形成有光固化性樹脂層的基板及其形成方法、靜電電容型輸入裝置及圖像顯示裝置制造方法【專利摘要】本發(fā)明提供一種形成有光固化性樹脂層的基板的制造方法，其包括：在具有凹部或凸部區(qū)域的大致四邊形的基板當(dāng)中確定想要抑制層壓缺陷的產(chǎn)生的凹部或凸部區(qū)域的工序；將所述想要抑制層壓缺陷的產(chǎn)生的凹部或凸部區(qū)域的最長邊與具有層壓輥的層壓機的壓接部所成的角度a控制為1°～89°的工序；將所述基板的四個邊當(dāng)中最先完成所述層壓機的壓接部的通過的邊與所述層壓機的壓接部所成的角度b控制為1°～89°的工序；以及使具有設(shè)于臨時支撐體上的光固化性樹脂層的感光性膜的與該臨時支撐體相反一側(cè)的表面、與所述基板的想要抑制層壓時的缺陷的產(chǎn)生的凹部或凸部區(qū)域側(cè)的表面相對置，在維持所述角a及角b的同時使之通過所述層壓機而將兩者壓接的工序，根據(jù)本發(fā)明，可以利用簡便的工序高品質(zhì)地制造能夠?qū)崿F(xiàn)薄層/輕型化的靜電電容型輸入裝置?！緦＠f明】形成有光固化性樹脂層的基板及其形成方法、靜電電容型輸入裝置及圖像顯示裝置【
技術(shù)領(lǐng)域：
】[0001]本發(fā)明涉及形成有光固化性樹脂層的基板及其形成方法、使用所述形成有光固化性樹脂層的基板制造的靜電電容型輸入裝置及作為構(gòu)成要素具備該靜電電容型輸入裝置的圖像顯示裝置。【
背景技術(shù)：
】[0002]在便攜電話、導(dǎo)航儀、個人電腦、售票機、銀行的終端等電子機器中，近年來，在液晶裝置等的表面配置輸入板（tablet)型的輸入裝置，通過在參照顯示于液晶裝置的圖像顯示區(qū)域中的指示圖像的同時，使手指或觸控筆等觸碰顯示有該指示圖像的部位，來進行與指示圖像對應(yīng)的信息的輸入。[0003]在此種輸入裝置（觸摸屏）中，有電阻膜型、靜電電容型等。但是，電阻膜型的輸入裝置是利用膜與玻璃的2片結(jié)構(gòu)將膜按下而使之短路的結(jié)構(gòu)，因此具有動作溫度范圍窄、對經(jīng)時變化不耐受的缺點。[0004]與之不同，靜電電容型的輸入裝置具有只要在僅僅一片的基板上形成透光性導(dǎo)電膜即可的優(yōu)點。該靜電電容型的輸入裝置中，例如有如下的類型，即，使電極圖案沿彼此交叉的方向延伸，在手指等接觸時，通過感測電極間的靜電電容變化而檢出輸入位置（例如參照下述專利文獻1)。[0005]另外，作為靜電電容型的輸入裝置，還有如下的類型，即，對透光性導(dǎo)電膜的兩端施加同相、同電位的交流電流，通過感測手指接觸或靠近而形成電容器時流過的微弱電流來檢出輸入位置。作為此種靜電電容型輸入裝置，公開了如下的靜電電容型輸入裝置，即，具備多個第一透明電極圖案，它們是將多個墊片（pad)部分經(jīng)由連接部分沿第一方向延伸而形成；以及多個第二透明電極圖案，它們夾隔著層間絕緣層與所述第一透明電極圖案電絕緣，由沿與第一方向交叉的方向延伸形成的多個墊片部分構(gòu)成（例如參照下述專利文獻2)。但是，由于該靜電電容型輸入裝置在所制作的靜電電容型輸入裝置上層疊前面板，因此會有靜電電容型輸入裝置變厚、變重的問題。[0006]此外，公開了在前面板的非接觸側(cè)表面一體化地形成掩模層、感應(yīng)電路、層間絕緣層的靜電電容型觸摸屏（例如參照下述專利文獻3)。在該專利文獻3中，有靜電電容型觸摸屏因?qū)⑶懊姘迮c靜電電容型輸入裝置一體化而可以實現(xiàn)薄層/輕型化的記載，然而對于詳細的制造方法沒有記載。[0007]另一方面，公開了如下的方法，S卩，作為第一及第二透明電極的材質(zhì)使用ΙΤ0(氧化銦錫），在進行利用真空蒸鍍、液體抗蝕劑的圖案化形成（曝光/顯影）后，對沒有被液體抗蝕劑覆蓋的部分進行蝕刻處理，形成所需的透明電極圖案（例如參照專利文獻4)。但是，若利用該方法，則會有制造裝置價格高、不容易降低成本的問題。[0008]另外，作為將包含單一或多個基板及排列在這些基板上而形成的電極圖案的觸摸屏主體與設(shè)于觸摸屏主體的外側(cè)（靠近接觸面的一側(cè)）的保護板（玻璃或亞克力板）粘接的方法，公開了如下的方法，即，使用壓敏粘接性片材，防止在觸摸屏主體與保護板之間產(chǎn)生空氣層，從而防止由空氣層界面的反射造成的亮度?對比度降低的方法（例如參照專利文獻5);在減壓下涂布固化性樹脂而貼合的方法（例如參照專利文獻6)。但是，由于壓敏粘接片材價格高，因此附加的材料成本大，另外由于壓敏粘接片材厚，因此還有難以實現(xiàn)薄層化、或粘接層厚度的均勻化的問題。[0009]此外，還公開了如下的透明電極圖案的制造方法，即，利用絲網(wǎng)印刷、膠版印刷、噴墨印刷將作為第一及第二透明電極的材質(zhì)的（金屬）納米粒子分散液加以圖案化，其后進行燒成（例如參照專利文獻7)。根據(jù)該制造方法，透明電極圖案的制造簡便，容易削減成本，另外可以在保護板中直接設(shè)置電導(dǎo)元件組（電極圖案）或絕緣層，因此可以實現(xiàn)薄層/輕型化（例如參照專利文獻7)。但是，即使利用該方法，也有電極圖案的膜化或圖案的直線性不充分的問題。[0010]現(xiàn)有技術(shù)文獻[0011]專利文獻[0012]專利文獻1:日本特開2007-122326號公報[0013]專利文獻2:日本專利第4506785號公報[0014]專利文獻3:日本特開2009-193587號[0015]專利文獻4:美國專利申請公開第2008-0264699號公報[0016]專利文獻5:日本特開2008-083491號公報[0017]專利文獻6:日本特開2004-325788號公報[0018]專利文獻7:日本特開2010-146283號公報【
發(fā)明內(nèi)容】[0019]發(fā)明所要解決的問題[0020]另一方面，開發(fā)并發(fā)表了如下產(chǎn)品，即，在液晶或有機EL顯示器上具備靜電電容型觸摸屏的智能手機或輸入板PC中在前面板（直接用手指接觸的面）中使用了以Corning公司的Gorilla玻璃為代表的強化玻璃的產(chǎn)品。另外，在所述前面板的一部分中形成用于設(shè)置壓敏（并非借助靜電電容變化、而是借助按壓的機械性機構(gòu)）開關(guān)的開口部的產(chǎn)品已經(jīng)上市。由于這些強化玻璃強度高、加工困難，因此要形成所述開口部，一般來說要在強化處理前形成開口部，之后進行強化處理。[0021]當(dāng)想要在該具有開口部的強化處理后的基板上使用蝕刻用的液體抗蝕劑形成透明電極圖案時，就會產(chǎn)生抗蝕劑成分從開口部中的泄漏、或抗蝕劑成分從需要將遮光圖案形成至前面板的邊界最大限度為止的掩模層中的玻璃端的溢出，從而會有污染基板背側(cè)的問題。另外，在臨時支撐體上形成了光固化性樹脂層的使用干膜抗蝕劑形成掩模層或透明電極圖案的方法中，存在有在所述的開口部周邊產(chǎn)生皺紋狀的缺陷、或在遮光性的掩模層的厚度差的部分殘留氣泡的問題。