方案中，所述顯影性增強化合物由以下結(jié)構(gòu)(DEC)表示[H0-C ( = 0) ] -A- [N (R1) (R2) ] n(DEC)其中R1和R2獨立地是氫或取代或未取代的烷基、取代或未取代的環(huán)烷基或取代或未取 代的芳基，A是鏈中含至少一個碳、氮、硫或氧原子的取代或未取代的有機連接基，其中A還 包含與-[N(R1) (R2)] 直接連接的取代或未取代的亞芳基，m是1-4的整數(shù)，η是1-4的整數(shù)。在其它實施方案中，所述顯影性增強化合物由上面給出的結(jié)構(gòu)(DEC)表示，其中R1 和R2中至少一個是取代或未取代的芳基，另一個是氫或取代或未取代的烷基、取代或未取 代的環(huán)烷基或取代或未取代的芳基，A是鏈中含至少一個碳、氮、硫或氧原子的取代或未取 代的有機連接基，其中A還包含與-[N(R1) (R2) ] 直接連接的取代或未取代的亞烷基，m是1-4的整數(shù)，η是1-4的整數(shù)。本發(fā)明還有的其它實施方案包括正性工作、紅外輻射敏感性可成像元件，其包括 含鋁基材和在所述基材上的最外單個可成像層，該可成像層包含含水堿性顯影劑可溶性 聚合物粘結(jié)劑、顯影性增強化合物和紅外輻射吸收性染料，其中所述顯影性增強化合物由 下面給出的結(jié)構(gòu)(DEC1)表示，[H0-C ( = 0) ] m-B-A- [N (R1) (R2) ] n(DEC1)其中R1和R2獨立地是氫或取代或未取代的烷基、取代或未取代的環(huán)烷基或取代或未取 代的芳基，A是具有與-[N(R1) (R2) ] 直接連接的取代或未取代的亞苯基的有機連接基，B是單鍵或鏈中含至少一個碳、氧、硫或氮原子的有機連接基，m是1或2的整數(shù)，η是1或2的整數(shù)，所述聚合物粘結(jié)劑包含酚醛樹脂或聚(乙烯醇縮醛)，該聚(乙烯醇縮醛)包含至 少40mol%且至多80mol%由以下結(jié)構(gòu)(PVAc)表示的重復(fù)單元，基于總重復(fù)單元計
(PVAc)其中R和R'獨立地是氫或取代或未取代的烷基或鹵基，R2是取代或未取代的苯 酚、萘酚或蒽酚基。另外，本發(fā)明提供制造圖像的方法，包括A)將本發(fā)明的可成像元件成像曝光以提供曝光和未曝光區(qū)域，和B)將該成像曝光的元件顯影以僅主要除去該曝光的區(qū)域，而在該成像和顯影的元 件中提供圖像。本發(fā)明的正性工作可成像元件顯示對成像輻射的改進的敏感性。此外，發(fā)現(xiàn)本發(fā) 明的可成像元件在顯影之后在沒有烘烤的情況下提供改進的機械強度和極好的印刷機性 能以及所需的耐印刷機化學品性。這些質(zhì)量不依賴于元件中使用的特定基材或用來制備平 版印刷板的含鋁基材的處理類型。已經(jīng)通過使用由上面給出的結(jié)構(gòu)(DEC)或(DEC1)所限定的顯影性增強化合物達 到了這些優(yōu)點。如可以從結(jié)構(gòu)(DEC)和(DEC1)看出的那樣，這些化合物在同一個分子中同 時具有酸性和堿性結(jié)構(gòu)部分。這與分子中僅具有酸性或堿性結(jié)構(gòu)部分的已知的顯影性增強 化合物相反。這些化合物在與酚醛類或聚(乙烯醇縮醛)聚合物粘結(jié)劑摻合使用的情況下 尤其有利。發(fā)明詳述
定義除了文中另有說明以外，否則當在本文中使用時，術(shù)語"可成像元件"的含義參 考本發(fā)明的實施方案。此外，術(shù)語"輻射敏感性組合物"的含義是指可用于本發(fā)明的配方 的組合物。此外，除了文中另有說明以外，本文描述的各種組分例如"主聚合物粘結(jié)劑"、“ 酚醛樹脂"、聚(乙烯醇縮醛)"、“輻射吸收性化合物"和"顯影性增強化合物"還涉及 這樣的組分的混合物。因此，冠詞"一個"、“一種"、或"該"的使用不一定意味著僅是 指單個組分。除非另有說明，百分比是指重量百分比，它們基于輻射敏感性組合物或配方的總 固體計，或基于層的干涂層重量計。術(shù)語"單層可成像元件"是指僅具有一個用于成像的層的可成像元件，但是如下 面更詳細指出的那樣，此種元件還可以包括一個或多個在該可成像層下方或上方的層(例 如面漆)以提供各種性能。本文所使用的術(shù)語"輻射吸收性化合物"是指對某些波長的輻射敏感且可以在 將它們置于其中的層之內(nèi)將光子轉(zhuǎn)化為熱的化合物。這些化合物還可以稱為"光熱轉(zhuǎn)化材 料〃、“敏化劑〃或〃光至熱轉(zhuǎn)化劑〃。對于任何關(guān)于聚合物的術(shù)語的定義說明，請參考International Unionof Pure and Applied Chemistry(" IUPAC")出版的"Glossary of BasicTerms in Polymer Science"，Pure Appl. Chem. 68，2287-2311 (1996)。然而，任何在本文中給出的不同定義都 應(yīng)該被認為是控制性的。術(shù)語"聚合物"(例如，酚醛樹脂和聚乙烯醇縮醛)是指高和低分子量的聚合物， 包括低聚物，并且包括均聚物和共聚物。術(shù)語"共聚物"是指衍生自兩種或更多種不同單體的聚合物，或它們具有兩種或 更多種不同重復(fù)單元，即使衍生自相同單體。術(shù)語"主鏈"是指聚合物中的多個側(cè)基可以與之相連接的原子鏈。此種主鏈的一 個實例是由一種或多種烯屬不飽和可聚合單體的聚合獲得的"全碳"主鏈。然而，其它主 鏈可以包括雜原子，其中聚合物是通過縮合反應(yīng)或一些其它手段形成的。用途本文描述的輻射敏感性組合物可以用來在印刷電路板(PCB)制造、厚和薄膜電 路、電阻器、電容器和電感器、多片器件、集成電路和有源半導(dǎo)體器件中形成抗蝕劑圖案。另 外，它們可以用來提供正性工作可成像元件，而這些可成像元件又可以用來提供具有基材 的平版印刷板，該基材具有親水性表面。其它可成像元件對本領(lǐng)域技術(shù)人員將是顯而易見 的。輻射敏感性組合物可用于提供可成像元件的輻射敏感性組合物包括一種或多種含水堿性溶劑(顯 影劑)可溶性聚合物粘結(jié)劑作為主聚合物粘結(jié)劑。這些主聚合物粘結(jié)劑包括各種酚醛樹脂 和聚(乙烯醇縮醛)?？捎米髦髡辰Y(jié)劑的聚合物的使用標準程序測量的重均分子量(Mw)通 常是至少5，000并且可以高達150，000，并且通常是大約20，000-大約60，000。最佳Mw可 以隨聚合物的特定類別和其用途變化。
主聚合物粘結(jié)劑可以是輻射敏感性組合物(或可成像層)中的唯一粘結(jié)劑，但是 一般地說，它們占至少10重量％，更通常至少50重量％且至多90重量％，基于全部聚合物 粘結(jié)劑的干重計。在一些實施方案中，主聚合物粘結(jié)劑的量可以是大約55-大約80重量％， 基于所有聚合物粘結(jié)劑的干重計。一些有用的聚(乙烯醇縮醛)例如，在美國專利6，255，033和6，541，181， 以及WO 2004/081662中進行了描述，都在上面給出并引入本文作為參考。相同或相 似的聚(乙烯醇縮醛)由含有EP l，627，732(Hatanaka等人)和美國公開專利申請 2005/0214677 (Nagashima)和 2005/0214678 (Nagashima)中的結(jié)構(gòu)單元(a)至(e)的結(jié)構(gòu)
(I)和(II)描述，都在其中描述的聚(乙烯醇縮醛)方面引入本文供參考。EP 1，627，732 (上面指出)中的結(jié)構(gòu)(I)和(II)不應(yīng)與下面所限定的結(jié)構(gòu)(I)和
