硬涂膜的制造方法
【專利摘要】在通過溶液流延法制膜、含有1～20重量％的具有在制膜過程中集中于流延時的支承體側(cè)的特性的增塑劑且含有作為消光劑的二氧化硅微粒、膜厚為15μm～30μm的薄膜光學(xué)膜(例如纖維素酯膜(41))中，在二氧化硅微粒的濃度大于薄膜光學(xué)膜整體的平均濃度的一側(cè)的面涂布硬涂層(51)。
【專利說明】硬涂膜的制造方法

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明涉及在薄膜光學(xué)膜涂布硬涂層的硬涂膜的制造方法。

【背景技術(shù)】
[0002] 顯示裝置的表面由于直接用手觸摸或接觸物體而容易受損傷，所以通常在顯示裝 置的表面貼附具有用于防止受損傷的硬涂層的硬涂膜。特別是在液晶顯示裝置中，通過在 光射出側(cè)的偏振片的偏振膜（起偏器）的表面貼附上述硬涂膜，能夠?qū)崿F(xiàn)防止受損傷的同 時實現(xiàn)裝置整體的輕薄化。
[0003] 在專利文獻1中公開了這樣的硬涂膜的一個例子。在專利文獻1的實施例中，在 膜厚80 μ m的膜基材的單面形成膜厚20 μ m的硬涂層來制作硬涂膜。
[0004] 然而，隨著近年的液晶顯示裝置的進一步輕薄化的迫切期望，使用比在專利文獻 1的硬涂膜的制作中使用的膜基材更薄膜化的光學(xué)膜（例如膜厚15?30 μ m的薄膜光學(xué) 膜），將在該表面涂布硬涂層而形成的硬涂膜貼附于偏振膜來制作液晶顯示裝置，結(jié)果可知 出現(xiàn)顯示缺陷。
[0005] 由研究的結(jié)果可知，上述顯示缺陷是由成為硬涂膜的硬涂層的基底的薄膜光學(xué)膜 的損傷引起的。即，在適用于液晶顯示裝置的偏振片的硬涂膜中，在薄膜光學(xué)膜的一面形成 硬涂層，在另一面涂布用于與偏振膜粘接的粘接劑。此時，如果薄膜光學(xué)膜在硬涂層的涂布 側(cè)的面產(chǎn)生損傷，則通過紫外線照射等使硬涂層固化收縮時，在產(chǎn)生損傷的部分和沒有產(chǎn) 生的部分發(fā)生固化收縮不均。相反，如果薄膜光學(xué)膜在粘接劑的涂布側(cè)的面產(chǎn)生損傷，則在 產(chǎn)生損傷的部分和沒有產(chǎn)生的部分發(fā)生粘接劑的涂布不均，該涂布不均引起粘接不良。這 樣由于薄膜光學(xué)膜的損傷而發(fā)生硬涂層的固化收縮不均、粘接劑的涂布不均，所以認為產(chǎn) 生上述的顯示缺陷。
[0006] 這里，上述薄膜光學(xué)膜的損傷是在光學(xué)膜的膜面評價中以無法檢測的等級存在的 微小的損傷，由于集中于膜的卷繞內(nèi)側(cè)或卷繞外側(cè)的任一側(cè)而產(chǎn)生，并且沿制膜時的長邊 方向周期性地產(chǎn)生，所以推測是在利用溶液流延法（溶液制膜法）的制膜工藝中，支承體 (例如帶）的損傷被轉(zhuǎn)印而形成的損傷。特別是，通過溶液流延法制成膜厚為30 μ m以下的 薄膜光學(xué)膜時，在帶上溶劑容易蒸發(fā)，從帶上剝離時的溶劑比率（殘留溶劑量）變得極低， 所以認為通過其后的干燥過程中的膜的干燥收縮，由帶轉(zhuǎn)印的傷難以緩和。
[0007] 為了抑制由硬涂層的固化收縮不均和粘接劑的涂布不均引起的上述顯示缺陷，例 如成為上述的固化收縮不均和粘接劑的涂布不均的原因的損傷不形成在薄膜光學(xué)膜的兩 面即可。但是，通過溶液流延法制成膜厚薄的薄膜光學(xué)膜時，如上述那樣在薄膜光學(xué)膜的流 延時的支承體側(cè)的面殘留有從支承體轉(zhuǎn)印的傷，所以在薄膜光學(xué)膜的兩面不形成損傷是不 可能的。
