一種新型的鍍鋁瓦楞紙板的制作方法
【專利摘要】一種新型的鍍鋁瓦楞紙板，它涉及家具材料【技術(shù)領(lǐng)域】。第二鍍鋁膜(8)的通過磁控濺射設(shè)置有瓦楞紙里紙(7)下表面，瓦楞紙里紙(7)的上端設(shè)置有第二瓦楞紙愣紙(6)，第二瓦楞紙愣紙(6)的上端設(shè)置有瓦楞紙中紙(5)，瓦楞紙中紙(5)的上端設(shè)置有第一瓦楞紙愣紙(4)，第一瓦楞紙愣紙(4)的上端設(shè)置有瓦楞紙板面紙(3)，瓦楞紙板面紙(3)的上端磁控濺射沉積有有第一鍍鋁膜(2)，第一鍍鋁膜(2)的上端通過磁控濺射有沉積防護(hù)層SiOx(1)。它解決鍍鋁瓦楞紙板制備的技術(shù)工藝的問題，通過研究直流磁控濺射鍍鋁技術(shù)，采用直流反應(yīng)磁控濺射制備紙基鍍鋁膜，用來制備鍍鋁瓦楞紙板并作為原材料制備鍍鋁瓦楞紙板家具。
【專利說明】一種新型的鍍鋁瓦楞紙板