(II)混淆。一些有用的聚(乙烯醇縮醛)包含除含縮醛的重復(fù)單元以外的重復(fù)單元，只要 重復(fù)單元的至少50mol % (大約50mol % -大約75mol %，更通常至少60mol % )是含縮醛 的重復(fù)單元。在此類聚合物粘結(jié)劑中，非含縮醛的重復(fù)單元也可以具有相同或不同的側(cè)酚 基，或它們可以是沒有側(cè)酚基的重復(fù)單元，或它們可以同時包含這兩種類型的重復(fù)單元。例 如，聚(乙烯醇縮醛)還可以包括含衣康酸或巴豆酸基的重復(fù)單元。另外，如果存在含側(cè)酚 基的重復(fù)單元，則那些重復(fù)單元可以具有不同的側(cè)酚基[例如，聚(乙烯醇縮醛)可以具有 含縮醛的重復(fù)單元，和兩種或更多種不同類型的含不同側(cè)酚基的重復(fù)單元]。在還有的其它 實施方案中，聚(乙烯醇縮醛)中的乙縮醛基的少摩爾量(小于20mol%)可以與環(huán)酸酐或 異氰酸酯化合物，例如甲苯磺?；惽杷狨シ磻?yīng)。在一些實施方案中，輻射敏感性組合物包括聚合物粘結(jié)劑，該聚合物粘結(jié)劑包含 酚醛樹脂(例如酚醛清漆樹脂)或聚(乙烯醇縮醛)，該聚(乙烯醇縮醛)具有大約40-大 約SOmol %含縮醛的重復(fù)單元。例如，有用的聚合物粘結(jié)劑包括聚(乙烯醇縮醛)，該聚(乙 烯醇縮醛)包含基于總重復(fù)單元計至少40mol%且至多80mol%由以下結(jié)構(gòu)(PVAc)表示的 重復(fù)單元 在結(jié)構(gòu)(PVAc)中，R和R'獨立地是氫，或含1_6個碳原子的取代或未取代的直鏈 或支化烷基(例如甲基、乙基、正丙基、正丁基、正戊基、正己基、氯代甲基、三氯代甲基、異 丙基、異丁基、叔丁基、異戊基、新戊基、I"甲基丁基和異己基)，或環(huán)中含3-6個碳原子的取 代或未取代的環(huán)烷基(例如環(huán)丙基、環(huán)丁基、環(huán)戊基、甲基環(huán)己基和環(huán)己基)或鹵基(例如 氟、氯、溴或碘)。通常，R和R'獨立地是氫，或取代或未取代的甲基或氯基，或例如，它們 獨立地是氫或未取代的甲基。應(yīng)該理解的是，聚合物粘結(jié)劑中的不同重復(fù)單元的R和R'可 以是選自所述定義的相同或不同的基團。R2是取代或未取代的苯酚基、取代或未取代的萘酚基或取代或未取代的蒽酚基。
11這些苯酚基、萘酚基和蒽酚基可以任選地具有至多三個附加的取代基，包括附加的羥基取 代基、甲氧基、烷氧基、芳氧基、硫代芳氧基、鹵甲基、三鹵甲基、鹵基、硝基、偶氮、硫代羥基、 硫代烷氧基、氰基、氨基、羧基、乙烯基、羧基烷基、苯基、烷基、烯基、炔基、環(huán)烷基、芳基、雜 芳基和雜脂環(huán)族基。通常，R2可以是未取代的苯酚基或萘酚基例如2-羥苯基或羥萘基。
示
此外，有用的聚(乙烯醇縮醛)可以由包含所指出的重復(fù)單元的以下結(jié)構(gòu)(I)表
-(A)m-(B)n-(C)p-(D)q-(E)r-(I)
其中
A代表由以下結(jié)構(gòu)(Ia)表示的重復(fù)單元
R R' R R1
I
-CH-
B代表由以下結(jié)構(gòu)(Ib)表示的重復(fù)單元
C代表由以下結(jié)構(gòu)(Ic)表示的重復(fù)單元
D代表由以下結(jié)構(gòu)(Id)表示的重復(fù)單元
E代表由以下結(jié)構(gòu)(Ie)表示的重復(fù)單元 m是大約5-大約40mol% (通常大約15-大約35mol % )，η是大約10-大約 6Omol % (通常大約2O-大約40mol%)，p可以是0-大約20mol% (通常0-大約IOmol % )， q是大約I-大約20mol % (通常大約1_大約15mol %), r是大約5_大約49mol % (通常 大約15-大約49mol% )。R和R'如上對結(jié)構(gòu)(PVAc)所述。R1是含1-12個碳原子的取代或未取代的、直鏈或支化烷基(例如甲基、乙基、正丙 基、異丙基、叔丁基、正丁基、正戊基、正己基、正庚基、正辛基、正壬基、正癸基、正i^一烷基、 正十二烷基、甲氧基甲基、氯代甲基、三氯甲基、芐基、肉桂?；惐?、異丁基、仲丁基、叔 丁基、異戊基、新戊基、1-甲基丁基和異己基)、環(huán)中含3-6個碳原子的取代或未取代的環(huán)烷 基環(huán)(例如環(huán)丙基、環(huán)丁基、環(huán)戊基、甲基環(huán)己基和環(huán)己基)或芳族環(huán)中含6或10個碳原子 不同于苯酚或萘酚的取代或未取代的芳基(例如取代或未取代的苯基和萘基，包括苯基、 二甲苯基、甲苯基、對甲氧基苯基、3-氯苯基和萘基)。通常，R1是含1-6個碳原子的取代或 未取代的烷基例如正丙基。R2如上面對結(jié)構(gòu)(PVAc)所限定。R3是含2-4個碳原子的取代或未取代的炔基(例如乙炔基)或取代或未取代的苯
基(例如苯基、4-羧基苯基、羧基亞烷氧基苯基和羧基烷基苯基)。通常，R3是羧基烷基苯 基、4-羧基苯基或羧基亞烷氧基苯基或另一種含羧基的苯基。R4是-O-C ( = 0)-R5基，其中R5是含1_12個碳原子的取代或未取代的烷基或芳族 環(huán)中含6或10個碳原子的取代或未取代的芳基，類似于上面提供的R1的定義。通常，R5是 含1-6個碳原子的取代或未取代的烷基例如未取代的甲基。R6是羥基。如結(jié)構(gòu)⑴中的重復(fù)單元的比例指示的那樣，聚(乙烯醇縮醛)可以是至少四聚 物，這取決于存在的不同重復(fù)單元的數(shù)目。例如，可能存在多重不同類型的重復(fù)單元，它們 選自任何所限定類別的結(jié)構(gòu)(Ia)至(Ie)的重復(fù)單元。例如，結(jié)構(gòu)⑴的聚(乙烯醇縮醛) 可以具有含不同R1基的結(jié)構(gòu)(Ia)重復(fù)單元。重復(fù)單元的此種多重性也可以適用于由任何 結(jié)構(gòu)(Ib)至(Ie)表示的那些。由結(jié)構(gòu)(I)表示的主聚合物粘結(jié)劑可以含有除結(jié)構(gòu)(Ia)、(Ib)、(Ic)、(Id)和(Ie) 所限定的那些以外的重復(fù)單元，并且這些重復(fù)單元對本領(lǐng)域技術(shù)人員是顯而易見的。因此， 按其最寬意義的結(jié)構(gòu)(I)不限于所限定的重復(fù)單元，但是在一些實施方案中，僅存在結(jié)構(gòu) (I)中的重復(fù)單元。主聚合物粘結(jié)劑在形成輻射敏感性層的輻射敏感性組合物中的含量一般是總干 重的大約10-大約99%，通常是總干重的大約30-大約95%。許多實施方案將按總組合物 或?qū)痈芍氐拇蠹s50-大約90%的量包括主聚合物粘結(jié)劑。本文描述的聚(乙烯醇縮醛)可以使用已知的起始原料和反應(yīng)條件制備，所述起
13始原料和反應(yīng)條件包括美國專利6，541，181 (上面指出)中描述的那些。例如，聚乙烯醇的縮醛化根據(jù)已知的標準方法進行，例如美國專利 4，665，124(Dhillon 等人)、4，940，646 (Pawlowski)、5，169，898 (Walls 等人)、 5，700，619 (Dwars 等人)和 5，792，823 (Kim 等人)和日本 Kokai09_328，519 (Yoshinaga)中 所述的那些。這種縮醛化反應(yīng)通常要求添加強無機或有機催化劑酸。催化劑酸的實例是鹽酸、 硫酸、磷酸和對甲苯磺酸。其它強酸也是有用的，例如全氟烷基磺酸及其它全氟_活化酸。 酸的量應(yīng)該有效地允許質(zhì)子化進行，但是不會通過引起縮醛基的不希望的水解而顯著地改 變最終產(chǎn)物?？s醛化的反應(yīng)溫度取決于醛的種類以及取代的所需水平。它在o°c和，如果適 用，溶劑的沸點之間。對于這種反應(yīng)，使用有機溶劑以及水與有機溶劑的混合物。例如，適 合的有機溶劑是醇(例如甲醇、乙醇、丙醇、丁醇和二醇醚)，環(huán)醚(例如1，4-二噁烷)和兩 極非質(zhì)子溶劑(例如N，N-二甲基甲酰胺、N-甲基吡咯烷酮或二甲基亞砜)。如果縮醛化在 有機溶劑或有機溶劑與水的混合物中進行，則反應(yīng)產(chǎn)物通常保持溶解狀態(tài)，即使起始聚乙 烯醇不完全地溶解。起始聚乙烯醇在有機溶劑中的不完全溶解是可能導(dǎo)致不可再現(xiàn)的轉(zhuǎn)化 程度和不同產(chǎn)物的缺點。水或有機溶劑與水的混合物應(yīng)該用來實現(xiàn)聚乙烯醇的完全溶解和 由縮醛化產(chǎn)生的可再現(xiàn)產(chǎn)物。各種縮醛化劑的添加順序通常不重要并且從不同的制備順序 獲得可比的成品。為了離析為固體的成品，在強烈攪拌下將聚合物溶液引入非溶劑，濾出并 干燥。水特別適合作為聚合物的非溶劑。通過用羥基取代的芳族醛進行縮醛化獲得的縮醛基的不希望的水解比由脂族或 未取代的芳族醛或由含羧基結(jié)構(gòu)部分的醛在相同合成條件下構(gòu)建的縮醛更易于發(fā)生。即使 反應(yīng)混合物中存在少量水也導(dǎo)致降低的縮醛化度和所使用的芳族羥基醛的不完全轉(zhuǎn)化。另 一方面，發(fā)現(xiàn)在沒有水的情況下，羥基-取代的芳族醛立即與醇的羥基反應(yīng)并幾乎100%轉(zhuǎn) 化。所以，聚乙烯醇通過羥基-取代的芳族醛的縮醛化過程以獲得期望的聚乙烯醇縮醛可 以不同于本領(lǐng)域中已知的程序進行?？梢栽诤铣善陂g通過在減壓下蒸餾從反應(yīng)混合物中除 去水并用有機溶劑加以替換?？梢酝ㄟ^向混合物中添加容易與水反應(yīng)的有機材料而除去殘 留的水并且作為反應(yīng)結(jié)果產(chǎn)生揮發(fā)性材料或惰性化合物。這些材料可以選自碳酸酯，碳酸 或羧酸的原酯(它們?nèi)菀着c水反應(yīng))，含氧化硅的化合物，例如碳酸二乙酯、原甲酸三甲酯、 碳酸四乙酯和硅酸四乙酯。這些材料向反應(yīng)混合物中的添加導(dǎo)致所使用的醛的100%轉(zhuǎn)化。因此，有用的聚(乙烯醇縮醛)的制備可以從在80-90°C下將起始聚乙烯醇溶解在 DMSO中開始，然后將溶液冷卻至60°C，并添加溶解在有機溶劑中的酸性催化劑。然后，將脂 族醛在相同溶劑中的溶液添加到該溶液中，在60°C下保持溶液30分鐘，并添加芳族醛和/ 或羧基取代的醛，或其它醛在相同溶劑中的溶液。將茴香醚添加到反應(yīng)混合物中，并通過蒸 餾除去水與茴香醚的共沸混合物并用有機溶劑加以替代。在這一階段，芳族羥基醛的轉(zhuǎn)化 達到95-98%。中和反應(yīng)混合物中的酸并將混合物與水共混以使聚合物沉淀，將聚合物過 濾，用水洗滌并干燥。實現(xiàn)芳族羥基醛100%轉(zhuǎn)化成芐縮醛的第二種方法是在將醛添加到反 應(yīng)混合物中后添加除去有機材料(例如，碳酸酯或原甲酸酯)的水。其它有用的聚合物粘結(jié)劑是包含由以下結(jié)構(gòu)(I-A)表示的重復(fù)單元的聚(乙烯醇 縮醛)-(A)m-(B)n-
