專利名稱：制備平版印刷版的方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及制備平版印刷版(printing plate)的方法。
背景技術(shù)：
平版印刷機(jī)使用所謂的印刷母版例如安裝在印刷機(jī)的滾筒上的印刷版。母版 (master)在其表面攜帶平版印刷圖像，通過將油墨施用到所述圖像然后將母版中的油墨轉(zhuǎn) 移到接收材料上得到印刷物，接收材料通常為紙。在傳統(tǒng)的所謂“濕法”平版印刷中，向平版 印刷圖像提供油墨和潤(rùn)版水溶液(又稱為潤(rùn)版液)，圖像由親油性(或疏水性即油墨接受、 水排斥)區(qū)域和親水性(或疏油性，即水接受、油墨排斥)區(qū)域組成。在所謂的無水膠印印 刷中，平版印刷圖像由油墨接受和油墨阻粘劑(油墨排斥)區(qū)域組成，且在無水膠印印刷期 間，僅向母版提供油墨。通常通過稱為版前體的成像材料的按圖像暴露和處理，得到印刷母版。除熟知的 適合通過膜掩蔽物(film mask)與UV接觸暴露的光敏性的所謂預(yù)敏化板外，熱敏印刷版前 體也在1990年代晚期變得極為流行。此類熱敏材料提供目光穩(wěn)定性優(yōu)點(diǎn)，且尤其用于所謂 的計(jì)算機(jī)-版方法，其中將版前體直接暴露，即不使用膜掩蔽物。將材料暴露于熱或紅外 線，產(chǎn)生的熱量引發(fā)(物理_)化學(xué)過程，例如燒蝕、聚合、通過聚合物交聯(lián)致使不溶、熱誘導(dǎo) 的熱塑性聚合物膠乳增溶或粒子凝聚。最流行的熱版通過在涂層的暴露和非暴露區(qū)域之間的堿性顯影劑中熱誘導(dǎo)溶解 度差異形成圖像。該涂層通常含親油性粘合劑例如酚醛樹脂，其中通過按圖像暴露使顯影 劑的分解速度減慢(負(fù)性工作)或加快(正性工作(positive-working)).在處理期間， 溶解度差異導(dǎo)致涂層的非圖像(未印刷)區(qū)域的去除，從而顯示出親水性載體，而涂層的圖 像(印刷)區(qū)域仍保留在載體上。此類版的典型實(shí)例的描述見例如EP-A 625728、823327、 825927,864420,894622和901902。此類熱敏材料的負(fù)性工作實(shí)施方案通常需要在暴露和 顯影之間進(jìn)行例如EP-625，728中所述預(yù)熱步驟。按例如EP-A 770 494,770 495,770 496和770 497中所述，不需要預(yù)熱步驟的負(fù)
性工作版前體可含圖像記錄層，該層通過熱塑性聚合物粒子(膠乳)的熱誘導(dǎo)的粒子聚集 起作用。這些專利公開了制備平版印刷版的方法，該方法包括以下步驟(1)使成像元件按 圖像暴露，所述成像元件包含分散在親水性粘合劑中的疏水性熱塑性聚合物粒子和可將光 轉(zhuǎn)化為熱的化合物，(2)通過施用潤(rùn)版液和/或油墨使按圖像暴露的元件顯影。這些熱處理中的一些無需濕法處理而可制版，且為例如基于一層或多層涂層的燒 蝕。在暴露區(qū)域中，暴露出基底層的表面，該表面對(duì)油墨或潤(rùn)版液的親和力與未暴露涂層的 表面不同。無需濕法處理而可制版的其它熱處理為例如基于熱誘導(dǎo)的一層或多層涂層的親 水性/親油性轉(zhuǎn)化的處理，使在暴露區(qū)域形成與未暴露涂料的表面不同的對(duì)油墨或潤(rùn)版液 的親和力。在EP 1 439 058中公開了用于正性工作印刷版前體顯影的顯影液，該前體含熱 敏涂層，所述顯影液含有機(jī)脂族羧酸。
與基于溶解度差異的正性工作印刷版前體有關(guān)的主要問題是暴露區(qū)域與未暴露 區(qū)域的顯影動(dòng)力學(xué)之間的細(xì)微差異-即在未暴露區(qū)域也開始溶于顯影劑前，在顯影劑中的 暴露區(qū)域尚未完全溶解。這經(jīng)常導(dǎo)致清除不足，當(dāng)版靈敏度下降時(shí)，該問題可變得很明顯。 減少的清除通常導(dǎo)致印刷版的調(diào)色(在非圖像區(qū)域中油墨可接受性)和/或在毛氈上積 聚油墨。暴露與未暴露區(qū)域的顯影動(dòng)力學(xué)的微小差異還可導(dǎo)致圖像區(qū)域中的涂層流失，尤 其是小圖像細(xì)節(jié)或所謂的圖象中最亮處損失；減少的印刷機(jī)壽命和/或減少的耐化學(xué)腐蝕 性?；旧希诒┞逗臀幢┞秴^(qū)域之間顯影劑的溶解速度的極小差異導(dǎo)致實(shí)際上不存在處 理范圍。為增加該溶解速度差值，通常將所謂的圖像溶解(image dissolution)抑制劑加 入顯影液，該抑制劑可在顯影期間阻止圖像區(qū)域浸蝕。但是，此類化合物可以-可能與顯 影劑的其它組分和/或在處理期間溶于顯影劑的非圖像區(qū)域一起_在處理浴(processing bath)中不僅沉淀或鹽析(即有機(jī)淤泥)，使處理浴的維護(hù)更麻煩，而且還可能在顯影劑區(qū) 域的引出輥上沉積和/或在顯影劑區(qū)域中的加熱器元件上積聚。另外，這些沉積和/或沉 淀(或鹽析)物質(zhì)最終可粘附在印刷版上，從而消弱在其上形成的圖像；例如在非圖像區(qū)域 吸收油墨。除存在于顯影劑中的幾種組分容易形成沉淀和/或沉積物質(zhì)外，在處理步驟期 間，還經(jīng)常形成由例如顯影劑組分與鋁離子相互作用造成的無機(jī)淤泥。在本領(lǐng)域中已知，向 顯影液中加入鋰鹽可減少無機(jī)淤泥的產(chǎn)生。盡管鋰鹽降低無機(jī)淤泥的水平，但它們?cè)陲@影 劑中，尤其是在處理步驟期間同時(shí)顯著增加形成沉淀和/或沉積物質(zhì)的趨勢(shì)。由于在印刷 版顯影期間遇到上述多種較大問題，因此非常需要進(jìn)一步提高用于正性工作印刷版的顯影 劑質(zhì)量；尤其是基于偏硅酸鹽的顯影劑的質(zhì)量。發(fā)明概述本發(fā)明的目的是提供制備熱敏平版印刷版的方法，由此得到優(yōu)良印刷性質(zhì)和由此 在處理步驟期間使顯影液中的無機(jī)淤泥和沉淀和/或沉積物質(zhì)的形成減至最少或甚至不存在。該目的通過權(quán)利要求1即制備平版印刷版的方法實(shí)現(xiàn)，該方法包括以下步驟(1)提供熱敏印刷版前體，該前體在具有親水性表面或提供有親水性層的載體上 包含熱敏涂層；(2)用熱和/或光使所述前體按圖像暴露；(3)將暴露的前體用堿性顯影水溶液顯影，該顯影水溶液含至少0.05% (重量) 濃度的鋰離子和脂族羧酸鹽；其特征在于脂族羧酸與鋰離子的摩爾比為> 1。意料之外地發(fā)現(xiàn)，存在于顯影劑溶液中組分的溶解度和/或顯影劑溶液的穩(wěn)定性 顯著提高，該顯影劑溶液含至少0.05% (重量)鋰離子和組合應(yīng)用的脂族羧酸鹽-條件是 脂族羧酸與鋰離子的摩爾比> 1。存在于顯影劑溶液中組分提高的溶解度和/或改善的顯 影劑溶液的穩(wěn)定性表示顯影劑形成沉淀(即有機(jī)淤泥)和/或沉積物的趨勢(shì)下降。沉淀和 /或沉積物表示可通過過濾除去或不能濾除的任何不溶物質(zhì)。根據(jù)以下本發(fā)明優(yōu)選的實(shí)施方案的詳述，本發(fā)明的其它特征、元件、步驟、特性和 優(yōu)點(diǎn)會(huì)變得更加顯而易見。發(fā)明詳述下文中簡(jiǎn)稱為顯影液的用于本發(fā)明方法的堿性顯影水溶液含脂族羧酸鹽。優(yōu)選使用堿金屬或銨鹽。脂族羧酸鹽可具有4-26個(gè)碳原子，更優(yōu)選6-16個(gè)碳原子，最優(yōu)選8-12 個(gè)碳原子。羧酸的脂族部分可為直鏈或支鏈，可飽和或不飽和具有雙鍵。具體實(shí)例包括丁 酸、己酸、庚酸、辛酸、癸酸、月桂酸、肉豆寇酸、棕櫚酸、硬脂酸、花生酸、二十二酸等的鹽。顯 影液可含上述一種脂族羧酸鹽或其混合物。最優(yōu)選使用辛酸、癸酸或月桂酸。顯影液還含至少0. 05%重量濃度的鋰離子。優(yōu)選，鋰濃度為至少0. 重量，更優(yōu) 選至少0. 2%重量，甚至更優(yōu)選至少0. 3%重量，最優(yōu)選至少0. 4%重量。在任何情況下，脂 族羧酸與鋰離子的摩爾比> 1，更優(yōu)選摩爾比> 1?；蛘撸弭人崤c鋰離子的摩爾比優(yōu)選 (3，更優(yōu)選< 2?？砂从袡C(jī)鹽形式例如苯甲酸鋰、檸檬酸鋰或乙酸鋰，或無機(jī)鹽形式加入鋰離子。優(yōu) 選無機(jī)鹽。