[0022]本發(fā)明的目的在于，提供可以利用簡便的工序高品質(zhì)地制造能夠?qū)崿F(xiàn)薄層/輕型化的靜電電容型輸入裝置的形成有光固化性樹脂層的基板及其形成方法、使用所述形成有光固化性樹脂層的基板制造的靜電電容型輸入裝置及使用了該靜電電容型輸入裝置的圖像顯示裝置。[0023]用于解決問題的方法[0024][1]-種形成有光固化性樹脂層的基板的形成方法，其特征在于，[0025]包括：[0026]在具有至少1個凹部或凸部區(qū)域的大致四邊形的基板當(dāng)中確定想要抑制層壓缺陷的產(chǎn)生的凹部或凸部區(qū)域的工序；[0027]將所述想要抑制層壓缺陷的產(chǎn)生的凹部或凸部區(qū)域的最長邊（其中，在不存在最長邊的情況下則表示最長軸。另外，在具有多個最長邊的情況下則表示其中的一個邊）與具有層壓輥的層壓機的壓接部所成的角度a控制為Γ?89°的工序；[0028]將所述基板的四個邊當(dāng)中最先完成所述層壓機的壓接部的通過的邊（其中，在所述基板的兩個邊同時最先完成通過的情況下則表示其中的一個邊）與所述層壓機的壓接部所成的角度b控制為Γ?89°的工序；以及[0029]使具有設(shè)于臨時支撐體上的光固化性樹脂層的感光性膜的與該臨時支撐體相反一側(cè)的表面、與所述基板的想要抑制層壓時的缺陷的產(chǎn)生的凹部或凸部區(qū)域側(cè)的表面相對置，在維持所述角a及角b的同時使它們通過所述層壓機而將兩者壓接的工序。[0030][2][1]中記載的形成有光固化性樹脂層的基板的形成方法優(yōu)選所述基板的想要抑制所述層壓缺陷的產(chǎn)生的凹部或凸部區(qū)域是突起、槽及開口部當(dāng)中的至少1種。[0031][3][1]或[2]中記載的形成有光固化性樹脂層的基板的形成方法優(yōu)選將所述角a控制為5°?85°。[0032][4][1]?[3]中任一項記載的形成有光固化性樹脂層的基板的形成方法優(yōu)選將所述角b控制為5°?85°。[0033][5][1]?[4]中任一項記載的形成有光固化性樹脂層的基板的形成方法優(yōu)選在所述臨時支撐體與光固化性樹脂層之間具有熱塑性樹脂層。[0034][6]-種形成有光固化性樹脂層的基板，其特征在于，使用[1]?[5]中任一項記載的形成有光固化性樹脂層的基板的形成方法形成。[0035][7]-種形成有光固化性樹脂層的基板，其特征在于，對于至少1個凹部或凸部區(qū)域，在進行光固化時，在來自相對于基板面垂直方向的所述凹部或凸部區(qū)域的投影面積的25倍相似放大區(qū)域內(nèi)存在的針孔為3個/cm2以下。[0036][8]-種靜電電容型輸入裝置，其特征在于，使用[6]或[7]中記載的形成有光固化性樹脂層的基板制造。[0037][9]-種圖像顯示裝置，其特征在于，具備[8]中記載的靜電電容型輸入裝置。[0038]發(fā)明效果[0039]根據(jù)本發(fā)明，可以提供能夠利用簡便的工序高品質(zhì)地制造能夠?qū)崿F(xiàn)薄層/輕型化的靜電電容型輸入裝置的形成有光固化性樹脂層的基板及其形成方法、使用所述形成有光固化性樹脂層的基板制造的靜電電容型輸入裝置及使用了該靜電電容型輸入裝置的圖像顯示裝置?！緦＠綀D】【附圖說明】[0040]圖1是表示本發(fā)明的靜電電容型輸入裝置的構(gòu)成的剖面圖。[0041]圖2是表示本發(fā)明的第一透明電極圖案及第二透明電極圖案的一例的說明圖。[0042]圖3是表示形成有開口部的強化處理玻璃的一例的俯視圖。[0043]圖4是表不形成有掩模層的前面板的一例的俯視圖。[0044]圖5是表示形成有掩模層及第一透明電極圖案的前面板的一例的俯視圖。[0045]圖6是表示形成有掩模層及第一、第二透明電極圖案的前面板的一例的俯視圖。[0046]圖7是表示形成有掩模層、第一、第二透明電極圖案、以及其他的導(dǎo)電性要素的前面板的一例的俯視圖。[0047]圖8是表示感光性膜的構(gòu)成的一例的剖面簡圖。[0048]圖9是分別表示層壓機的壓接部與想要抑制層壓缺陷的產(chǎn)生的凹部或凸部區(qū)域的最長邊所成的角度a以及與基板的最先完成所述層壓機的壓接部的通過的邊所成的角度b的說明圖。[0049]圖10是表示在本發(fā)明中將基板與感光性膜層壓的方式的一例的簡圖?！揪唧w實施方式】[0050]以下，對本發(fā)明的形成有光固化性樹脂層的基板及其形成方法、靜電電容型輸入裝置及圖像顯示裝置進行說明。以下記載的構(gòu)成要件的說明有基于本發(fā)明的代表性實施方式進行的情況，然而本發(fā)明并不限定于此種實施方式。而且，本申請說明書中所謂"?"是以將記載于其前后的數(shù)值作為下限值及上限值包含的意味使用的。[0051][形成有光固化性樹脂層的基板的形成方法][0052]本發(fā)明的形成有光固化性樹脂層的基板的形成方法（以下有時簡稱為"本發(fā)明的形成方法"。），其特征在于，[0053]包括：[0054]在具有至少1個凹部或凸部區(qū)域的大致四邊形的基板當(dāng)中確定想要抑制層壓缺陷的產(chǎn)生的凹部或凸部區(qū)域的工序；[0055]將所述想要抑制層壓缺陷的產(chǎn)生的凹部或凸部區(qū)域的最長邊（其中，在不存在最長邊的情況下則表示最長軸。另外，在具有多個最長邊的情況下則表示其中的一個邊）與具有層壓輥的層壓機的壓接部所成的角a控制為Γ?89°的工序；[0056]將所述基板的四個邊當(dāng)中最先完成所述層壓機的壓接部的通過的邊（其中，在所述基板的兩個邊同時最先完成通過的情況下則表示其中的一個邊）與所述層壓機的壓接部所成的角b控制為Γ?89°的工序；以及[0057]使具有設(shè)于臨時支撐體上的光固化性樹脂層的感光性膜的與該臨時支撐體相反一側(cè)的表面、與所述基板的想要抑制層壓時的缺陷的產(chǎn)生的凹部或凸部區(qū)域側(cè)的表面相對置，在維持所述角a及角b的同時使所述層壓機通過而將兩者壓接的工序。[0058]像這樣，通過在使用具有設(shè)于臨時支撐體上的光固化性樹脂層的感光性膜利用輥層壓機壓接時，將基板相對于層壓輥的壓接部傾斜地壓接而形成，就可以在想要抑制層壓缺陷的產(chǎn)生的凹部或凸部區(qū)域的附近抑制皺紋狀的缺陷或氣泡的產(chǎn)生，還可以抑制針孔的產(chǎn)生。[0059]《本發(fā)明的感光性膜》[0060]對本發(fā)明的形成方法中所用的本發(fā)明的感光性膜進行說明。本發(fā)明的感光性膜至少具有臨時支撐體和光固化性樹脂層。[0061]根據(jù)需要，也可以在臨時支撐體與光固化性樹脂層之間具有熱塑性樹脂層，此外，可以在光固化性樹脂層與熱塑性樹脂層之間設(shè)置中間層、或在光固化性樹脂層的表面設(shè)置保護膜等而合適地構(gòu)成。[0062]本發(fā)明中所用的感光性膜既可以是負型材料也可以是正型材料。