14 其中A代表由以下結(jié)構(gòu)(Ia-A)表示的重復(fù)單元(Ia-A)，禾口B代表由以下結(jié)構(gòu)(Ib-A)表示的重復(fù)單元 在一些實施方案中，有用的聚(乙烯醇縮醛)進一步包含由以下結(jié)構(gòu)(Ic-A)、 (Id-A)、(Ie-A)、(If-A)和(Ig-A)中的一種或多種表示的重復(fù)單元 上述結(jié)構(gòu)中，R、R'R7是以下基團 其中X是直接單鍵或-O-CH2-基。對本領(lǐng)域技術(shù)人員還明顯的是，雖然R7在上面以"未開放"形式(即，帶稠環(huán))顯示，但是它也可以呈"開放"形式存在，其中不存在雜環(huán)和在-CH <基和苯基環(huán)間不存在 鍵，且附加的碳價被氫原子代替。因此，R7的"開放"和"未開放"形式對本發(fā)明來說認為 是等效的。在結(jié)構(gòu)(I-A)中，m是至少20mol%且通常至少30mol%或大約50-大約80mol%， η是至少10mol%且通常至少20mol%。m和η之和(m+n)可以盡實際上可能的高，但是在 一些實施方案中，該總和小于或等于75mol %且通常小于或等于60mol %。當由結(jié)構(gòu)(Ic-A)、(Id-A)、(Ie-A)、(If-A)和(Ig-A)表示的重復(fù)單元存在于聚合 物粘結(jié)劑中時，它們按以下量存在大約2-大約10mol%由結(jié)構(gòu)(Ic-A)表示的重復(fù)單元，大約2-大約25mol%由結(jié)構(gòu)(Id-A)和(Ie-A)中任一或兩者表示的重復(fù)單元，大約1-大約15mol%由結(jié)構(gòu)(If-A)表示的重復(fù)單元，和大約15-大約30mol%由結(jié)構(gòu)(Ig-A)表示的重復(fù)單元。在一些實施方案中，堿可溶性聚合物粘結(jié)劑由以下結(jié)構(gòu)(I-AA)表示- (A) m- (B) n- (C) p- (D) q- (E) r_ (F) s_ (G) t_(I-AA)其中A代表由以下結(jié)構(gòu)(Ia-A)表示的重復(fù)單元 B代表由以下結(jié)構(gòu)(Ib-A)表示的重復(fù)單元 C代表由以下結(jié)構(gòu)(Ic-A)表示的重復(fù)單元 D代表由以下結(jié)構(gòu)(Id-A)表示的重復(fù)單元
F表示由以下結(jié)構(gòu)(If-A)表示的重復(fù)單元:
G表示由以下結(jié)構(gòu)(Ig-A)表示的重復(fù)單元:
E代表由以下結(jié)構(gòu)(Ie-A)表示的重復(fù)單元: 其中R 和 R'、！ 1、! 2、! 3、! 4、! 5、! 6 和 R7 如上面所限定，m 是至少 30mol%，η 是至少 20mol%，m和η之和(m+n)小于或等于60mol %，ρ 是大約 2-大約 IOmol %，q和r獨立地是大約2_大約25mol %，s 是大約 1-大約 15mol%，t 是大約 15-大約 30mol%。包含由結(jié)構(gòu)(I-A)或(I-AA)表示的重復(fù)單元的主聚合物粘結(jié)劑可以含有除由所 示結(jié)構(gòu)限定的那些以外的重復(fù)單元，并且這些重復(fù)單元對本領(lǐng)域技術(shù)人員是顯而易見的。 因此，按其最寬意義的結(jié)構(gòu)(I-A)或(I-AA)不限于所限定的重復(fù)單元。然而，在一些實施 方案中，僅存在特別以結(jié)構(gòu)(I-A)或(I-AA)限定的重復(fù)單元?？梢源嬖诙嘀仡愋偷闹貜?fù)單元，它們選自任何所限定類別的結(jié)構(gòu)(Ia-A)至 (Ig-A)的含不同取代基的重復(fù)單元。例如，可能存在多重類型的結(jié)構(gòu)(Ia-A)的含不同R1 基的重復(fù)單元。重復(fù)單元的此種多重性對由結(jié)構(gòu)(Ib-A)、(Ic-A)、(Id-A)、(Ie-A)、(If-A)
18和(Ig-A)中的任一種表示的那些重復(fù)單元也適合。形成可成像或輻射敏感性層的輻射敏感性組合物中主聚合物粘結(jié)劑的含量一般 是總干重的大約10-大約99%，通常是總干重的大約30-大約95%。許多實施方案將按占 總組合物或?qū)痈芍卮蠹s50-大約90%的量包括主聚合物粘結(jié)劑。本文所述結(jié)構(gòu)(I-A)或(I-AA)的聚(乙烯醇縮醛)可以使用已知的起始材料和 反應(yīng)條件制備，所述起始材料和反應(yīng)條件包括對制備上面結(jié)構(gòu)(PVAc)和(I)中所限定的聚 合物粘結(jié)劑所描述的那些。所有縮醛基是6-元環(huán)狀縮醛基。內(nèi)酯結(jié)構(gòu)部分衍生自通過在反應(yīng)的蒸餾階段中 脫水的巴豆酸組分。各種酚醛樹脂也可以用作本發(fā)明中的主聚合物粘結(jié)劑，包括酚醛清漆樹脂例如苯 酚和甲醛的縮合聚合物，間甲酚和甲醛的縮合聚合物，對甲酚和甲醛的縮合聚合物，間_/ 對-混合甲酚和甲醛的縮合聚合物，苯酚、甲酚(間、對或間/對混合物)和甲醛的縮合聚 合物和焦櫚酚和丙酮的縮合共聚物。此外，可以使用通過將側(cè)鏈中含苯酚基的化合物共聚 合獲得的共聚物。也可以使用此類聚合物粘結(jié)劑的混合物。重均分子量至少1，500且數(shù)均分子量至少300的酚醛清漆樹脂是有用的。通常，重 均分子量為大約3，000-大約300，000，數(shù)均分子量為大約500-大約250，000，分散度(重 均分子量/數(shù)均分子量)為大約1. I"大約10?？梢允褂蒙鲜鲋骶酆衔镎辰Y(jié)劑的某些混合物，包括一種或多種聚(乙烯醇縮醛) 和一種或多種酚醛樹脂的混合物。例如，可以使用一種或多種聚(乙烯醇縮醛)和一種或 多種酚醛清漆或甲階酚醛樹脂(或酚醛清漆和甲階酚醛樹脂)的混合物。其它有用的樹脂包括具有酚羥基的聚乙烯化合物，例如聚(羥基苯乙烯)和含羥 基苯乙烯的重復(fù)單元的共聚物和含取代的羥基苯乙烯的重復(fù)單元的聚合物和共聚物。具有多個衍生自4-羥基苯乙烯的支化羥基苯乙烯重復(fù)單元的支化聚(羥基苯乙 烯)也是有用的，例如美國專利5，554, 719 (Sounik)和6，551，738 (Ohsawa等人)和美國公 開專利申請2003/0050191 (Bhatt等人)和2005/0051053 (Wisnudel等人)和共同受讓的美 國專利公開號2008/0008956 (Levanon等人)中所述的那些。例如，此類支化羥基苯乙烯聚 合物包含衍生自羥基苯乙烯，例如4-羥基苯乙烯的重復(fù)單元，該重復(fù)單元進一步取代有與 羥基鄰位布置的重復(fù)羥基苯乙烯單元(例如4-羥基苯乙烯單元)。這些支化聚合物可以具 有大約1，000-大約30，000，優(yōu)選大約1，000-大約10，000,更優(yōu)選大約3，000-大約7，000 的重均分子量(Mw)。此外，它們可以具有小于2，優(yōu)選大約1.5-大約1.9的多分散度。該 支化聚(羥基苯乙烯)可以是具有非支化羥基苯乙烯重復(fù)單元的均聚物或共聚物。包括"副"聚合物粘結(jié)劑與上述一種或多種主聚合物粘結(jié)劑可能是有用的。具體 來說，此類副聚合物粘結(jié)劑可以與上述聚(乙烯醇縮醛)結(jié)合地使用。可以與主聚合物粘 結(jié)劑一起使用的副聚合物粘結(jié)劑的類型不受特別限制。一般而言，從不削弱可成像元件的 正輻射敏感性的觀點出發(fā)，副聚合物粘結(jié)劑一般也是堿溶性聚合物。副聚合物粘結(jié)劑的實例包括以下類別的聚合物，它們在主鏈和/或側(cè)鏈(側(cè)基) 上具有下面所示的(1)至(5)中的酸基。(1)砜酰胺(-SO2NH-R)，(2)基于取代的磺酰氨基的酸基(下文中，稱為活性亞氨基)[例如_S02NHC0R、
