透明導電性膜、觸摸面板及顯示裝置制造方法

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透明導電性膜、觸摸面板及顯示裝置制造方法
【專利摘要】本發(fā)明提供一種低成本且防反射性良好的透明導電性膜。所述透明導電性膜在折射率為1.6～1.7的基材膜的一面具有透明導電膜，在所述基材膜的另一面隔著易粘接層僅具有一層折射率為1.42以下且厚度為80～120nm的低折射率層，所述易粘接層滿足下述條件1、條件2、或(條件1及條件2)。條件1：基材膜的折射率與易粘接層的折射率之差的絕對值為0.08以下。條件2：易粘接層的厚度為5nm以上且小于50nm。
【專利說明】透明導電性膜、觸摸面板及顯示裝置

【技術領域】
[0001] 本發(fā)明涉及一種光透過性良好的透明導電性膜，詳細而言涉及一種在使用有透明導電性膜的觸摸面板及顯示裝置中可以抑制來自顯示面板的光線的透過性降低的透明導電性膜。

【背景技術】
[0002] 對于觸摸面板等所使用的透明導電性膜而言，已知有為了賦予觸摸輸入面的耐擦傷性或?qū)τ谕獠抗饩€的防反射性而在透明導電性膜的相反面（對于基材膜而言，是與設有透明導電膜的面相反的面）層合硬涂層、防反射層、防眩層等功能層（專利文獻1、2)。
[0003] 另外，具備觸摸面板的顯示裝置的內(nèi)部空隙層（空氣層）的存在會增大透明導電性膜與空氣層的界面反射，由此會發(fā)生來自顯示面板的光線的透過性降低之類的不良情況。為了解決該課題，已知有將在與透明導電膜相反的面具有防反射層的透明導電性膜用于觸摸面板或顯示裝置的內(nèi)部（專利文獻3、4)。
[0004] 專利文獻1 :日本特開平11-34206號公報
[0005] 專利文獻2 :日本特開2001-15941號公報
[0006] 專利文獻3 :日本特開2000-321558號公報
[0007] 專利文獻4 :日本特開2011-90458號公報

【發(fā)明內(nèi)容】

[0008] 上述專利文獻中記載了作為防反射層可以采用多層構成或者單層構成。然而，在多層構成的情況下，雖然容易得到高防反射性，但存在生產(chǎn)成本（生產(chǎn)率低）的問題或容易產(chǎn)生干涉條紋之類的問題。在防反射層為單層構成的情況下，雖然為低成本，但存在無法得到充分的防反射性之類的問題、耐擦傷性降低、滑動性或抗粘連性降低之類的問題。另夕卜，上述專利文獻中對單層的防反射層沒有具體的記載。
[0009] 因而，本發(fā)明的目的在于，提供一種低成本且防反射性良好的透明導電性膜。本發(fā) 明的其它目的在于，提供一種使用有本發(fā)明的透明導電性膜的觸摸面板、以及具備所述觸摸面板的顯示裝置。
[0010] 本發(fā)明的上述目的可通過下面的發(fā)明來實現(xiàn)。
[0011] 1) -種透明導電性膜，其特征在于，在折射率為1. 6?1. 7的基材膜的一面具有透明導電膜，在所述基材膜的另一面隔著易粘接層僅具有一層折射率為1.42以下且厚度為 80?120nm的低折射率層，所述易粘接層滿足下述條件1。
[0012] 條件1 :基材膜的折射率與易粘接層的折射率之差的絕對值為0. 08以下。
[0013] 2) -種透明導電性膜，其特征在于，在折射率為1. 6?1. 7的基材膜的一面具有透明導電膜，在所述基材膜的另一面隔著易粘接層僅具有一層折射率為1.42以下且厚度為 80?120nm的低折射率層，所述易粘接層滿足下述條件2。
[0014] 條件2 :易粘接層的厚度為5nm以上且小于50nm。
[0015] 3) -種透明導電性膜，其特征在于，在折射率為1. 6?1. 7的基材膜的一面具有透明導電膜，在所述基材膜的另一面隔著易粘接層僅具有一層折射率為1.42以下且厚度為 80?120nm的低折射率層，所述易粘接層滿足下述條件1及條件2。
[0016] 條件1 :基材膜的折射率與易粘接層的折射率之差的絕對值為0. 08以下。
[0017] 條件2 :易粘接層的厚度為5nm以上且小于50nm。
[0018] 4)如上述1)或3)所述的透明導電性膜，其中，所述基材膜的折射率與易粘接層的折射率之差的絕對值為0. 05以下。
[0019] 5)如上述1)或4)所述的透明導電性膜，其中，所述易粘接層的厚度為5nm以上且小于200nm。
[0020] 6)如上述1)?5)中任一項所述的透明導電性膜，其中，所述基材膜為聚酯膜。
[0021] 7)如上述6)所述的透明導電性膜，其中，所述聚酯膜為聚對苯二甲酸乙二醇酯膜。
[0022] 8)如上述1)?7)中任一項所述的透明導電性膜，其中，所述易粘接層至少含有樹脂和交聯(lián)劑。
[0023] 9)如上述8)所述的透明導電性膜，其中，所述樹脂為聚酯樹脂。
[0024] 10)如上述1)?9)中任一項所述的透明導電性膜，其中，所述低折射率層是通過濕式涂布法涂布活性能量線固化性樹脂組合物并使其固化而成的層。
[0025] 11)如上述1)?10)中任一項所述的透明導電性膜，其中，所述易粘接層包含粒子，所述粒子的平均粒徑（r)與易粘接層的厚度（d)的關系滿足下述式1。
[0026] 0· 5 蘭（r/d)蘭 20 · · ·式 1
[0027] 12)如上述11)所述的透明導電性膜，其中，相對于所述易粘接層的固態(tài)成分總量 100質(zhì)量％，含有0. 05?20質(zhì)量％的所述粒子。
[0028] 13)如上述1)?12)中任一項所述的透明導電性膜，其中，所述低折射率層含有具有烯鍵式不飽和基團（ethylenic unsaturated group)的聚娃氧燒化合物。
[0029] 14) -種觸摸面板，其具備上述1)?13)中任一項所述的透明導電性膜。
[0030] 15) -種顯示裝置，其是在顯示面板上配置了使用有上述1)?13)中任一項所述的透明導電性膜的觸摸面板的顯示裝置，所述顯示裝置以所述透明導電性膜的所述低折射率層側與顯示面板隔著空氣層相對的方式配置。
[0031] 16) -種顯示裝置，其是在顯示面板上配置了使用有上述1)?13)中任一項所述的透明導電性膜的電磁波屏蔽構件的顯示裝置，所述顯示裝置以所述透明導電性膜的所述低折射率層側與顯示面板隔著空氣層相對的方式配置。
[0032] 根據(jù)本發(fā)明，能提供低成本且防反射性良好的透明導電性膜。另外，通過將使用有本發(fā)明的透明導電性膜的觸摸面板及/或電磁波屏蔽構件配置于顯示裝置，可以提供來自顯示面板的光線的透過性良好的顯示裝置。
[0033] 另外，根據(jù)本發(fā)明的優(yōu)選方式，可以提供滑動性得到改良的透明導電性膜。
[0034] 另外，根據(jù)本發(fā)明的優(yōu)選方式，可以提供能抑制低聚物從基材膜中析出的透明導電性膜。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0035] 圖1是具備使用有本發(fā)明的透明導電性膜的電阻膜式觸摸面板的顯示裝置的一個例子的剖面示意圖。
[0036] 圖2是具備使用有本發(fā)明的透明導電性膜的電容式觸摸面板的顯示裝置的一個例子的剖面示意圖。
[0037] 圖3是具備使用有本發(fā)明的透明導電性膜的電容式觸摸面板的顯示裝置的一個例子的剖面示意圖。
[0038] 圖4是具備使用有本發(fā)明的透明導電性膜的電磁波屏蔽構件的顯示裝置的一個例子的剖面示意圖。

【具體實施方式】
[0039] 對于本發(fā)明的透明導電性膜而言，在基材膜的一面具有透明導電膜，在所述基材膜的另一面隔著易粘接層僅具有一層低折射率層。下面，對本發(fā)明的透明導電性膜的各構成要素詳細地進行說明。
[0040] [基材膜]
[0041] 本發(fā)明的基材膜是折射率在1. 6?1. 7的范圍的膜。從減小低折射率層與空氣層的界面處的反射率的觀點考慮，優(yōu)選基材膜的折射率大。具體而言，基材膜的折射率優(yōu)選為 1. 61以上、更優(yōu)選為1. 62以上、進一步優(yōu)選為1. 63以上、特別優(yōu)選為1. 64以上。
[0042] 本發(fā)明的基材膜可以從塑料膜中選擇。在塑料膜中，從拉伸強度、耐熱性、耐溶劑性的觀點考慮，優(yōu)選使用聚酯膜、特別優(yōu)選使用聚對苯二甲酸乙二醇酯膜（PET膜）。
[0043] 基材膜的厚度適宜為20?300 μ m的范圍、優(yōu)選為30?200 μ m的范圍、更優(yōu)選為 50?150 μ m的范圍。
[0044] [易粘接層]
[0045] 本發(fā)明的易粘接層是用于強化基材膜與低折射率層的密合性，同時利用與基材膜及后述的低折射率層的組合來維持優(yōu)異的防反射性（低反射率）的層。為了維持優(yōu)異的防反射性，易粘接層必須滿足下述的條件1、條件2、或（條件1及條件2)。特別優(yōu)選易粘接層滿足條件1。
[0046] 條件1 :基材膜的折射率與易粘接層的折射率之差的絕對值為0. 08以下。
[0047] 條件2 :易粘接層的厚度為5nm以上且小于50nm。
[0048] [滿足條件1的易粘接層]
[0049] 條件1的易粘接層是滿足基材膜的折射率與易粘接層的折射率之差的絕對值為 0. 08以下的易粘接層。上述折射率差的絕對值優(yōu)選為0. 06以下、更優(yōu)選為0. 05以下、特別優(yōu)選為0. 03以下、最優(yōu)選為0. 01以下。如果基材膜的折射率與易粘接層的折射率之差的絕對值大于〇. 08,則無法得到良好的防反射性。