合適的無機(jī)鋰鹽包括氯化鋰、高氯酸鋰、溴化鋰、四硼酸鋰、磷酸鋰、硅酸鋰、硝酸 鋰、氫氧化鋰、碳酸鋰和硫酸鋰。顯影液可含此類鋰鹽中的一種或其混合物。優(yōu)選硝酸鋰。用于本發(fā)明的顯影液優(yōu)選含緩沖劑例如基于硅酸鹽的緩沖劑或磷酸鹽緩沖劑。顯 影劑中的緩沖劑的濃度范圍優(yōu)選為1-30%重量，更優(yōu)選3-20%重量，最優(yōu)選5-15%重量。 最優(yōu)選，顯影液為基于硅酸鹽的顯影劑?；诠杷猁}的顯影劑優(yōu)選具有二氧化硅(Si02)與 堿金屬氧化物(M20，其中M代表堿金屬或銨基)的摩爾比范圍為0. 5-3. 0，更優(yōu)選1. 0-2. 0。 當(dāng)摩爾比Si02/M20小于0. 5時(shí)，溶液的堿度變太高，因此可造成有害作用例如鋁板的腐蝕， 鋁板通常在平版印刷版前體中用作基體。當(dāng)摩爾比Si02/M20大于3. 0時(shí)，溶液的顯影性能 可能降低。最好，基于硅酸鹽的顯影劑具有至少為1的二氧化硅與堿金屬氧化物摩爾比， 因?yàn)樗鼈兇_?；w的氧化鋁層(如果存在)不受損害。優(yōu)選的堿金屬氧化物包括Na20和 K20，及其混合物。尤其優(yōu)選的基于硅酸鹽的顯影劑溶液為含偏硅酸鈉或偏硅酸鉀的顯影劑 溶液，即含其中二氧化硅與堿金屬氧化物的比例為1的硅酸鹽。顯影液優(yōu)選具有pH至少10，更優(yōu)選至少11，最優(yōu)選至少12。顯影液優(yōu)選含圖像溶解抑制劑。圖像溶解抑制劑通常為非離子型、陽(yáng)離子型或兩 性化合物。圖像溶解抑制劑合適的實(shí)例包括(1)具有以下結(jié)構(gòu)的聚乙二醇Ra0-(CH2-CHRb-0)n-Rc其中Ra代表氫；任選取代的的烷基，所述烷基具有1-30個(gè)碳原子，或更優(yōu)選2-20個(gè)碳 原子；-COR1 ；任選取代的芳基或任選取代的芳烷基；Rb代表氫、甲基、乙基和/或其混合物；Rc 代表氫、烷基、-C0Rd、_NRdRe、_CH2C00H 或-CH2C00lf ；且其中M+代表NH4+、Na+或K+，R\ Rd和Re獨(dú)立代表氫；任選取代的烷基，所述烷基 具有1-30個(gè)碳原子，或更優(yōu)選2-20個(gè)碳原子；任選取代的烯基；任選取代的芳基或任選取 代的芳烷基。烷基、芳基或芳烷基上的任選的取代基可選自具有最高達(dá)30個(gè)碳原子，或更優(yōu)選 2-20個(gè)碳原子的烷基；氫氧化物基團(tuán)或鹵素例如C1或Br。包括嵌段的嵌段共聚物，該嵌段包含具有不同化學(xué)結(jié)構(gòu)的聚乙二醇(同上述)，是 特別有興趣的圖像溶解抑制劑。此類嵌段共聚物可例如通過以下方法得到開環(huán)聚合-例 如羧基_、氨基_或羥基_封端聚合物的_乙氧基化；通過使具有官能端基(例如-0H或_NH2)的聚環(huán)氧烷與具有官能端基(例如-C00H)的其它聚合物或與例如馬來酸酐聚合物 偶合；或使單體與含特定端基的聚環(huán)氧烷(即聚環(huán)氧烷大引發(fā)劑(macroinitiator)、聚環(huán) 氧烷大單體或聚環(huán)氧烷大-轉(zhuǎn)移劑)反應(yīng)。合適的實(shí)例包括例如由BASF銷售的Pluronic PE級(jí)的聚(環(huán)氧乙烷)_嵌段-聚(環(huán)氧丙烷)_嵌段-聚(聚環(huán)氧乙烷)；例如由BASF銷 售的Pluronic RPE級(jí)的聚(環(huán)氧丙烷)_嵌段-聚環(huán)氧乙烷-嵌段-聚環(huán)氧丙烷；聚(己 內(nèi)酯)_嵌段-聚(環(huán)氧乙烷) ’聚(異丁烯酸甲酯-嵌段-聚(環(huán)氧乙烷) ’聚(羥基硬 脂酸)_嵌段-聚(環(huán)氧乙烷)_嵌段-聚(羥基硬脂酸)例如由Cognis銷售的Dehymuls LE ；基于異丁烯酸酯或丙烯酸酯封端聚環(huán)氧乙烷的接枝共聚物，或通過使胺封端的聚(環(huán) 氧烷)(例如由Huntsman銷售的Jeffamines)與馬來酸酐共聚物反應(yīng)制備的接枝共聚物。多官能醇例如丁二醇和三羥甲基丙烷的醇鹽、烷氧基化糖類或多糖的烷基酯例如 聚氧乙烯脫水山梨醇單月桂酸酯和聚氧乙烯脫水山梨醇單硬脂酸酯也是合適的圖像溶解 抑制劑。(2) 一個(gè)或多個(gè)亞烷基和/或一個(gè)或多個(gè)聚氧化亞烷基與烷撐二胺、亞烷基三 胺、亞烷基聚胺或烯化亞胺基的縮聚產(chǎn)物。優(yōu)選的亞烷基為C2-C4亞烷基，優(yōu)選的聚氧化 亞烷基包括聚乙二醇或聚丙二醇，優(yōu)選的烷撐二胺為乙二胺和丙二胺，優(yōu)選的亞烷基三 胺為二亞乙基三胺。聚乙氧基化二胺例如ETH0DU0MEEN T/13、ETH0DU0MEEN T/25(Lion Corporation的商品名)也有興趣。(3)陽(yáng)離子型表面活性劑，包括伯、仲、叔或季銨鹽；磷鐺鹽或硫鐺鹽。季銨鹽的實(shí) 例包括四烷基季銨鹽、改性三烷基季銨鹽、三烷基芐基季銨鹽、改性三烷基芐基季銨鹽、烷 基吡啶鐺鹽、改性烷基吡啶鐺鹽、烷基喹啉鐺鹽、咪唑啉鐺鹽和苯并咪唑啉鐺鹽。適合以上 陽(yáng)離子型化合物的反荷陰離子為例如氯離子、溴離子、碘離子、磺酸根、硫酸根、羧酸根、磷 酸根或膦酸根陰離子。合適的具體實(shí)例包括三乙基芐基氯化銨、四甲基氯化銨、三乙基芐基 溴化銨、三辛基甲基氯化銨、三丁基芐基氯化銨、三甲基芐基氯化銨、N-十二烷基氯化吡啶 鐺、氫氧化四正丁銨、氫氧化三甲基芐銨、溴化四甲銨、溴化四乙銨、溴化四正丁銨。在EP 1 182 512中W031]-W043]公開的表面活性劑也是陽(yáng)離子型圖像溶解抑制劑的合適實(shí)例， 其通過引用結(jié)合到本文中。(4)由以下結(jié)構(gòu)代表的聚胺 其中n代表等于2、3或4的整數(shù)；且Ru代表任選取代的烷基，所述烷基具有最高達(dá)30個(gè)碳原子，或更優(yōu)選2-25個(gè) 碳原子。其合適的實(shí)例包括十二烷基二亞丙基三胺、椰油基二亞丙基三胺和牛油二亞丙基 三胺。(5)乙氧基化胺和/或乙氧基化銨鹽例如RfRgN- (CH2-CHRh-0) r-R'[RfRgRJN- (CH2_CHRh-0) T
Rf-N- [ (CH2-CHRh-0)廠圮]2{RfRg-N- [ (CH2-CHRh-0)廠爐]J其中Rf、Rg和妒獨(dú)立代表氫；具有最高達(dá)30個(gè)碳原子，或更優(yōu)選2-20個(gè)碳原子的 烷基；-C0Rs ；任選取代的芳基或芳烷基；Rh代表氫、甲基或乙基和/或其混合物；圮代表氫；具有1-30個(gè)C原子，或更優(yōu)選2-20個(gè)碳原子的任選取代的烷 基；-C0Rk ；-CH2C00H 或-CH2C001f，M+ =任選取代的銨離子、Na+ 或 K+ ；且其中Rk代表氫；具有1-30個(gè)C原子，或更優(yōu)選2-20個(gè)碳原子的任選取代的烷 基；任選取代的芳基或任選取代的芳烷基；Rs代表具有1-30個(gè)C原子，或更優(yōu)選2-20個(gè)碳原子的任選取代的烷基；任選取代 的芳基或任選取代的芳烷基；r代表2-30之間的整數(shù)；X—代表氯離子、溴離子、碘離子、磺酸根、硫酸根、羧酸根、磷酸根或膦酸根陰離子。(6)由下式代表的兩性表面活性劑R'-NH- (CH2)mC00H 其中 R1和Rm獨(dú)立代表任選取代的烷基，所述烷基具有2-30個(gè)碳原子，或更優(yōu)選4-20個(gè) 碳原子；m、o和p獨(dú)立代表1-20之間的整數(shù)。其合適的實(shí)例包括甜菜堿衍生物例如月桂基甜菜堿，和甘氨酸衍生物例如N-烷 基甘氨酸酯。(7)由以下結(jié)構(gòu)代表的蓖麻油乙氧基化物 其中ni-n3獨(dú)立代表0-40的整數(shù)，n4-n9獨(dú)立代表2_40的整數(shù)。(8)含聚合物的表面活性劑，所述聚合物包含硅氧烷單元-例如-Si (R，R’)-0-基， 其中R和R’為任選取代的烷基或芳基_和/或全氟代烷基單元_例如_ (CF2)-單元；或含聚環(huán)氧烷嵌段例如_CnH2n-0-的嵌段-或接枝共聚物-其中n優(yōu)選為2-5的整數(shù)-和聚硅 氧烷的嵌段和/或全氟代烷基單元。合適的圖像溶解抑制劑的具體實(shí)例包括 整數(shù)。