19SO2NHSO2R, -CONHSO2R]，(3)羧酸基(-CO2H)、⑷磺酸基(-SO3H),和(5)磷酸基(-OPO3H2)。上述基團(1)_(5)中的R代表氫或烴基。具有基團(1)砜酰胺基的代表性副聚合物粘結(jié)劑是例如，由作為主組分的最小組 成單元構(gòu)成的聚合物，所述主組分衍生自具有砜酰胺基的化合物。因此，此種化合物的實例 包括在其分子中具有至少一個砜酰胺基和至少一個可聚合不飽和基團的化合物，在該砜酰 胺基中，至少一個氫原子與氮原子鍵接。這些化合物包括甲基丙烯酸間氨基磺?；交?、 N-(對氨基磺酰基苯基)甲基丙烯酰胺和N-(對氨基磺?；交?丙烯酰胺。因此，可以使 用將具有砜酰胺基的單體例如甲基丙烯酸間氨基磺酰基苯基酯、N-(對氨基磺?；交? 甲基丙烯酰胺或N-(對氨基磺?；交?丙烯酰胺聚合的均聚物或共聚物。含基團(2)活化亞氨基的副聚合物粘結(jié)劑的實例是含衍生自具有活化亞氨基的 化合物的重復(fù)單元作為主要組成組分的聚合物。此類化合物的實例包括具有由以下結(jié)構(gòu)式 限定的結(jié)構(gòu)部分的可聚合不飽和化合物。 N_(對甲苯磺?；?甲基丙烯酰胺和N_(對甲苯磺酰基)丙烯酰胺是此類可聚合 化合物的實例。具有任何基團(3)至(5)的副聚合物粘結(jié)劑包括可容易通過使具有所需酸基，或 在聚合后可以轉(zhuǎn)變成這些酸基的基團的烯屬不飽和可聚合單體反應(yīng)制備的那些。至于具有選自(1)至(5)的酸基的最小組成單元，不必僅在聚合物中使用一種酸 基，并且在一些實施方案中，具有至少兩種酸基可能是有用的。顯然，不是副聚合物粘結(jié)劑 中的每個重復(fù)單元必須具有所述酸基之一，而是通常至少IOmol %，典型地至少20mol%包 含具有所指酸基之一的重復(fù)單元。副聚合物粘結(jié)劑可以具有至少2，000的重均分子量和至少500的數(shù)均分子量。通 常，重均分子量為大約5，000-大約300，000，數(shù)均分子量為800-250，000，分散度(重均分 子量/數(shù)均分子量)為1.1-10?？梢允褂酶本酆衔镎辰Y(jié)劑與一種或多種主聚合物粘結(jié)劑的混合物。副聚合物粘結(jié) 劑可以按至少1重量％且至多50重量％，通常5-30重量％的量存在，基于輻射敏感性組合 物或可成像層中的總聚合物粘結(jié)劑的干重?？沙上裨M一步包含顯影性增強化合物，它是取代有一個或多個氨基和一個或 多個羧酸基(羧基)的有機酸(尤其是芳族酸)。這些基團可以經(jīng)由一個或多個脂族或芳 族基連接。例如，氨基可以與亞烷基、亞芳基和亞環(huán)烷基直接地連接，如下面更詳細限定的 那樣。此外，氨基可以是芳族或非芳族含N雜環(huán)的一部分。氨基和羧酸基中各自至多4個 可以存在于顯影性增強化合物分子中，具體地說，至少一個氨基可以存在并與取代或未取 代的芳基(例如取代或未取代的苯基)直接地連接。
代表性的顯影性增強化合物可以由以下結(jié)構(gòu)(DEC)限定[H0-C ( = 0) ] -A- [N (R1) (R2) ] n(DEC)在結(jié)構(gòu)DEC中，R1和R2可以是相同或不同的氫或含1-6個碳原子的取代或未取代 的直鏈或支化烷基(例如甲基、乙基、正丙基、正丁基、正戊基、正己基、氯代甲基、三氯代甲 基、異丙基、異丁基、叔丁基、異戊基、新戊基、1-甲基丁基和異己基)，或烴環(huán)中含5-10個碳 原子的取代或未取代的環(huán)烷基或芳族環(huán)中含6、10或14個碳原子的取代或未取代的芳基。 在一些實施方案中，R1和R2可以是相同或不同的取代或未取代的芳基(例如苯基或萘基)， 并且當A包括與-[N(R1) (R2) ] 直接連接的亞烷基時，R1和R2中至少一個是取代或未取代 的芳基是尤其有用的。在其它實施方案中，R1和R2可以是相同或不同的氫或含1-6個碳原子的取代或未 取代的直鏈或支化烷基(如上所述)、取代或未取代的環(huán)己基或取代或未取代的苯基或萘基。在結(jié)構(gòu)(DEC)中，A是鏈中含至少一個碳、氮、硫或氧原子的取代或未取代的有機 連接基，其中A還包含與-[N(R1) (R2) ]n直接連接的取代或未取代的亞芳基(例如取代或未 取代的亞苯基)。因此，A可以包括一個或多個亞芳基(例如，芳族環(huán)中含6或10個碳原 子)、亞環(huán)烷基(例如，碳環(huán)中含5-10個碳原子)、亞烷基(例如，鏈中含1-12個碳原子，包 括直鏈和支鏈基)、氧基、硫基、酰氨基、羰基、碳酰氨基、磺酰氨基、亞乙烯基(-CH = CH-)、 亞乙炔基(-C ε C-)或硒基或它們的任何組合。在一些尤其有用的實施方案中，A由取代 或未取代的亞芳基(例如取代或未取代的亞苯基)構(gòu)成。在結(jié)構(gòu)(DEC)中，m是1-4 (通常1或2)的整數(shù)，η是1_4 (通常1或2)的整數(shù)，其 中m和η可以是相同或不同的。在還有的其它實施方案中，顯影性增強化合物可以由以下結(jié)構(gòu)(DEC1)表示[H0-C ( = 0) ] m-B-A- [N (R1) (R2) ] n(DEC1)其中R1和R2如上面所限定，A是具有與-[N(R1) (R2)) ]n直接連接的取代或未取代 的亞苯基的有機連接基，B是單鍵或鏈中含至少一個碳、氧、硫或氮原子的有機連接基，m是 1或2的整數(shù)，η是1或2的整數(shù)?！癇"有機連接基可以限定與上面所限定的A相同，不 同之處在于不要求B含有亞芳基，并且B (如果存在)通常不同于Α。本文描述的芳基(和亞芳基)、環(huán)烷基和烷基(和亞烷基)可以任選地具有至多 4個取代基，包括但不限于羥基、甲氧基及其它烷氧基、芳氧基如苯氧基、硫代芳氧基、鹵甲 基、三鹵甲基、鹵基、硝基、偶氮、硫代羥基、硫代烷氧基例如硫代甲基、氰基、氨基、羧基、乙 烯基及其它烯基、羧基烷基、芳基例如苯基、烷基、炔基、環(huán)烷基、雜芳基和雜脂環(huán)族基?？沙上裨梢园ㄒ环N或多種氨基苯甲酸、二甲基氨基苯甲酸、氨基水楊酸、吲 哚乙酸、苯胺雙乙酸類、N-苯基甘氨酸或它們的任何組合作為顯影性增強化合物。例如，此 類化合物可以包括但不限于4-氨基苯甲酸、4-(Ν，N' - 二甲基氨基)苯甲酸、苯胺基雙乙 酸、N-苯基甘氨酸、3-吲哚乙酸和4-氨基水楊酸。上述一種或多種顯影性增強化合物一般按1-30重量％，或通常2-20重量％的量 存在。
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在許多實施方案中，輻射敏感性組合物和可成像元件可以具有以30-95重量％的 范圍存在的上述聚合物粘結(jié)劑，以1-30重量％的范圍存在的一種或多種顯影性增強化合 物，和以1-25重量％的范圍存在的是紅外輻射吸收性化合物的一種或多種輻射吸收性化 合物。還可以與一種或多種酸性顯影性增強化合物(ADEC)，例如羧酸或環(huán)酸酐、磺酸、 亞磺酸、烷基硫酸、膦酸、次瞵酸、膦酸酯、酚類、磺酰胺或磺酰亞胺組合使用結(jié)構(gòu)(DEC)或 (DEC1)的一種或多種顯影性增強化合物，因為這樣的組合可以允許進一步改進顯影寬容度 和印刷耐久性。此類化合物的代表性實例提供在美國專利申請公開2005/0214677 (上面所 指出)的W030]40036]中，該文獻的關(guān)于這些酸顯影性增強化合物的內(nèi)容在此進行引用。 此類化合物可以按0. 1-30重量％的量存在，基于輻射敏感性組合物或可成像層的總干重。在某些情況下，將這些酸性顯影性增強化合物中的至少兩種與上面結(jié)構(gòu)(DEC)或 (DEC1)描述的顯影性增強化合物中的一種或多種(例如兩種)組合使用。在兩種類型的上述顯影性增強化合物的組合中，由結(jié)構(gòu)(DEC)或(DEC1)表示的一 種或多種化合物與一種或多種(ADEC)顯影性增強化合物的摩爾比為0.1 1-10 1，更通 常 0. 5 1-2 1。此外，由結(jié)構(gòu)(DEC)或(DEC1)描述的顯影性增強化合物可以與共同未決和共同受 讓的美國序列號 11/677，599 (由 Levanon、Postel、Rubin 和 Kurtser 于 2007 年 2 月 22 提 交)中描述的堿性顯影性增強化合物結(jié)合使用。此類化合物可以由以下結(jié)構(gòu)(BDEC)限定(R7) S-N- [ (CR8R9) t_0H] v(BDEC)其中t是1-6，s是0、1或2，ν是1-3，條件是s和ν之和是3。