[0008] 因此，為了抑制液晶顯示裝置中的顯示缺陷，即使在構(gòu)成硬涂膜的薄膜光學(xué)膜的 單側(cè)的面殘留從支承體轉(zhuǎn)印的損傷，也有必要抑制硬涂層的固化收縮不均和粘接劑的涂布 不均這二者。此時，從抑制硬涂膜的生產(chǎn)效率降低的觀點考慮，還需要容易判斷在薄膜光學(xué) 膜中要涂布硬涂層的面，將硬涂層涂布在薄膜光學(xué)膜上。另外，在薄膜光學(xué)膜中含有增塑劑 時，還需要抑制增塑劑的滲出（噴出）。
[0009] 現(xiàn)有技術(shù)文獻
[0010] 專利文獻
[0011] 專利文獻1:日本特開2006-212549號公報（參照第〔0068〕段、第〔0069〕段、圖 1等）


【發(fā)明內(nèi)容】

[0012] 鑒于上述情況，本發(fā)明的目的在于提供一種硬涂膜的制造方法，該方法即使在薄 膜光學(xué)膜的流延時的支承體側(cè)的面轉(zhuǎn)印有支承體的損傷的情況下，也能夠抑制增塑劑的滲 出的同時抑制硬涂層的固化收縮不均和粘接劑的涂布不均這二者，并且容易判斷薄膜光學(xué) 膜中的要涂布硬涂層的面從而能夠抑制生產(chǎn)效率的降低。
[0013] 本發(fā)明的上述目的通過以下的構(gòu)成實現(xiàn)。
[0014] 1. 一種硬涂膜的制造方法，其特征在于，在通過溶液流延法制膜、含有1?20重 量％的具有在制膜過程中集中于流延時的支承體側(cè)的特性的增塑劑并含有作為消光劑的 二氧化硅微粒的、膜厚為15 μ m?30 μ m的薄膜光學(xué)膜中，在上述二氧化硅微粒的濃度大于 上述薄膜光學(xué)膜整體的平均濃度的一側(cè)的面涂布硬涂層。
[0015] 2.根據(jù)上述1記載的硬涂膜的制造方法，其特征在于，上述增塑劑為磷酸系的增 塑劑。
[0016] 3.根據(jù)上述1或2記載的硬涂膜的制造方法，其特征在于，上述硬涂層的厚度為 0. 5 μ m ~ 10 μ m。
[0017] 4.根據(jù)上述1?3中任一項記載的硬涂膜的制造方法，其特征在于，將上述增塑劑 作為第1增塑劑時，
[0018] 上述薄膜光學(xué)膜含有1重量％以上的與上述第1增塑劑不同的第2增塑劑，
[0019] 上述薄膜光學(xué)膜中的上述第1增塑劑和上述第2增塑劑的總量為20重量％以下。
[0020] 5.根據(jù)上述4記載的硬涂膜的制造方法，其特征在于，上述第2增塑劑為鄰苯二甲 酸系或多元醇酯系的增塑劑。
[0021] 根據(jù)上述制造方法，在膜厚為15 μ m?30 μ m的薄膜光學(xué)膜中，硬涂層被涂布在二 氧化硅微粒的濃度大于平均濃度的一側(cè)的面。二氧化硅微粒的濃度增大是由于在利用溶液 流延法的薄膜光學(xué)膜的制膜時，在支承體上發(fā)生溶劑的蒸發(fā)。因此，在薄膜光學(xué)膜中，二氧 化硅微粒的濃度大的一側(cè)的面是與流延時的支承體相反的一側(cè)的面。由于在該面涂布硬涂 層，所以硬涂層不會受制膜時的支承體的損傷的影響。由此，能夠抑制硬涂層的固化收縮不 均。并且，由于二氧化硅微粒不溶于溶劑，所以在薄膜光學(xué)膜中光學(xué)辨別二氧化硅微粒的濃 度大的一側(cè)的面（與流延時的支承體相反的一側(cè)的面）變得容易，硬涂層的涂布面的辨別 不需要很長時間。其結(jié)果，能夠抑制硬涂膜的生產(chǎn)效率降低。
[0022] 另外，將硬涂膜（帶有硬涂層的薄膜光學(xué)膜）與想保護表面的部件（例如液晶顯 示裝置中的偏振膜）粘接時，粘接時使用的粘接劑被涂布于硬涂膜中的與硬涂層相反的一 側(cè)的面。該面是薄膜光學(xué)膜制膜時的流延時的支承體側(cè)的面，如果支承體有損傷，則在粘接 劑的涂布面轉(zhuǎn)印支承體的損傷。但是，通過增塑劑集中于薄膜光學(xué)膜中的上述面一側(cè)，從而 通過增塑劑在上述面?zhèn)荣x予柔軟性。由此，涂布面的損傷變得容易緩和，所以能夠抑制在涂 布面產(chǎn)生粘接劑的涂布不均，能夠抑制粘接不良。