[0050] 基于易粘接層強化基材膜與低折射率層的密合性的意義，優(yōu)選易粘接層本身的硬度不太高。本發(fā)明的透明導電性膜在易粘接層上只具有極薄膜的低折射率層，因此，如果使硬度不太高的易粘接層的厚度增大，則有時會發(fā)生低折射率層的硬度降低之類的不良情況。因而，優(yōu)選易粘接層的厚度比較小。
[0051] 從上述觀點考慮，具體而言，易粘接層的厚度優(yōu)選小于200nm、更優(yōu)選小于150nm、進一步優(yōu)選小于130nm、特別優(yōu)選小于100nm。從確保基材膜與低折射率層的密合性的觀點考慮，下限的厚度優(yōu)選為5nm以上、更優(yōu)選為lOnm以上、進一步優(yōu)選為20nm以上。
[0052] 條件1的易粘接層是折射率比較大的易粘接層，上述易粘接層可以通過使其含有折射率比較大的樹脂或金屬氧化物微粒等高折射率材料來得到。
[0053] 已知可在聚對苯二甲酸乙二醇酯膜上設置易粘接層。聚對苯二甲酸乙二醇酯膜的折射率通常為1.63?1.67左右，目前層合的易粘接層通常以聚酯樹脂、丙烯酸類樹脂、氨基甲酸酯樹脂等樹脂為主要成分，折射率通常比較小，為1. 50?1. 54左右，不滿足條件1。
[0054] 條件1的易粘接層的一種方式是：使用通過在聚酯樹脂、丙烯酸類樹脂、氨基甲酸酯樹脂等樹脂中導入芳香族環(huán)、硫原子、溴原子等而高折射率化了的樹脂。相對于易粘接層的固態(tài)成分總量1〇〇質(zhì)量％，上述高折射率化了的樹脂的含量優(yōu)選為50質(zhì)量％以上、更優(yōu) 選為60質(zhì)量％以上、特別優(yōu)選為70質(zhì)量％以上。上限的含量為98質(zhì)量％左右。
[0055] 作為上述高折射率化了的樹脂，優(yōu)選分子中具有芳香族環(huán)的聚酯樹脂，進一步優(yōu) 選分子中具有縮合芳香族環(huán)的聚酯樹脂。作為上述縮合芳香族環(huán)，例如，可舉出萘環(huán)、芴環(huán) 等。
[0056] 聚酯樹脂通常可由羧酸成分與二醇成分縮聚來得到。上述的分子中具有萘環(huán)的聚酯樹脂可以通過使用1，4-萘二甲酸、2, 6-萘二甲酸等具有萘環(huán)的二羧酸作為羧酸成分來合成。分子中具有萘環(huán)的聚酯樹脂的折射率可以通過調(diào)節(jié)全部羧酸成分中的具有萘環(huán)的二羧酸的比率來控制。
[0057] 上述的分子中具有芴環(huán)的聚酯樹脂可以通過使用具有芴環(huán)的化合物作為羧酸成分及/或二醇成分來合成。通過調(diào)節(jié)上述具有芴環(huán)的化合物的含量，可以控制該聚酯樹脂的折射率。對于分子中具有芴環(huán)的聚酯樹脂，例如國際公開W02009/145075號中有詳細記載，可以參照其來合成。
[0058] 上述聚酯樹脂優(yōu)選為水溶性或者水分散性。水溶性或者水分散性的聚酯樹脂可以通過使在聚酯樹脂合成中所使用的羧酸成分中包含3元以上的多元羧酸或者具有磺基的二羧酸來合成。
[0059] 條件1的易粘接層的其它方式是：使其含有金屬氧化物微粒。該方式的易粘接層是樹脂中分散有金屬氧化物微粒的層。作為樹脂，可以使用例如：丙烯酸類樹脂（優(yōu)選丙烯酸類樹脂多元醇等具有0H基的丙烯酸類樹脂）、聚酯樹脂（優(yōu)選聚酯樹脂多元醇等具有0H 基的聚酯樹脂）、環(huán)氧樹脂、氨基甲酸酯樹脂、苯乙烯-馬來酸接枝聚酯樹脂、丙烯酸接枝聚酯樹脂、有機硅樹脂、或者上述的分子中具有縮合芳香族環(huán)的聚酯樹脂等。
[0060] 作為金屬氧化物微粒，可以使用氧化鈦、氧化锫、氧化鋅、氧化錫、氧化鋪、氧化鋪、氧化鐵、鋪酸鋅、氧化錫摻氧化銦（ITO)、摻鋪氧化錫（ΑΤΟ)、摻磷氧化錫、摻錯氧化鋅、摻鎵氧化鋅等。在這些金屬氧化物微粒中，從透明性、耐光性、高折射率化的觀點考慮，優(yōu)選氧化鈦及氧化鋯，特別優(yōu)選氧化鋯。
[0061] 對于易粘接層中的樹脂與金屬氧化物微粒的含有比率，以質(zhì)量比計，適宜為 100:10?100:400的范圍，優(yōu)選為100:20?100:300的范圍，特別優(yōu)選為100:30? 100:200的范圍。
[0062] [滿足條件2的易粘接層]
[0063] 對于條件2的易粘接層，其厚度為5nm以上且小于50nm的范圍。如果易粘接層的厚度為50nm以上，則無法得到低反射率，相反地，如果易粘接層的厚度小于5nm，則低折射率層的密合性降低。條件2的易粘接層的厚度即使在上述厚度的范圍內(nèi)也優(yōu)選較小，具體而言，優(yōu)選小于40nm、更優(yōu)選小于30nm。易粘接層的下限的厚度優(yōu)選為10nm以上。
[0064] 對條件2的易粘接層的折射率沒有特別限制，優(yōu)選為1. 45以上且小于1. 60的范圍，更優(yōu)選為1. 47?1. 59的范圍，特別優(yōu)選為1. 48?1. 58的范圍。
[0065] 條件2的易粘接層優(yōu)選為包含聚酯樹脂、丙烯酸類樹脂、氨基甲酸酯樹脂等樹脂的層。
[0066] 另外，條件2的易粘接層可以使用與上述條件1同樣的組成的易粘接層。
[0067][滿足條件1和條件2的易粘接層]
[0068] 作為本發(fā)明的易粘接層，可以使用同時滿足條件1及條件2的易粘接層。
[0069][條件1的易粘接層與條件2的易粘接層通用的內(nèi)容]
[0070] 下面，對條件1及條件2的易粘接層通用的內(nèi)容進行說明。
[0071] 對于本發(fā)明的易粘接層，如上所述，優(yōu)選至少包含樹脂。作為上述樹脂，優(yōu)選至少包含聚酯樹脂。包含樹脂的易粘接層的詳細情況如后所述，在聚酯膜的制造工序內(nèi)，能在線層合易粘接層，在生產(chǎn)率方面是有益的。相對于易粘接層的固態(tài)成分總量1〇〇質(zhì)量％，易粘接層中的樹脂的含量優(yōu)選為20質(zhì)量％以上、更優(yōu)選為30質(zhì)量％以上、特別優(yōu)選為50質(zhì) 量％以上。上限為98質(zhì)量％左右。
[0072] 易粘接層優(yōu)選含有交聯(lián)劑。作為上述交聯(lián)劑，可以使用三聚氰胺系交聯(lián)劑、噁唑啉系交聯(lián)劑、碳二亞胺系交聯(lián)劑、異氰酸酯系交聯(lián)劑、氮丙啶系交聯(lián)劑、環(huán)氧系交聯(lián)劑、經(jīng)羥甲基化或者烷醇化的脲系交聯(lián)劑、丙烯酰胺系交聯(lián)劑、聚酰胺系樹脂、酰胺環(huán)氧化合物、各種硅烷偶聯(lián)劑、各種鈦酸酯系偶聯(lián)劑等。在這些交聯(lián)劑中，優(yōu)選使用由三聚氰胺系交聯(lián)劑、噁唑啉系交聯(lián)劑、碳二亞胺系交聯(lián)劑、異氰酸酯系交聯(lián)劑和氮丙啶系交聯(lián)劑構成的組中的至少一種。
[0073] 相對于易粘接層的固態(tài)成分總量100質(zhì)量％，易粘接層中的交聯(lián)劑的含量優(yōu)選為 1?40質(zhì)量％的范圍、更優(yōu)選為3?35質(zhì)量％的范圍、特別優(yōu)選為5?30質(zhì)量％的范圍。
[0074] 易粘接層優(yōu)選至少含有樹脂和交聯(lián)劑。由此，基材膜與低折射率層的密合性進一步提商。
[0075] 另外，將這樣的易粘接層（至少含有樹脂和交聯(lián)劑的易粘接層）層合在基材膜上，并在該易粘接層上層合后述的低折射率層（通過濕式涂布法涂布活性能量線固化性樹脂組合物并使其固化而成的低折射率層），由此能抑制低聚物從基材膜中析出。
[0076] 在使用聚對苯二甲酸乙二醇酯膜作為基材膜的情況下，如果在后述的透明導電膜的制膜工序等中進行加熱處理，則有時作為非交聯(lián)成分的低聚物（環(huán)狀三聚物）在聚對苯二甲酸乙二醇酯膜的表面析出。通過層合易粘接層（至少含有樹脂和交聯(lián)劑的易粘接層）和低折射率層（通過濕式涂布法涂布活性能量線固化性樹脂組合物并使其固化而成的低折射率層），可以抑制該低聚物析出。
[0077] 進而，從抑制低聚物析出的觀點考慮，易粘接層的厚度優(yōu)選為50nm以上、更優(yōu)選為60nm以上、特別優(yōu)選為70nm以上。
[0078] 易粘接層優(yōu)選進一步含有粒子。在含有粒子的易粘接層上層合僅一層平滑且薄 (80?120nm)的低折射率層的情況下，由易粘接層的粒子產(chǎn)生的凸構造也會反映在低折射率層，其結果即使在層合低折射率層后，也可以提高低折射率層表面的滑動性并維持良好的抗粘連性。
[0079] 從上述觀點考慮，優(yōu)選易粘接層所含有的粒子的平均粒徑（r)相對于易粘接層的厚度⑷的比率比較大。具體而言，優(yōu)選滿足下述式1、進一步優(yōu)選滿足下述式2、特別優(yōu)選滿足下述式3。
[0080] 0· 5 蘭（r/d)蘭 20 · · ·式 1
[0081] 1. 0 蘭（r/d)蘭 10 · · ·式 2
[0082] 1. 3 蘭（r/d)蘭 6 · · ·式 3。
[0083] 易粘接層所含有的粒子的平均粒徑優(yōu)選在上述式1?3的范圍內(nèi)選擇，具體而言，粒子的平均粒徑優(yōu)選為10?600nm的范圍、更優(yōu)選為20?500nm的范圍、特別優(yōu)選為30? 300nm的范圍。需要說明的是，易粘接層所含有的粒子的平均粒徑是通過數(shù)量平均求出的粒徑。
[0084] 相對于易粘接層的固態(tài)成分總量100質(zhì)量％，易粘接層中的粒子的含量優(yōu)選為 0. 05?20質(zhì)量％的范圍、更優(yōu)選為0. 1?15質(zhì)量％的范圍、特別優(yōu)選為0. 2?10質(zhì)量％的范圍。