【技術(shù)領(lǐng)域】
:
[0001]本實(shí)用新型涉及家具材料【技術(shù)領(lǐng)域】，具體涉及一種新型的鍍鋁瓦楞紙板。

【背景技術(shù)】
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[0002]目前，我國(guó)對(duì)磁控濺射鍍膜技術(shù)進(jìn)行積極探索，尤其在包裝材料中應(yīng)用較為深入。但對(duì)于鍍鋁膜技術(shù)方法和瓦楞紙板生產(chǎn)技術(shù)相結(jié)合，以及鍍鋁瓦楞紙板制備的工藝方法無先例可循；對(duì)鍍鋁瓦楞紙板作為新型家具材料，進(jìn)行概念家具設(shè)計(jì)與研發(fā)，即新型材料與概念家具相結(jié)合的生產(chǎn)技術(shù)工藝，目前無經(jīng)驗(yàn)公式、無經(jīng)驗(yàn)數(shù)值，如何開發(fā)造型結(jié)構(gòu)美觀時(shí)尚、實(shí)用方便、基本功能應(yīng)用合理的概念家具，只能通過實(shí)驗(yàn)研究并借鑒紙板家具造型結(jié)構(gòu)的經(jīng)驗(yàn)才可完成；針對(duì)鍍鋁瓦楞紙板如何進(jìn)行概念家具設(shè)計(jì)，按照概念家具要求實(shí)現(xiàn)造型、結(jié)構(gòu)的結(jié)合；如何開發(fā)具有實(shí)用性和表現(xiàn)力的概念家具，解決鍍鋁瓦楞紙板制備的技術(shù)工藝和概念家具應(yīng)用在生產(chǎn)工藝的可行性問題是目前研究存在的主要問題。
[0003]國(guó)外磁控濺射鍍鋁技術(shù)主要表現(xiàn)在包裝領(lǐng)域，主要集中于S1x薄膜和氧化鋁薄膜等方面。我國(guó)上世紀(jì)80年代初，磁控濺射技術(shù)、和熱蒸發(fā)技術(shù)和弧鍍技術(shù)都有很大發(fā)展，真空磁控濺射技術(shù)的發(fā)展也使包裝薄膜的功能和高技術(shù)含量不斷增加。濺射是高頻電場(chǎng)或直流電源使惰性氣體電離產(chǎn)生輝光放電等離子體，濺射離子通過氣體放電使正離子和電子高速轟擊靶材，將靶材表面分子或原子濺射出來，沉積在基材表面形成薄膜的過程為磁控濺射鍍膜物理技術(shù)方法。
實(shí)用新型內(nèi)容:
[0004]本實(shí)用新型的目的是提供一種新型的鍍鋁瓦楞紙板，它解決鍍鋁瓦楞紙板制備的技術(shù)工藝的問題，通過研究直流磁控濺射鍍鋁技術(shù)，采用直流反應(yīng)磁控濺射制備紙基鍍鋁膜，用來制備鍍鋁瓦楞紙板并作為原材料制備鍍鋁瓦楞紙板家具。
[0005]為了解決【背景技術(shù)】所存在的問題，本實(shí)用新型是采用以下技術(shù)方案:它包含沉積防護(hù)層S1x (I)、第一鍍鋁膜(2)、瓦楞紙板面紙(3)、第一瓦楞紙愣紙(4)、瓦楞紙中紙(5)、第二瓦楞紙愣紙￠)、瓦楞紙里紙(7)、第二鍍鋁膜(8)，所述的第二鍍鋁膜(8)的通過磁控濺射設(shè)置有瓦楞紙里紙(7)下表面，瓦楞紙里紙(7)的上端設(shè)置有第二瓦楞紙愣紙￠)，第二瓦楞紙愣紙(6)的上端設(shè)置有瓦楞紙中紙(5)，瓦楞紙中紙(5)的上端設(shè)置有第一瓦楞紙愣紙(4)，第一瓦楞紙愣紙(4)的上端設(shè)置有瓦楞紙板面紙(3)，瓦楞紙板面紙(3)的上端磁控濺射沉積有有第一鍍鋁膜(2)，第一鍍鋁膜(2)的上端通過磁控濺射有沉積防護(hù)層S1x(I)。
[0006]濺射沉積鋁膜系統(tǒng):磁控濺射技術(shù)以純鋁為靶材，濺射時(shí)通過電離Ar氣并引入正交電磁場(chǎng)，用Ar離子轟擊鋁靶，濺射出的鋁離子沉積到基材上從而制備高阻隔納米新型鋁膜材料，并為制備鍍鋁瓦楞紙板所需要的鍍鋁膜提供前提條件。
[0007]鋁膜制備工藝:從工作氣壓、濺射電流、鍍膜時(shí)間，Ar氣流量等的重要工藝參數(shù)對(duì)鋁膜影響，以及物理性能的變化及其原因，通過對(duì)本底真空度工藝參數(shù)、透氧、透濕指標(biāo)研究，提高鋁膜防潮等性能，通過正交試驗(yàn)篩選關(guān)鍵工藝參數(shù)以利于制備最優(yōu)的鋁膜。
[0008]鍍鋁瓦楞紙板的制備過程:優(yōu)化選擇瓦楞紙板生產(chǎn)工藝實(shí)現(xiàn)鍍鋁瓦楞紙板制備。采用高強(qiáng)度特種紙為基材制備鋁膜面紙，試驗(yàn)分析鍍鋁瓦楞紙板面紙材料，研究鍍鋁瓦楞紙材料結(jié)構(gòu)，制備設(shè)備、制備工藝及流程對(duì)鍍鋁瓦楞紙板的物理技術(shù)性能進(jìn)行試驗(yàn)測(cè)度實(shí)現(xiàn)鍍鋁瓦楞紙板的制備。
[0009]本實(shí)用新型具有以下有益效果:它解決鍍鋁瓦楞紙板制備的技術(shù)工藝的問題，通過研究直流磁控濺射鍍鋁技術(shù)，采用直流反應(yīng)磁控濺射制備紙基鍍鋁膜，用來制備鍍鋁瓦楞紙板并作為原材料制備鍍鋁瓦楞紙板家具。

【專利附圖】

【附圖說明】
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[0010]圖1是本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)示意圖。