[0063]〈臨時支撐體〉[0064]作為臨時支撐體，可以使用具有撓曲性、且在加壓下或在加壓及加熱下不產(chǎn)生明顯的變形、收縮或伸長的材料。作為此種支撐體的例子，可以舉出聚對苯二甲酸乙二醇酯膜、三乙酸纖維素膜、聚苯乙烯膜、聚碳酸酯膜等，其中特別優(yōu)選雙軸拉伸聚對苯二甲酸乙二醇酯膜。[0065]對于臨時支撐體的厚度，沒有特別限制，一般為5?200μm的范圍，從處置容易度、通用性等方面考慮，特別優(yōu)選10?150μm的范圍。[0066]另外，臨時支撐體也可以是透明的，還可以含有染料化硅、氧化鋁溶膠、鉻鹽、鋯鹽等。[0067]另外，對于本發(fā)明的臨時支撐體，可以利用日本特開2005-221726記載的方法等賦予導(dǎo)電性。[0068]〈光固化性樹脂層〉[0069]本發(fā)明的感光性膜可以根據(jù)其用途向光固化性樹脂層中加入添加物。即，在掩模層的形成中使用所述感光性膜的情況下，使光固化性樹脂層中含有著色劑。另外，在本發(fā)明的感光性膜具有導(dǎo)電性光固化性樹脂層的情況下，可以在所述光固化性樹脂層中含有導(dǎo)電性纖維等。[0070]在本發(fā)明的感光性膜為負型材料的情況下，優(yōu)選在光固化性樹脂層中含有堿可溶性樹脂、聚合性化合物、聚合引發(fā)劑或聚合引發(fā)體系。[0071]作為本發(fā)明中所用的感光性膜中所含的堿可溶性樹脂，可以使用日本特開2011-95716號公報的[0025]段、日本特開2010-237589號公報的[0033]?[0052]段中記載的聚合物。[0072]作為所述聚合性化合物，可以使用日本專利第4098550號的[0023]?[0024]段中記載的聚合性化合物。[0073]作為所述聚合引發(fā)劑或聚合引發(fā)體系，可以使用日本特開2011-95716號公報中記載的[0031]?[0042]中記載的聚合性化合物。[0074](掩模層（著色劑））[0075]另外，在將本發(fā)明中所用的感光性膜作為掩模層使用的情況下，可以在光固化性樹脂層中使用著色劑。作為本發(fā)明中所用的著色劑，可以合適地使用公知的著色劑（有機顏料、無機顏料、染料等）。而且，本發(fā)明中，除了黑色著色劑以外，還可以使用紅色、藍色、綠色等顏料的混合物等。[0076]在將所述光固化性樹脂層作為黑色的掩模層使用的情況下，從光學(xué)濃度的觀點考慮，優(yōu)選含有黑色著色劑。作為黑色著色劑，例如可以舉出炭黑、鈦黑、氧化鐵、石墨等，其中優(yōu)選炭黑。[0077]在將所述光固化性樹脂層作為白色的掩模層使用的情況下，可以使用日本特開2005-7765公報的[0015]或[0114]段中記載的白色顏料，其中，優(yōu)選二氧化鈦。為了作為其他的顏色的掩模層使用，也可以混合使用日本專利第4546276號公報的[0183]?[0185]等段中記載的顏料、或染料。具體來說，可以合適地使用日本特開2005-17716號公報的段落編號[0038]?[0054]中記載的顏料及染料、日本特開2004-361447號公報的段落編號[0068]?[0072]中記載的顏料、日本特開2005-17521號公報的段落編號[0080]?[0088]中記載的著色劑等。[0078]所述著色劑（優(yōu)選為顏料、更優(yōu)選為炭黑、二氧化鈦）最好作為分散液使用。該分散液可以通過將預(yù)先混合所述著色劑與顏料分散劑而得的組合物添加到后述的有機溶劑(或載色劑）中并分散來制備。所述所謂載色劑是指涂料處于液體狀態(tài)時使顏料分散的介質(zhì)的部分，包含作為液狀且與所述顏料結(jié)合而形成涂膜的成分（粘合劑）、和將其溶解稀釋的成分（有機溶劑）。[0079]作為分散所述顏料時使用的分散機，沒有特別限制，例如可以舉出朝倉邦造著、《顏料的百科辭典》、第一版、朝倉書店、2000年、438項中記載的捏合機、輥磨機、磨碎機(attritor)、高速研磨機（supermill)、溶解器、均質(zhì)攪拌機、砂磨機等公知的分散機。此外也可以借助該文獻310頁記載的機械的磨碎利用摩擦力進行微粉碎。[0080]本發(fā)明中所用的著色劑從分散穩(wěn)定性的觀點考慮優(yōu)選數(shù)均粒徑為0.001ym?0.1μm的著色劑，更優(yōu)選0.01μm?0.08μm的著色劑。而且，這里所說的所謂"粒徑"是指將粒子的電子顯微鏡照片圖像設(shè)為相同面積的圓時的直徑，另外所謂"數(shù)均粒徑"是針對多個粒子求出所述的粒徑，是指這1〇〇個的平均值。[0081]對于含有著色劑的光固化性樹脂層的層厚，從與其他層的厚度差的觀點考慮，優(yōu)選為0·5?100μm，更優(yōu)選為0·8?50μm，特別優(yōu)選為1?10μm。作為本發(fā)明的著色感光性樹脂組合物的固體成分中的著色劑的含有率，沒有特別限制，然而從充分地縮短顯影時間的觀點考慮，優(yōu)選為15?70質(zhì)量％，更優(yōu)選為20?60質(zhì)量％，進一步優(yōu)選為25?50質(zhì)量％。[0082]本說明書中所說的所謂全部固體成分是指從著色感光性樹脂組合物中除去溶劑等后的不揮發(fā)成分的總質(zhì)量。[0083](導(dǎo)電性光固化性樹脂層（導(dǎo)電性纖維））[0084]另外，在將本發(fā)明中所用的感光性膜用于透明電極圖案等的形成的情況下，可以將以下的導(dǎo)電性纖維等用于光固化性樹脂層中。[0085]作為導(dǎo)電性纖維的結(jié)構(gòu)，沒有特別限制，可以根據(jù)目的適當(dāng)?shù)剡x擇，然而優(yōu)選為實心結(jié)構(gòu)及空心結(jié)構(gòu)的任意一種。[0086]這里，有時將實心結(jié)構(gòu)的纖維稱作"線"，有時將空心結(jié)構(gòu)的纖維稱作"管"。另外，有時將平均短軸長度為5nm?1，OOOnm、平均長軸長度為1μm?100μm的導(dǎo)電性纖維稱作"納米線"。[0087]另外，有時將平均短軸長度為lnm?1，OOOnm、平均長軸長度為0·1μm?1，000μm、具有空心結(jié)構(gòu)的導(dǎo)電性纖維稱作"納米管"。[0088]作為所述導(dǎo)電性纖維的材料，只要具有導(dǎo)電性，就沒有特別限制，可以根據(jù)目的適當(dāng)?shù)剡x擇，然而優(yōu)選金屬及碳的至少任意一種，在它們當(dāng)中，所述導(dǎo)電性纖維特別優(yōu)選金屬納米線、金屬納米管、以及碳納米管的至少任意一種。[0089]對于含有導(dǎo)電性纖維的光固化性樹脂層的層厚，從涂布液的穩(wěn)定性、涂布時的干燥、圖案化時的顯影時間等工藝適應(yīng)性的觀點考慮，優(yōu)選為0.1?20μm，更優(yōu)選為0.5?18μm，特別優(yōu)選為1?15μm。對于所述導(dǎo)電性纖維相對于包括所述導(dǎo)電性纖維的光固化性樹脂層的全部固體成分的含量，從導(dǎo)電性和涂布液的穩(wěn)定性的觀點考慮，優(yōu)選為〇.01?50質(zhì)量％，更優(yōu)選為0.05?30質(zhì)量％，特別優(yōu)選為0.1?20質(zhì)量％。