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透明導(dǎo)電玻璃及其制備方法

文檔序號:2443657閱讀:200來源:國知局
透明導(dǎo)電玻璃及其制備方法
【專利摘要】本發(fā)明提供了一種透明導(dǎo)電玻璃及其制備方法。該透明導(dǎo)電玻璃,包括導(dǎo)電玻璃基板及形成于所述導(dǎo)電玻璃基板表面的透明膜;其中,所述透明膜的表面形成有多個凹槽;所述透明膜的材料為光學(xué)樹脂。上述透明導(dǎo)電玻璃,在導(dǎo)電玻璃基板的表面形成有透明膜,透明膜的表面形成有多個凹槽,能夠增加導(dǎo)電玻璃基板的粗糙度,降低光線入射到導(dǎo)電玻璃基板時的全反射率,增大光線的透過率,從而提高陽極板整體的出光效率。
【專利說明】透明導(dǎo)電玻璃及其制備方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及場發(fā)射器件領(lǐng)域,特別是涉及一種透明導(dǎo)電玻璃及其制備方法。
【背景技術(shù)】
[0002]場發(fā)射器件是一種新興光源,通過在真空環(huán)境下,陰極板上的電子發(fā)射體發(fā)射的電子受陽極板上的正電壓吸引后被加速,轟擊到陽極板的熒光粉上而發(fā)光的。場發(fā)射光源能實現(xiàn)均勻的、薄型的、面光源式的發(fā)光,已經(jīng)廣泛應(yīng)用于顯示器、照明設(shè)備和微波元件中,具有巨大的應(yīng)用潛力。
[0003]陽極板是場發(fā)射器件的重要組成部分,至上而下依次包括了導(dǎo)電玻璃基板、熒光粉層、介質(zhì)層、反光層等。電子轟擊突光粉層發(fā)光,光線從導(dǎo)電玻璃基板透射出光。一般情況下,當(dāng)光入射在給定的材料的光學(xué)元件的表面時,所產(chǎn)生的反射光與透射光能量確定,在不考慮吸收、散射等其他因素時,反射光與透射光的總能量等于入射光的能量。光線傳播到透明導(dǎo)電玻璃基板下表面時,若入射角大于全反射角,就會發(fā)生全發(fā)射,導(dǎo)致反射光的能量增大,透射光能量的降低。傳統(tǒng)的光滑導(dǎo)電玻璃基板,在導(dǎo)電玻璃基板的表面全反射率高,導(dǎo)致光線的透過率較低,同時陽極板整體的出光效率也不高。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]基于此,有必要提供一種全反射率較低、透過率較高的透明導(dǎo)電玻璃及其制備方法。
[0005]一種透明導(dǎo)電玻璃,包括導(dǎo)電玻璃基板及形成于所述導(dǎo)電玻璃基板表面的透明膜;
[0006]其中,所述透明膜的表面形成有多個凹槽;
[0007]所述透明膜的材料為光學(xué)樹脂。
[0008]在其中一個實施例中,所述透明膜的厚度為200nnT500nm;所述凹槽的深度為30nm?200nmo
[0009]在其中一個實施例中,所述光學(xué)樹脂為聚甲基丙烯酸甲酯及聚碳酸酯中的至少一種。
[0010]在其中一個實施例中,所述凹槽為V型凹槽、U型凹槽或坑洞。
[0011]一種透明導(dǎo)電玻璃的制備方法,包括以下步驟:
[0012]將光學(xué)樹脂溶于有機溶劑中形成光學(xué)樹脂漿料,其中所述光學(xué)樹脂與所述有機溶劑的質(zhì)量比為4:1 ;
[0013]將所述光學(xué)樹脂漿料涂覆于導(dǎo)電玻璃基板的表面,形成漿料膜;
[0014]將具有所述漿料膜的所述導(dǎo)電玻璃基板進行加熱,以除去所述漿料膜中的所述有機溶劑,形成透明膜;及
[0015]在所述透明膜的表面形成多個凹槽。