烷基和 的縮聚產(chǎn)物。顯影劑溶液可含其它表面活性劑，以改善其顯影性質(zhì)。合適的陰離子型表面活性 劑的實(shí)例包括硫酸高級(jí)醇(C8 C22)酯的鹽例如硫酸月桂醇酯的鈉鹽、硫酸辛醇酯的鈉 鹽、硫酸月桂醇酯的銨鹽、Te印ol B_81(商標(biāo)，可由Shell Chemicals Co. , Ltd.得到)和 硫酸烷基酯鈉；磷酸脂肪醇酯的鹽例如磷酸鯨蠟醇酯的鈉鹽；烷基芳基磺酸鹽例如十二烷 基苯磺酸鈉鹽、異丙基萘磺酸鈉鹽、二萘二磺酸鈉鹽和間硝基苯磺酸鈉鹽；烷基酰胺的磺酸 鹽例如C17H33C0N(CH3) CH2CH2S03Na和二元脂肪酸酯的磺酸鹽例如磺基琥珀酸二辛酯鈉和磺 基琥珀酸二己酯鈉。這些表面活性劑可單獨(dú)或聯(lián)合使用。尤其優(yōu)選磺酸鹽。這些表面活性 劑可按通常不大于5 %重量，優(yōu)選不大于3 %重量的量使用。顯影液可任選含有本領(lǐng)域中已知的其它組分其它緩沖物質(zhì)例如基于碳酸鹽的 緩沖劑；螯合劑例如EDTA或在美國(guó)專利4，469，776中公開的NTA ；絡(luò)合物例如在美國(guó)專利 4，606，995中公開的[Co(NH3)6]C13 ；無機(jī)鹽例如氯化鈉或鉀鹽或溴化鉀；無機(jī)堿試劑例如 氫氧化鈉或鋰；仲或叔磷酸鹽；碳酸鈉、鉀或銨鹽；碳酸氫鈉或鉀鹽；硼酸或檸檬酸鈉、鉀或 銨鹽；有機(jī)堿試劑例如烷基胺、二烷基胺或三烷基胺、乙醇胺、乙二胺或吡啶；消泡劑；有機(jī) 溶劑-例如羧酸酯即乙酸烷基酯、烷基酮、乙二醇烷基醚、乙二醇芳基醚、苯甲醇、二甲苯或 二氯甲烷-少量即優(yōu)選小于10% (重量)，更優(yōu)選小于5% (重量)；非還原糖例如海藻糖 型寡糖即蔗糖或海藻糖；苷即烷基苷或苯酚苷；糖醇即D，L-山梨醇或木糖醇或具有羧基的 糖化合物即葡糖酸；D-葡糖二酸或pentaric acid ；緩蝕劑；染料和/或水溶助長(zhǎng)劑。所有
其中獨(dú)立在以上各結(jié)構(gòu)中，ni-n5獨(dú)立代表2-40之間的整數(shù)，n6獨(dú)立代表1_40的
在優(yōu)選的實(shí)施方案中，顯影液含圖像溶解抑制劑，所述抑制劑選自一個(gè)或多個(gè)亞 或一個(gè)或多個(gè)聚氧化亞烷基與烷撐二胺、亞烷基三胺、亞烷基聚胺或烯化亞這些組分可單獨(dú)或聯(lián)合使用。在顯影步驟期間，將熱敏平版印刷版前體浸入上述顯影液中，任選聯(lián)合使用機(jī)械 搓揉例如通過旋轉(zhuǎn)刷搓揉。因此，如果存在，將涂層的非圖像區(qū)域且優(yōu)選任何水溶層用顯影 液除去。優(yōu)選，在20-40°C下，按本領(lǐng)域中的慣例，在自動(dòng)化處理單元中進(jìn)行顯影步驟。為確保用顯影劑溶液在長(zhǎng)時(shí)間中穩(wěn)定處理，控制顯影劑中成分濃度尤其重要。因 此，通常將下文中又稱為補(bǔ)充劑(r印lenisher)的補(bǔ)充液加入顯影液?？蓪⒑煌煞趾? 或不同量成分的大于一種補(bǔ)充液加入顯影液?？蛇m當(dāng)使用堿金屬含量為0.6-2. Omol/1的 堿金屬硅酸鹽溶液。這些溶液可具有與顯影劑相同的二氧化硅/堿金屬氧化物比(但通常， 它較低)，且同樣任選含有其它添加劑。最好，脂族羧酸鹽和/或鋰離子存在于一種或多種 補(bǔ)充劑中；優(yōu)選它們按在顯影液中提供脂族羧酸鹽與鋰離子的摩爾比等于1或大于1的濃 度存在。補(bǔ)充液的pH值優(yōu)選為至少10，更優(yōu)選至少11，最優(yōu)選至少12。補(bǔ)充液可連續(xù)加入，或以少量加入到顯影液中，以使在恒定水平和/或在足夠高 的確保穩(wěn)定顯影的水平上調(diào)節(jié)顯影液中活性成分的濃度。所需再生物質(zhì)的量必須與所用的 顯影設(shè)備、每日版通量、圖像區(qū)域的構(gòu)成等相適應(yīng)，通常為l_150ml/米2版前體?？衫绨?EP 556 690中所述，通過測(cè)量顯影劑的電導(dǎo)率調(diào)節(jié)補(bǔ)充劑的加入?？墒褂孟蝻@影劑中補(bǔ)充 補(bǔ)充劑的其它方法。其實(shí)例包括以下方法在GB 2 046 931中公開的方法，該方法按時(shí)間 和處理版的量的函數(shù)，間歇或連續(xù)補(bǔ)充補(bǔ)充劑；在美國(guó)專利4 537 496中公開的方法，該方 法包括安裝用于檢測(cè)在顯影區(qū)中間部分溶出的光敏層程度的傳感器和按對(duì)應(yīng)于檢測(cè)到的 溶出光敏層程度的比例補(bǔ)充補(bǔ)充劑；在GB2 208 249專利中公開的方法，該方法包括通過 計(jì)算機(jī)測(cè)定顯影劑的阻抗值并處理檢測(cè)的阻抗值，以進(jìn)行補(bǔ)充劑的補(bǔ)充。用于本發(fā)明方法的平版印刷版前體包含載體上的熱敏和/或光敏涂層?？赏ㄟ^直 接暴露于熱例如通過熱位差或通過涂層中的一種或多種化合物的光吸收觸發(fā)此類印刷版 前體的成像機(jī)理，涂層中的所述化合物可將光，更優(yōu)選紅外線轉(zhuǎn)化為熱量。用于本發(fā)明方法的熱敏印刷版前體包含熱敏和/或光敏涂層，為正性工作模式。 涂層(進(jìn)一步又稱為“第一層”)包含水不溶性但堿溶性樹脂，當(dāng)暴露于熱和/或光時(shí)，該 樹脂顯示增加的溶解度。水不溶性但堿溶性樹脂優(yōu)選為親油性樹脂。親油性樹脂優(yōu)選為可 溶于顯影劑水溶液的聚合物，更優(yōu)選PH7. 5-14的堿性顯影水溶液。優(yōu)選的聚合物為酚醛樹 脂，例如線型酚醛清漆、可溶性酚醛樹脂、聚乙烯基苯酚和羧基取代的聚合物。這些聚合物 的典型實(shí)例的描述見DE 4007428,DE 4027301和DE 4445820。相對(duì)于存在于涂層的所有組 分的總重量，存在于涂層的酚醛樹脂的量?jī)?yōu)選為至少50%重量，優(yōu)選至少80% (重量)。親 油性樹脂優(yōu)選為酚醛樹脂，其中用有機(jī)取代基化學(xué)修飾苯基或羥基。被有機(jī)取代基化學(xué)修 飾的酚醛樹脂可顯示增加的抗印刷化學(xué)物例如潤(rùn)版液或版處理液體例如版清潔劑的化學(xué) 抗性。此類化學(xué)改性酚醛樹脂的實(shí)例的描述見EP 934 822 ；EP 1 072 432 ；US 5，641，608 ； EP 982123 ；W0 99/01795 ；EP 2 102 446、EP 2 102 444 ；EP 2 102 445 ；EP 2 102 443 ；EP 3 102 522 ;W004/035310 ;W004/035686 ;W004/035645 ;W004/035687 或EP 1 506 858。優(yōu) 選EP 2 102 446中描述的改性樹脂，尤其是其中所述酚醛樹脂的苯基被具有結(jié)構(gòu)-N = N-Q 的基團(tuán)取代的那些樹脂，其中-N = N-基團(tuán)與苯基的碳原子共價(jià)結(jié)合且其中Q為芳基。可在酸催化劑的存在下，通過使至少一個(gè)選自芳烴的成員與至少一種醛或酮縮聚，制備酚醛清漆樹脂或甲階酚醛樹脂，所述芳烴為例如苯酚、鄰_甲酚、對(duì)_甲酚、間_甲 酚、2，5-二甲基酚、3，5-二甲基酚、間苯二酚、焦酚、雙酚、雙酚A、三苯酚、鄰-乙基酚、 對(duì)_乙基酚、丙酚、正丁酚、叔_ 丁酚、1-萘酚和2-萘酚；所述醛或酮選自醛例如甲醛、乙二 醛、乙醛、丙醛、苯甲醛和糠醛；和酮例如丙酮、甲乙酮和甲基異丁酮?？煞謩e用低聚甲醛和 三聚乙醛代替甲醛和乙醛。用普適標(biāo)定和聚苯乙烯標(biāo)準(zhǔn)品，通過凝膠滲透色譜法測(cè)量的酚醛清漆樹脂的重均 分子量?jī)?yōu)選為 500-150，000g/mol，更優(yōu)選 1，500-50, 000g/mol。聚(乙烯基苯酚)樹脂也可為含一個(gè)或多個(gè)羥基_苯基單體的聚合物，例如羥基 苯乙烯或(甲基)丙烯酸羥基苯酯。此類羥基苯乙烯的實(shí)例為鄰-羥基苯乙烯、間-羥基 苯乙烯、對(duì)-羥基苯乙烯、2-(鄰-羥基苯基)丙烯、2-(間-羥基苯基)丙烯和2-(對(duì)-羥 基苯基)丙烯。