而且，在使用所述感光性膜形成絕緣層的情況下，從維持絕緣性的觀點考慮，光固化性樹脂層的層厚優(yōu)選為0·1?5μm，更優(yōu)選為0·3?3μm，特別優(yōu)選為0·5?2μm。[0090](透明保護層）[0091]在使用所述感光性膜形成透明保護層的情況下，從發(fā)揮足夠的表面保護能力的觀點考慮，光固化性樹脂層的層厚優(yōu)選為〇.5?10μm，更優(yōu)選為0.8?5μm，特別優(yōu)選為1?3μm〇[0092](光固化性樹脂層中的添加劑）[0093]此外，所述光固化性樹脂層也可以使用添加劑。作為所述添加劑，例如可以舉出日本專利第4502784號公報的[0017]段、日本特開2009-237362號公報的[0060]?[0071]段中記載的表面活性劑、日本專利第4502784號公報的[0018]段中記載的熱阻聚劑、以及日本特開2000-310706號公報的[0058]?[0071]段中記載的其他添加劑。[0094]另外，作為利用涂布制造本發(fā)明的感光性膜時的溶劑，可以使用日本特開2011-95716號公報的[0043]?[0044]段中記載的溶劑。[0095]雖然以上以本發(fā)明的感光性膜為負型材料的情況為中心進行了說明，然而所述感光性膜也可以是正型材料。在所述感光性膜為正型材料的情況下，在光固化性樹脂層中例如可以使用日本特開2005-221726記載的材料等，然而并不限定于此。[0096]〈熱塑性樹脂層〉[0097]可以設(shè)于本發(fā)明的感光性膜的臨時支撐體與著色感光性樹脂層之間的熱塑性樹脂層優(yōu)選為堿可溶性。熱塑性樹脂層是為了可以吸收基底表面的凹凸（也包括由已經(jīng)形成的圖像等造成的凹凸等。）而擔(dān)負作為緩沖材料的作用的材料，優(yōu)選具有可以與對象面的凹凸對應(yīng)地變形的性質(zhì)。[0098]熱塑性樹脂層優(yōu)選為作為成分含有日本特開平5-72724號公報中記載的有機高分子物質(zhì)的形態(tài)，特別優(yōu)選為含有選自基于維卡（Vicat)法〔具體來說，是基于美國材料試驗法ASTMD1235的聚合物軟化點測定法〕得到的軟化點約為80°C以下的有機高分子物質(zhì)中的至少1種的形態(tài)。[0099]具體來說，可以舉出聚乙烯、聚丙烯等聚烯烴、乙烯與乙酸乙烯酯或其皂化物等的乙烯共聚物、乙烯與丙烯酸酯或其皂化物的共聚物、聚氯乙烯或氯乙烯與乙酸乙烯酯或其皂化物等的氯乙烯共聚物、聚偏氯乙烯、偏氯乙烯共聚物、聚苯乙烯、苯乙烯與（甲基）丙烯酸酯或其皂化物等的苯乙烯共聚物、聚乙烯基甲苯、乙烯基甲苯與（甲基）丙烯酸酯或其皂化物等的乙烯基甲苯共聚物、聚（甲基）丙烯酸酯、（甲基）丙烯酸丁酯與乙酸乙烯酯等的(甲基）丙烯酸酯共聚物、乙酸乙烯酯共聚物尼龍、共聚尼龍、N-烷氧基甲基化尼龍、N-二甲基氨基化尼龍等聚酰胺樹脂等有機高分子。[0100]熱塑性樹脂層的層厚優(yōu)選為3?30μm。在熱塑性樹脂層的層厚小于3μm的情況下，層壓時的追隨性不充分，從而會有無法完全地吸收基底表面的凹凸的情況。另外，在層厚大于30μm的情況下，在向臨時支撐體上形成熱塑性樹脂層時的干燥（除去溶劑）中會增加負荷、或在熱塑性樹脂層的顯影中需要時間，從而有使得工藝適應(yīng)性惡化的情況。作為所述熱塑性樹脂層的層厚，更優(yōu)選為4?25μm，特別優(yōu)選為5?20μm。[0101]熱塑性樹脂層可以通過涂布含有熱塑性的有機高分子的調(diào)制液等方式來形成，涂布等時所用的調(diào)制液可以使用溶劑來調(diào)制。對于溶劑，只要是可以溶解構(gòu)成該層的高分子成分的溶劑就沒有特別限制，例如可以舉出甲乙酮、環(huán)己酮、丙二醇單甲醚乙酸酯、正丙醇、2_丙醇等。[0102]〈其他層〉[0103]在本發(fā)明中所用的感光性膜中，出于防止涂布多個層時及涂布后的保存時的成分的混合的目的，優(yōu)選設(shè)置中間層。作為中間層，優(yōu)選日本特開平5-72724號公報中作為"分離層"記載的具有氧阻斷功能的氧阻斷膜，曝光時的靈敏度提升，可以減少曝光機的時間負荷，提商生廣性。[0104]作為所述中間層及保護膜，可以適當(dāng)?shù)厥褂萌毡咎亻_2006-259138號公報的[0083]?[0087]及[0093]段中記載的材料。[0105]〈感光性膜的制作方法〉[0106]本發(fā)明的感光性膜可以依照日本特開2006-259138號公報的[0094]?[0098]段中記載的感光性轉(zhuǎn)印材料的制作方法來制作。[0107]具體來說，在形成具有熱塑性樹脂層以及中間層的本發(fā)明的感光性膜的情況下，可以通過如下操作來合適地制作，即，在臨時支撐體上涂布與熱塑性的有機高分子一起還溶解有添加劑的溶解液（熱塑性樹脂層用涂布液）并干燥而設(shè)置熱塑性樹脂層后，在該熱塑性樹脂層上涂布向不溶解熱塑性樹脂層的溶劑中加入樹脂或添加劑而調(diào)制的調(diào)制液(中間層用涂布液）并干燥而層疊中間層，在該中間層上再涂布使用不溶解中間層的溶劑調(diào)制的著色感光性樹脂層用涂布液并干燥而層疊著色感光性樹脂層。[0108]《本發(fā)明的靜電電容型輸入裝置的制造方法》[0109]如上所述，本發(fā)明的靜電電容型輸入裝置使用在臨時支撐體上具有光固化性樹脂層的感光性膜形成。[0110]在使用所述感光性膜形成所述掩模層、絕緣層及透明保護層、或使用導(dǎo)電性光固化性樹脂層時的第一透明電極圖案、第二透明電極圖案及導(dǎo)電性要素等永久材料的情況下，在將感光性膜層壓在基板上后，曝光成必需的圖案樣式，通過在負型材料的情況下，將非曝光部分顯影處理而除去，在正型材料的情況下，將曝光部分顯影處理而除去，就可以得到圖案。此時，顯影可以是將熱塑性樹脂層和光固化性層利用不同的顯影液顯影除去，也可以利用相同的顯影液除去。根據(jù)需要，也可以組合刷子或高壓噴射等公知的顯影設(shè)備。在顯影后，根據(jù)需要，也可以進行后曝光、后烘烤。[0111]另外，為了提高后面的轉(zhuǎn)印工序中的借助層壓的感光性樹脂層的密合性，可以預(yù)先對基板（前面板）的非接觸面實施表面處理。作為所述表面處理，優(yōu)選實施使用了硅烷化合物的表面處理（硅烷偶聯(lián)處理）。作為硅烷偶聯(lián)劑，優(yōu)選具有與感光性樹脂相互作用的官能團的材料。例如利用噴淋器噴送20秒的硅烷偶聯(lián)液（Ν-β(氨基乙基）γ-氨基丙基三甲氧基硅烷0.3質(zhì)量％水溶液、商品名：ΚΒΜ603、信越化學(xué)（株）制），進行純水噴淋清洗。之后，利用加熱使之反應(yīng)。也可以使用加熱槽，還可以利用層壓機的基板預(yù)加熱來促進反應(yīng)。