[0085] 作為易粘接層所含有的粒子，沒有特別限制，可舉出：二氧化硅粒子、氧化鈦、氧化鋁、氧化鋯、碳酸鈣、炭黑、沸石粒子等無機粒子；丙烯酸類粒子、有機硅粒子、聚酰亞胺粒子、特富龍（注冊商標）粒子、交聯(lián)聚酯粒子、交聯(lián)聚苯乙烯粒子、交聯(lián)聚合物粒子、核殼式粒子等有機粒子。其中，優(yōu)選二氧化硅粒子，特別優(yōu)選膠體二氧化硅。
[0086] 本發(fā)明的易粘接層優(yōu)選通過濕式涂布法層合在基材膜上，進一步優(yōu)選在基材膜的制造工序內(nèi)層合易粘接層的所謂的在線涂布法。作為濕式涂布法，可舉出例如：逆轉(zhuǎn)輥涂布法、噴霧涂布法、棒式涂布法、凹版涂布法、標尺計量涂布法（rod coat method)、、模具涂布法等。
[0087] 在基材膜上涂布本發(fā)明的易粘接層時，作為用于提高涂布性、密合性的預處理，優(yōu) 選對基材膜表面預先實施電暈放電處理、火焰處理、等離子處理等。
[0088] 對于上述的在線涂布法，下面說明使用聚對苯二甲酸乙二醇酯（下面簡記為PET) 膜作為基材膜的方式，但本發(fā)明并不限定于此。
[0089] 將作為PET膜的原料的特性粘度為0. 5?0. 8dl/g的PET顆粒真空干燥后，供給至擠出機并在260?300°C下熔融，由T字型噴嘴以片狀擠出，使用施加靜電的澆鑄法，卷繞在表面溫度10?60°C的鏡面澆鑄滾筒上并使其冷卻固化，從而制作未拉伸PET膜。使該未拉伸PET膜在加熱至70?100°C的輥間沿縱向（指膜的行進方向，也稱為"長度方向"）拉伸2. 5?5倍。在空氣中對通過該拉伸得到的單軸拉伸PET膜的至少一面實施電暈放電處理，使該表面的潤濕張力為47mN/m以上，在該處理面涂布本發(fā)明的易粘接層的涂布液。
[0090] 接著，用夾具把持涂布有涂布液的單軸拉伸PET膜并導入干燥區(qū)域，在小于單軸拉伸PET膜的Tg的溫度下干燥后，升至Tg以上的溫度，再次在Tg附近的溫度下干燥，緊接著連續(xù)在70?150°C的加熱區(qū)域沿橫向（指垂直于膜的行進方向的方向，也稱為"寬度方向"）拉伸2. 5?5倍，接下來在180?240°C的加熱區(qū)域?qū)嵤崽幚??40秒，可得到在結晶取向結束了的PET膜上層合有易粘接層的聚酯膜。需要說明的是，在上述熱處理中，也可以根據(jù)需要實施3?12%的松弛處理。雙軸拉伸可以是縱向、橫向逐次拉伸或者同時雙軸拉伸中的任一種，另外也可以在縱向、橫向拉伸后，沿縱向、橫向中的任一個方向進行再拉伸。
[0091] 從強化基材膜與低折射率層的密合性的觀點考慮，本發(fā)明的易粘接層優(yōu)選不是通過紫外線或電子束等活性能量線進行固化的樹脂層。例如，代替易粘接層而將活性能量線固化性的高折射率層直接層合在基材膜上時，無法充分地得到基材膜與高折射率層的密合性。
[0092] (低折射率層）
[0093] 本發(fā)明的低折射率層是折射率為1. 42以下并且厚度為80?120nm的層。低折射率層的折射率優(yōu)選為1. 41以下、更優(yōu)選為1. 40以下、特別優(yōu)選為1. 39以下。對下限的折射率沒有特別限制，為1. 30左右。
[0094] 如果低折射率層的折射率大于1. 42,則無法得到良好的防反射性。另外，在低折射率層的厚度偏離80?120nm的范圍的情況下，也無法得到良好的防反射性。
[0095] 低折射率層的厚度優(yōu)選為85?115nm的范圍、特別優(yōu)選為90?llOnm的范圍。 [0096] 作為低折射率層的1種方式，可舉出金屬氟化物膜。該金屬氟化物膜是通過真空蒸鍍法、反應性蒸鍍法、離子束輔助蒸鍍法、濺射法、離子鍍法、等離子CVD法等氣相制膜法層合而成的膜。
[0097] 作為上述金屬氟化物，可舉出例如：氟化鎂（MgF2)、氟化鋁（A1F3)、氟化鈣（CaF 2)、氟化鋇（BaF2)、氟化鍶（SrF2)、冰晶石（Na3AlF 6)、錐冰晶石（Na5Al3F14)、氟化鈉（NaF)等。其中，可優(yōu)選使用氟化鎂。
[0098] 低折射率層的優(yōu)選方式是通過濕式涂布法涂布活性能量線固化性組合物并使其固化而成的層。
[0099] 作為濕式涂布法，可以使用例如逆轉(zhuǎn)輥涂布法、噴霧涂布法、棒式涂布法、凹版涂布法、標尺計量涂布法、模具涂布法、旋轉(zhuǎn)涂布法、擠壓涂布法等涂布方法。
[0100] 作為活性能量線固化性組合物，例如，可舉出包含通過紫外線、電子束等活性能量線進行固化的活性能量線固化性樹脂和作為低折射率材料的低折射率無機粒子及/或含氟化合物的組合物。
[0101] 活性能量線固化性樹脂是通過紫外線或電子束等活性能量線進行固化的樹脂，優(yōu)選使用分子中至少具有1個烯鍵式不飽和基團的單體或低聚物。這里，作為烯鍵式不飽和基團，可舉出丙烯酰基、甲基丙烯酰基、丙烯酰氧基、甲基丙烯酰氧基、乙烯基、烯丙基等。需要說明的是，在下面的說明中，" ···（甲基）丙烯酸酯"這種表達包含"· --丙烯酸酯"和"· --甲基丙烯酸酯"兩種化合物。
[0102] 作為上述單體的例子，可以舉出：（甲基）丙烯酸甲酯、（甲基）丙烯酸月桂酯、乙氧基二甘醇（甲基）丙烯酸酯、甲氧基三甘醇（甲基）丙烯酸酯、（甲基）丙烯酸苯氧基乙酯、（甲基）丙烯酸四氫糠酯、（甲基）丙烯酸異冰片酯、（甲基）丙烯酸2-羥乙酯、（甲基）丙烯酸2-羥丙酯、（甲基）丙烯酸2-羥基-3-苯氧酯等單官能丙烯酸酯；新戊二醇二（甲基）丙烯酸酯、1，6-己二醇二（甲基）丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三（甲基）丙烯酸酯、季戊四醇三（甲基）丙烯酸酯、季戊四醇四（甲基）丙烯酸酯、二季戊四醇三（甲基）丙烯酸酯、二季戊四醇四（甲基）丙烯酸酯、二季戊四醇五（甲基）丙烯酸酯、二季戊四醇六（甲基）丙烯酸酯、三季戊四醇三（甲基）丙烯酸酯、三季戊四醇六（甲基）三丙烯酸酯、三羥甲基丙烷（甲基）丙烯酸苯甲酸酯、三羥甲基丙烷苯甲酸酯等多官能丙烯酸酯；甘油二（甲基）丙烯酸酯六亞甲基二異氰酸酯、季戊四醇三（甲基）丙烯酸酯六亞甲基二異氰酸酯等氨基甲酸酯丙烯酸酯等。
[0103] 作為上述低聚物的例子，可以舉出聚酯（甲基）丙烯酸酯、聚氨酯（甲基）丙烯酸酯、環(huán)氧（甲基）丙烯酸酯、聚醚（甲基）丙烯酸酯、醇酸（甲基）丙烯酸酯、三聚氰胺（甲基）丙烯酸酯、有機硅（甲基）丙烯酸酯等。
[0104] 上述的單體或低聚物可以單獨使用或者多種混合來使用，優(yōu)選使用3官能以上的多官能單體或多官能低聚物。
[0105] 在活性能量線固化性組合物中，相對于組合物的固態(tài)成分總量100質(zhì)量％，活性能量線固化性樹脂的含量可適當?shù)貫??90質(zhì)量％的范圍，優(yōu)選為5?80質(zhì)量％的范圍，更優(yōu)選為10?70質(zhì)量％的范圍。
[0106] 作為低折射率無機粒子，優(yōu)選二氧化硅或氟化鎂等無機粒子。進一步優(yōu)選這些無機粒子為中空狀或多孔質(zhì)的粒子。上述無機粒子的折射率更優(yōu)選為1. 2?1. 35的范圍。
[0107] 在活性能量線固化性組合物中，相對于組合物的固態(tài)成分總量100質(zhì)量％，低折射率無機粒子的含量優(yōu)選為20?70質(zhì)量％的范圍、更優(yōu)選為25?70質(zhì)量％的范圍、特別優(yōu)選為30?60質(zhì)量％的范圍。
[0108] 作為含氟化合物，可舉出含氟單體、含氟低聚物、含氟高分子化合物。這里，含氟單體、含氟低聚物是分子中具有烯鍵式不飽和基團和氟原子的單體或低聚物。
[0109] 作為含氟單體、含氟低聚物，例如可舉出：2,2,2_三氟乙基（甲基）丙烯酸酯、2, 2, 3, 3, 3-五氟丙基（甲基）丙烯酸酯、2_(全氟丁基）乙基（甲基）丙烯酸酯、2_(全氟己基）乙基（甲基）丙烯酸酯、2_(全氟辛基）乙基（甲基）丙烯酸酯、2_(全氟癸基）乙基（甲基）丙烯酸酯、β-(全氟辛基）乙基（甲基）丙烯酸酯等含氟（甲基）丙烯酸酯類、二氟丙烯酸）_2, 2, 2-三氟乙基乙二醇、二（α -氟丙烯酸）-2, 2, 3, 3, 3-五氟丙基乙二醇、二（α -氟丙烯酸）-2, 2, 3, 3, 4, 4, 4-七氟丁基乙二醇、二（α -氟丙烯酸）-2, 2, 3, 3, 4, 4, 5, 5, 5-九氟戊基乙二醇、二（α -氟丙烯酸）-2, 2, 3, 3, 4, 4, 5, 5, 6, 6, 6-十一氟己基乙二醇、二 U -氟丙烯酸）_2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,7_ 十三氟庚基乙二醇、二（α -氟丙烯酸）-2, 2, 3, 3, 4, 4, 5, 5, 6, 6, 7, 7, 8, 8, 8-十五氟辛基乙二醇、二（α -氟丙烯酸）-3, 3, 4, 4, 5, 5, 6, 6, 7, 7, 8, 8, 8-十三氟辛基乙二醇、二（α -氟丙烯酸）-2, 2, 3, 3, 4, 4, 5 ，5, 6, 6, 7, 7, 8, 8, 9, 9, 9-十七氟壬基乙二醇等二（α -氟丙烯酸）氟烷基酯類。