[0023] 此時，在薄膜光學(xué)膜中，即使在二氧化硅微粒的濃度大的一側(cè)的面涂布粘接劑，在 相反的一側(cè)（增塑劑集中的一側(cè)）的面形成硬涂層，也不能抑制硬涂層的固化收縮不均。認 為這是由于與粘接劑的涂布不均相比，硬涂層的固化收縮不均受到薄膜光學(xué)膜的損傷的影 響大。但是，在上述制法中，由于在二氧化硅微粒的濃度大的一側(cè)的面（不轉(zhuǎn)印支承體的損 傷的一側(cè)的面）形成硬涂層，所以能夠同時抑制硬涂層的固化收縮不均和粘接劑的涂布不 均。因此，將通過上述制法制造的硬涂膜用于例如液晶顯示裝置的偏振片時（將硬涂膜貼 附于偏振片的偏振膜時），能夠抑制產(chǎn)生顯示缺陷。
[0024] 另外，在薄膜光學(xué)膜中含有的增塑劑少于1重量％時，粘接劑的涂布面?zhèn)鹊娜彳?性降低，難以抑制粘接劑的涂布不均。另一方面，增塑劑多于20重量％時，變得容易引起滲 出。由此，薄膜光學(xué)膜通過含有1?20重量％的增塑劑，能夠抑制滲出，而且能夠抑制粘接 劑的涂布不均所致的上述顯示缺陷。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0025] 圖1是示意地表示作為本發(fā)明的實施方式的薄膜光學(xué)膜的纖維素酯膜的制造裝 置的一個例子的截面圖。
[0026] 圖2是表示使用采用了上述纖維素酯膜的硬涂膜的液晶顯示裝置的簡要構(gòu)成的 截面圖。
[0027] 圖3是用于說明上述纖維素酯膜的A面和B面的說明圖。
[0028] 圖4是示意地表示上述液晶顯示裝置的偏振片的主要部分的構(gòu)成的截面圖。

【具體實施方式】
[0029] 以下，對用于實施本發(fā)明的方式進行詳細說明，但本發(fā)明并不限定于此。
[0030] 〈硬涂膜〉
[0031] 本實施方式的硬涂膜是在膜厚為15 μ m?30 μ m的薄膜光學(xué)膜的一面形成硬涂層 而成的硬涂膜。
[0032] (硬涂層）
[0033] 本實施方式的硬涂層，從機械膜強度（耐擦傷性，鉛筆硬度）優(yōu)異的觀點考慮優(yōu)選 含有活性射線固化樹脂。即，是以通過紫外線、電子束這樣的活性射線（也稱為活性能量 線）照射，介由交聯(lián)反應(yīng)而固化的樹脂為主成分的層。作為活性射線固化樹脂，優(yōu)選使用含 有具有烯鍵式不飽和雙鍵的單體的成分，通過照射紫外線、電子束這樣的活性射線使其固 化來形成活性射線固化樹脂層。作為活性射線固化樹脂，可舉出紫外線固化性樹脂、電子 束固化性樹脂等為代表的固化樹脂，但從機械膜強度（耐擦傷性、鉛筆硬度）優(yōu)異的觀點考 慮，特別優(yōu)選通過紫外線照射而固化的樹脂。作為紫外線固化性樹脂，例如，優(yōu)選使用紫外 線固化型丙烯酸酯系樹脂、紫外線固化型聚氨酯丙烯酸酯系樹脂、紫外線固化型聚酯丙烯 酸酯系樹脂、紫外線固化型環(huán)氧丙烯酸酯系樹脂、紫外線固化型多元醇丙烯酸酯系樹脂、或 者紫外線固化型環(huán)氧樹脂等，其中，優(yōu)選為紫外線固化型丙烯酸酯系樹脂。