這種羥基苯乙烯可在其芳環(huán)上具有取代基例如氯、溴、碘、氟或烷基。這 種(甲基)丙烯酸羥基苯酯的實(shí)例為異丁烯酸2-羥基-苯酯。通?？稍谧杂苫l(fā)劑或陽(yáng)離子型聚合引發(fā)劑的存在下，通過使含一個(gè)或多個(gè)羥 基-苯基的單體聚合，制備聚(乙烯基苯酚)樹脂。也可使這些含羥基-苯基的單體中的 一個(gè)或多個(gè)與其它單體化合物例如丙烯酸酯單體、異丁烯酸酯單體、丙烯酰胺單體、甲基丙 烯酰胺單體、乙烯基單體、芳族乙烯基單體或二烯單體共聚，制備聚(乙烯基苯酚)樹脂。用普適標(biāo)定和聚苯乙烯標(biāo)準(zhǔn)品，通過凝膠滲透色譜法測(cè)量的聚(乙烯基苯酚)樹 脂的重均分子量?jī)?yōu)選為1，000-200, 000g/mol，更優(yōu)選1，500-50, 000g/mol。酚醛樹脂的實(shí)例為-ALN0V0L SPN452，40% 重量的酚醛清漆樹脂/Dowanol PM，可由 CLARIANT GmbH 購(gòu)買得到。-ALN0V0L SPN400，44%重量的酚醛清漆樹脂/Dowanol PMA，可由 CLARIANT GmbH 購(gòu)買得到。-ALN0V0L HPmOO，可由CLARIANT GmbH購(gòu)買得到的酚醛清漆樹脂。-DURITE PD443，可由BORDEN CHEM. INC購(gòu)買得到的酚醛清漆樹脂。-DURITE SD423A，可由BORDEN CHEM. INC購(gòu)買得到的酚醛清漆樹脂。-DURITE SD126A，可由BORDEN CHEM. INC購(gòu)買得到的酚醛清漆樹脂。-BAKELITE 6866LB02，可由BAKELITE AG購(gòu)買得到的酚醛清漆樹脂。-BAKELITE 6866LB03，可由BAKELITE AG購(gòu)買得到的酚醛清漆樹脂。-KR 400/8，可由K0Y0 CHEMICALS INC購(gòu)買得到的酚醛清漆樹脂。-HRJ 1085，可由 SCHNECTADY INTERNATIONAL INC 購(gòu)買得到的酚醛清漆樹脂。-HRJ 2606，可由 SCHNECTADY INTERNATIONAL INC 購(gòu)買得到的線性酚醛樹脂。-LYNCUR CMM，可由SIBER HEGNER購(gòu)買得到的4-羥基-苯乙烯和異丁烯酸甲酯 的共聚物。涂層可含第二層，該層位于親水性載體與第一層之間，含水不溶性但堿溶性樹脂。 水不溶性但堿溶性樹脂優(yōu)選為含至少一個(gè)單體單元的聚合物或共聚物(即(共)聚合物)， 這種單元含至少一個(gè)磺酰胺基團(tuán)。在下文中，“含至少一個(gè)含至少一個(gè)磺酰胺基團(tuán)的單體單 元的(共)聚合物”又稱為“磺酰胺(共)聚合物”或“磺酰胺粘合劑”?；酋０坊鶊F(tuán)優(yōu)選 由-NR-S02-、-S02-NR-或-S02-NRR’代表，其中R和R’各自獨(dú)立代表氫或有機(jī)取代基。
12
磺酰胺(共)聚合物優(yōu)選為高分子量化合物，這種化合物通過含至少一個(gè)磺酰胺 基團(tuán)的單體單元的均聚或通過此類單體單元與其它可聚合單體單元的共聚制備。含至少一個(gè)磺酰胺基團(tuán)的單體單元的實(shí)例包括還含至少一個(gè)可聚合不飽和鍵的 單體單元例如丙烯?；⑾┍蛞蚁┭趸?。合適的實(shí)例在美國(guó)專利5，141，838、EP 1 545 878 ；EP 909，657、EP 0 894 622 禾口 EP 1，120，246 中公開。與含至少一個(gè)磺酰胺基團(tuán)的單體單元共聚的單體單元的實(shí)例包括在EP 1,262，318、EP 1,275，498、EP 909，657、EP 1,120，246、EP 0 894 622 和 EP 1，400，351 中
公開的單體單元。合適的磺酰胺(共)聚合物和/或它們的制備方法的實(shí)例在EP-A 933682、EP-A 982 123, EP-A 1 072 432, WO 99/63407 和 EP 1，400，351 中公開。非常優(yōu)選的磺酰胺(共)聚合物的實(shí)例為含由以下通式(IV)代表的結(jié)構(gòu)單元的
均聚物或共聚物
(IV)其中R9代表氫或具有最多達(dá)12個(gè)碳原子的烴基；優(yōu)選R9代表氫或甲基；X1代表單鍵或二價(jià)連接基團(tuán)。該二價(jià)連接基團(tuán)可具有最高達(dá)20個(gè)碳原子，且可 含至少一個(gè)選自C、H、N、0和S的原子。優(yōu)選的二價(jià)連接基團(tuán)為具有1-18個(gè)碳原子的直鏈 亞烷基；具有3-18個(gè)碳原子的直鏈、支鏈或環(huán)狀基團(tuán)；具有2-18個(gè)碳原子的亞炔基和具有 6-20 個(gè)原子的亞芳基；-0-、-S-、-CO-、-C0-0-、-0-C0-、-CS-、-NRnR。-、-C0-NRn-、-NRn-C0_、-NRn-C0-0-、-0-C0-NRn-、-NRn-C0-NR。_、-NRn-CS-NR。-、亞苯基、亞萘基、亞蒽基、雜環(huán)基或其組 合，其中舊和R°各自獨(dú)立代表氫或任選取代的烷基、烯基、炔基、環(huán)烷基、雜環(huán)基、芳基、雜 芳基、芳烷基或雜芳烷基。在后者基團(tuán)上的優(yōu)選的取代基為具有最高達(dá)12個(gè)碳原子的烷氧 基、鹵素或羥基。優(yōu)選，X1為亞甲基、亞乙基、亞丙基、亞丁基、亞異丙基、亞環(huán)己基、亞苯基、 亞甲苯基或亞聯(lián)苯基；Y4為由-NRp-S02-或-SOfNR11-代表的二價(jià)磺酰胺基，其中Rp和Rq各自獨(dú)立代表氫、 任選取代的烷基、烷酰基、烯基、炔基、環(huán)烷基、雜環(huán)基、芳基、雜芳基、芳烷基或雜芳烷基，或 式-C( = N)-NH-R10基團(tuán)，其中R"1代表氫或任選取代的烷基或芳基；Z1代表端基，所述端基優(yōu)選由氫或任選取代的具有1-18個(gè)碳原子的直鏈、支鏈或 環(huán)狀亞烷基或烷基代表，所述亞烷基或烷基為例如甲基、乙基、丙基、異丙基、丁基、異丁基、 叔“丁基、仲_ 丁基、戊基、己基、環(huán)戊基、環(huán)己基、辛基、任選取代的具有6-20個(gè)碳原子的亞 芳基或芳基；任選取代的亞雜芳基或雜芳基；具有2-18個(gè)碳原子的直鏈、支鏈或環(huán)狀亞烯基或烯基；具有2-18個(gè)碳原子的直鏈、支鏈或環(huán)狀亞炔基或炔基，或烷氧基。任選存在于Z1代表的基團(tuán)上的優(yōu)選的取代基的實(shí)例為具有最高達(dá)12個(gè)碳原子的 烷基、具有最高達(dá)12個(gè)碳原子的烷氧基、鹵素原子或羥基。由通式(IV)代表的結(jié)構(gòu)單元優(yōu)選具有以下基團(tuán)X1代表亞烷基、亞環(huán)己基、亞苯基或亞甲苯基、-o-、-s-、-co-、-co-o-、-o-co-、-cs -、-NRnR。-、-C0-NRn-、-NRn-C0-、-NRn-C0-0-、-0-C0-NRn-、-NRn-C0-NR。-、-NRn-CS-NR。-或其組 合，其中舊和R°各自獨(dú)立代表氫或任選取代的烷基、烯基、炔基、環(huán)烷基、雜環(huán)基、芳基、雜 芳基、芳烷基或雜芳烷基。在后者基團(tuán)上的優(yōu)選的取代基為具有最高達(dá)12個(gè)碳原子的烷氧 基、鹵素或羥基；Y4為由-NRp-S02-、-S02-NRq-代表的二價(jià)磺酰胺基，其中Rp和Rq各自獨(dú)立代表氫、 任選取代的烷基、烷?；?、烯基、炔基、環(huán)烷基、雜環(huán)基、芳基、雜芳基、芳烷基或雜芳烷基；Z1為由氫、烷基代表的端基，所述烷基為例如甲基、乙基、丙基、異丙基、丁基、異丁 基、叔_ 丁基、仲_ 丁基、戊基、己基、環(huán)戊基、環(huán)己基或辛基、芐基、任選取代的芳基或雜芳 基、萘基、蒽基、吡啶基、烯丙基或乙烯基。特別優(yōu)選的磺酰胺(共)聚合物的實(shí)例為含N-(對(duì)-氨基磺?；交?(甲基)丙 烯酰胺、N-(間-氨基磺?；交?(甲基)丙烯酰胺和/或N-(鄰-氨基磺?；交?(甲 基)丙烯酰胺的聚合物。