[0110] 作為含氟高分子化合物，例如，可舉出將含氟單體與用于賦予交聯(lián)性基團的單體作為構成單元的含氟共聚物。作為含氟單體單元的具體例，例如為氟烯烴類（例如氟乙烯、偏二氟乙烯、四氟乙烯、六氟乙烯、六氟丙烯、全氟-2, 2-二甲基-1，3-間二氧雜環(huán)戊烯等）、 (甲基）丙烯酸的部分或完全氟化烷基酯衍生物類（例如Biscoat6FM(大阪有機化學制造）或Μ-2020ΦΑΙΚΙΝ制造）等）、完全或部分氟化乙烯基醚類等。作為用于賦予交聯(lián)性基團的單體，除了如甲基丙烯酸縮水甘油酯那樣分子內(nèi)預先具有交聯(lián)性官能團的（甲基）丙烯酸酯單體以外，還可舉出具有羧基或羥基、氨基、磺酸基等的（甲基）丙烯酸酯單體（例如 (甲基）丙烯酸、（甲基）丙烯酸羥甲基酯、（甲基）丙烯酸羥烷基酯、丙烯酸烯丙酯等）。
[0111] 在活性能量線固化性組合物中，相對于組合物的固態(tài)成分總量100質(zhì)量％，含氟化合物的含量優(yōu)選為30質(zhì)量％以上、更優(yōu)選為50質(zhì)量％以上、特別優(yōu)選為60質(zhì)量％以上。上限優(yōu)選為100質(zhì)量％以下、更優(yōu)選為99質(zhì)量％以下、特別優(yōu)選為98質(zhì)量％以下。
[0112] 對于活性能量線固化性組合物，作為活性能量線固化性樹脂的全部或者一部分，可以使用前述的含氟單體及/或含氟低聚物。
[0113] 活性能量線固化性組合物優(yōu)選包含光聚合引發(fā)劑。作為上述光聚合引發(fā)劑的具體例，可以使用例如：苯乙酮、2, 2-二乙氧基苯乙酮、對二甲基苯乙酮、對二甲基氨基苯丙酮、二苯甲酮、2-氯二苯甲酮、4,4' -二氯二苯甲酮、4,4' -雙二乙基氨基二苯甲酮、米蚩酮、苯偶酰、苯偶姻、苯偶姻甲醚、苯偶姻乙醚、苯偶姻異丙醚、苯甲酰甲酸甲酯（Methyl Benzoylformate)、對異丙基-α -輕基異丁基苯酮、α -輕基異丁基苯酮、2, 2-二甲氧基-2-苯基苯乙酮、1-羥基環(huán)己基苯基甲酮等羰基化合物、四甲基秋蘭姆單硫化物、四甲基秋蘭姆二硫化物、噻噸酮、2-氯噻噸酮、2-甲基噻噸酮等硫化合物等。這些光聚合引發(fā)劑可以單獨使用，也可以2種以上組合使用。
[0114] 相對于組合物的固態(tài)成分總量100質(zhì)量％，上述光聚合引發(fā)劑的含量可適當?shù)貫?0. 1?10質(zhì)量％的范圍、優(yōu)選為0. 5?8質(zhì)量％的范圍。
[0115] 為了提高低折射率層表面的滑動性或耐擦傷性，活性能量線固化性組合物優(yōu)選含有具有烯鍵式不飽和基團的聚硅氧烷化合物。
[0116] 具有烯鍵式不飽和基團的聚硅氧烷化合物是在分子中的聚硅氧烷主鏈的末端或者側鏈中的任一個部位具有1個以上烯鍵式不飽和基團的化合物。作為烯鍵式不飽和基團，可舉出：乙烯基、烯丙基、丙烯酰基、甲基丙烯酰基、丙烯酰氧基、甲基丙烯酰氧基等。具有烯鍵式不飽和基團的聚硅氧烷化合物中的烯鍵式不飽和基團的數(shù)量優(yōu)選為1?6個的范圍。另外，作為具有烯鍵式不飽和基團的聚硅氧烷化合物，優(yōu)選具有烯鍵式不飽和基團的聚二甲基硅氧烷化合物。
[0117] 作為具有烯鍵式不飽和基團的聚硅氧烷化合物，可以使用：日本特開2009-84327 號公報的制造例1 -1?1-3的化合物、或者Chisso Corporation制造的Silaplane FM-0711、Silaplane FM-0721、Silaplane FM-0725、信越化學工業(yè)株式會社制造的 X-24-8201、X-22-174DX、X-22-2426、X-22-2404、X-22-164A、X-22-164C、Dow Corning Toray Co.，Ltd.制造的 BY16-152D、BY16-152、BY16-152C 等市售品。
[0118] 相對于活性能量線固化性組合物的固態(tài)成分總量100質(zhì)量％，具有烯鍵式不飽和基團的聚硅氧烷化合物的含量優(yōu)選為〇. 5質(zhì)量％以上且小于10質(zhì)量％的范圍、更優(yōu)選為1 質(zhì)量％以上且小于8質(zhì)量％的范圍、進一步優(yōu)選為1. 3質(zhì)量％以上且小于6質(zhì)量％的范圍、特別優(yōu)選為1. 5質(zhì)量％以上且小于5質(zhì)量％的范圍。
[0119] 如上所述，易粘接層含有粒子，并且低折射率層含有具有烯鍵式不飽和基團的聚硅氧烷化合物，由此低折射率層表面的滑動性進一步提高，且生產(chǎn)工序等中的抗粘連性提商。
[0120] 另外，在低折射率層為通過濕式涂布法涂布活性能量線固化性樹脂組合物并使其固化而成的層的情況下，可以抑制低聚物從基材膜中析出。
[0121] 如上所述，在使用聚對苯二甲酸乙二醇酯膜作為基材膜的情況下，如果在后述的透明導電膜的制膜工序等中進行加熱處理，則有時作為非交聯(lián)成分的低聚物（環(huán)狀三聚物）在聚對苯二甲酸乙二醇酯膜的表面析出。通過層合上述易粘接層（至少含有樹脂和交聯(lián)劑的易粘接層）和低折射率層（通過濕式涂布法涂布活性能量線固化性樹脂組合物并使其固化而成的低折射率層），可以抑制該低聚物析出。
[0122] 進而，從抑制低聚物析出的觀點考慮，低折射率層的厚度優(yōu)選為80nm以上、更優(yōu) 選為90nm以上。
[0123] 在本發(fā)明的透明導電性膜中，低折射率層側的視覺反射率優(yōu)選為1.0%以下、更優(yōu)選為0. 9%以下、特別優(yōu)選為0. 8%以下、最優(yōu)選為0. 7%以下。如果透明導電性膜的低折射率層側的視覺反射率大于1.0%，則來自顯示面板的光線的透過率降低而使顯示裝置的顯示品質(zhì)降低。
[0124] [透明導電膜]
[0125] 作為透明導電膜的材料，可以使用觸摸面板的電極所使用的公知的材料。例如可舉出：氧化錫、氧化銦、氧化鋪、氧化鋅、ΙΤ0(氧化銦錫）、ΑΤ0(氧化鋪錫）等金屬氧化物、銀納米線等金屬納米線、碳納米管等。其中，可優(yōu)選使用ΙΤ0。
[0126] 對于透明導電膜的厚度，例如，從確保表面電阻值為103Ω/ □以下的良好的導電性的觀點考慮，優(yōu)選為l〇nm以上、更優(yōu)選為15nm以上、特別優(yōu)選為20nm以上。另一方面，如果透明導電膜的厚度過大，則有時會使透視現(xiàn)象的抑制效果變小，及發(fā)生透明性降低之類的不良情況，因此，透明導電膜的厚度的上限優(yōu)選為lOOnm以下、更優(yōu)選為60nm以下、進一步優(yōu)選為50nm以下、特別優(yōu)選為40nm以下。
[0127] 作為透明導電膜的形成方法，沒有特別限制，可以使用目前公知的方法。具體而言，可以使用例如真空蒸鍍法、濺射法、離子鍍法等干式工藝、或者濕式涂布法（具體而言為前述方法）。
[0128] 如上所述制膜而成的透明導電膜可以進行圖案化。圖案化可以根據(jù)透明導電性膜所應用的用途來形成各種圖案。需要說明的是，通過透明導電膜的圖案化，可形成圖案部和非圖案部，作為圖案部的形狀，例如，可舉出條紋狀、格子狀、或者它們的組合圖案等。
[0129] 透明導電膜的圖案化通常利用蝕刻來進行。例如，通過光蝕刻法、激光曝光法、或者印刷法在透明導電膜上形成圖案狀的抗蝕劑膜，然后進行蝕刻處理，由此使透明導電膜圖案化。
[0130] 作為蝕刻液，可使用目前公知的蝕刻液。例如，可使用氯化氫、溴化氫、硫酸、硝酸、磷酸等無機酸、乙酸等有機酸、及它們的混合物、以及它們的水溶液。
[0131] [其它功能層]
[0132] 在基材膜與透明導電膜之間，優(yōu)選設置其它功能層。作為其它功能層，可舉出易粘接層、硬涂層、高折射率層、低折射率層等，可以將這些功能層單獨設置或者組合設置。
[0133] 作為設置在基材膜與透明導電膜之間的易粘接層，可以使用與上述同樣的易粘接層，特別優(yōu)選折射率為1. 55?1. 60的范圍的易粘接層。另外，厚度優(yōu)選為10?200nm的范圍。
[0134] 硬涂層優(yōu)選為通過濕式涂布法涂布包含上述活性能量線固化性樹脂的活性能量線固化組合物并使其固化而成的層。硬涂層的折射率適宜為1. 48?1. 55的范圍、優(yōu)選為 1. 50?1. 53的范圍。
[0135] 高折射率層優(yōu)選為通過濕式涂布法涂布包含折射率為1. 65以上的金屬氧化物微粒（氧化鈦、氧化鋯、氧化鋅、氧化錫、氧化銻、氧化鈰、氧化鐵、銻酸鋅、氧化錫摻氧化銦 (IT0)、摻鋪氧化錫（ΑΤΟ)、摻磷氧化錫、摻錯氧化鋅、摻鎵氧化鋅、摻氟氧化錫等）和上述活性能量線固化性樹脂的活性能量線固化組合物并使其固化而成的層。
[0136] 高折射率層的折射率（nl)優(yōu)選為1. 61?1. 80的范圍、更優(yōu)選為1. 63?1. 75的范圍。高折射率層的厚度（dl)優(yōu)選為30?100nm的范圍、更優(yōu)選為40?95nm的范圍。
[0137] 低折射率層可以使用與上述的低折射率層同樣的層。另外，還優(yōu)選使用5102膜 (通過氣相制膜法形成）作為低折射率層。低折射率層的折射率（π2)優(yōu)選為1. 30?1. 50 的范圍、更優(yōu)選為1. 33?1. 48的范圍。低折射率層的厚度（d2)較優(yōu)選為5?70nm的范圍、更優(yōu)選為7?50nm的范圍、特別優(yōu)選為10?45nm的范圍。
[0138] 特別優(yōu)選在基材膜與透明導電膜之間設置高折射率層與低折射率層。通過設置高折射率層與低折射率層，可以修正透明導電性膜的由透明導電膜的色調(diào)引起的反射色或透射色的不良情況。此時，高折射率層的光學厚度與低折射率層的光學厚度的總計優(yōu)選為 λ/4。
[0139] 這里，光學厚度為折射率與厚度之積，λ為可見光區(qū)域的波長范圍即380? 780nm。厚度的單位為nm。
[0140] 即，高折射率層的光學厚度與低折射率層的光學厚度的總計優(yōu)選滿足下面的關系式4。