[0034] 作為紫外線固化型丙烯酸酯系樹脂，優(yōu)選為多官能丙烯酸酯。作為該多官能丙烯 酸酯，可優(yōu)選選自季戊四醇多官能丙烯酸酯、二季戊四醇多官能丙烯酸酯、季戊四醇多官能 甲基丙烯酸酯、以及二季戊四醇多官能甲基丙烯酸酯。這里，多官能丙烯酸酯是指，在分子 中具有2個以上的丙烯酰氧基或甲基丙烯酰氧基的化合物。作為多官能丙烯酸酯的單體， 例如優(yōu)選舉出乙二醇二丙烯酸酯、二乙二醇二丙烯酸酯、1，6-己二醇二丙烯酸酯、新戊二醇 二丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三丙烯酸酯、三羥甲基乙烷三丙烯酸酯、四羥甲基甲烷三丙烯酸 酯、四羥甲基甲烷四丙烯酸酯、五丙三醇三丙烯酸酯、季戊四醇二丙烯酸酯、季戊四醇三丙 烯酸酯、季戊四醇三/四丙烯酸酯、二（三羥甲基丙烷）四丙烯酸酯、乙氧化季戊四醇四丙 烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯、甘油三丙烯酸酯、二季戊四醇三丙烯酸酯、二季戊四醇四丙 烯酸酯、二季戊四醇五丙烯酸酯、二季戊四醇六丙烯酸酯、三（丙烯酰氧乙基）異氰脲酸酯、 乙二醇二甲基丙烯酸酯、二乙二醇二甲基丙烯酸酯、1，6_己二醇二甲基丙烯酸酯、新戊二 醇二甲基丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三甲基丙烯酸酯、三羥甲基乙烷三甲基丙烯酸酯、四羥甲 基甲烷三甲基丙烯酸酯、四羥甲基甲烷四甲基丙烯酸酯、五丙三醇三甲基丙烯酸酯、季戊四 醇二甲基丙烯酸酯、季戊四醇三甲基丙烯酸酯、季戊四醇四甲基丙烯酸酯、甘油三甲基丙烯 酸酯、二季戊四醇三甲基丙烯酸酯、二季戊四醇四甲基丙烯酸酯、二季戊四醇五甲基丙烯酸 酯、二季戊四醇六甲基丙烯酸酯、活性能量線固化型的異氰脲酸酯衍生物等。
[0035] 本實施方式的硬涂層，從提高抑制膜彼此的滑動性的效果考慮優(yōu)選含有活性能量 線固化型的異氰脲酸酯衍生物。作為活性能量線固化型的異氰脲酸酯衍生物，只要是具有 在異氰脲酸骨架鍵合一個以上的烯鍵式不飽和基團的結(jié)構(gòu)的化合物即可，沒有特別限制， 但優(yōu)選下述通式（1)表示的在同一分子內(nèi)具有三個以上的烯鍵式不飽和基和一個以上的 異氰脲酸酯環(huán)的化合物。烯鍵式不飽和基的種類有丙烯?；?、甲基丙烯?；?、苯乙烯基、乙 烯基醚基，更優(yōu)選為甲基丙烯酰基或丙烯?；?，特別優(yōu)選為丙烯?；?。
[0036]

【權(quán)利要求】
1. 一種硬涂膜的制造方法，其特征在于，在通過溶液流延法制膜、含有1?20重量％的 具有在制膜過程中集中于流延時的支承體側(cè)的特性的增塑劑、且含有作為消光劑的二氧化 娃微粒、膜厚為15 μ m?30 μ m的薄膜光學(xué)膜中，在所述二氧化娃微粒的濃度大于所述薄膜 光學(xué)膜整體的平均濃度的一側(cè)的面涂布硬涂層。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的硬涂膜的制造方法，其特征在于，所述增塑劑為磷酸系的增 塑劑。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的硬涂膜的制造方法，其特征在于，所述硬涂層的厚度為 0· 5 μ m ?10 μ m〇
4. 根據(jù)權(quán)利要求1?3中任一項所述的硬涂膜的制造方法，其特征在于，將所述增塑劑 作為第1增塑劑時， 所述薄膜光學(xué)膜含有1重量％以上的與所述第1增塑劑不同的第2增塑劑， 所述薄膜光學(xué)膜中的所述第1增塑劑和所述第2增塑劑的總量為20重量％以下。
5. 根據(jù)權(quán)利要求4所述的硬涂膜的制造方法，其特征在于，所述第2增塑劑為鄰苯二甲 酸系或多元醇酯系的增塑劑。
【文檔編號】B32B27/22GK104245156SQ201380021513
【公開日】2014年12月24日 申請日期:2013年4月11日 優(yōu)先權(quán)日:2012年4月24日
【發(fā)明者】北條裕子 申請人:柯尼卡美能達株式會社