尤其優(yōu)選的磺酰胺(共)聚合物為含N-(對(duì)-氨基磺?；交? 異丁烯酰胺的聚合物，其中磺酰胺基含任選取代的直鏈、支鏈、環(huán)狀基團(tuán)或雜環(huán)基烷基、任 選取代的芳基或任選取代的雜芳基。可通過任選的溶解度調(diào)節(jié)組分調(diào)整涂層的溶解行為。更尤其是，可使用顯影促進(jìn) 劑和顯影抑制劑。在其中涂層含大于一層的實(shí)施方案中，可將這些成分加入涂層的第一層、 第二層和/或任選的其它層。顯影促進(jìn)劑為起溶解促進(jìn)劑作用的化合物，因?yàn)樗鼈兛稍黾油繉拥娜芙馑俣?。?如，可使用環(huán)酸酐、酚類或有機(jī)酸，以提高水溶液的顯影能力。環(huán)酸酐的實(shí)例包括在美國(guó)專 利號(hào)4，115，128中描述的鄰苯二甲酸酐、四氫化鄰苯二甲酸酐、六氫鄰苯二甲酸酐、3，6_橋 氧-4-四氫-鄰苯二甲酸酐、四氯鄰苯二甲酸酐、馬來酸酐、氯代馬來酸酐、a -苯基馬來酸 酐、琥珀酸酐和1，2，4，5-苯四酸酐。酚類的實(shí)例包括雙酚A、對(duì)-硝基苯酚、對(duì)-乙氧基苯 酚、2，4，4'-三羥基二苯酮、2，3，4_三羥基-二苯酮、4-羥基二苯酮、4，4'，4”-三羥基-三 苯基甲烷和4，4'，3”，4”_四羥基_3，5，3'，5'-四甲基三苯基-甲烷等。有機(jī)酸的實(shí)例 包括在例如JP-A 60-88，942和2_96，755號(hào)中描述的磺酸、亞磺酸、烷基硫酸、膦酸、磷酸酯 和羧酸。這些有機(jī)酸的具體實(shí)例包括對(duì)-甲苯磺酸、十二烷基苯磺酸、對(duì)-甲苯亞磺酸、乙 基硫酸、苯基膦酸、苯基次膦酸、磷酸苯酯、磷酸二苯酯、苯甲酸、間苯二酸、己二酸、對(duì)-甲 苯甲酸、3，4_ 二甲氧基苯甲酸、3，4，5-三甲氧基苯甲酸、3，4，5-三甲氧基肉桂酸、鄰苯二甲 酸、對(duì)苯二甲酸、4-環(huán)己烯-1，2- 二甲酸、芥酸、月桂酸、正-i^一酸和抗壞血酸。相對(duì)于整 個(gè)涂層，涂層中所含的環(huán)酸酐、苯酚或有機(jī)酸量的范圍優(yōu)選為0. 05-20%重量。聚合物類顯 影促進(jìn)劑例如含至少70mol%間-甲酚作為重復(fù)單體單元的酚醛樹脂也為合適的顯影促進(jìn) 劑。在優(yōu)選的實(shí)施方案中，涂層還含顯影劑抗性手段，又稱為顯影抑制劑，即在處理期 間可延緩未暴露區(qū)域溶解的一種或多種成分。優(yōu)選通過加熱使溶解抑制作用反轉(zhuǎn)，以基本上不延緩暴露區(qū)域溶解，從而可得到暴露區(qū)域與未暴露區(qū)域之間的大溶解差。據(jù)信，在例如 EP-A 823 327和W097/39894中描述的化合物因相互作用例如通過氫橋形成與涂層中的一 種或多種堿溶性樹脂作用，起溶解抑制劑的作用。該類型抑制劑通常含至少一種氫橋形成 基團(tuán)例如氮原子、鐺基、羰基(-co-)、亞硫?；?-S0-)或磺?；?_S02_)和大疏水性部分例 如一個(gè)或多個(gè)芳環(huán)。某些下述化合物例如紅外染料例如花青染料和對(duì)比染料例如季銨化三 芳基甲烷染料也可用作溶解抑制劑。其它合適的抑制劑改善顯影劑抗性，因?yàn)樗鼈冄泳弶A性顯影劑水溶液滲透到涂 層。此類化合物可存在于第一層和/或如果存在，如EP-A 950 518中所述存在于第二層， 和 / 或在例如 EP-A 864 420、EP-A 950 517、W099/21725 和 W0 01/45958 中所述存在于所 述層頂部上的顯影阻擋層。在后一個(gè)實(shí)施方案中，可通過暴露于熱或紅外線增加顯影劑中 阻擋層的溶解度或顯影劑的阻擋層滲透性。延緩堿性顯影劑水溶液滲透到涂層中的抑制劑優(yōu)選的實(shí)例包括以下抑制劑(a)不溶于或顯影劑不可滲透的聚合物材料，例如疏水性或防水聚合物或共聚物 例如丙烯酸類聚合物、聚苯乙烯、苯乙烯_丙烯酸共聚物、聚酯、聚酰胺、聚脲類、聚氨酯、硝 基纖維素類和環(huán)氧樹脂；或含硅氧烷(聚硅氧烷)和/或全氟代烷基單元的聚合物。(b)雙官能化合物例如含極性基團(tuán)和疏水性基團(tuán)例如長(zhǎng)鏈烴基、聚_或低聚硅 氧烷和/或全氟代烴基的表面活性劑。典型的實(shí)例為Megafac F-177，可由Dainippon Ink&Chemicals, Inc得到的全氟化表面活性劑。此類化合物的合適量為10_100mg/m2，更優(yōu) 選 50-90mg/m2。(c)雙官能嵌段-共聚物，所述共聚物含極性嵌段例如聚-或低聚(環(huán)氧烷)和 疏水性嵌段例如長(zhǎng)鏈烴基、聚_或低聚硅氧烷和/或全氟代烴基。此類化合物的合適量為 0. 5-25mg/m2,優(yōu)選0. 5_15mg/m2，最優(yōu)選0. 5-lOmg/m2。合適的共聚物含約15-25個(gè)硅氧烷 單元和50-70個(gè)環(huán)氧烷基。優(yōu)選的實(shí)例包括含苯基甲基硅氧烷和/或二甲基硅氧烷和環(huán)氧 乙烷和/或環(huán)氧丙烷的共聚物，例如Tego Glide 410、Tego Wet 265、Tego Protect 5001 或SilikophenP50/X，均可由Tego Chemie, Essen, Germany購(gòu)買得到。所述聚-或低聚硅 氧烷可為線型、環(huán)狀或復(fù)雜的交聯(lián)聚合物或共聚物。術(shù)語(yǔ)聚硅氧烷化合物將包括含大于一 個(gè)硅氧烷基_Si(R，R’ )-0-的任何化合物，其中R和R’為任選取代的烷基或芳基。優(yōu)選的 硅氧烷為苯基烷基硅氧烷和二烷基硅氧烷。聚合物或低聚物中的硅氧烷基數(shù)目為至少2，優(yōu) 選至少10，更優(yōu)選至少20。它可小于100，優(yōu)選小于60。據(jù)信，在涂覆和干燥期間，因其雙官能結(jié)構(gòu)，上述(b)和(c)型抑制劑傾向于自身 置于涂層和空氣之間的界面，并因此形成分離的頂部層，即使當(dāng)作為第一層和/或任選的 第二層的涂覆溶液的成分施用時(shí)。同時(shí)，表面活性劑也作為改善涂層質(zhì)量的鋪展劑使用。因 此形成的分離頂部層似乎可作為延緩顯影劑滲透到涂層中的上述阻擋層使用。或者，可以單獨(dú)溶液施用(a)-(c)型的抑制劑，涂布在涂層的第一層、任選的第二 層和/或其它層頂部上。在該實(shí)施方案中，可最好在單獨(dú)溶液中使用不能溶解存在于其它 層的成分的溶劑，以便在可作為上述顯影阻擋層使用的涂層頂部得到高度濃縮的防水或疏 水相。另外，第一層或任選的第二層和/或其它層可含聚合物，該聚合物還提高版的運(yùn) 行時(shí)間長(zhǎng)度和/或耐化學(xué)性。其實(shí)例為含酰亞氨基(-C0-NR-C0-)側(cè)基的聚合物，其中R為氫、任選取代的烷基或任選取代的芳基，例如在EP-A894 622、EP-A 901 902、EP_A 933 682 和TO 99/63407中描述的聚合物。熱敏印刷版前體的涂層優(yōu)選還含紅外線吸收染料或顏料，在其中涂層含大于一層 的實(shí)施方案中，所述紅外線吸收染料或顏料可存在于第一層和/或第二層和/或任選的其 它層。優(yōu)選，紅外線吸收化合物存在于第一層。優(yōu)選的IR吸收染料為花青染料、部花青染料、靛苯胺染料、氧雜箐染料(oxonol)、 pyrilium染料和方酸鐺(squarilium)染料。合適的IR染料的實(shí)例的描述見例如EP-A 823327、978376、1029667、1053868、1093934 ；W097/39894 和 00/29214。優(yōu)選的化合物為以