當s是1時，R7是 氫或烷基、烷基胺、環(huán)烷基、雜環(huán)烷基、芳基、芳基胺或雜芳基，當s是2時，多個R7基可以是 相同或不同的烷基、烷基胺、環(huán)烷基、雜環(huán)烷基、芳基、芳基胺或雜芳基，或兩個R7基團可以 與氮原子一起形成取代或未取代的雜環(huán)。R8和R9獨立地是氫或烷基。此類有機BDEC化合物的實例是N-(2-羥乙基)_2_吡咯烷酮、1_(2_羥乙基)哌 嗪、N-苯基二乙醇胺、三乙醇胺、2-[雙(2-羥乙基)氨基]-2-羥甲基-1. 3-丙二醇、N， N, N' ,N'-四(2-羥乙基)-亞乙基二胺、N，N，N' ,N'-四(2-羥丙基)-亞乙基二胺、 3-[(2_羥乙基)苯基氨基]丙腈和六氫-1，3，5-三(2-羥乙基)-s-三嗪。這些化合物中 兩種或更多種的混合物也是有用的。在兩種類型的上述顯影性增強化合物的組合中，由結(jié)構(gòu)(DEC)或(DEC1)表示的一 種或多種化合物與一種或多種(BDEC)顯影性增強化合物的摩爾比為0.1 1-10 1，更通 常 0. 5 1-2 1。同樣，上面由結(jié)構(gòu)(DEC)或(DEC1)描述的化合物可以與一種或多種上面作為ADEC 化合物給出的化合物和一種或多種上面由結(jié)構(gòu)(BDEC)給出的化合物按任何適合的摩爾比
組合使用。輻射敏感性組合物可以包括下面對可成像層描述的其它任選的附加物?？沙上裨话愣裕ㄟ^將含有一種或多種聚合物粘結(jié)劑、顯影性增強化合物和通常輻射 吸收性化合物(如下所述)以及其它任選的附加物的輻射敏感性組合物的配方適合地施加到適合的基材上以形成可成像層而形成可成像元件?？梢栽谑┘釉撆浞街鞍聪率龈鞣N方 法處理或涂覆這種基材。例如，可以處理該基材而提供用于改進粘合性或親水性的"中間 層"，并在該中間層上施加可成像層?；耐ǔ＞哂杏H水性表面，或具有比成像側(cè)上所施加的成像配方更加親水性的表 面。基材包括支持體，其可以包括常用于制備可成像元件例如平版印刷板的任何材料。它通 常呈片材、膜或箔片形式，并且在使用條件下是強、穩(wěn)定和撓性的并且抗尺寸變化以致顏色 記錄將登記全色圖象。通常，支持體可以是任何自支撐材料，包括聚合物膜(例如聚酯、聚 乙烯、聚碳酸酯、纖維素酯聚合物和聚苯乙烯膜)、玻璃、陶瓷、金屬片或箔或剛性紙(包括 樹脂涂覆和敷金屬的紙)或任何這些材料的層合物(例如鋁箔疊到聚酯薄膜上的層合物)。 金屬支持體包括鋁、銅、鋅、鈦和它們的合金的片材或箔片。聚合物膜支持體可以在一個或兩個表面上用"亞(subbing)“層改性以提高親水 性，或者紙支持體可以類似地被涂覆以提高平面性。亞層材料的實例包括但不限于，烷氧基 硅烷，氨基丙基三乙氧基硅烷，縮水甘油氧基丙基三乙氧基硅烷和環(huán)氧基官能化聚合物，以 及鹵化銀感光薄膜中使用的常規(guī)親水性替代性材料(例如明膠及其它天然產(chǎn)生和合成的 親水膠體和乙烯基聚合物，包括偏二氯乙烯共聚物)。一種基材由鋁支持體構(gòu)成，其可以使用本領(lǐng)域中已知的技術(shù)，包括物理磨版、電化 學磨版和化學磨版，接著陽極化加以涂覆或處理?？梢詫X片以機械或電化學方式磨版并 使用磷酸或硫酸和常規(guī)程序陽極化。任選的中間層可以通過使用例如硅酸鹽、糊精、氟化鈣鋯、六氟硅酸、磷酸鹽/氟 化鈉、聚(乙烯基膦酸)(PVPA)、乙烯基膦酸共聚物、聚(丙烯酸)或丙烯酸共聚物溶液處理 鋁支持體而形成?？梢杂镁?丙烯酸)使用改進表面親水性的已知程序處理磨版和陽極化 的鋁支持體?；牡暮穸瓤梢愿淖兊菓?yīng)該足以承受印刷的磨損和足夠薄以卷繞印版。一些實 施方案包括厚度為100-600 μ m的經(jīng)處理的鋁箔?；牡谋趁?非成像側(cè))可以涂有抗靜電劑和/或滑動層或消光層以改進可成像 元件的操作和"觸感"。基材也可以是其上涂有輻射敏感性組合物的圓柱形表面，因此是印刷機的組成部 分。此種成像筒體的使用例如在美國專利5，713，287 (Gelbart)中進行了描述?？沙上駥油ǔ０环N或多種輻射吸收性化合物。雖然這些化合物可能對大約 150-大約1500nm的任意適合的能量形式(例如，UV、可見光和IR輻射)敏感，但是它們通 常對紅外輻射敏感，并且由此，輻射吸收性化合物公知為紅外輻射吸收性化合物(“IR吸 收性化合物“)，其一般吸收600-1400nm，更可能700-1200nm的輻射?？沙上駥右话闶强?成像元件中的最外層。適合的IR染料的實例包括但不限于，偶氮染料、方酸(squarylium)染料、 croconate染料、三芳基胺染料、噻唑鐺染料、吲哚鐺染料、oxonol染料、oxazolium染料、 花青染料、部花青染料、酞菁染料、吲哚花青染料、吲哚三羰花青染料、半花青染料、鏈霉花 青染料、氧雜三羰花青染料、硫代花青染料、硫代三羰花青染料、部花青染料、隱花青染料、 萘酞花青染料、聚苯胺染料、聚吡咯染料、聚噻吩染料、chalcogenopyryIoarylidene和雙 (chalcogenopyrylo)-聚甲川染料、氧化吲哚嗪染料、吡喃鐺染料、吡唑啉偶氮染料、噁嗪染
23料、萘醌染料、蒽醌染料、醌亞胺染料、甲川染料、芳基甲川染料、聚甲川染料、斯夸苷染料、 噁唑染料、croconine染料、嚇啉染料和前述染料類別的任意取代或離子化的形式。適合 的染料例如在美國專利 4，973，572 (DeBoer)、5，208，135 (Patel 等人)、5，244，771 (Jandrue Sr.等人)和 5，401，618 (Chapman等人)JPEP 0823327A1 (Nagasaka等人)中進行了描述。具有陰離子發(fā)色團的花青染料也是有用的。例如，花青染料可以具有含兩個 雜環(huán)基團的發(fā)色團。在另一個實施方案中，花青染料可以具有至少兩個磺酸基，例如兩 個磺酸基和兩個假吲哚基。有用的IR-敏感性花青染料描述于例如美國專利申請公開 2005-0130059 (Tao)中。有用類型的適合的花青染料的一般描述由WO 2004/101280 (Murmelly等人)的第
段中的通式顯示。除了低分子量IR-吸收性染料之外，還可以使用與聚合物鍵接的IR染料結(jié)構(gòu)部 分。此外，也可以使用IR染料陽離子，即該陽離子是染料鹽的IR吸收性部分，該染料鹽與 側(cè)鏈中包含羧基、磺基、二氧磷基或膦?；木酆衔锇l(fā)生離子相互作用。近紅外吸收性花青染料也是有用的并且例如在美國專利6，309，792 (Hauck等 人)、6，264, 920 (Achilefu 等人)、6，153, 356 (Urano 等人)和 5，496, 903 (Watanate 等人) 中進行了描述。適合的染料可以使用常規(guī)方法和起始材料形成或由各種商業(yè)源獲得，包括 American Dye Source (Baie Df Urfe, Quebec，Canada)禾口 FEW Chemicals(Germany)0 用 于近紅外二極管激光束的其它有用的染料例如，在美國專利4，973，572(上面指出)中進行 了描述。有用的IR吸收性化合物還可以是顏料，包括炭黑，如采用本領(lǐng)域中眾所周知的增 溶基進行表面官能化的炭黑。與親水性、非離子聚合物接枝的炭黑(例如FX-GE-003(由 Nippon Shokubai制造))，或用陰離子基團表面官能化的炭黑例如CAB-0-JET 200或 CAB-O-JET 300 (由Cabot Corporation制造)也是有用的。其它有用的顏料包括，但 不限于，Heliogen Green、Nigrosine Base、鐵(III)氧化物、氧化錳、普魯士藍和巴黎藍。 顏料顆粒的尺寸不應(yīng)大于可成像層的厚度，并且通常，顏料顆粒尺寸將小于可成像層厚度 的一半。在可成像元件中，輻射吸收性化合物通常以0. 1-30重量％的干覆蓋度存在，或通 常按0. 5-20重量％的干覆蓋度存在。為此需要的具體量對本領(lǐng)域技術(shù)人員顯而易見的，這 取決于所使用的特定化合物。或者，輻射吸收性化合物可以包括在與單個可成像層熱接觸的隔離層中。因此，在 成像期間，可以將隔離層中的輻射吸收性化合物的作用轉(zhuǎn)移到可成像層中，無需最初將該 化合物結(jié)合到該可成像層中?？沙上駥?和輻射敏感性組合物)還可以包括一種或多種附加的充當著色染料的 化合物?？扇苡趬A性顯影劑的著色染料是有用的。適用于著色染料的極性基團包括但不 限于，醚基團、胺基團、偶氮基團、硝基基團、二茂鐵鐺基團、亞砜基團、砜基團、重氮基團、重 氮鐺基團、酮基團、磺酸酯基團、磷酸酯基團、三芳基甲烷基團、鐺基團(如锍、碘鐺和鱗基 團)，其中氮原子結(jié)合到雜環(huán)中的基團，和含有帶正電原子(如季氨化銨基團)的基團。可 用作溶解抑制劑的含帶正電氮原子的化合物包括，例如，四烷基銨化合物和季化雜環(huán)化合 物如喹啉鐺化合物、苯并噻唑鐺化合物、吡啶鐺化合物和咪唑鐺化合物。有用的著色染料包