[0141] (380nm/4) ^ (nl X dl) + (n2 X d2) ^ (780nm/4)
[0142] 95nm 蘭（nl X dl) + (n2 X d2)蘭 195nm · · ·(式 4)
[0143] 如上所述，在基材膜與透明導電膜之間設置通過濕式涂布法涂布活性能量線固化組合物并使其固化而成的層、即選自硬涂層、高折射率層及低折射率層中的至少1層，由此可以防止低聚物從基材膜中析出。
[0144] [觸摸面板及顯示裝置]
[0145] 本發(fā)明的透明導電性膜優(yōu)選用于電阻膜式或電容式等的觸摸面板。特別優(yōu)選用于電容式觸摸面板。
[0146] 電阻膜式觸摸面板通常為以2個透明導電性膜的透明導電膜彼此之間隔著隔離物相對的方式進行配置的構成。
[0147] 圖1是具備電阻膜式觸摸面板（使用有本發(fā)明的透明導電性膜）的顯示裝置的一個例子的剖面示意圖。圖1是使用本發(fā)明的透明導電性膜11作為下部電極的方案。由構成上部電極的透明導電性膜12與構成下部電極的透明導電性膜11構成觸摸面板21，觸摸面板21隔著空氣層9配置在顯示面板31上。
[0148] 對觸摸面板21而言，本發(fā)明的透明導電性膜11(在基材膜1的一面具有透明導電膜2、且在基材膜1的另一面隔著易粘接層3僅具有一層低折射率層4)與透明導電性膜 12 (在基材膜5的一面具有透明導電膜6、且在基材膜5的另一面具有功能層7)以使透明導電膜2與6隔著隔離物8相對的方式進行配置。在本發(fā)明的透明導電性膜11的低折射率層4側存在空氣層9。
[0149] 由于該空氣層9的存在，與透明導電性膜11的界面處的反射率變大，使來自顯示面板的光線的透過率降低，作為顯示裝置也會使顯示品質(zhì)（亮度或視覺辨認度）降低。然而，通過使用本發(fā)明的透明導電性膜，可減少界面反射，可以確保良好的顯示品質(zhì)。
[0150] 作為顯示面板31，可舉出液晶顯示面板或有機EL顯示面板。作為透明導電性膜 12的功能層，可使用硬涂層、防眩層、防反射層、防污層等。
[0151] 圖2及圖3是具備電容式觸摸面板（使用有本發(fā)明的透明導電性膜）的顯示裝置的一個例子的剖面示意圖。
[0152] 圖2是具備X電極與Y電極隔著空氣層配置而成的電容式觸摸面板的顯示裝置的剖面示意圖。X電極由本發(fā)明的透明導電性膜13構成，Y電極由本發(fā)明的透明導電性膜14 構成，2個透明導電性膜13與14隔著空氣層9配置而形成觸摸面板22。而且觸摸面板22 隔著空氣層9配置在顯示面板31上。
[0153] 對于構成X電極及Y電極的本發(fā)明的透明導電性膜13及14而言，在基材膜1的一面具有透明導電膜2且在基材膜1的另一面隔著易粘接層3僅具有一層低折射率層4。X 電極及Y電極可通過分別將透明導電膜2圖案化來形成。
[0154] 本發(fā)明的透明導電性膜13及14的各自的低折射率層4與空氣層9接觸。
[0155] 在圖2中，透明導電性膜13與14可以通過粘合劑層（未圖示）粘合。此時，由于透明導電性膜13的低折射率層未與空氣層接觸，因此，透明導電性膜13未必需要使用本發(fā) 明的透明導電性膜。
[0156] 圖3是具備下述電容式觸摸面板的顯示裝置的剖面示意圖，該電容式觸摸面板使用了在1個基材膜上形成有X電極與Y電極的透明導電性膜。本發(fā)明的透明導電性膜15 的透明導電膜2的構成是，形成X電極的圖案化了的透明導電膜與形成Y電極的圖案化了的透明導電膜隔著絕緣膜進行層合。
[0157] 形成觸摸面板23的本發(fā)明的透明導電性膜15隔著空氣層9配置在顯示面板31 上，本發(fā)明的透明導電性膜15的低折射率層4與空氣層9接觸。
[0158] 對于圖2及圖3所示的具備電容式觸摸面板的顯示裝置，通常在觸摸面?zhèn)雀糁?圖示的空氣層或者粘合劑層配置有未圖示的保護面板（玻璃板或丙烯酸類樹脂板等）。
[0159] 如上所述，在將使用有本發(fā)明的透明導電性膜的觸摸面板組裝在顯示裝置的顯示面板上時，優(yōu)選以使本發(fā)明的透明導電性膜的低折射率層側隔著空氣層與顯示面板相對的方式配置。
[0160] 如上所述，優(yōu)選將本發(fā)明的透明導電性膜組裝在具備觸摸面板的顯示裝置的內(nèi)部而不是觸摸面。通過將本發(fā)明的透明導電性膜用于顯示裝置的內(nèi)部，在耐擦傷性方面，能實現(xiàn)僅一層低折射率層的構成（不具有硬涂層或高折射率層）。
[0161] 另外，作為本發(fā)明的透明導電性膜的其它用途，可舉出遮蔽由液晶顯示面板產(chǎn)生的電磁波的電磁波屏蔽構件。也就是說，本發(fā)明的透明導電性膜適于電磁波屏蔽構件。
[0162] 圖4是具備使用有本發(fā)明的透明導電性膜的電磁波屏蔽構件的顯示裝置的一個例子的剖面示意圖。
[0163] 在圖4中，形成電磁波屏蔽構件24的本發(fā)明的透明導電性膜16隔著空氣層9配置在顯示面板（液晶顯示面板）31上，本發(fā)明的透明導電性膜16的低折射率層4與空氣層 9接觸。對于本發(fā)明的透明導電性膜16而言，在基材膜1的一面具有透明導電膜2且在基材膜1的另一面隔著易粘接層3僅具有一層低折射率層4。
[0164] 對于圖4的顯示裝置，在形成電磁波屏蔽構件24的本發(fā)明的透明導電性膜16的透明導電膜2之側配置有觸摸面板25。這里，對觸摸面板25沒有特別限制，也可以使用上述的電阻膜式或電容式以外的其它方式的觸摸面板（例如超聲波方式、電磁感應方式等）。另外，還優(yōu)選使用如上所述的使用有本發(fā)明的透明導電性膜的電阻膜式觸摸面板或電容式觸摸面板。
[0165] 實施例
[0166] 下面，通過實施例進一步詳細地說明本發(fā)明，但本發(fā)明并不受這些實施例限定。需要說明的是，下面示出本實施例中的測定方法及評價方法。
[0167] (1)基材膜的折射率的測定
[0168] 對于基材膜（PET膜）的折射率，依照JIS K7105 (1981)用阿貝折射率計進行測定。
[0169] (2)易粘接層及低折射率層的折射率的測定
[0170] 對于用旋轉(zhuǎn)涂布機將易粘接層及低折射率層的各自的涂布組合物涂布在硅晶圓上形成的涂膜（干燥厚度約為2 μ m)，在25°C的溫度條件下，用相位差測定裝置（Nikon Corporation 制造，NPDM-1000)測定 633nm 的折射率。
[0171] (3)易粘接層的厚度
[0172] 將層合有易粘接層的基材膜的剖面裁切成超薄切片，通過利用Ru04染色、0s0 4染色、或者二者的雙重染色的染色超薄切片法，用TEM(透射型電子顯微鏡）在可目視剖面構造的下述條件下進行觀察，由其剖面照片測定易粘接層的厚度。需要說明的是，測定5個部位，將其平均值設定為易粘接層的厚度。
[0173] ?測定裝置：透射型電子顯微鏡（日立株式會社制造，H-7100FA型）
[0174] ?測定條件：加速電壓100kV
[0175] ?試樣制備：冷凍超薄切片法
[0176] ?倍率：30萬倍
[0177] (4)低折射率層的厚度的測定
[0178] 將樣品的剖面裁切成超薄切片，用透射型電子顯微鏡（日立制造的H-7100FA型）以加速電壓l〇〇kV進行觀察（以10萬倍的倍率進行觀察），由其剖面照片測定低折射率層的厚度。需要說明的是，測定5個部位，將其平均值設定為低折射率層的厚度。
[0179] (5)透明導電性膜的視覺反射率的測定
[0180] <評價用樣品的制作>
[0181] 用粘合劑將樣品的與層合有低折射率層之側相反的面粘貼在玻璃板上，在該玻璃板的反面（與粘貼有透明導電性膜樣品的面相反側的面）粘貼黑膠帶（日東電工制造， No. 21Toku (BC))，制作評價用樣品。
[0182] < 測定 >
[0183] 使用分光光度計（島津制作所制造、UV3150PC)，以從測定面算起為5度的入射角，在波長380?780nm的范圍內(nèi)計算反射率（單面反射），求出視覺反射率（JIS Z8701-1999 中規(guī)定的反射的刺激值Y)。用分光光度計測定光譜，依照JIS Z8701-1999計算反射率（單面光線反射）。計算式如下所述。
[0184] ·Τ = Κ· / S(A) ·γ(λ) ·Ι?(λ) *(1入（其中，積分區(qū)間為 380 ?780nm)
[0185] T:單面光線反射率
[0186] S( λ ):用于顏色顯示的標準光線的分布
[0187] y(A) :ΧΥΖ顯示體系中的等色函數(shù)
[0188] R( λ ):光譜反射率（spectral reflectance factor)。
[0189] <視覺反射率的標準>
[0190] 在具有使用有本發(fā)明的透明導電性膜的觸摸面板的顯示裝置中，為了不使來自顯示面板的光線的透過率降低，透明導電性膜的低折射率層側的視覺反射率優(yōu)選為1.0%以下、更優(yōu)選為0. 9%以下、特別優(yōu)選為0. 8%以下。如果視覺反射率大于1. 0%，則透過率降低。
[0191] (6)密合性
[0192] 將各樣品在60°C -90% RH的氣氛下放置500小時，然后，在各樣品的薄膜層面上劃100個1mm2的劃格，在其上粘貼Nichiban Co.，Ltd.制造的玻璃紙膠帶，用手指大力按壓后，沿90度方向迅速剝離，通過殘留的個數(shù)，用以下基準評價密合性。
[0193] 〇：90/100(殘留個數(shù)/測定個數(shù)）以上
[0194] X :小于90/100(殘留個數(shù)/測定個數(shù)）
[0195] (7)滑動性