下花青染料 相對(duì)于整個(gè)涂層，涂層中的IR-染料的濃度優(yōu)選為0.25-15.0%重量，更優(yōu)選 0. 5-10. 0%重量，最優(yōu)選1. 0-7. 5%重量。涂層還可含一種或多種著色劑例如染料或顏料，它們向涂層提供可見顏色且保 留在圖像區(qū)域中的涂層，該圖像區(qū)域在處理步驟期間未被除去。由此形成可見圖像，且使 在顯影的印刷版上平版印刷圖像的檢查成為可能。此類染料通常稱為對(duì)比染料或指示染 料。優(yōu)選，染料具有藍(lán)色并在600nm-750nm波長(zhǎng)范圍中具有最大吸收。此類對(duì)比染料的 典型的實(shí)例為氨基取代的三_或二芳基甲烷染料，例如結(jié)晶紫、甲基紫、維多利亞純藍(lán)、 flexoblau630、basonylblau 640、槐黃和孔雀綠。在EP 400 706中深入論述的染料也為合 適的對(duì)比染料。在例如W02006/005688中描述的與特定添加劑混合僅略微使涂層著色但暴 露后使涂層深度著色的染料也可作為著色劑使用。為保護(hù)熱敏和/或光敏印刷版前體的涂層表面，尤其防止機(jī)械破壞，也可任選施 用保護(hù)層。保護(hù)層通常含至少一種水溶性粘合劑，例如聚乙烯醇、聚乙烯吡咯烷酮、部分水 解的聚乙酸乙烯酯、明膠、碳水化合物或羥乙基纖維素，可按任何已知方法例如由水溶液或 分散體制備，如果需要，所述水溶液或分散體可含少量-即按用于保護(hù)層的涂層溶劑的總 重量計(jì)小于5%重量的有機(jī)溶劑。保護(hù)層的厚度可適宜為任何量，最好最高達(dá)5.0 ym，優(yōu)選 0. 1-3. Oum,尤其優(yōu)選 0. 15-1. 0u mo任選，涂層還可含其它成分例如其它表面活性劑、二氧化硅或二氧化鈦粒子，或聚 合物粒子例如消光劑和隔離物?？捎萌魏瓮坎挤椒▽煞N或多種涂覆溶液施用到載體的親水性表面?？赏ㄟ^將 各層序貫涂覆/干燥，或通過立即同時(shí)涂布幾種涂覆溶液，來施用多層涂層。在干燥步驟中，將揮發(fā)性溶劑從涂層中除去直至涂層自支持和干燥至接觸。但在干燥步驟中，無需(甚 至可能是不可能的)除去所有溶劑。殘留溶劑含量的確可認(rèn)為是另一個(gè)組合物變量，通過 該變量可優(yōu)化組合物。通常通過將熱空氣吹向涂層上，進(jìn)行干燥，通常在至少70°C，適合 80-150°C，尤其是90-140°C的溫度下。也可使用紅外燈。干燥時(shí)間通常可為15-600秒。按W099/21715、EP-A 1074386、EP-A 1074889、W000/29214 和 W0/04030923、 W0/04030924.W0/04030925中所述，在涂覆和干燥之間或在干燥步驟后，熱處理然后冷卻可 提供其它益處。平版印刷版前體的載體可為片狀材料例如板或可為圓柱形元件例如套管，該套管 可環(huán)繞印刷機(jī)的印刷滾筒滑動(dòng)。優(yōu)選，載體為金屬載體例如鋁或不銹鋼。載體也可為含鋁 箔和塑料層例如聚酯膜的層壓結(jié)構(gòu)。尤其優(yōu)選的平版印刷載體為電化學(xué)制粒(grained)和陽(yáng)極化鋁載體。鋁載體的厚 度通常為約0. 1-0. 6mm。但是，該厚度可根據(jù)使用的印刷版的大小和/或版定位器(setter) 的大小適當(dāng)改變，在該版定位器上印刷版前體被暴露。鋁優(yōu)選通過電化學(xué)制粒來制粒，通過 陽(yáng)極化技術(shù)用磷酸或硫酸/磷酸混合物來陽(yáng)極化。將鋁制粒和陽(yáng)極化的方法在本領(lǐng)域中極 為熟知。通過將鋁載體制粒(或粗糙化)，改善印刷圖像的粘合力和非圖像區(qū)域的潤(rùn)濕 特性。通過改變制粒步驟中電介質(zhì)的種類和/或濃度和施加電壓，可得到不同類型的顆 粒。通常按算術(shù)平均中心線粗糙度Ra(IS0 4287/1或DIN4762)表示表面粗糙度，且可在 0. 05-1. 5 u m之間變化。本發(fā)明鋁基體的Ra值優(yōu)選小于0. 45 u m,更優(yōu)選小于0. 40 y m，最 優(yōu)選小于0. 30umo Ra值的下限優(yōu)選為約0. lym。有關(guān)制粒和陽(yáng)極化鋁載體表面的優(yōu)選的 Ra值的更多細(xì)節(jié)的描述見EP 1 356 926。通過將鋁載體陽(yáng)極化，改善其抗磨性和親水性。通過陽(yáng)極化步驟測(cè)定A1203層的微 觀結(jié)構(gòu)和厚度，陽(yáng)極重量(g/m2，在鋁表面上形成的A1203)在l-8g/m2之間變化。陽(yáng)極重量 優(yōu)選彡3g/m2，更優(yōu)選彡3. 5g/m2，最優(yōu)選彡4. Og/m2。可使制粒并陽(yáng)極化的鋁載體經(jīng)過所謂的后陽(yáng)極處理，以改善其表面的親水性質(zhì)。 例如，可通過在升高的溫度例如95°C下用硅酸鈉溶液處理其表面，使鋁載體硅酸鹽化。或 者，可施用磷酸鹽處理，該處理涉及用可還含無機(jī)氟化物的磷酸鹽溶液處理氧化鋁表面。另 外，可用檸檬酸或檸檬酸鹽溶液沖洗氧化鋁表面。該處理可在室溫或在略微升高的溫度約 30-50°C下進(jìn)行。進(jìn)一步有關(guān)的處理涉及將氧化鋁表面用碳酸氫鹽溶液沖洗。還進(jìn)一步，氧 化鋁表面可用以下物質(zhì)處理聚乙烯基膦酸、聚乙烯基甲基膦酸、聚乙烯醇的磷酸酯、聚乙 烯基磺酸、聚乙烯基苯磺酸、聚乙烯醇的硫酸酯，和通過與磺化脂族醛反應(yīng)形成的聚乙烯醇 的縮醛。另一種有用的后陽(yáng)極處理可用聚丙烯酸或含至少30mol%丙烯酸單體單元的聚合 物的溶液進(jìn)行，例如可由Ciba Speciality Chemicals購(gòu)買得到的聚丙烯酸GLASCOL E15。載體也可為柔軟性載體，其可提供有下文中稱為‘基底層’的親水層。柔軟性載體 為例如紙、塑料膜或鋁。優(yōu)選的塑料膜的實(shí)例為聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯膜、聚萘二甲酸乙二 醇酯膜、乙酸纖維素膜、聚苯乙烯膜、聚碳酸酯膜等。塑料膜載體可不透明或透明。基底層優(yōu)選為交聯(lián)親水層，該親水層由與硬化劑例如甲醛、乙二醛、聚異氰酸酯或 水解的原硅酸四烷基酯交聯(lián)的親水性粘合劑得到。尤其優(yōu)選后者。親水性基底層的厚度可
17在0. 2-25 u m的范圍變化，優(yōu)選1-10 u m。優(yōu)選的基底層的實(shí)施方案的更多細(xì)節(jié)可在例如 EP-A 1 025 992 中找到。可例如通過熱位差，直接用熱使熱敏版前體按圖像暴露，或通過紅外線，優(yōu)選近紅 外線間接暴露。優(yōu)選通過上述IR線吸收化合物將紅外線轉(zhuǎn)化為熱量。優(yōu)選，熱敏平版印刷 版前體對(duì)可見光不敏感，即暴露于可見光對(duì)顯影劑中涂層的溶解速度不引起實(shí)質(zhì)影響。最 優(yōu)選，涂層對(duì)環(huán)境目光不敏感?？赏ㄟ^例如LED或激光使印刷版前體暴露于紅外線。最優(yōu)選，用于暴露的光為發(fā) 射近紅外線的具有在約750-約1500nm，更優(yōu)選750-1 lOOnm范圍內(nèi)波長(zhǎng)的激光，例如由半導(dǎo) 體激光二極管發(fā)射的Nd:YAG或Nd:YLF激光。需要的激光功率取決于版前體的靈敏度、由 斑直徑?jīng)Q定的激光束的像素停留時(shí)間(在最大強(qiáng)度1/e2時(shí)，現(xiàn)代版-定位器的典型值為 5-25 y m)、暴露裝置的掃描速度和分辯率(即可尋址像素的數(shù)目/線性距離單位，通常按點(diǎn) 數(shù)/英寸或dpi表示；典型值1000-4000dpi)。通常使用兩種激光暴露裝置內(nèi)轉(zhuǎn)筒(ITD)和外轉(zhuǎn)筒(XTD)版定位器。用于熱版 的ITD版-定位器的典型特征在于最高達(dá)500m/sec的極高掃描速度，可能需要幾瓦特的激 光功率。具有約200mW-約1W典型激光功率的用于熱版的XTD版-定位器在較低掃描速度 例如0. 1-lOm/sec下操作。安裝一個(gè)或多個(gè)在750-850nm波長(zhǎng)范圍內(nèi)發(fā)射的激光二極管的 XTD版定位器為尤其優(yōu)選的本發(fā)明方法實(shí)施方案。已知的版-定位器可用作離機(jī)(off-press)暴露裝置，該暴露裝置提供減少的印 刷停車時(shí)間的益處。XTD版-定位器構(gòu)造也可用于機(jī)上(on-press)暴露，在多色印刷機(jī)中 提供快速對(duì)準(zhǔn)的益處。機(jī)上暴露裝置的更多技術(shù)細(xì)節(jié)的描述見例如美國(guó)專利5，174，205和 美國(guó)專利5，163，368。