[0112]另外，也可以將本發(fā)明的感光性膜作為剝離材料使用，形成第一透明電極層、第二透明電極層及其他的導(dǎo)電性構(gòu)件。該情況下，在使用本發(fā)明的感光性膜進行圖案化后，在基板整面形成透明導(dǎo)電層，其后通過連同所堆積的透明導(dǎo)電層一起進行本發(fā)明的光固化性樹脂層的溶解除去，就可以得到所需的透明導(dǎo)電層圖案（剝離法）。[0113](使用本發(fā)明的感光性膜形成永久材料的情況）[0114]對于使用本發(fā)明的感光性膜形成永久材料的情況，以形成掩模層（黑色）的方法為例，對使用本發(fā)明的感光性膜的圖案化方法進行說明。[0115]形成所述掩模層的方法可以舉出如下的方法，即，具有：從本發(fā)明的感光性膜中除去所述覆蓋膜的覆蓋膜除去工序、將除去了所述覆蓋膜的所述感光性轉(zhuǎn)印材料的所述感光性樹脂層轉(zhuǎn)印到基板上的轉(zhuǎn)印工序、將轉(zhuǎn)印到基板上的所述感光性樹脂層曝光的曝光工序、將曝光了的感光性樹脂層顯影而得到圖案圖像的顯影工序。[0116]-轉(zhuǎn)印工序-[0117]所述轉(zhuǎn)印工序是將除去了所述覆蓋膜的所述感光性膜的所述光固化性樹脂層轉(zhuǎn)印到基板上的工序。[0118]光固化性樹脂層向基板表面的轉(zhuǎn)印（貼合）是通過將光固化性樹脂層疊加在基板表面并加壓、加熱而進行。在貼合中，只要可以實施后述的層壓方法，則可以使用任意的層壓機，可以使用層壓機、真空層壓機、以及可以進一步提高生產(chǎn)性的自動開料層壓機等公知的層壓機。另外，層壓機只要具有至少1個層壓輥即可，可以用層壓輥和任意的夾壓面夾住而加壓。其中，優(yōu)選所述任意的夾壓面也為層壓輥那樣的所謂軋輥型的層壓機。[0119]本發(fā)明中，作為所述層壓輥，從抑制氣泡等缺陷的產(chǎn)生的觀點考慮，也可以優(yōu)選使用在棍寬度方向上中央部分的直徑大于端部的直徑的中凸棍。[0120]另外，本發(fā)明中，作為所述層壓輥優(yōu)選使用橡膠輥，例如優(yōu)選肖氏A硬度為50HS以上的，更優(yōu)選60HS以上的，特別優(yōu)選70HS以上的。[0121]?層壓方法：[0122]本發(fā)明的形成有光固化性樹脂層的基板的形成方法中，使用具有如下特征的層壓方法，即，包括：在具有至少1個凹部或凸部區(qū)域的大致四邊形的基板當(dāng)中確定想要抑制層壓缺陷的產(chǎn)生的凹部或凸部區(qū)域的工序；將所述想要抑制層壓缺陷的產(chǎn)生的凹部或凸部區(qū)域的最長軸（其中，在具有多個最長邊的情況下則為其中的一個邊）與具有層壓輥的層壓機的壓接部所成的角度a控制為Γ?89°的工序；將所述基板的最先完成通過所述壓接部的邊（其中，在所述基板的兩個邊同時最先完成通過的情況下則為其中的一個邊）與所述層壓機的壓接部所成的角度b控制為Γ?89°的工序；以及使具有設(shè)于臨時支撐體上的光固化性樹脂層的感光性膜的與該臨時支撐體相反一側(cè)的表面、與所述基板的想要抑制層壓時的缺陷的產(chǎn)生的凹部或凸部區(qū)域側(cè)的表面相對置，在維持所述角a及角b的同時使所述層壓機通過而將兩者壓接的工序。[0123]本發(fā)明的形成有光固化性樹脂層的基板的形成方法中首先在具有至少1個凹部或凸部區(qū)域的大致四邊形的基板當(dāng)中確定想要抑制層壓缺陷的產(chǎn)生的凹部或凸部區(qū)域。在想要抑制層壓缺陷的產(chǎn)生的凹部或凸部區(qū)域在基板中具有多個凹部或凸部區(qū)域的情況下，可以任意地選擇1個。另外，也可以對于具有多個凹部或凸部區(qū)域的基板，將面積最大的凹部或凸部區(qū)域作為想要抑制層壓缺陷的產(chǎn)生的凹部或凸部區(qū)域來確定。[0124]所述凹部或凸部區(qū)域既可以僅由凹部構(gòu)成，也可以僅由凸部構(gòu)成，還可以是同時具有凹部和凸部的凹凸區(qū)域。[0125]本發(fā)明的形成有光固化性樹脂層的基板的形成方法中，優(yōu)選所述基板的所述想要抑制層壓缺陷的產(chǎn)生的凹部或凸部區(qū)域為突起、和/或槽、和/或開口部。[0126]基板只要是具有至少1個凹部或凸部區(qū)域的大致四邊形就沒有特別限制，在本說明書中，所謂大致四邊形，是指具有至少4個邊。即，基板既可以將角部修飾為弧狀，也可以具有角，還可以設(shè)置比所述4個邊短的直線。[0127]所述凹部或凸部區(qū)域從基板表面算起的高度沒有特別限制，只要是因?qū)訅憾腥毕莸漠a(chǎn)生的程度的高度就可以應(yīng)用本發(fā)明的形成方法。雖然根據(jù)應(yīng)用本發(fā)明的形成方法的用途而定，然而例如所述凹部或凸部區(qū)域的從基板表面算起的高度優(yōu)選為l〇nm?10_，更優(yōu)選為20nm?10mm。[0128]在所述凹部或凸部區(qū)域是處于基板中的突起、槽、開口部的情況下，這些突起、槽、開口部有屬于使用光刻膠材料等預(yù)先在基板上圖案化而成的先行像素（precedingpixels)的情況、屬于利用物理研磨或化學(xué)蝕刻等形成的情況。[0129]對于所述突起的高度及槽的深度，在屬于使用光刻膠材料等預(yù)先在基板上圖案化而成的先行像素的情況下，有時為數(shù)十nm到數(shù)十μm。另外，有時先行像素的寬度為十μm左右?數(shù)cm,有時還設(shè)置數(shù)十μm左右的錐形，都可以應(yīng)用本發(fā)明的形成方法。[0130]另外，所述開口部的厚度與基板的厚度同等，有時為數(shù)百μm到數(shù)mm，而在此種情況下也可以應(yīng)用本發(fā)明的形成方法。[0131]另外，本發(fā)明的形成方法中，將所述想要抑制層壓缺陷的產(chǎn)生的凹部或凸部區(qū)域的最長邊（其中，在不存在最長邊的情況下則表示最長軸。另外，在具有多個最長邊的情況下則表示其中的一個邊）與具有層壓輥的層壓機的壓接部所成的角a控制為Γ?89°。所述角a的范圍為Γ?89°，優(yōu)選為2°?88°，更優(yōu)選為3°?87°，特別優(yōu)選為5°?85°，更特別優(yōu)選為10°?80°。而且，雖然也要兼顧后述的角a與角b的差，然而在本發(fā)明的形成方法中，在特別重視通過提高層壓速度（效率）來抑制缺陷的產(chǎn)生的情況下，也優(yōu)選將角a控制為75°?85°。[0132]在所述想要抑制層壓缺陷的產(chǎn)生的凹部或凸部區(qū)域的最長邊不存在的情況下，如上所述以所述想要抑制層壓缺陷的產(chǎn)生的凹部或凸部區(qū)域的最長軸為基準。這里，所謂"凹部或凸部區(qū)域的最長邊不存在"，是指例如為圓形、楕圓形、或由其他曲線構(gòu)成的形狀，此種形狀下的所謂凹部或凸部區(qū)域的最長軸，是指連結(jié)該凹部或凸部區(qū)域的任意的2處的端部的線段達到最長的線段。