[0196] 將各樣品切斷而制作2張薄片（20cmX 15cm)。以使2張薄片的低折射率層面彼此之間相對的方式將2張薄片稍稍錯開而重疊，放置在平滑的臺上，用手指將下方的薄片固定在臺上，通過用手使上方的薄片滑動的方法進行滑動性好壞的判定。測定環(huán)境為23°C、 55% RH。
[0197] 〇：上方的薄片的滑動性良好。
[0198] Λ :上方的薄片的滑動性差，但為比較良好的。
[0199] X :上方的薄片不滑動。
[0200] (8)易粘接層所含有的粒子的平均粒徑的測定
[0201] 對于易粘接層表面，用SEM(掃描型電子顯微鏡）以一萬倍的倍率進行觀察，將粒子的圖像（由粒子造成的光的濃淡）傳送至圖像分析儀（例如Cambridge Instrument制造的QTM900)，改變觀察部位來讀取數(shù)據(jù)，在總計粒子數(shù)為5000個以上時進行下述數(shù)值處理，將由此求出的數(shù)平均直徑d設定為平均粒徑（直徑）。
[0202] · d = Σ di/N
[0203] 這里，di為粒子的等效圓直徑（具有與粒子的截面積相同的面積的圓的直徑），N 為個數(shù)。
[0204] (9)抑制低聚物析出的效果的評價
[0205] 將各樣品放置在140°C的烘箱中，進行熱處理80分鐘?；贘ISK7105(1981)，使用日本電色工業(yè)株式會社制造的濁度計NDH2000測定熱處理前后的霧度值?；跓崽幚砬?后的霧度值的變化，用以下基準評價抑制低聚物析出的效果。
[0206] 〇：熱處理前后的霧度值變化小于0. 5%
[0207] Λ :熱處理前后的霧度值變化為0. 5%以上且小于1. 0%
[0208] X :熱處理前后的霧度值變化為1. 0%以上。
[0209] (用于形成易粘接層的樹脂）
[0210] <聚酯樹脂1、2>
[0211] 通過調(diào)節(jié)聚酯樹脂中的芴環(huán)的含量，制備折射率為1. 64的水分散性的聚酯樹脂1 和折射率為1. 62的水分散性的聚酯樹脂2。即，在下述的含芴環(huán)聚酯樹脂的合成中，通過將 9, 9-雙[4-(2-羥基乙氧基）苯基]芴的組成比X摩爾％在35摩爾％?45摩爾％的范圍內(nèi)進行調(diào)節(jié)，得到上述聚酯樹脂1及聚酯樹脂2。
[0212] <含芴環(huán)聚酯樹脂>
[0213] 為由下述的羧酸成分和二醇成分的共聚組成構成的聚酯樹脂。
[0214] ?羧酸成分
[0215] 琥珀酸 40摩爾％
[0216] 間苯二甲酸5-磺酸鈉 10摩爾％
[0217] ?二醇成分
[0218] 9, 9-雙[4-(2-羥基乙氧基）苯基]芴 x摩爾％
[0219] 乙二醇（50-x)摩爾％。
[0220] <聚酯樹脂3 >
[0221] 制備下述的折射率為1. 58的水分散性的聚酯樹脂3 (含萘環(huán)聚酯樹脂）。
[0222] <含萘環(huán)聚酯樹脂>
[0223] 為由下述的羧酸成分和二醇成分的共聚組成構成的聚酯樹脂。
[0224] ?羧酸成分
[0225] 對苯二甲酸 35摩爾％
[0226] 2, 6-萘二甲酸 9摩爾％
[0227] 間苯二甲酸5-磺酸鈉 6摩爾％
[0228] ?二醇成分
[0229] 乙二醇 49摩爾％
[0230] 二甘醇 1摩爾％。
[0231] <丙烯酸類樹脂1、2 >
[0232] 分別準備下述的折射率為1. 54的水分散性的丙烯酸類樹脂1和折射率為1. 52的水分散性的丙烯酸類樹脂2。
[0233] <丙烯酸類樹脂1 >
[0234] 為由下述的共聚組成構成的丙烯酸類樹脂。
[0235] ?共聚成分
[0236] 曱基丙烯酸甲酯 64重量％丙烯酸乙酯 30重量°/〇丙烯酸 5重量％ N-羥甲基丙烯酰胺 1重量％。
[0237] <丙烯酸類樹脂2 >
[0238] 為由下述的共聚組成構成的丙烯酸類樹脂。
[0239] ?共聚成分
[0240] 甲基丙烯酸甲酯 63重量％丙烯酸乙酯 35重量％丙烯酸 1重量％ N-羥曱基丙烯酰胺 1重量％。
[0241] (易粘接層所含有的粒子）
[0242] ?粒子A :平均粒徑為190nm的膠體二氧化硅
[0243] ?粒子B :平均粒徑為80nm的膠體二氧化硅
[0244] ?粒子C :平均粒徑為30nm的膠體二氧化硅。
[0245] [制造例1]
[0246] 在折射率為1. 65且厚度為100 μ m的聚對苯二甲酸乙二醇酯膜（PET膜）的一面 (層合低折射率層的面），層合下述的易粘接層A使干燥厚度為90nm，得到帶易粘接層的 PET 膜。
[0247] 上述所得到的帶易粘接層的PET膜的易粘接層的厚度為90nm，易粘接層的折射率為1. 64。該易粘接層滿足條件1。
[0248] 另外，在PET膜的另一面（層合透明導電膜的一側的面）層合下述易粘接層Z使干燥厚度為90nm。
[0249] <易粘接層八>
[0250] 含有100質(zhì)量份的折射率為1. 64的聚酯樹脂1、5質(zhì)量份的三聚氰胺系交聯(lián)劑、2 質(zhì)量份的粒子A。各成分的含量為以固態(tài)成分換算計的含量，下面的實施例也同樣。
[0251] 上述三聚氰胺系交聯(lián)劑為羥甲基型三聚氰胺系交聯(lián)劑（Sanwa Chemical Co.，Ltd.制造的"NIKALAC MW12LF")，在下面的實施例及比較例中，三聚氰胺系交聯(lián)劑是指上述化合物。
[0252] <易粘接層冗>
[0253] 含有100質(zhì)量份的折射率為1. 58的聚酯樹脂3、5質(zhì)量份的三聚氰胺系交聯(lián)劑、2 質(zhì)量份的粒子A。
[0254] [制造例2]
[0255] 在折射率為1. 65且厚度為100 μ m的聚對苯二甲酸乙二醇酯膜（PET膜）的一面 (層合低折射率層的面）層合下述的易粘接層B使干燥厚度為20nm，得到帶易粘接層的PET 膜。
[0256] 上述所得到的帶易粘接層的PET膜的易粘接層的厚度為20nm，易粘接層的折射率為1.64。該易粘接層滿足條件1及條件2。
[0257] 另外，在PET膜的另一面（層合透明導電膜的一側的面），與制造例1同樣地層合易粘接層Z使干燥厚度為90nm。
[0258] <易粘接層8>
[0259] 含有100質(zhì)量份的折射率為1. 64的聚酯樹脂1、5質(zhì)量份的三聚氰胺系交聯(lián)劑、2 質(zhì)量份的粒子B。
[0260] [制造例3]
[0261] 在折射率為1.65且厚度為100 μ m的聚對苯二甲酸乙二醇酯膜（PET膜）的一面 (層合低折射率層的面）層合下述的易粘接層C使干燥厚度為90nm，得到帶易粘接層的PET 膜。
[0262] 上述所得到的帶易粘接層的PET膜的易粘接層的厚度為90nm，易粘接層的折射率為1. 62。該易粘接層滿足條件1。
[0263] 另外，在PET膜的另一面（層合透明導電膜的一側的面），與制造例1同樣地層合易粘接層Z使干燥厚度為90nm。
[0264] <易粘接層0
[0265] 含有100質(zhì)量份的折射率為1. 62的聚酯樹脂2、5質(zhì)量份的三聚氰胺系交聯(lián)劑、2 質(zhì)量份的粒子A。
[0266] [制造例4]
[0267] 在折射率為1. 65且厚度為100 μ m的聚對苯二甲酸乙二醇酯膜（PET膜）的一面 (層合低折射率層的面）層合下述的易粘接層D使干燥厚度為30nm，得到帶易粘接層的PET 膜。
[0268] 上述所得到的帶易粘接層的PET膜的易粘接層的厚度為30nm，易粘接層的折射率為1. 62。該易粘接層滿足條件1及條件2。
[0269] 另外，在PET膜的另一面（層合透明導電膜的一側的面），與制造例1同樣地層合易粘接層Z使干燥厚度為90nm。
[0270] <易粘接層0>
[0271] 含有100質(zhì)量份的折射率為1. 62的聚酯樹脂2、5質(zhì)量份的三聚氰胺系交聯(lián)劑、2 質(zhì)量份的粒子B。
[0272] [制造例5]
[0273] 在折射率為1. 65且厚度為100 μ m的聚對苯二甲酸乙二醇酯膜（PET膜）的一面 (層合低折射率層的面），層合下述易粘接層E使干燥厚度為90nm，得到帶易粘接層的PET 膜。
[0274] 上述所得到的帶易粘接層的PET膜的易粘接層的厚度為90nm，易粘接層的折射率為1. 58。該易粘接層滿足條件1。
[0275] 另外，在PET膜的另一面（層合透明導電膜的一側的面），與制造例1同樣地層合易粘接層Z使干燥厚度為90nm。
[0276] <易粘接層E>
[0277] 含有100質(zhì)量份的折射率為1. 58的聚酯樹脂3、5質(zhì)量份的三聚氰胺系交聯(lián)劑、2 質(zhì)量份的粒子A。
[0278] [制造例6]
[0279] 在折射率為1. 65且厚度為100 μ m的聚對苯二甲酸乙二醇酯膜（PET膜）的一面 (層合低折射率層的面），層合下述易粘接層F使干燥厚度為40nm，得到帶易粘接層的PET 膜。
[0280] 上述所得到的帶易粘接層的PET膜的易粘接層的厚度為40nm，易粘接層的折射率為1. 58。該易粘接層滿足條件1及條件2。
[0281] 另外，在PET膜的另一面（層合透明導電膜的一側的面），與制造例1同樣地層合易粘接層Z使干燥厚度為90nm。
[0282] <易粘接層？>
[0283] 含有100質(zhì)量份的折射率為1. 58的聚酯樹脂3、5質(zhì)量份的三聚氰胺系交聯(lián)劑、2 質(zhì)量份的粒子B。
[0284] [制造例7]
[0285] 除了將制造例6的易粘接層F的厚度變更為20nm以外，與制造例6同樣操作，得到帶易粘接層的PET膜。