暴露后，使前體按上述顯影。顯影步驟之后可進(jìn)行沖洗步驟、涂膠步驟、干燥步驟和/或后-烘干步驟。如果需 要，可用本領(lǐng)域中已知的合適調(diào)節(jié)劑或防腐劑將版前體進(jìn)一步后處理。涂膠步驟涉及將平版印刷版用膠溶液進(jìn)行后處理。膠溶液通常為含水液體，該液 體含一種或多種表面保護(hù)化合物，此類化合物可防止印刷版的平版印刷圖像被污染或毀 損。此類化合物的合適實(shí)例為成膜親水性聚合物或表面活性劑。為增加印刷版成品的抗性從而延長(zhǎng)運(yùn)行長(zhǎng)度，可將層簡(jiǎn)單加熱至升高的溫度(“烘 烤”)。可在烘烤前將版干燥，或在烘烤處理自身期間將版干燥。在烘烤步驟期間，可在高于 熱敏涂層的玻璃化轉(zhuǎn)變溫度例如100°c -230°C溫度下，將版加熱40秒-5分鐘?？稍诔Ｒ?guī) 干烤箱中，或通過用在紅外或紫外光譜范圍發(fā)射的燈輻射來進(jìn)行烘烤。作為該烘烤步驟的 結(jié)果，印刷版對(duì)版清潔劑、調(diào)節(jié)劑和UV-固化印刷油墨的抗性增加。其中在DE 1，447，963 和GB 1，154，749中有這種熱后處理的描述。熱敏印刷版可用于常規(guī)的所謂濕膠印印刷，其中向版供應(yīng)油墨和潤(rùn)版含水液體。 另一種合適的印刷方法使用所謂的單-流體油墨而不用潤(rùn)版液體。合適的單-流體油墨的 描述見美國(guó)專利4，045，232 ；美國(guó)專利4，981，517和美國(guó)專利6，140，392。在最優(yōu)選的實(shí) 施方案中，單-流體油墨含又稱為疏水或親油相的油墨相，和W0 00/32705中所述的多元醇 相。用于本發(fā)明方法的顯影液也可用于處理耐熱性物體(thermo-resists)，例如在美國(guó)專利2003/0003406A1中所述的PCB(印刷電路板)應(yīng)用上的耐熱性物體。 實(shí)施例1 平版印刷載體的制備通過在70°C下將箔浸入在含34g/l氫氧化鈉的水溶液中保持6秒鐘，然后用軟化 水沖洗3. 6秒鐘，將0.30mm厚鋁箔脫脂。然后在37°C下，在100A/dm2電流密度下，將箔在 含15g/l HCl、15g/l S042—離子和5g/l Al3+的水溶液中用交流電電化學(xué)制粒8秒。然后通 過用含145g/l硫酸的水溶液在80°C下浸蝕5秒再用軟化水沖洗4秒將鋁箔除污漬。然后 在57°C下，在25A/dm2電流密度下，使箔在含145g/l硫酸的水溶液中經(jīng)歷陽(yáng)極氧化10秒， 然后用軟化水洗滌7秒，再用含2. 2g/l聚乙烯基膦酸的溶液在70°C下后處理4秒，用軟化 水沖洗3. 5秒，在120°C下干燥7秒。由此得到的載體的特征在于表面粗糙度Ra為0. 35-0. 40 y m (用干涉計(jì)NT1100測(cè) 量)和陽(yáng)極重量為3. Og/m2。2.印刷版前體PPP-01的制備(1)第一層通過先將表1中定義的第一涂層涂布在上述平版印刷載體上制備PPP-01，濕涂層 的厚度為20iim。表1 第一涂覆溶液的組成 (1)可由Dow Chemical Company購(gòu)買得到的丙二醇-單甲醚(1-甲氧基_2_丙 醇)；(2)粘合劑-01 制備見⑵；(3)結(jié)晶紫為可由Ciba-Geigy GmbH.購(gòu)買得到的季銨化三芳基甲烷染料；(4) 10 % 重量 Tegoglide 410 的 Dowanol PM 溶液；Tegoglide410 為可由 Tego ChemieService Gmb H.購(gòu)買得到的聚硅氧烷和聚(環(huán)氧烷)的共聚物?？偢稍锿繉又亓窟_(dá)0. 671g/m2。第一涂層成分的干重如表2所示。表2 第一涂層中干燥涂層重量
19 *成分同表1中定義。(2)粘合劑-01的制備在250ml反應(yīng)器中，加入162mmol單體-01、21. 3g(132mmol)芐基丙烯酰胺、 0. 43g(6mmol)丙烯酸和103g Y - 丁內(nèi)酯，將混合物加熱至140°C，同時(shí)按200rpm速度攪拌。 向反應(yīng)器中充入恒定氮?dú)饬鳌Ｋ薪M分溶解后，將反應(yīng)器冷卻至100°C。依次加入可由AKZ0 N0BEL 購(gòu)買得到的 0. 35mlTrigonox DC50、可由 AKZO N0BEL 購(gòu)買得到的 1. 39ml Trigonox 141的3. 43ml 丁內(nèi)酯溶液。使聚合反應(yīng)開始，將反應(yīng)器加熱至140°C，保持2小時(shí)，同時(shí)定 量加入1.75ml Trigonox DC50。將混合物按400rpm速度攪拌，讓聚合反應(yīng)在140°C下繼續(xù) 進(jìn)行2小時(shí)。將反應(yīng)混合物冷卻至120°C，將攪拌器速度升至500rpm。加入85. 7ml 1-甲 氧基-2-丙醇，讓反應(yīng)混合物冷卻至室溫。用t-NMR-波譜和尺寸排阻色譜法分析粘合劑-01，在3x混合_B柱上用二甲基乙 酰胺/0.21% LiCl作為洗脫液，并相對(duì)于聚苯乙烯標(biāo)準(zhǔn)品。 將反應(yīng)混合物冷卻至40°C，將得到的25%重量聚合物溶液收集到桶(drum)中。單體-01: (3)第二層在第一層上，將具有表3中定義的組成的第二涂覆溶液(涂覆溶液2)涂布在前層 上，濕涂層厚度為28 u m,得到印刷版前體PPP-01。表3 第二涂覆溶液02的組成
(l)Alnovol SPN402 為可由 Clariant GmbH 購(gòu)買得到的 44. 0 % 重量間，對(duì)-甲 酚-甲酚-二甲苯酚甲醛酚醛清漆樹脂的Dowanol PM溶液；(2) TMCA為3，4，5-三甲氧基肉桂酸 (3) Adagio為可由FEW CHEMICALS購(gòu)買得到的IR吸收花青染料；其化學(xué)結(jié)構(gòu)在上 述IR-01給出；(4)結(jié)晶紫為得自Ciba-Geigy的季銨化三芳基甲烷染料 (5)10%重量丁6區(qū)0區(qū)1士(16 410 的 Dowanol PM 溶液。Tegoglide410 為可由 TEG0 CHEMIE SERVICE GmbH購(gòu)買得到的聚二甲基硅氧烷/聚(環(huán)氧烷)表面活性劑。第二涂層的總干燥涂層重量達(dá)0.75g/m2，在表4中給出成分干重。表4 第二涂層的干燥涂層重量 *成分同表3中定義。3.顯影劑 DEV-1 至 DEV-21制備幾種顯影劑溶液，其組成在表5中給出。用50%氫氧化鈉溶液將電導(dǎo)率調(diào)至 75. 8-76. 2mS/cm的值。這些顯影劑的電導(dǎo)率與pH值之間具有明確關(guān)系。 (3)Surfynol 104H ；商標(biāo)為 Keyser&Mackay (4) Synperonic T304為連接至乙二胺(EDA)的聚環(huán)氧乙烷(PE0)和聚環(huán)氧丙烷 (PP0)的嵌段共聚物，EDA/PP0/PE0的比例為1/15/14、平均分子量為1600g/mol，商標(biāo)為 ICI ；(5)葡糖酸鈉 (6)可由Akzo Nobel購(gòu)買得到的辛酸(98% )；(7)可由 Chemosyntha N. V.購(gòu)買得到的 LiN03 (98% )。4.淤泥評(píng)價(jià)將1026cm2暴露的印刷版前體PPP-1 (在Agfa Graphics的AvalonLF商標(biāo)上暴 露196mJ/cm2@152rpm)切割成24條，每條尺寸為4. 5cm x 9. 5cm，通過將它們?cè)诤?0ml 顯影液的小型控溫箱中在25°C下浸入30秒，依次處理這些條。將該箱置于往復(fù)式搖動(dòng)器 (Gesellschaft furLabortechnik GmbH的商標(biāo)GFL3015)。通過目視檢查已完全溶解的涂 層。從顯影液取出后，將殘留在各條上的顯影劑用Kaiser FototechnikGmbH&Co. KG的商標(biāo) 為“Filmabstreifer 4070”裝置擠壓出。1 026cm2暴露的PPP-1顯影后，仍然可得到約18ml 顯影液。