另外，本發(fā)明中，在"凹部或凸部區(qū)域的最長邊不存在"的情況下，也可以包括任意的凹部或凸部區(qū)域的最長邊的長度為該凹部或凸部區(qū)域的最長軸的長度的50%以下的情況。[0133]作為角a的控制方法或用于在維持角b的同時使層壓機通過的方法沒有特別限制，可以通過將基板預(yù)先設(shè)定為所需的角度而在搬送輥上搬送、或?qū)⑺鼍哂袑訅狠伒膶訅簷C設(shè)為軋輥而搬送來實現(xiàn)。[0134]本發(fā)明的形成方法中，將具有層壓輥的層壓機的壓接部與基板的四個邊當(dāng)中最先完成所述層壓機的壓接部的通過的邊（其中，在所述基板的兩個邊同時最先完成通過的情況下則表示其中的一個邊）所成的角b控制為Γ?89°，在維持該角b的同時保持角度地將基板與感光性膜壓接。所述角b的范圍為Γ?89°，優(yōu)選為Γ?45°，更優(yōu)選為2°?30°，特別優(yōu)選為3°?20度。另外，根據(jù)用途也優(yōu)選控制為10°?80°。從提高層壓速度（效率）的觀點考慮，所述基板的四個邊當(dāng)中最先完成所述層壓機的壓接部的通過的邊優(yōu)選為基板的最短邊。[0135]作為角b的控制方法或用于在維持角b的同時通過層壓機的方法沒有特別限制，可以通過將基板預(yù)先設(shè)定為所需的角度而在搬送輥上搬送、或?qū)⑺鼍哂袑訅狠伒膶訅簷C設(shè)為軋輥而搬送來實現(xiàn)。[0136]角a與角b的關(guān)系沒有特別限制。例如在所述基板的四個邊當(dāng)中最先完成所述層壓機的壓接部的通過的邊與所述想要抑制層壓缺陷的產(chǎn)生的凹部或凸部區(qū)域的最長邊平行的情況下，從提高層壓速度（效率）的觀點考慮，角a與角b的差優(yōu)選為±45°以內(nèi)，更優(yōu)選為±10°以內(nèi)，進一步優(yōu)選為±3°以內(nèi)，特別優(yōu)選為±Γ以內(nèi)，尤其優(yōu)選為±0.5°。[0137]另外，在反復(fù)2次以上地進行本發(fā)明的形成方法的情況下，在將第二層的光感光性膜層壓在層壓有第一層的光感光性膜的基板（也包括從層壓有第一層的光感光性膜的基板中除去了臨時支撐體、或光固化、或任意地蝕刻的基板）上時，會有使得層壓有第一層的光感光性膜的基板的凹部或凸部區(qū)域的凹凸被放大的情況。該情況下，也可以應(yīng)用本發(fā)明的形成方法。另外，在將第二層的光感光性膜層壓在層壓有第一層的光感光性膜的基板上時，第一層的角a與第二層的角a優(yōu)選為±10°以內(nèi)，更優(yōu)選為±3°以內(nèi)，特別優(yōu)選為±1°以內(nèi)，尤其優(yōu)選為±0.5°。另外，第一層的角b與第二層的角b優(yōu)選為±10°以內(nèi)，更優(yōu)選為±3°以內(nèi)，特別優(yōu)選為±Γ以內(nèi)，尤其優(yōu)選為±0.5°。[0138]然后，本發(fā)明的形成方法中使具有設(shè)于臨時支撐體上的光固化性樹脂層的感光性膜的與該臨時支撐體相反一側(cè)的表面與所述基板的想要抑制層壓時的缺陷的產(chǎn)生的凹部或凸部區(qū)域側(cè)的表面相對置，在維持所述角a及角b的同時，通過所述層壓機而將兩者壓接。[0139]所述層壓方法中的搬送速度只要不違反本發(fā)明的主旨就沒有特別限制，然而例如優(yōu)選為〇.3?10m/分鐘，更優(yōu)選為0.5?5m/分鐘，在基板為小型基板時，優(yōu)選為0.3?3m/分鐘，特別優(yōu)選為0.4?2.5m/分鐘。從所述感光性膜難以彎曲、可以抑制層壓后的皺紋的產(chǎn)生的觀點考慮，搬送速度優(yōu)選為0.3m/分鐘以上。另一方面，從抑制層壓后的氣泡的產(chǎn)生的觀點考慮，搬送速度優(yōu)選為l〇m/分鐘以下。[0140]所述層壓方法中的線壓力優(yōu)選為60?200N/cm，更優(yōu)選為70?160N/cm，特別優(yōu)選為80?120N/cm。[0141]所述層壓方法中的層壓輥的溫度優(yōu)選為90?150°C，更優(yōu)選為95?145°C，特別優(yōu)選為100?140°c。另外，在通過層壓機的壓接部之前的基板溫度優(yōu)選為80?150°C，更優(yōu)選為90?145°C，特別優(yōu)選為100?140°C。[0142]將以上的本發(fā)明的形成方法的層壓方法的優(yōu)選的方式表示于圖10中。[0143]圖10中，使用圖8中所示的構(gòu)成的包含臨時支撐體18、熱塑性樹脂層14、光固化性樹脂層16的感光性膜20,從任意地配置的輥中，朝向具有層壓輥42的層壓機41卷出。另外，將具有想要抑制層壓缺陷的產(chǎn)生的凹部或凸部區(qū)域22的基板21朝向?qū)訅簷C的壓接部43設(shè)置。此時，如圖9所示，將想要抑制層壓缺陷的產(chǎn)生的凹部或凸部區(qū)域的最長邊與層壓機的壓接部所成的角a、和基板的四個邊當(dāng)中最先完成壓接部的通過的邊與層壓機的壓接部所成的角b控制為特定的范圍。另外，將基板的想要抑制層壓缺陷的產(chǎn)生的凹部或凸部區(qū)域22與所述感光性膜20的光固化性樹脂層16側(cè)相對置地配置，以使彼此由層壓機的壓接部43壓接的方式配置?？梢詫⒒?1在用可以任意地配置的搬送輥44搬送的同時通過層壓機。[0144]另外，既可以相對于基板21并列地設(shè)置2個以上的所述感光性膜20,也可以相對于感光性膜20并列地設(shè)置2個以上的基板21。[0145]-曝光工序、顯影工序、以及其他工序_[0146]作為所述曝光工序、顯影工序、以及其他工序的例子，在本發(fā)明中可以合適地使用日本特開2006-23696號公報的段落編號[0035]?[0051]中記載的方法。[0147]所述曝光工序是將轉(zhuǎn)印到基板上的所述光固化性樹脂層曝光的工序。[0148]具體來說，可以舉出如下的方法，S卩，在形成于所述基板上的光固化性樹脂層的上方配置規(guī)定的掩模，其后夾隔著該掩模、熱塑性樹脂層、以及中間層從掩模上方進行曝光。[0149]這里，作為所述曝光的光源，只要是可以照射能夠?qū)⒐夤袒詷渲瑢庸袒牟ㄩL區(qū)域的光（例如365nm、405nm等）的光源，就可以適當(dāng)?shù)剡x擇使用。具體來說，可以舉出超高壓汞燈、高壓汞燈、金屬鹵化物燈等。作為曝光量，通常為5?200mJ/cm2左右，優(yōu)選為10?100mJ/cm2左右。[0150]所述顯影工序是將曝光了的光固化性樹脂層顯影的工序。[0151]所述顯影可以使用顯影液進行。作為所述顯影液，沒有特別限制，可以使用日本特開平5-72724號公報中記載的顯影液等公知的顯影液。而且，顯影液優(yōu)選使光固化性樹脂層顯示出溶解型的顯影行為的顯影液，例如優(yōu)選以0.05?5mol/L的濃度含有pKa=7?13的化合物的顯影液，此外也可以少量添加與水具有混合性的有機溶劑。