24括三芳基甲烷染料，如乙基紫、結(jié)晶紫、孔雀綠、亮綠、維多利亞藍B、維多利亞藍R和維多利 亞純藍B0、BASONYL 紫610和Dll (PCAS，Longjumeau，F(xiàn)rance)。這些化合物也可以充 當對比染料，它們在顯影的可成像元件中區(qū)分未曝光(未成像)區(qū)域與曝光(成像)區(qū)域。當著色染料存在于可成像層中時，其用量可以在很大程度上變化，但是一般其存 在量為0. 5重量％ -30重量％ (基于總干層重量)?？沙上駥?和輻射敏感性組合物)可以進一步包括常規(guī)用量的各種其它添加劑， 包括分散劑、保濕劑、殺生物劑、增塑劑、用于涂布性能或其它性能的非離子或兩性表面活 性劑(例如氟聚合物)、耐磨聚合物(例如聚氨酯、聚酯、環(huán)氧樹脂、聚酰胺和丙烯酸系樹 脂)、增粘劑、填料和增量劑、能使繪圖顯象的染料或著色劑、PH調(diào)節(jié)劑、干燥劑、消泡劑、防 腐劑、抗氧劑、顯影助劑、流變學改性劑或其組合，或平版印刷領(lǐng)域中常用的任何其它附加 物(例如，Nagashima的美國專利申請公開2005/0214677中所述那樣)。正性工作可成像元件可以通過采用常規(guī)涂覆或?qū)訅悍椒▽⒖沙上駥优浞绞┘拥?基材的表面(和提供于其上的任何其它親水性層)之上來制備。因此，可以通過將所期望 的成分分散或溶解于適合的涂覆溶劑中，并采用適合的設(shè)備和程序(如旋涂、刀涂、凹版涂 覆、模涂、狹槽涂覆、棒涂、盤條涂覆、輥涂或擠出機料斗涂覆)將所得的配方施加到基材 上。也可以通過噴涂到適合的支持體(例如印刷機上印刷筒)上來施加所述配方。單個可成像層的涂層重量為0. 5-2. 5g/m2或l_2g/m2。用于涂覆層配方的溶劑的選擇取決于該配方中聚合物粘結(jié)劑及其它聚合物材料 和非聚合物組分的性質(zhì)。通常，使用本領(lǐng)域中熟知的條件和技術(shù)自丙酮、甲基乙基酮、或另 一種酮、四氫呋喃、1-甲氧基丙-2-醇(或1-甲氧基-2-丙醇)、N-甲基吡咯烷酮、乙酸 1-甲氧基-2-丙酯、Y-丁內(nèi)酯和它們的混合物涂覆可成像層配方。或者，可以通過常規(guī)擠出涂覆方法由各個層組合物的熔體混合物施加層。通常，此 類熔體混合物不包含揮發(fā)性有機溶劑。各種層配方的施加之間可以采用中間干燥步驟，以在涂覆其它配方之前除去溶 劑。干燥步驟也可以有助于防止各種層的混合。在將基材上的可成像層配方干燥后(即，涂層是自支撐的并且觸摸時是干燥的)， 可以在40-90°C (通常50-70°C)下熱處理該元件至少4小時，通常至少20小時，或至少24 小時。最大熱處理時間可以高達96小時，但是熱處理的最佳時間和溫度可以通過常規(guī)實驗 容易地確定。此類處理例如在EP 823，327 (Nagasaka等人)和EP 1，024，958 (McCullough 等人)中進行了描述。還可能希望的是，在熱處理期間，將可成像元件包裹或封閉在水不可滲透片材中， 該水不可滲透片材代表從前體除濕的有效屏障。可成像元件的個體、疊片或卷材的這種調(diào) 理方法的更多細節(jié)提供于美國專利7，175，969 (Ray等人)中。成像和顯影本發(fā)明的可成像元件可以具有任何有用的形式，包括但不限于印刷板前體、印刷 筒、印刷套和印刷帶(包括撓性印刷網(wǎng)幅)。例如，可成像構(gòu)件是設(shè)計用來形成平版印刷板 的平版印刷板前體。印刷板前體可以具有任何有用的尺寸與形狀(例如，正方形或矩形)，其中必要的 可成像層置于適合的基材上。印刷筒和套稱為旋轉(zhuǎn)印刷構(gòu)件，其具有呈圓柱形的基材和可成像層。中空或?qū)嵭慕饘傩究梢杂米饔∷⑻椎幕?。在使用過程中，將可成像元件暴露于在150-1500nm波長下的適合的輻射源例如 UV、可見光或紅外輻射中，這取決于輻射敏感性組合物中存在的輻射吸收性化合物。對于大 多數(shù)實施方案，使用波長為700-1200nm的紅外激光進行成像。用來將成像構(gòu)件曝光的激光 可以是二極管激光，原因在于二極管激光系統(tǒng)的可靠性和低維護性，但是也可以使用其它 激光例如氣體或固體激光。激光成像的功率、強度和曝光時間的組合對本領(lǐng)域技術(shù)人員將 是顯而易見的。當前，可商購的圖像照排機中使用的高性能激光器或激光二極管發(fā)射波長 為800-850nm或1060-1120nm的紅外輻射。成像設(shè)備可以僅發(fā)揮印版照排機作用或它可以直接地引入到平版印刷機中。在后 一種情況下，印刷可以在成像之后立即開始，由此大大降低印刷準備時間。成像設(shè)備可以配 置為平板式記錄器或鼓式記錄器，其中可成像構(gòu)件安裝到鼓的內(nèi)或外圓柱表面。有用的成 像設(shè)備的實例可作為CreoTrendsetter 圖像照排機從Eastman Kodak Company(Burnaby, British Columbia, Canada)獲得，其包括發(fā)射波長830nm的近紅外線輻射的激光二極管。 其它適合的成像源包括在1064nm的波長下操作的Crescent 42T Platesetter和Screen PlateRite 4300系列或8600系列印版照排機(可以從Screen，Chicago，IL獲得)。其它有 用的輻射源包括可以用來使元件成像的直接成像印刷機，同時它與印刷板筒體附接。適合 的直接成像印刷機的實例包括Heidelberg SM74-DI印刷機(可以從Heidelberg，Dayton， OH獲得)。IR 成像速度可以為 30_1500mJ/cm2，或通常 40_200mJ/cm2。雖然通常實行激光成像，但是可以通過以成像方式提供熱能的任何其它手段提供 成像。例如，可以使用熱敏頭(熱打印頭)以所謂的"熱打印"完成成像，例如美國專利 5，488，025 (Martin等)所述。熱打印頭可商購(例如，作為 Fujitsu Thermal Head FTP-040 MCSOOl和 TDK ThermalHead F415 HH7-1089)。通常采用直接數(shù)字成像來進行成像。將圖像信號以位圖數(shù)據(jù)文件存儲在計算機 上。這些數(shù)據(jù)文件可以通過光柵圖像處理機(RIP)或其它合適的設(shè)備產(chǎn)生。構(gòu)成位圖以定 義顏色的色調(diào)以及篩網(wǎng)頻率和角度。可成像元件的成像產(chǎn)生包括成像(曝光)和未成像(未曝光)區(qū)域的潛像的成像 元件。成像元件用適合的顯影劑顯影除去可成像層的曝光區(qū)域和其下的任何層而露出基材 的親水表面。因此，此類可成像元件是〃正性工作的〃(例如，正性工作平版印刷板前體)。因此，進行顯影足夠時間以僅主要除去可成像層的成像(曝光)區(qū)域，但是如本領(lǐng) 域技術(shù)人員將領(lǐng)會的那樣，不會長到除去大量可成像層的未成像(未曝光)區(qū)域。可成像 層的成像(曝光)區(qū)域描述為是在堿性顯影劑中"可溶解"或"可除去"的，因為相對于 可成像層的未成像(未曝光)區(qū)域更容易地除去、溶解、或分散于顯影劑中。因此，術(shù)語〃 可溶解〃還指〃可分散〃。通常使用常規(guī)沖洗條件將成像元件顯影?？梢允褂煤畨A性顯影劑和含有機溶劑 的顯影劑。在本發(fā)明方法的大多數(shù)實施方案中，使用更高PH的含水堿性顯影劑。含水堿性顯影劑通常具有至少7，通常至少11的pH值。有用的堿性含水顯影劑包 括3000 Developer、9000 Developer^GoldStar Developer、GoldStar Plus Developer、 GoldStar Premium Developer、GREENSTARDeveloper> ThermalPro Developer、PR0THERMDeveloper、MX1813 Developer、MX1710 Developer 禾口 T-203. 1 Developer (都可以從 Eastman Kodak Company, Norwalk, CT 獲得)、Fuji HDP7 Developer (FujiPhoto)禾口 Energy CTP Developer (Agfa)。這些組合物還通常包括表面活性劑、螯合劑(例如四乙酸乙二胺的 鹽)和堿性組分(例如無機偏硅酸鹽、有機偏硅酸鹽、氫氧化物和碳酸氫鹽)。含有機溶劑的顯影劑通常是一種或多種有機溶劑的單相溶液，所述有機溶劑可與 水混溶。