將該顯影液在室溫下保存3天后，將其離心(在Heraeus的商標(biāo)Heraeus Labofuge 400離心機(jī)中按3500rpm離心)。在120°C下干燥4小時(shí)后，測(cè)量殘余物的重量，這導(dǎo)致淤泥 水平的重量測(cè)定。5.沌點(diǎn)評(píng)價(jià)濁點(diǎn)溫度的定義為液體開始變濁的溫度。當(dāng)溫度上升時(shí)，新制或耗盡的顯影劑通 常變渾濁。該行為可在顯影劑中引起一些沉淀和/或沉積物，和/或可引發(fā)淤泥形成，尤其 因處理器中加熱元件附近區(qū)域溫度上升所導(dǎo)致時(shí)。耗盡的顯影劑的濁點(diǎn)必須高于臨界溫 度，以防止沉淀和/或沉積物的形成。來自前述評(píng)價(jià)的上清液的濁點(diǎn)如下評(píng)價(jià)將幾毫米耗盡的顯影劑(得自前述淤泥評(píng)價(jià)試驗(yàn))放入NMR管(長(zhǎng)度178_，外 直徑5mm，壁厚度0. 38mm)，將該管的一半放入25°C水浴。通過目視用光照評(píng)價(jià)濁度，同時(shí) 按5°C的步幅，使水溫從25°C升至90°C。當(dāng)溶液變渾濁和/或如果出現(xiàn)一些沉淀時(shí)，終止試 驗(yàn)。
6.結(jié)果在表6中，給出耗盡的顯影劑的濁點(diǎn)和顯影劑溶液DEV-1至DEV-21各自的淤泥水平。需要至少80°C的(耗盡的)顯影劑的濁點(diǎn)，以消除沉淀和/或沉積物和/或淤泥 形成的風(fēng)險(xiǎn)。另外，在日常實(shí)踐中，80°C濁點(diǎn)提供了足夠的工作范圍。表6:濁點(diǎn)和淤泥水平結(jié)果
顯影劑濁點(diǎn)*淤泥水平Li+濃度辛酸鹽濃度
mgg/1g/1
DEV-1組合物401氺氺 nd04. 3
DEV-2組合物601氺氺 nd013
DEV-3組合物60-6568. 68015
DEV-4組合物70-7577. 32020
DEV-5組合物70-7564. 68025
DEV-6組合物75-8073. 63030
DEV-7組合物50-5514. 270.5(0.072M)15(0. 104M)
DEV-8組合物70-7510. 700.5(0.072M)20(0. 139M)
DEV-9組合物70-7517. 570.5(0.072M)25(0. 173M)
DEV-10組合物70-7523. 320.5(0.072M)30 (0. 208M)
DEV-11組合物45-509. 121.0(0.144M)15(0. 104M)
DEV-12組合物7011. 271.0(0.144M)20(0. 139M)
DEV-13Inv.85-908. 741.0(0.144M)25(0. 173M)
DEV-14Inv.> 9013. 231.0(0.144M)30 (0. 208M)
DEV-15組合物40-458. 981.5(0.216M)15(0. 104M)
DEV-16組合物55-606. 961.5(0.216M)20(0. 139M)
DEV-17組合物70-758. 031.5(0.216M)25(0. 173M)
DEV-18Inv.> 908. 181.5(0.216M)32(0. 222M)
DEV-19組合物40-451氺氺 nd0. 66(0.095M)10 (0. 069M)
DEV-20組合物50-551氺氺 nd0. 66(0.095M)13(0. 090M)
DEV-2llnv.> 901氺氺 nd0. 66(0.095M)25(0. 173M)
*耗盡的顯影劑的濁點(diǎn)；
d:未測(cè)定。
可由表6得出以下結(jié)論
-在顯影劑中加入鋰離子可有效限制淤泥的產(chǎn)生(參見由DEV-1至DEV_
DEV-7至DEV-10得到的結(jié)果)；-加入鋰離子導(dǎo)致耗盡的顯影劑濁點(diǎn)的不利降低(參見由DEV-1至DEV-6和DEV-7 至DEV-10得到的結(jié)果)；-向顯影劑中加入辛酸使?jié)狳c(diǎn)升高(參見由DEV-1至DEV-6得到的結(jié)果)；-當(dāng)辛酸的摩爾濃度與鋰離子的摩爾濃度之比等于或大于1時(shí)，預(yù)料之外地發(fā)現(xiàn) 鋰離子超出0.5g/l(0.05% (重量)或0.072M)，耗盡的顯影劑的濁點(diǎn)出乎預(yù)料地高(參見由 DEV-11、DEV-12、DEV-15 至 DEV-17、DEV-19 和 DEV-20 得到的結(jié)果-對(duì)比結(jié)果-與 DEV-13、 DEV-14、DEV-18和DEV-21-本發(fā)明結(jié)果對(duì)比)。
權(quán)利要求
一種制備正性工作平版印刷版的方法，所述方法包括以下步驟(1)提供熱敏印刷版前體，所述前體在具有親水性表面或提供有親水層的載體上包含熱敏涂層；(2)用熱和/或光使所述前體按圖像暴露；(3)將暴露的前體用堿性顯影水溶液顯影，所述堿性顯影水溶液包含脂族羧酸鹽和濃度為至少0.05％重量的鋰離子，其特征在于所述脂族羧酸與鋰離子的摩爾比≥1。
2.權(quán)利要求1的方法，其中所述鋰離子的濃度為至少0，1%重量。
3.權(quán)利要求1或2中任一項(xiàng)的方法，其中所述脂族羧酸與鋰離子的摩爾比>1。
4.前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)的方法，其中所述脂族羧酸含有8-12個(gè)碳原子。
5.前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)的方法，其中所述顯影液包含圖像溶解抑制劑。
6.權(quán)利要求5的方法，其中所述圖像溶解抑制劑選自a.具有以下結(jié)構(gòu)的聚乙二醇 RaO- (CH2-CHRb-O)n-Rc其中Ra代表氫、任選取代的具有1-30個(gè)碳原子的烷基、-CORt或任選取代的芳基或芳烷基；Rb代表氫、甲基、乙基和/或其混合物；Rc 代表氫、烷基、-CORd, -NRdRe、-CH2COOH 或-CH2COOlf ；且其中M+代表Ml/、Na+或K+，Rd、Re和Rt獨(dú)立代表氫、任選取代的具有1_30個(gè)碳原子 的烷基、任選取代的芳基或芳烷基；b.一個(gè)或多個(gè)亞烷基和/或一個(gè)或多個(gè)聚氧化亞烷基與烷撐二胺、亞烷基三胺、亞烷 基聚胺或烯化亞胺基的縮聚產(chǎn)物；c.陽(yáng)離子型表面活性劑，所述表面活性劑包括伯、仲、叔或季銨鹽、磷鐺鹽或硫鐺鹽。
7.權(quán)利要求6的方法，其中所述圖像溶解抑制劑為一個(gè)或多個(gè)亞烷基和/或一個(gè)或多 個(gè)聚氧化亞烷基與烷撐二胺、亞烷基三胺、亞烷基聚胺或烯化亞胺基的縮聚產(chǎn)物。
8.前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)的方法，其中所述熱敏涂層包含至少兩層-第一層，該第一層包含水不溶性但堿溶性樹脂，當(dāng)暴露于熱和/或光時(shí)，所述樹脂顯 示增加的溶解度；-第二層，該第二層位于所述載體和第一層之間，包含水不溶性但堿溶性樹脂。
9.權(quán)利要求8的印刷版前體，其中所述第二層包含磺酰胺粘合劑。
10.權(quán)利要求9的印刷版前體，其中所述磺酰胺粘合劑由下式代表 其中R9代表氫 或具有最多達(dá)12個(gè)碳原子的烴基； X1代表單鍵或二價(jià)連接基團(tuán)； Y4為二價(jià)磺酰胺基； 且Z1代表端基。
全文摘要
本發(fā)明公開了制備正性工作平版印刷版的方法，該方法包括以下步驟(1)提供熱敏印刷版前體，該前體在具有親水性表面或提供有親水層的載體上包含熱敏涂層；(2)用熱和/或光使所述前體按圖像暴露；(3)將暴露的前體用堿性顯影水溶液顯影，所述顯影液含濃度至少為0.05％重量的鋰離子和脂族羧酸鹽；其特征在于脂族羧酸與鋰離子的摩爾比≥1。
文檔編號(hào)B41C1/10GK101855085SQ200880116573
公開日2010年10月6日 申請(qǐng)日期2008年11月4日 優(yōu)先權(quán)日2007年11月13日
發(fā)明者K·德默斯, S·林吉爾 申請(qǐng)人:愛克發(fā)印藝公司