作為與水具有混合性有機溶劑，可以舉出甲醇、乙醇、2-丙醇、1-丙醇、丁醇、二丙酮醇、乙二醇單甲醚、乙二醇單乙醚、乙二醇單正丁醚、芐醇、丙酮、甲乙酮、環(huán)己酮、ε-己內(nèi)酯、丁內(nèi)酯、二甲基甲酰胺、二甲基乙酰胺、六甲基磷酰胺、乳酸乙酯、乳酸甲酯、ε-己內(nèi)酰胺、Ν-甲基吡咯烷酮等。該有機溶劑的濃度優(yōu)選為0.1質(zhì)量％?30質(zhì)量％。另外，在所述顯影液中，可以還添加公知的表面活性劑。表面活性劑的濃度優(yōu)選為0.01質(zhì)量％?10質(zhì)量％。[0152]作為所述顯影的方式，可以是槳式（paddle)顯影、噴淋顯影、噴淋&旋涂顯影、浸漬顯影等的任意一種。這里，如果對所述噴淋顯影進行說明，則通過利用噴淋器對曝光后的光固化性樹脂層吹送顯影液，就可以將未固化部分除去。而且，在設(shè)置熱塑性樹脂層或中間層的情況下，優(yōu)選在顯影前利用噴淋器等吹送光固化性樹脂層的溶解性低的堿性的液體，先將熱塑性樹脂層、中間層等除去。另外，優(yōu)選在顯影后，利用噴淋器吹送清洗劑等，在用毛刷等擦拭的同時，除去顯影殘渣。顯影液的液溫優(yōu)選為20°C?40°C，另外，顯影液的pH優(yōu)選為8?13。[0153]本發(fā)明的形成有光固化性樹脂層的基板的形成方法也可以具有后曝光工序、后烘烤工序等其他工序。[0154]而且，圖案化曝光既可以在剝離臨時支撐體后進行，也可以在剝離臨時支撐體之前曝光，其后將臨時支撐體剝離。既可以是夾隔著掩模的曝光，也可以是使用激光器等的數(shù)字曝光。[0155](作為抗蝕層使用本發(fā)明的感光性膜的情況下）[0156]在將本發(fā)明的感光性膜作為抗蝕層（蝕刻圖案）使用的情況下，也可以與所述方法相同地獲得抗蝕劑圖案。所述蝕刻可以利用日本特開2010-152155公報的[0048]?[0054]等段中記載的公知的方法來應(yīng)用蝕刻、抗蝕劑剝離。[0157]例如，作為蝕刻的方法，可以舉出普遍采用的浸漬于蝕刻液中的濕式蝕刻法。濕式蝕刻中所用的蝕刻液只要與蝕刻的對象匹配地適當(dāng)?shù)剡x擇酸性類型或堿性類型的蝕刻液即可。作為酸性類型的蝕刻液，可以例示出鹽酸、硫酸、氫氟酸、磷酸等單獨酸性成分的水溶液、酸性成分與氯化鐵、氟化銨、高錳酸鉀等鹽的混合水溶液等。酸性成分也可以使用組合了多個酸性成分的物質(zhì)。另外，作為堿性類型的蝕刻液，可以例示出氫氧化鈉、氫氧化鉀、氨、有機胺、四甲基氫氧化銨之類的有機胺的鹽等單獨堿成分的水溶液、堿成分與高錳酸鉀等鹽的混合水溶液等。堿成分也可以使用組合了多個堿成分的物質(zhì)。[0158]蝕刻液的溫度沒有特別限定，然而優(yōu)選為45°C以下。本發(fā)明中作為蝕刻掩模（蝕刻圖案）使用的樹脂圖案通過使用上述的光固化性樹脂層來形成，對于此種溫度范圍的酸性及堿性的蝕刻液可以發(fā)揮特別優(yōu)異的耐受性。所以，可以防止在蝕刻工序中樹脂圖案剝離，選擇性地蝕刻不存在樹脂圖案的部分。[0159]在所述蝕刻后，為了防止生產(chǎn)線污染，也可以進行清洗工序?干燥工序。對于清洗工序，例如在常溫下用純水對基板進行10?300秒的清洗，對于干燥工序，只要使用鼓風(fēng)機，適當(dāng)?shù)卣{(diào)整鼓風(fēng)壓力（〇·1?5kg/cm2左右）即可。[0160]然后，作為樹脂圖案的剝離方法，沒有特別限定，然而例如可以舉出在30?80°C、優(yōu)選在50?80°C下將基板在攪拌中的剝離液中浸漬5?30分鐘的方法。本發(fā)明中作為蝕刻掩模使用的樹脂圖案如上所述，在45°C以下顯示出優(yōu)異的耐藥液性，然而當(dāng)藥液溫度達到50°C以上時，就會顯示出因堿性的剝離液而膨脹的性質(zhì)。利用此種性質(zhì)，當(dāng)使用50?80°C的剝離液進行剝離工序時，就會縮短工序時間，因而具有樹脂圖案的剝離殘渣變少的優(yōu)點。即，通過在所述蝕刻工序與剝離工序之間在藥液溫度方面設(shè)置差別，本發(fā)明中作為蝕刻掩模使用的樹脂圖案就會在蝕刻工序中發(fā)揮良好的耐藥液性，另一方面，在剝離工序中顯示出良好的剝離性，因而對于耐藥液性和剝離性這樣相反的特性可以雙方都滿足。[0161]作為剝離液，例如可以舉出將氫氧化鈉、氫氧化鉀等無機堿成分、或叔胺、季銨鹽等有機堿成分溶解于水、二甲亞砜、N-甲基吡咯烷酮、或它們的混合溶液中的溶液。也可以使用所述的剝離液，利用噴霧法、噴淋法、槳式法等剝離。[0162][形成有光固化性樹脂層的基板][0163]本發(fā)明的形成有光固化性樹脂層的基板的特征在于，對于至少1個凹部或凸部區(qū)域，在進行光固化時，在相對于基板面來說垂直方向的所述凹部或凸部區(qū)域的投影面積的25倍相似放大區(qū)域內(nèi)存在的針孔為3個/cm2以下。[0164]此種本發(fā)明的形成有光固化性樹脂層的基板可以利用本發(fā)明的形成方法來形成。[0165]本發(fā)明的形成有光固化性樹脂層的基板對于至少1個凹部或凸部區(qū)域，在進行光固化時，在相對于基板面來說垂直方向的所述凹部或凸部區(qū)域的投影面積的25倍相似放大區(qū)域內(nèi)存在的針孔優(yōu)選為1個/cm2以下，更優(yōu)選為0.5個/cm2以下。[0166]而且，相似放大的中心點設(shè)為將所述基板的所述想要抑制層壓缺陷的產(chǎn)生的凹部或凸部區(qū)域從相對于基板面來說的垂直方向投影而得的圖形的重心。[0167][靜電電容型輸入裝置、以及作為構(gòu)成要素具備靜電電容型輸入裝置的圖像顯示裝置][0168]利用本發(fā)明的形成方法得到的靜電電容型輸入裝置、以及作為構(gòu)成要素具備該靜電電容型輸入裝置的圖像顯示裝置可以應(yīng)用《最新觸摸屏技術(shù)》（2009年7月6日發(fā)行(株）TechnoTimes)、三谷雄二主編、"觸摸屏的技術(shù)與開發(fā)"、CMC出版（2004,12)、FPDInternational2009ForumT-11講演教材、CypressSemiconductor0。印。四1:;[。11應(yīng)用手冊AN2292等中公開的構(gòu)成。[0169][實施例][0170]以下將舉出實施例對本發(fā)明進行更具體的說明。以下的實施例中所示的材料、使用量、比例、處理內(nèi)容、處理步驟等只要不脫離本發(fā)明的主旨，就可以適當(dāng)?shù)刈兏?。所以，本發(fā)明的范圍并不限定為以下所示的具體例。而且，只要沒有特別指出，"％"及"份"就是質(zhì)量基準。[0171][實施例1][0172]《掩模層的形成》[0173]〈掩模層形成用感光性膜K1的制備〉[0174]在厚75μπι的聚對苯二甲酸乙二醇酯膜臨時支撐體上，使用狹縫狀噴嘴，涂布由下述配方Η1構(gòu)成的熱塑性樹脂層用涂布液并干燥。然后，涂布由下述配方Ρ1構(gòu)成的中間層用涂布液并干燥。此外，涂布由下述配方Κ1構(gòu)成的黑色光固化性樹脂層用涂布液并干燥。