有用的有機溶劑包括苯酚與氧化乙烯和氧化丙烯的反應(yīng)產(chǎn)物[例如乙二醇苯基醚 (苯氧基乙醇)]，芐醇，乙二醇和丙二醇與含6或更少碳原子的酸的酯，和乙二醇、二乙二醇 和丙二醇與含6或更少碳原子的烷基的醚，例如2-乙基乙醇和2- 丁氧基乙醇。有機溶劑 通常以約0. 5-約15%的量存在，基于總顯影劑重量。此類顯影劑的pH值可以是中性、堿性 或略酸性的。這些顯影劑的大多數(shù)是堿性PH值的，例如高達pH值11。代表性的含有機溶劑的顯影劑包括ND-I Developer、‘‘ 二合一〃 Developer、955 Developer 禾口 956 Developer (都可以從 Eastman KodakCompany，Norwalk，CT 獲得)。HDN-1 Developer (可以從 Fuji 獲得)和 EN232 Developer (可以從 Agfa 獲得)。通常，通過用含顯影劑的施涂器摩擦或擦拭它將顯影劑施加到成像元件上?；蛘?， 可以用顯影劑刷成像元件或可以通過用足夠除去曝光區(qū)域的力通過噴涂元件來施加顯影 劑。同樣，可以將成像元件浸于顯影劑中。在所有情況下，在平版印刷板中產(chǎn)生顯影的圖像， 該印刷板具有優(yōu)異的耐印刷間化學品性。顯影之后，可以按適合的方式用水沖洗成像元件并干燥。還可以用常規(guī)的樹膠溶 液(優(yōu)選阿拉伯膠)處理干燥的元件。也可以將已成像和顯影的元件在曝光后烘烤操作中烘烤，這可以進行以提高所獲 成像元件的運轉(zhuǎn)時間。烘烤可以在例如220°C -240°C下進行0. 5-10分鐘，或在120°C下進 行30分鐘?？梢酝ㄟ^將平版油墨和潤版溶液涂覆到成像元件的印刷面上進行印刷。通過可成 像層的未成像(未曝光或未去除)區(qū)域吸收油墨，并且通過成像和顯影處理而露出的基材 親水表面吸收潤版溶液。然后將該油墨轉(zhuǎn)移至適合的接收材料(例如布、紙、金屬、玻璃或 塑料)而在其上提供圖像的所需壓印。如果需要的話，可以使用中間"轉(zhuǎn)印布"輥來將油 墨從成像構(gòu)件轉(zhuǎn)移到接收材料。如果需要的話，在壓印之間使用常規(guī)的清潔工具和化學物 質(zhì)清潔成像構(gòu)件。提供以下實施例作為說明本發(fā)明實踐的手段，而是本發(fā)明不希望因此受到限制。實施例以下組分用于實施例的制備和使用。除非另有說明，這些組分可以從Aldrich Chemicai Company (Milwaukee, WI)獲得ABA代表4-氨基苯甲酸。BF-03代表從Chang Chun Petrochemical Co. Ltd. (Taiwan)獲得的聚(乙烯醇)， 98% 水解(Mw = 15，000)。BIS-TRIS代表2，2_雙(羥甲基)_2，2'，2〃 -次氨基三乙醇。結(jié)晶紫(C. I. 42555)是堿性紫3或六甲基副品紅(pararosanilinechloride) (入 max = 588nm)。DMABA代表4_ ( 二甲基氨基)苯甲酸。
DMSO代表二甲亞砜。GoldStar Premium Developer 是可以從 Eastman Kodak Company (Norwalk, CT) 獲得的含硅酸鈉的堿性顯影劑。IAA代表3-吲哚乙酸LB 9900 是從 Hexion Specialty Chemicals AG (Germany)獲得的甲階酚酸樹脂。MEK代表甲基乙基酮。MSA代表甲磺酸(99 % )。PASA代表4-氨基_2_羥基苯甲酸。Polyfox PF 652 是從 Omnova (Fairlawn，0H)獲得的表面活性劑。PM代表1-甲氧基-2-丙醇(亦為從Dow Chemical獲得的DowanolRPM或從 LyondellBissel Industries 獲得的 Arcosolve RPM)。S 0094 是從 FEW Chemicals (Germany)獲得的 IR 染料(λ max = 813nm)。蘇丹黑B是可以從Acros Organics (Geel，Belgium)獲得的中性重氮染料 (C. U. 26150)。TEA代表三乙醇胺。TETRAKIS 代表從 Acros Organics 獲得的 N，N, N' , N'-四(2-羥丙基)-亞乙
基二胺。THPE代表1，1，1-三(4-羥苯基)乙烷。使用以下程序制備聚合物A 將BF-03 (50g)添加到配備水冷凝器、滴液漏斗和溫度計并含DMSO (200g)的反應(yīng) 容器中。在連續(xù)攪拌下，在80°C下加熱該混合物30分鐘直到它變成透明溶液。然后將溫度 調(diào)節(jié)在60°C并添加在DMSO(50g)中的MSA(2. 7g)。經(jīng)15分鐘將丁醛(10. 4g)的溶液添加 到該反應(yīng)混合物中并將它保持在55-60°C下1小時。將在DMSO(IOOg)中的2-羥基苯甲醛 (水楊醛，39g)添加到該反應(yīng)混合物中。然后用茴香醚(350g)稀釋該反應(yīng)混合物并開啟真 空蒸餾。從反應(yīng)混合物蒸餾出茴香醚水共沸物(小于0. 水殘留在溶液中)。將反應(yīng)混 合物冷卻到室溫并用溶解在DMSO (30g)中的TEA(Sg)中和，然后與6kg水共混。用水洗滌 所得的沉淀聚合物，過濾，并在真空中在50°C下干燥24小時，獲得86g干聚合物A。發(fā)明實施例1-4和對比實施例1&2 按以下方式制備四個本發(fā)明的可成像元件和兩個在本發(fā)明之外的對比實施例元 件使用具有以下組分的以下輻射敏感性組合物制備發(fā)明實施例1-4可成像元件發(fā)明實施例1-4 聚合物A22. 18gLB9900(49%，在 PM 中)24. 49gS 0094 IR 染料1. OOOg結(jié)晶紫0. 800g蘇丹黑0. 800g顯影性增強化合物(表I)3. IOOg
28
PF 652 (10%，在 PM 中)PMMEK
1. 150g 273. Og 161. 5g將配方過濾并施用于以電化學方式打磨并陽極化的鋁基材上，該鋁基材已經(jīng)經(jīng) 歷磷酸鈉/氟化鈉的水溶液以常用方法的處理，并將所得的可成像層涂層在100°C下在 Glunz&Jensen" Unigraph Quartz"烘箱中干燥1分鐘?？沙上駥拥母筛采w度為大約1. 5g/ m2。該單個可成像層是可成像元件的最外層。在Kodak Lotem 400量子成像器上以40mj/cm2-200mj/cm2的能量范圍將所得的可 成像元件曝光并在Mercury V6沖洗機中使用GoldStar Premium Developer顯影。評價 所得的印刷板的敏感性(透明點在給定溫度和時間下通過顯影劑完全地除去曝光區(qū)域的 最低成像能量)、線性點(在2001pi篩網(wǎng)下50%的點再現(xiàn)為50% 士0.2%的點時的能量) 和未曝光(非成像)區(qū)域中的青色密度損失，它是測量未曝光區(qū)域中涂層重量損失的尺度。 結(jié)果示于下表I中。使用以下輻射敏感性組合物的組分類似地制備對比實施例1可成像元件聚合物A20. 8IgLB9900(49%，在 PM 中)23. 41gS 0094 IR 染料0. 960g結(jié)晶紫0. 770g蘇丹黑0. 770gBIS-TRIS2. 300gTETRAKIS1. 150gPF 652 (10%，在 PM 中)1. 150gPM273. OgMEK154. 5g對比實施例1的評價也示于下表I中。使用以下輻射敏感性組合物的組分類似地制備對比實施例2可成像元件聚合物A20. 8IgLB9900(49%，在 PM 中)23. 41gS 0094 IR 染料0. 960g結(jié)晶紫0. 770g蘇丹黑0. 770gTHPE3. 450gPF 652 (10%，在 PM 中)1. 150gPM273. OgMEK154. 5g對比實施例2的評價也示于下表I中。表 I
29 *23°C/20 秒 表I中的結(jié)果顯示將根據(jù)本發(fā)明的顯影性增強化合物(發(fā)明實施例1-4)添加到 含聚(乙烯醇縮醛)的輻射敏感性組合物和可成像層中提供當使用IR激光輻射成像時具 有高敏感性的印刷板前體(可成像元件)。此外，LP數(shù)據(jù)表明發(fā)明實施例1、2、3或4中任 一的印刷板可以在低能量下發(fā)揮所需功能并因此在成像設(shè)備中能夠?qū)崿F(xiàn)高通量。此外，當 在含水堿性顯影劑中將本發(fā)明的元件顯影時，觀察到未曝光區(qū)域中的低重量損失。與用對 比實施例1和2獲得的印刷板相比較，發(fā)明實施例1-4中制備的印刷板的優(yōu)異性能在更低 的顯影性增強化合物濃度下達到。
權(quán)利要求