[0016]在其中一個實施例中,所述光學(xué)樹脂為聚甲基丙烯酸甲酯及聚碳酸酯中的至少一種,其中,所述聚甲基丙烯酸甲酯溶于有機溶劑丙酮或冰醋酸中,所述聚碳酸酯溶于有機溶劑乙醇或丙酮中。
[0017]在其中一個實施例中,采用旋涂法或絲網(wǎng)印刷法,在所述導(dǎo)電玻璃基板的表面形成所述漿料膜;采用壓印法及濕法腐蝕法中的至少一種,在所述透明膜的表面形成所述多個凹槽。
[0018]在其中一個實施例中,采用旋涂法在所述導(dǎo)電玻璃基板的表面形成所述漿料膜的步驟包括:將所述導(dǎo)電玻璃基板放置于涂膠機中,所述涂膠機的轉(zhuǎn)速為40rpnT60rpm,在所述導(dǎo)電玻璃基板表面中心以1-2滴/秒的速率滴入所述光學(xué)樹脂漿料4mirT5min,后以80rpm~IOOrpm的速度加速旋轉(zhuǎn)15s~20s,在所述導(dǎo)電玻璃基板的表面形成所述衆(zhòng)料膜。
[0019]在其中一個實施例中,加熱除去所述漿料膜中的有機溶劑形成所述透明膜的步驟包括:將具有所述漿料膜的所述導(dǎo)電玻璃基板置于低溫爐中,以5°c ATktc /h的速率將所述低溫爐升溫至50°C~80°C,保溫時間為30mirT90min,形成的所述透明膜的厚度為200nm~500nmo
[0020]在其中一個實施例中,采用壓印法在所述透明膜的表面形成所述多個凹槽的步驟包括:將含有所述透明膜的所述導(dǎo)電玻璃基板置于真空爐中,以0.5°C /min的速率將所述真空爐升溫至85°C~15(TC,用表面形成有與所述多個凹槽的形狀相對應(yīng)的凸起的滾輪以
0.8rpm^3rpm的轉(zhuǎn)速、4牛頓~5牛頓的壓力滾壓所述透明膜,在所述透明膜的表面形成所述多個凹槽。
[0021]上述透明導(dǎo)電玻璃,在導(dǎo)電玻璃基板的表面形成有透明膜,透明膜的表面形成有多個凹槽,能夠增加導(dǎo)電玻璃基板的粗糙度,降低光線入射到導(dǎo)電玻璃基板時的全反射率,增大光線的透過率,從而提高陽極板整體的出光效率。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0022]圖1為一實施方式的透明導(dǎo)電玻璃的結(jié)構(gòu)圖
[0023]圖2為一實施方式的透明導(dǎo)電玻璃的制備方法的流程圖;
[0024]圖3至圖4為一實施方式的透明導(dǎo)電玻璃的制備過程示意圖;
[0025]圖5為實施例2的透明導(dǎo)電玻璃的結(jié)構(gòu)圖;
[0026]圖6為實施例3的透明導(dǎo)電玻璃的結(jié)構(gòu)圖。
【具體實施方式】
[0027]為使本發(fā)明的上述目的、特征和優(yōu)點能夠更加明顯易懂,下面對本發(fā)明的【具體實施方式】做詳細(xì)的說明。在下面的描述中闡述了很多具體細(xì)節(jié)以便于充分理解本發(fā)明。但是本發(fā)明能夠以很多不同于在此描述的其它方式來實施,本領(lǐng)域技術(shù)人員可以在不違背本發(fā)明內(nèi)涵的情況下做類似改進,因此本發(fā)明不受下面公開的具體實施的限制。
[0028]請參閱圖1,一實施方式的透明導(dǎo)電玻璃100,包括導(dǎo)電玻璃基板110及形成于導(dǎo)電玻璃基板110表面的透明膜120 ;
[0029]其中,透明膜120的表面形成有多個凹槽122 ;
[0030]透明膜120的材料為光學(xué)樹脂。
[0031]透明膜120的厚度為200nnT500nm。光學(xué)樹脂可以為聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)及聚碳酸酯(PC)中的至少一種。