像這樣在臨時支撐體上設(shè)置干燥膜厚為15.1μm的熱塑性樹脂層、干燥膜厚為1.6μm的中間層、和以使光學(xué)濃度為4.0的方式設(shè)置的干燥膜厚為2.8μm的黑色光固化性樹脂層，最后壓接保護膜（厚12ym聚丙烯膜）。這樣就制作出使臨時支撐體、熱塑性樹脂層、中間層(氧阻斷膜）和黑色光固化性樹脂層變?yōu)橐惑w的轉(zhuǎn)印材料，將樣品名設(shè)為掩模層形成用感光性膜K1。[0175](熱塑性樹脂層用涂布液：配方H1)[0176]?甲醇：11.1質(zhì)量份[0177]?丙二醇單甲醚乙酸酯：6.36質(zhì)量份[0178]?甲乙酮：52.4質(zhì)量份[0179]?甲基丙烯酸甲酯/丙烯酸2-乙基己酯/甲基丙烯酸芐酯/甲基丙烯酸共聚物(共聚組成比（摩爾比）=55/11.7/4.5/28.8、分子量=10萬、Tg~70°C):5.83質(zhì)量份[0180]?苯乙烯/丙烯酸共聚物（共聚組成比（摩爾比）=63/37、重均分子量=1萬、Tg~100°C):13.6質(zhì)量份[0181]?單體1(商品名：BPE-500、新中村化學(xué)工業(yè)（株）制）：9.1質(zhì)量份[0182]?氟系聚合物：0.54質(zhì)量份[0183]上述的氟系聚合物是C6F13CH2CH20C0CH=CH240份與H(OCH(CH3)CH2)70C0CH=CH255份與H(0CHCH2)70C0CH=CH25份的共聚物、且重均分子量3萬、甲乙酮30質(zhì)量％的溶液（商品名：MEGAFACF780F、大日本油墨化學(xué)工業(yè)（株）制）。[0184]而且，熱塑性樹脂層用涂布液H1的除去溶劑后的120°C的粘度為1500Pa·sec。[0185](中間層用涂布液：配方PI)[0186]?聚乙烯醇：32.2質(zhì)量份[0187](商品名：PVA205、（株）Kuraray制、皂化度=88%、聚合度550)[0188]?聚乙烯基吡咯烷酮：14.9質(zhì)量份[0189](商品名：K-30、ISPJapan(株）制）[0190]?蒸餾水：524質(zhì)量份[0191]?甲醇：429質(zhì)量份[0192](黑色光固化性樹脂層用涂布液：配方K1)[0193]·K顏料分散物1(下述的組成）：28·7質(zhì)量份[0194]·R顏料分散物1(下述的組成）：8·8質(zhì)量份[0195]·MMPGAc(Daicel化學(xué)（株）制）：2·3質(zhì)量份[0196]?甲乙酮（東燃化學(xué)（株）制）：33.1質(zhì)量份[0197]?環(huán)己酮（關(guān)東電化工業(yè)（株）制）：83質(zhì)量份[0198]?粘合劑2(甲基丙烯酸芐酯/甲基丙烯酸=78/22摩爾比的無規(guī)共聚物、重均分子量3.8萬）：12.0質(zhì)量份[0199]?吩噻嗪（東京化成（株）制）：0·01質(zhì)量份[0200]·?ΡΗΑ(二季戊四醇六丙烯酸酯、日本化藥（株）制）的丙二醇單甲醚乙酸酯溶液(76質(zhì)量％):6·3質(zhì)量份[0201]·2,4_雙（三氯甲基）-6-[4'-(Ν，Ν-雙（乙氧基羰基甲基）氨基-3'-溴苯基]-均三嗪：0.5質(zhì)量份[0202]?表面活性劑（商品名：MEGAFACF-780F、大日本油墨（株）制）：0·07質(zhì)量份[0203]而且，黑色光固化性樹脂層用涂布液Κ1的除去溶劑后的KKTC的粘度為lOOOOPa·sec〇[0204](K顏料分散物1的組成）[0205]?炭黑（商品名：Nipex35、Degusa公司制）：13.1質(zhì)量％[0206]?下述分散劑1:〇·65質(zhì)量％[0207]?粘合劑1(甲基丙烯酸芐酯/甲基丙烯酸=72/28摩爾比的無規(guī)共聚物、重均分子量3.7萬）：6·72質(zhì)量％[0208]?丙二醇單甲醚乙酸酯：79·53質(zhì)量％[0209][化1][0210]分散劑1[0211]【權(quán)利要求】1.一種形成有光固化性樹脂層的基板的形成方法，其特征在于，包括：在具有至少1個凹部或凸部區(qū)域的大致四邊形的基板當(dāng)中確定想要抑制層壓缺陷的產(chǎn)生的凹部或凸部區(qū)域的工序；將所述想要抑制層壓缺陷的產(chǎn)生的凹部或凸部區(qū)域的最長邊與具有層壓輥的層壓機的壓接部所成的角度a控制為Γ?89°的工序，其中，在不存在最長邊的情況下則所述最長邊表示最長軸，在具有多個最長邊的情況下則所述最長邊表示其中的一個邊；將所述基板的四個邊當(dāng)中最先完成所述層壓機的壓接部的通過的邊與所述層壓機的壓接部所成的角度b控制為Γ?89°的工序，其中，在所述基板的兩個邊同時最先完成通過的情況下則所述最先完成所述層壓機的壓接部的通過的邊表示其中的一個邊；以及使具有設(shè)于臨時支撐體上的光固化性樹脂層的感光性膜的與該臨時支撐體相反一側(cè)的表面、與所述基板的想要抑制層壓時的缺陷的產(chǎn)生的凹部或凸部區(qū)域側(cè)的表面相對置，在維持所述角a及角b的同時使它們通過所述層壓機而將兩者壓接的工序。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的形成有光固化性樹脂層的基板的形成方法，其特征在于，所述基板的所述想要抑制層壓缺陷的產(chǎn)生的凹部或凸部區(qū)域為突起、槽及開口部當(dāng)中的至少1種。3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的形成有光固化性樹脂層的基板的形成方法，其特征在于，將所述角a控制為5°?85°。4.根據(jù)權(quán)利要求1?3中任一項所述的形成有光固化性樹脂層的基板的形成方法，其特征在于，將所述角b控制為5°?85°。5.根據(jù)權(quán)利要求1?4中任一項所述的形成有光固化性樹脂層的基板的形成方法，其特征在于，在所述臨時支撐體與光固化性樹脂層之間具有熱塑性樹脂層。6.-種形成有光固化性樹脂層的基板，其特征在于，使用權(quán)利要求1?5中任一項所述的形成有光固化性樹脂層的基板的形成方法而形成。7.-種形成有光固化性樹脂層的基板，其特征在于，對于至少1個凹部或凸部區(qū)域而言，進行了光固化后，在與基板面垂直的方向上的所述凹部或凸部區(qū)域的投影面積的25倍相似放大區(qū)域內(nèi)存在的針孔為3個/cm2以下。8.-種靜電電容型輸入裝置，其特征在于，使用權(quán)利要求6或7所述的形成有光固化性樹脂層的基板而形成。9.一種圖像顯示裝置，其特征在于，具備權(quán)利要求8所述的靜電電容型輸入裝置?！疚臋n編號】B32B37/00GK104066581SQ201380005992【公開日】2014年9月24日申請日期:2013年1月17日優(yōu)先權(quán)日:2012年1月20日【發(fā)明者】兒玉知啟,伊藤英明申請人:富士膠片株式會社