[0286] 上述所得到的帶易粘接層的PET膜的易粘接層的厚度為20nm，易粘接層的折射率為1. 58。該易粘接層滿足條件1及條件2。
[0287] [制造例8]
[0288] 在折射率為1. 65且厚度為100 μ m的聚對苯二甲酸乙二醇酯膜（PET膜）的一面 (層合低折射率層的面），層合下述的易粘接層G使干燥厚度為90nm，得到帶易粘接層的 PET 膜。
[0289] 上述所得到的帶易粘接層的PET膜的易粘接層的厚度為90nm，易粘接層的折射率為1. 54。該易粘接層既不滿足條件1也不滿足條件2。
[0290] 另外，在PET膜的另一面（層合透明導電膜的一側的面），與制造例1同樣地層合易粘接層Z使干燥厚度為90nm。
[0291] 〈易粘接層G>
[0292] 含有100質(zhì)量份的折射率為1. 54的丙烯酸類樹脂1、5質(zhì)量份的三聚氰胺系交聯(lián) 劑、2質(zhì)量份的粒子A。
[0293] [制造例9]
[0294] 除了將制造例8的易粘接層G的厚度變更為60nm以外，與制造例8同樣操作，得到帶易粘接層的PET膜。
[0295] 上述所得到的帶易粘接層的PET膜的易粘接層的厚度為60nm，易粘接層的折射率為1. 54。該易粘接層既不滿足條件1也不滿足條件2。
[0296] [制造例 10]
[0297] 除了將制造例8的易粘接層G的厚度變更為40nm以外，與制造例8同樣操作，得到帶易粘接層的PET膜。
[0298] 上述所得到的帶易粘接層的PET膜的易粘接層的厚度為40nm，易粘接層的折射率為1. 54。該易粘接層滿足條件2。
[0299] [制造例 11]
[0300] 在折射率為1. 65且厚度為100 μ m的聚對苯二甲酸乙二醇酯膜（PET膜）的一面 (層合低折射率層的面），層合下述易粘接層Η使干燥厚度為90nm，得到帶易粘接層的PET 膜。
[0301] 上述所得到的帶易粘接層的PET膜的易粘接層的厚度為90nm，易粘接層的折射率為1. 52。該易粘接層既不滿足條件1也不滿足條件2。
[0302] 另外，在PET膜的另一面（層合透明導電膜的一側的面），與制造例1同樣地層合易粘接層z使干燥厚度為90nm。
[0303] <易粘接層11>
[0304] 含有100質(zhì)量份的折射率為1. 52的丙烯酸類樹脂2、5質(zhì)量份的三聚氰胺系交聯(lián) 劑、2質(zhì)量份的粒子A。
[0305][制造例 12]
[0306] 除了將制造例11的易粘接層Η的厚度變更為60nm以外，與制造例11同樣操作，得到帶易粘接層的PET膜。
[0307] 上述所得到的帶易粘接層的PET膜的易粘接層的厚度為60nm，易粘接層的折射率為1. 52。該易粘接層既不滿足條件1也不滿足條件2。
[0308] [制造例 13]
[0309] 在折射率為1. 65且厚度為100 μ m的聚對苯二甲酸乙二醇酯膜（PET膜）的一面 (層合低折射率層的面），層合下述易粘接層I使干燥厚度為20nm，得到帶易粘接層的PET 膜。
[0310] 上述所得到的帶易粘接層的PET膜的易粘接層的厚度為20nm，易粘接層的折射率為1. 52。該易粘接層滿足條件2。
[0311] 另外，在PET膜的另一面（層合透明導電膜的一側的面），與制造例1同樣地層合易粘接層Z使干燥厚度為90nm。
[0312] <易粘接層1>
[0313] 含有100質(zhì)量份的折射率為1. 52的丙烯酸類樹脂2、5質(zhì)量份的三聚氰胺系交聯(lián) 劑、2質(zhì)量份的粒子B。
[0314] [制造例 14]
[0315] 在折射率為1.65且厚度為100 μ m的聚對苯二甲酸乙二醇酯膜（PET膜）的一面 (層合低折射率層的面），層合下述易粘接層J使干燥厚度為90nm，得到帶易粘接層的PET 膜。
[0316] 上述所得到的帶易粘接層的PET膜的易粘接層的厚度為90nm，易粘接層的折射率為1. 52。該易粘接層既不滿足條件1也不滿足條件2。
[0317] 另外，在PET膜的另一面（層合透明導電膜的一側的面），與制造例1同樣地層合易粘接層Z使干燥厚度為90nm。
[0318] <易粘接層了>
[0319] 含有100質(zhì)量份的折射率為1. 52的丙烯酸類樹脂2、5質(zhì)量份的三聚氰胺系交聯(lián) 劑、2質(zhì)量份的粒子C。
[0320] [制造例 15]
[0321] 在折射率為1.65且厚度為100 μ m的聚對苯二甲酸乙二醇酯膜（PET膜）的一面 (層合低折射率層的面），層合下述易粘接層K使干燥厚度為90nm，得到帶易粘接層的PET 膜。
[0322] 上述所得到的帶易粘接層的PET膜的易粘接層的厚度為90nm，易粘接層的折射率為1. 52。該易粘接層既不滿足條件1也不滿足條件2。
[0323] 另外，在PET膜的另一面（層合透明導電膜的一側的面），與制造例1同樣地層合易粘接層Z使干燥厚度為90nm。
[0324] <易粘接層1(>
[0325] 含有100質(zhì)量份的折射率為1. 52的丙烯酸類樹脂2、5質(zhì)量份的三聚氰胺系交聯(lián) 齊U。該易粘接層F為不含有粒子的易粘接層。
[0326] [制造例 16]
[0327] 準備未層合易粘接層的PET膜（折射率為1. 65、厚度為100 μ m)。
[0328] [制造例 17-1]
[0329] 在折射率為1. 65且厚度為100 μ m的聚對苯二甲酸乙二醇酯膜（PET膜）的一面 (層合低折射率層的面），層合下述易粘接層L使干燥厚度為90nm，得到帶易粘接層的PET 膜。
[0330] 上述所得到的帶易粘接層的PET膜的易粘接層的厚度為90nm，易粘接層的折射率為1. 60。該易粘接層滿足條件1。
[0331] 另外，在PET膜的另一面（層合透明導電膜的一側的面），與制造例1同樣地層合易粘接層Z使干燥厚度為90nm。
[0332] <易粘接層1^>
[0333] 含有100質(zhì)量份的聚酯樹脂3、20質(zhì)量份的氧化鋯（平均粒徑為20nm)、15質(zhì)量份的三聚氰胺系交聯(lián)劑、1質(zhì)量份的粒子A。
[0334] [制造例 17-2]
[0335] 在上述制造例17-1中，除了將易粘接層L的干燥厚度變更為120nm以外，與制造例17-1同樣操作，得到帶易粘接層的PET膜。
[0336] 上述所得到的帶易粘接層的PET膜的易粘接層的厚度為120nm，易粘接層的折射率為1. 60。該易粘接層滿足條件1。
[0337] [制造例 17-3]
[0338] 在上述制造例17-1中，除了將易粘接層L的干燥厚度變更為150nm以外，與制造例17-1同樣操作，得到帶易粘接層的PET膜。
[0339] 上述所得到的帶易粘接層的PET膜的易粘接層的厚度為150nm，易粘接層的折射率為1. 60。該易粘接層滿足條件1。
[0340] [制造例 18]
[0341] 在折射率為1. 65且厚度為100 μ m的聚對苯二甲酸乙二醇酯膜（PET膜）的一面 (層合低折射率層的面），層合下述易粘接層Μ使干燥厚度為90nm，得到帶易粘接層的PET 膜。
[0342] 上述所得到的帶易粘接層的PET膜的易粘接層的厚度為90nm，易粘接層的折射率為1. 65。該易粘接層滿足條件1。
[0343] 另外，在PET膜的另一面（層合透明導電膜的一側的面），與制造例1同樣地層合易粘接層Z使干燥厚度為90nm。
[0344] <易粘接層皿>
[0345] 含有100質(zhì)量份的聚酯樹脂3、60質(zhì)量份的氧化锫（平均粒徑為20nm)、15質(zhì)量份的三聚氰胺系交聯(lián)劑、1質(zhì)量份的粒子A。
[0346] [制造例 19]
[0347] 在折射率為1. 65且厚度為100 μ m的聚對苯二甲酸乙二醇酯膜（PET膜）的一面 (層合低折射率層的面），層合下述易粘接層N使干燥厚度為90nm，得到帶易粘接層的PET 膜。
[0348] 上述所得到的帶易粘接層的PET膜的易粘接層的厚度為90nm，易粘接層的折射率為1. 66。該易粘接層滿足條件1。
[0349] 另外，在PET膜的另一面（層合透明導電膜的一側的面），與制造例1同樣地層合易粘接層Z使干燥厚度為90nm。
[0350] <易粘接層N>
[0351] 含有100質(zhì)量份的聚酯樹脂3、67質(zhì)量份的氧化锫（平均粒徑為20nm)、15質(zhì)量份的三聚氰胺系交聯(lián)劑、1質(zhì)量份的粒子A。
[0352] [制造例 20]
[0353] 在折射率為1. 65且厚度為100 μ m的聚對苯二甲酸乙二醇酯膜（PET膜）的一面 (層合低折射率層的面），代替易粘接層，以使干燥厚度為90nm的方式層合下述的活性能量線固化性（紫外線固化性）的高折射率層并照射紫外線，得到層合有高折射率層的PET膜。
[0354] 上述所得到的層合有高折射率層的PET膜的高折射率層的厚度為90nm，高折射率層的折射率為1.65。
[0355] 另外，在上述PET膜的另一面（層合透明導電膜的一側的面），與制造例1同樣地層合易粘接層Z使干媒厚度為90nm。
[0356] <高折射率層>
[0357] 含有100質(zhì)量份的作為活性能量線固化性樹脂的二季戊四醇六丙烯酸酯、100 質(zhì)量份的氧化锫（平均粒徑為20nm)、及5質(zhì)量份的光聚合引發(fā)劑（Ciba Specialty Chemicals Ltd.制造的 "Irgacure (注冊商標）184"）。
[0358] [實施例1?33及比較例1?25]
[0359] 根據(jù)下述要領，制作實施例1?33及比較例1?25的透明導電性膜。