【具體實(shí)施方式】
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[0011]參看圖1，本【具體實(shí)施方式】采用以下技術(shù)方案:它包含沉積防護(hù)層S1x(l)、第一鍍鋁膜(2)、瓦楞紙板面紙(3)、第一瓦楞紙愣紙(4)、瓦楞紙中紙(5)、第二瓦楞紙愣紙(6)、瓦楞紙里紙(7)、第二鍍鋁膜(8)，所述的第二鍍鋁膜(8)的通過磁控濺射設(shè)置有瓦楞紙里紙(7)下表面，瓦楞紙里紙(7)的上端設(shè)置有第二瓦楞紙愣紙￠)，第二瓦楞紙愣紙(6)的上端設(shè)置有瓦楞紙中紙(5)，瓦楞紙中紙(5)的上端設(shè)置有第一瓦楞紙愣紙(4)，第一瓦楞紙愣紙(4)的上端設(shè)置有瓦楞紙板面紙(3)，瓦楞紙板面紙(3)的上端磁控濺射沉積有有第一鍍鋁膜(2)，第一鍍鋁膜(2)的上端通過磁控濺射有沉積防護(hù)層S1x(I)。
[0012]I)鋁膜表面的S1x處理
[0013]為提高瓦楞紙板鋁膜表面耐磨、阻燃及可擦洗等性能，采用與鋁膜相同的工藝方法，對(duì)瓦楞紙板鋁膜面紙進(jìn)行Si靶二次磁控濺射。通過鍍S1x形成沉積防護(hù)層，以提高瓦楞紙板鋁膜的物理性能，該層無色透明又保留銀灰色鋁膜色彩。(采取直流磁控濺射方法)
[0014]2)濺射沉積鋁膜。
[0015]磁控濺射沉積技術(shù)具有高速、低溫，鍍膜層與基材結(jié)合力強(qiáng)，鍍膜層致密、均勻，成份容易控制等優(yōu)點(diǎn)，適合應(yīng)用于紙板家具材料表面薄膜的生產(chǎn)。按磁控濺射中使用的離子源不同，磁控濺射方法有直流反應(yīng)磁控濺射、脈沖磁控濺射、射頻磁控濺射、微波-ECR等離子體增強(qiáng)磁控濺射、交流反應(yīng)磁控濺射。采取直流磁控濺射方法。通過研究鋁膜技術(shù)方法，制備鍍鋁瓦楞紙板，創(chuàng)新家具材料。
[0016]3)鍍鋁瓦楞紙板
[0017]研究瓦楞紙材料結(jié)構(gòu)，實(shí)驗(yàn)分析鍍鋁瓦楞紙板面紙材料、工藝流程、制備工藝技術(shù)，并對(duì)鍍鋁瓦楞紙板的物理技術(shù)性能進(jìn)行實(shí)驗(yàn)測(cè)度，通過優(yōu)化選擇瓦楞紙板生產(chǎn)設(shè)備和工藝實(shí)現(xiàn)鍍鋁瓦楞紙板制備，從而獲得適合概念家具制備要求的優(yōu)質(zhì)鍍鋁瓦楞紙板。
[0018]鍍鋁瓦楞紙板是制作紙板家具的主體材料，鍍鋁瓦楞紙板制備的質(zhì)量直接影響到鍍鋁瓦楞紙板家具的性能和外觀質(zhì)量。因此，除了按照設(shè)計(jì)方案選擇物理性好高強(qiáng)度特種紙，經(jīng)過直流磁控濺射工藝制備鍍鋁紙面紙和鍍鋁里紙，同時(shí)采用優(yōu)質(zhì)的楞紙和中紙等原料以外，機(jī)械設(shè)備的先進(jìn)程度，制備工藝流程以及制備工藝操作水平，均是影響鍍鋁瓦楞紙板質(zhì)量的主要因素。
[0019]4)鍍鋁瓦楞紙板制備制備過程
[0020]在瓦楞紙板機(jī)上，制備鍍鋁瓦楞紙板采用高強(qiáng)度特種紙為基材的鍍鋁面紙和鍍鋁里紙；楞紙采用UV型瓦楞并150g以上中強(qiáng)度原紙；中紙采用的材料與楞紙用料相同，為質(zhì)量較好的中強(qiáng)度原紙。嚴(yán)格按照工藝流程操作規(guī)定要求，完成鍍鋁瓦楞紙板制備工藝過程，獲得優(yōu)質(zhì)的鍍鋁瓦楞紙板。
【權(quán)利要求】
1.一種新型的鍍鋁瓦楞紙板，其特征在于它包含沉積防護(hù)層S1x(I)、第一鍍鋁膜(2)、瓦楞紙板面紙(3)、第一瓦楞紙愣紙(4)、瓦楞紙中紙(5)、第二瓦楞紙愣紙(6)、瓦楞紙里紙(7)、第二鍍鋁膜(8)，所述的第二鍍鋁膜(8)的通過磁控濺射設(shè)置有瓦楞紙里紙(7)下表面，瓦楞紙里紙(7)的上端設(shè)置有第二瓦楞紙愣紙￠)，第二瓦楞紙愣紙￠)的上端設(shè)置有瓦楞紙中紙(5)，瓦楞紙中紙(5)的上端設(shè)置有第一瓦楞紙愣紙(4)，第一瓦楞紙愣紙(4)的上端設(shè)置有瓦楞紙板面紙(3)，瓦楞紙板面紙(3)的上端磁控濺射沉積有有第一鍍鋁膜(2)，第一鍍鋁膜(2)的上端通過磁控濺射有沉積防護(hù)層S1x(I)。
【文檔編號(hào)】B32B29/08GK203937275SQ201420394650
【公開日】2014年11月12日 申請(qǐng)日期:2014年7月15日 優(yōu)先權(quán)日:2014年7月15日
【發(fā)明者】周頤 申請(qǐng)人:周頤