一種正性工作可成像元件，其包括基材和在基材上的可成像層，該可成像層包含含水堿性顯影劑可溶性聚合物粘結(jié)劑、顯影性增強化合物和輻射吸收性化合物，其中所述顯影性增強化合物是具有至少一個氨基和至少一個羧酸基的有機化合物。
2.權(quán)利要求1的元件，其中所述至少一個氨基與芳基直接連接。
3.權(quán)利要求1的元件，包含紅外輻射吸收性化合物，從而賦予所述元件紅外輻射敏感性。
4.權(quán)利要求1的元件，其中所述顯影性增強化合物由以下結(jié)構(gòu)(DEC)表示 [H0-C( = 0) L-A-EN(R1) (R2)Jn(DEC) 其中R1和R2獨立地是氫或取代或未取代的烷基、取代或未取代的環(huán)烷基或取代或未取代的方基，A是鏈中含至少一個碳、氮、硫或氧原子的取代或未取代的有機連接基，其中A還包含 與-[N(R1) (R2) ] 直接連接的取代或未取代的亞芳基， m是1-4的整數(shù)， η是1-4的整數(shù)。
5.權(quán)利要求4的元件，其中A包含與-[N(R1)(R2) ]η直接連接的取代或未取代的亞苯 基，m和η獨立地是1或2。
6.權(quán)利要求1的元件，包含一種或多種氨基苯甲酸、二甲基氨基苯甲酸、氨基水楊酸、 吲哚乙酸或苯胺雙乙酸類、N-苯基甘氨酸或它們的任何組合作為顯影性增強化合物。
7.權(quán)利要求1的元件，其中所述顯影性增強化合物由以下結(jié)構(gòu)(DEC)表示 [H0-C( = 0) L-A-EN(R1) (R2)Jn(DEC) 其中R1和R2中至少一個是取代或未取代的芳基，另一個是氫或取代或未取代的烷基、取代 或未取代的環(huán)烷基或取代或未取代的芳基，A是鏈中含至少一個碳、氮、硫或氧原子的取代或未取代的有機連接基，其中A還包含 與-[N(R1) (R2)] 直接連接的取代或未取代的亞烷基， m是1-4的整數(shù)， η是1-4的整數(shù)。
8.權(quán)利要求1的元件，其中所述聚合物粘結(jié)劑以30-95重量％的范圍存在，所述顯影性 增強組合物以1-30重量％的范圍存在，所述輻射吸收性化合物是以1-25重量％的范圍存 在的紅外輻射吸收性化合物，均基于是所述可成像元件中的最外層的單個可成像層的總干重。
9.權(quán)利要求1的元件，其中所述聚合物粘結(jié)劑包含酚醛樹脂或聚(乙烯醇縮醛)，所述 聚(乙烯醇縮醛)包含基于總重復(fù)單元計至少40mol%且至多80mol%由以下結(jié)構(gòu)(PVAc) 表示的重復(fù)單元 其中R和R'獨立地是氫或取代或未取代的烷基、取代或未取代的環(huán)烷基或鹵基，R2是 取代或未取代的苯酚基、萘酚基或蒽酚基。
10.權(quán)利要求9的元件，其中所述聚合物粘結(jié)劑包含由以下結(jié)構(gòu)(I)表示的聚(乙烯醇 縮醛) 其中A代表由以下結(jié)構(gòu)(Ia)表示的重復(fù)單元 B代表由以下結(jié)構(gòu)(Ib)表示的重復(fù)單元 C代表由以下結(jié)構(gòu)(Ic)表示的重復(fù)單元 D代表由以下結(jié)構(gòu)(Id)表示的重復(fù)單元 E代表由以下結(jié)構(gòu)(Ie)表示的重復(fù)單元 m 是 5-40mol %，η 是 10_60mol %，ρ 是 0_20mol %，q 是 l_20mol %，r 是 5_49mol %，條 件是m+n+p是至少50mol %，R和R'獨立地是氫或取代或未取代的烷基、取代或未取代的環(huán)烷基或鹵基， R1是取代或未取代的烷基、取代或未取代的環(huán)烷基或除取代或未取代的苯酚基或萘酚 基以外的取代或未取代的芳基，R2是取代或未取代的苯酚基、取代或未取代的萘酚基或取代或未取代的蒽酚基， R3是取代或未取代的烯基或苯基，R4是-O-C ( = 0)-R5基，其中R5是取代或未取代的烷基或取代或未取代的芳基，和R6是羥基。
11. 一種正性工作、紅外輻射敏感性可成像元件，包括含鋁基材和在所述含鋁基材上 的最外單個可成像層，該可成像層包含含水堿性顯影劑可溶性聚合物粘結(jié)劑、顯影性增強 化合物和紅外輻射吸收性染料，其中所述顯影性增強化合物由以下結(jié)構(gòu)(DEC1)表示 [H0-C( = 0) Jm-B-A-[N (R1) (R2)Jn (DEC1) 其中R1和R2獨立地是氫或取代或未取代的烷基、取代或未取代的環(huán)烷基或取代或未取代的方基，A是具有與-[N(R1) (R2) ] 直接連接的取代或未取代的亞苯基的有機連接基， B是單鍵或鏈中含至少一個碳、氧、硫或氮原子的有機連接基， m是1或2的整數(shù)， η是1或2的整數(shù)，所述聚合物粘結(jié)劑包含酚醛樹脂或聚(乙烯醇縮醛)，所述聚(乙烯醇縮醛)包含基于 總重復(fù)單元計至少40mol%且至多80mol%由以下結(jié)構(gòu)(PVAc)表示的重復(fù)單元 其中R和R'獨立地是氫或取代或未取代的烷基、取代或未取代的環(huán)烷基或鹵基，R2是 取代或未取代的苯酚基、萘酚基或蒽酚基。
12.權(quán)利要求11的元件，其中所述聚(乙烯醇縮醛)由以下結(jié)構(gòu)(I)表示-(A)m-(B)n-(C)p-(D)q-(E)r-(I)其中A代表由以下結(jié)構(gòu)(Ia)表示的重復(fù)單元 (Ia),B代表由以下結(jié)構(gòu)(Ib)表示的重復(fù)單元 (Ib),C代表由以下結(jié)構(gòu)(Ic)表示的重復(fù)單元 (Ic),D代表由以下結(jié)構(gòu)(Id)表示的重復(fù)單元 (Id),E代表由以下結(jié)構(gòu)(Ie)表示的重復(fù)單元 m 是 5-40mol %，η 是 10_60mol %，ρ 是 0_20mol %，q 是 l_20mol %，r 是 5_49mol %，條 件是m+n+p是至少50mol %，R和R'獨立地是氫或取代或未取代的烷基、取代或未取代的環(huán)烷基或鹵基， R1是取代或未取代的烷基、取代或未取代的環(huán)烷基或除取代或未取代的苯酚基或萘酚 基以外的取代或未取代的芳基，R2是取代或未取代的苯酚基、取代或未取代的萘酚基或取代或未取代的蒽酚基， R3是取代或未取代的烯基或苯基，R4是-O-C ( = 0)-R5基，其中R5是取代或未取代的烷基或取代或未取代的芳基，和R6是羥基。
13.權(quán)利要求11的元件，包含4-氨基苯甲酸、4-(N，N'- 二甲基氨基)苯甲酸、苯胺 基雙乙酸、N-苯基甘氨酸、3-吲哚乙酸和4-氨基水楊酸中的一種或多種。
14. 一種圖像的制造方法，包括A)將權(quán)利要求1的正性工作可成像元件成像曝光，以提供曝光和未曝光區(qū)域，和B)將所述已成像曝光的元件顯影，以僅主要除去所述曝光的區(qū)域，而在所述成像和顯 影的元件中提供圖像。
15.權(quán)利要求14的方法，其中所述可成像元件含有紅外輻射吸收性染料并在 700-1200nm的波長下成像，所述可成像元件包含酚醛樹脂或聚(乙烯醇縮醛)作為所述可 成像層中的聚合物粘結(jié)劑。
16.權(quán)利要求14的方法，其中所述元件包含顯影性增強化合物，該顯影性增強化合物 具有與至少一個氨基直接連接的亞芳基。
17.權(quán)利要求14的方法，其中所述可成像元件包含由以下結(jié)構(gòu)(DEC)表示的顯影性增 強化合物[H0-C( = 0) L-A-EN(R1) (R2)Jn(DEC)其中R1和R2獨立地是氫或取代或未取代的烷基、取代或未取代的環(huán)烷基或取代或未取代的方基，A是鏈中含至少一個碳、氮、硫或氧原子的取代或未取代的有機連接基，其中A還包含 與-[N(R1) 0 2)] 直接連接的取代或未取代的亞苯基，m是1或2的整數(shù)，和η是1或2的整數(shù)。
18.權(quán)利要求14的方法，其中所述可成像元件包含一種或多種氨基苯甲酸、二甲基氨 基苯甲酸、氨基水楊酸、吲哚乙酸、N-苯基甘氨酸或苯胺雙乙酸類。
19.權(quán)利要求15的方法，用于提供具有親水性含鋁基材的平版印刷板。
全文摘要
正性工作可成像元件可以經(jīng)成像和顯影而制備成像元件例如平版印刷板。該可成像元件包括可成像層，該可成像層具有一種或多種堿可溶性聚合物粘結(jié)劑和由本文所述結(jié)構(gòu)(DEC)或(DEC1)表示的顯影性增強化合物，該顯影性增強化合物是在每個分子中具有至少一個氨基和至少一個羧酸基的有機化合物。
文檔編號B41M5/36GK101903177SQ200880121530
公開日2010年12月1日 申請日期2008年12月5日 優(yōu)先權(quán)日2007年12月19日
發(fā)明者M·勒瓦農(nóng), M·納卡什 申請人:伊斯曼柯達公司