[0360] 在上述制造例1?19所得到的帶易粘接層的PET膜的一個易粘接層（層合低折射率層的一側的易粘接層）的表面，形成下述的低折射率層A、低折射率層B、低折射率層C 或低折射率層D。另外，在上述制造例20所得到的層合有高折射率層的PET膜的高折射率層上，形成低折射率層C。
[0361] 將帶易粘接層的PET膜與低折射率層的組合示于表1?表3。
[0362] 另外，在帶易粘接層的PET膜的另一個易粘接層（透明導電層側的易粘接層）的表面，依次層合下述的硬涂層、高折射率層、310 2膜、及透明導電膜，制作透明導電性膜。
[0363] <低折射率層A >
[0364] 使47質(zhì)量份活性能量線固化性樹脂（以質(zhì)量比1 :3含有二季戊四醇六丙烯酸酯和氨基甲酸酯丙烯酸酯）、以固態(tài)成分計為50質(zhì)量份的中空二氧化硅（日揮觸媒化成株式會社制造的ELEC0M-P5024)、3質(zhì)量份的具有烯鍵式不飽和基團的聚硅氧烷化合物（信越化學工業(yè)株式會社制造的"X-22-164C"）及3質(zhì)量份光聚合引發(fā)劑（Ciba Specialty Chemicals Ltd.制造的"Irgacure (注冊商標）184"）分散或者溶解在有機溶劑中，制備活性能量線固化性樹脂組合物。該組合物的折射率為1.35。
[0365] 通過濕式涂布法（凹版涂布法）涂布該組合物，并在90°C下干燥后，以400mJ/cm2 照射紫外線使其固化，形成低折射率層。對于低折射率層的厚度（固化后的厚度），如表1? 表3所示，使其在70nm、90nm、100nm、110nm、130nm之間變化。
[0366] <低折射率層B >
[0367] 使59質(zhì)量份的活性能量線固化性樹脂（以質(zhì)量比1 :3含有二季戊四醇六丙烯酸酯和氨基甲酸酯丙烯酸酯）、以固態(tài)成分計為38質(zhì)量份的中空二氧化硅（日揮觸媒化成株式會社制造的ELEC0M-P5024)、3質(zhì)量份的具有烯鍵式不飽和基團的聚硅氧烷化合物（信越化學工業(yè)株式會社制造的"X-22-164C"）及3質(zhì)量份光聚合引發(fā)劑（Ciba Specialty Chemicals Ltd.制造的"Irgacure (注冊商標）184"）分散或者溶解在有機溶劑中，制備活性能量線固化性樹脂組合物。該組合物的折射率為1.38。
[0368] 通過濕式涂布法（凹版涂布法）涂布該組合物，并在90°C下干燥后，以400mJ/cm2 照射紫外線使其固化，形成低折射率層。對于低折射率層的厚度（固化后的厚度），如表1? 表3所示，使其在90nm、100nm、llOnm之間變化。
[0369] <低折射率層C >
[0370] 使67質(zhì)量份活性能量線固化性樹脂（以質(zhì)量比1 :3含有二季戊四醇六丙烯酸酯和氨基甲酸酯丙烯酸酯）、以固態(tài)成分計為30質(zhì)量份的中空二氧化硅（日揮觸媒化成株式會社制造的ELEC0M-P5024)、3質(zhì)量份具有烯鍵式不飽和基團的聚硅氧烷化合物（信越化學工業(yè)株式會社制造的"X-22-164C"）及3質(zhì)量份光聚合引發(fā)劑（Ciba Specialty Chemicals Ltd.制造的"Irgacure(注冊商標）184"）分散或者溶解在有機溶劑中，制備活性能量線固化性樹脂組合物。該組合物的折射率為1.40。
[0371] 通過濕式涂布法（凹版涂布法）涂布該組合物，并在90°C下干燥后，以400mJ/cm2 照射紫外線使其固化，形成厚度為l〇〇nm的低折射率層。
[0372] <低折射率層D >
[0373] 使82質(zhì)量份活性能量線固化性樹脂（以質(zhì)量比1 :3含有二季戊四醇六丙烯酸酯和氨基甲酸酯丙烯酸酯）、以固態(tài)成分計為15質(zhì)量份的中空二氧化硅（日揮觸媒化成株式會社制造的ELEC0M-P5024)、及3質(zhì)量份光聚合引發(fā)劑（Ciba Specialty Chemicals Ltd. 制造的" Irgacure (注冊商標）184"）分散或者溶解在有機溶劑中，制備活性能量線固化性樹脂組合物。該組合物的折射率為1.43。
[0374] 通過濕式涂布法（凹版涂布法）涂布該組合物，并在90°C下干燥后，以400mJ/cm2 照射紫外線使其固化，形成厚度為l〇〇nm的低折射率層。
[0375] <硬涂層>
[0376] 制備包含95質(zhì)量份活性能量線固化性樹脂（以質(zhì)量比1 :3含有二季戊四醇六丙烯酸酯和氨基甲酸酯丙烯酸酯）、5質(zhì)量份光聚合引發(fā)劑（Ciba Specialty Chemicals Ltd. 制造的"Irgacure (注冊商標）184"）的組合物。該組合物的折射率為1.50。
[0377] 通過濕式涂布法（凹版涂布法）涂布該組合物，并在90°C下干燥后，以400mJ/cm2 照射紫外線使其固化，形成厚度為2 μ m的硬涂層。
[0378] <高折射率層>
[0379] 使37質(zhì)量份活性能量線固化性樹脂（二季戊四醇六丙烯酸酯10質(zhì)量份和氨基甲酸酯丙烯酸酯27質(zhì)量份）、60質(zhì)量份氧化鋯（平均粒徑為20nm)、及3質(zhì)量份光聚合引發(fā)劑 (Ciba Specialty Chemicals Ltd.制造的 "Irgacure (注冊商標）184"）分散或者溶解在有機溶劑中，制備組合物。該組合物的折射率為1.70。
[0380] 通過濕式涂布法（凹版涂布法）涂布該組合物，并在90°C下干燥后，以400mJ/cm2 照射紫外線使其固化，形成厚度為80nm的高折射率層。
[0381] <3102膜>
[0382] 通過濺射法層合Si02膜（折射率為1. 46)使厚度為10nm。
[0383] <透明導電膜>
[0384] 通過濺射法層合ITO膜使厚度為30nm，并進行圖案加工（蝕刻處理），形成透明導電膜。
[0385] [透明導電性膜的評價]
[0386] 對于上述所得到的實施例及比較例的透明導電性膜，評價視覺反射率、密合性及滑動性。將這些評價的結果示于表1?表3。
[0387]

【權利要求】
1. 一種透明導電性膜，其特征在于，在折射率為1. 6?1. 7的基材膜的一面具有透明導電膜，在所述基材膜的另一面隔著易粘接層僅具有一層折射率為1. 42以下且厚度為80? 120nm的低折射率層，所述易粘接層滿足下述條件1，條件1 :基材膜的折射率與易粘接層的折射率之差的絕對值為〇. 08以下。
2. -種透明導電性膜，其特征在于，在折射率為1. 6?1. 7的基材膜的一面具有透明導電膜，在所述基材膜的另一面隔著易粘接層僅具有一層折射率為1. 42以下且厚度為80? 120nm的低折射率層，所述易粘接層滿足下述條件2，條件2 :易粘接層的厚度為5nm以上且小于50nm。
3. -種透明導電性膜，其特征在于，在折射率為1. 6?1. 7的基材膜的一面具有透明導電膜，在所述基材膜的另一面隔著易粘接層僅具有一層折射率為1. 42以下且厚度為80? 120nm的低折射率層，所述易粘接層滿足下述條件1及條件2，條件1 :基材膜的折射率與易粘接層的折射率之差的絕對值為〇. 08以下；條件2 :易粘接層的厚度為5nm以上且小于50nm。
4. 如權利要求1或3所述的透明導電性膜，其中，所述基材膜的折射率與易粘接層的折射率之差的絕對值為0. 05以下。
5. 如權利要求1或4所述的透明導電性膜，其中，所述易粘接層的厚度為5nm以上且小于 200nm。
6. 如權利要求1?5中任一項所述的透明導電性膜，其中，所述基材膜為聚酯膜。
7. 如權利要求6所述的透明導電性膜，其中，所述聚酯膜為聚對苯二甲酸乙二醇酯膜。
8. 如權利要求1?7中任一項所述的透明導電性膜，其中，所述易粘接層至少含有樹脂和交聯(lián)劑。
9. 如權利要求8所述的透明導電性膜，其中，所述樹脂為聚酯樹脂。
10. 如權利要求1?9中任一項所述的透明導電性膜，其中，所述低折射率層是通過濕式涂布法涂布活性能量線固化性樹脂組合物并使其固化而成的層。
11. 如權利要求1?10中任一項所述的透明導電性膜，其中，所述易粘接層包含粒子，所述粒子的平均粒徑（r)與易粘接層的厚度（d)的關系滿足下述式1， 0· 5 蘭（r/d)蘭 20 · · ·式 1。
12. 如權利要求11所述的透明導電性膜，其中，相對于所述易粘接層的固態(tài)成分總量 100質(zhì)量％，含有0. 05?20質(zhì)量％的所述粒子。
13. 如權利要求1?12中任一項所述的透明導電性膜，其中，所述低折射率層含有具有烯鍵式不飽和基團的聚硅氧烷化合物。
14. 一種觸摸面板，其具備權利要求1?13中任一項所述的透明導電性膜。
15. -種顯示裝置，其是在顯示面板上配置了使用有權利要求1?13中任一項所述的透明導電性膜的觸摸面板的顯示裝置，所述顯示裝置以所述透明導電性膜的所述低折射率層側與顯示面板隔著空氣層相對的方式配置。
16. -種顯示裝置，其是在顯示面板上配置了使用有權利要求1?13中任一項所述的透明導電性膜的電磁波屏蔽構件的顯示裝置，所述顯示裝置以所述透明導電性膜的所述低折射率層側與顯示面板隔著空氣層相對的方式配置。
【文檔編號】B32B7/02GK104067352SQ201380006513
【公開日】2014年9月24日申請日期:2013年1月16日優(yōu)先權日:2012年1月31日
【發(fā)明者】桐本高代志, 中道夏樹申請人:東麗薄膜先端加工股份有限公司

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