[0032]凹槽122的深度為30nnT200nm。凹槽122可以為V型凹槽、U型凹槽或坑洞。本實施方式中的凹槽122為V型凹槽。透明膜的表面形成有多個凹槽,能夠減少光線在導(dǎo)電玻璃基板表面的全反射率,增大光線的透過率,從而提高陽極板整體的出光效率。
[0033]導(dǎo)電玻璃基板110的厚度為lmnT3mm。
[0034]上述透明導(dǎo)電玻璃,在導(dǎo)電玻璃基板的表面形成有透明膜,透明膜的表面形成有多個凹槽,能夠增加導(dǎo)電玻璃基板的粗糙度,降低光線入射到導(dǎo)電玻璃基板時的全反射率,增大光線的透過率,從而提高陽極板整體的出光效率。
[0035]請參閱圖2?4,一實施方式的透明導(dǎo)電玻璃的制備方法,包括以下步驟:
[0036]步驟S10、將光學(xué)樹脂溶于有機溶劑中形成光學(xué)樹脂漿料,其中光學(xué)樹脂與有機溶劑的質(zhì)量比為4:1。
[0037]光學(xué)樹脂可以為PMMA及PC中的至少一種。有機溶劑可以為丙酮、冰醋酸、乙醇、乙醚中的至少一種。其中,PMMA可以溶于有機溶劑丙酮或冰醋酸中,PC可以溶于有機溶劑乙醇或丙酮中。將光學(xué)樹脂溶于有機溶劑中形成漿料,利于后續(xù)將光學(xué)樹脂形成均勻的透明膜。
[0038]步驟S20、將光學(xué)樹脂漿料涂覆于導(dǎo)電玻璃基板110的表面,形成漿料膜。
[0039]導(dǎo)電玻璃基板110表面在形成漿料膜之前先進行表面處理,以除去其表面的雜質(zhì)。具體為:將導(dǎo)電玻璃基板110依次用蒸餾水、丙酮、無水乙醇、蒸餾水各超聲波清洗5min?30mino
[0040]采用旋涂法或絲網(wǎng)印刷法,在導(dǎo)電玻璃基板110的表面形成漿料膜。
[0041]采用旋涂法在導(dǎo)電玻璃基板110的表面形成漿料膜的步驟包括:將導(dǎo)電玻璃基板110放置于涂膠機中,涂膠機的轉(zhuǎn)速為40rpnT60rpm,在導(dǎo)電玻璃基板110表面中心以廣2滴/秒的速率滴入光學(xué)樹脂衆(zhòng)料4min?5min,后以80rpnTl00rpm的速度加速旋轉(zhuǎn)15s?20s,在導(dǎo)電玻璃基板110的表面形成漿料膜。
[0042]步驟S30、將具有漿料膜的導(dǎo)電玻璃基板110進行加熱,以除去漿料膜中的有機溶齊U,形成透明膜120。
[0043]將具有漿料膜的導(dǎo)電玻璃基板Iio置于低溫爐中,以5°c ATktc /h的速率將低溫爐升溫至50°C?80°C,保溫時間為30mirT90min,形成厚度為200nnT500nm的透明膜120。
[0044]步驟S40、在透明膜120的表面形成多個凹槽122。
[0045]采用壓印法及濕法腐蝕法中的至少一種,在透明膜120的表面形成多個凹槽122。凹槽122的深度為30nnT200nm。凹槽122可以為U型凹槽、V型凹槽或坑洞,本實施方式中的凹槽122為V型凹槽。
[0046]采用壓印法在透明膜的表面形成多個凹槽的步驟包括:將含有透明膜的導(dǎo)電玻璃基板置于真空爐中,以0.5°C /min的速率將真空爐升溫至85°C ?150°C,用表面形成有與所述多個凹槽的形狀相對應(yīng)的凸起的滾輪以0.8rpnT3rpm的轉(zhuǎn)速、4牛頓?5牛頓的壓力滾壓透明膜,在透明膜的表面形成多個凹槽。其中,凸起的形狀可以為凸型圓錐體或凸型圓柱體。
[0047]采用濕法腐蝕法在透明膜的表面形成多個凹槽的步驟包括:將含有透明膜的導(dǎo)電玻璃基板置于真空爐中,在透明膜的表面噴涂溶劑,溶解透明膜的表面,在透明膜表面形成多個凹槽,溶劑停留時間為4mirT5min,后在純水中超聲波清洗5min,除去剩余的溶劑。優(yōu)選的,溶劑可以為丙酮或質(zhì)量分?jǐn)?shù)為30%的乙醚,凹槽可以為濃密的坑洞。
[0048]上述透明導(dǎo)電玻璃的制備方法,在導(dǎo)電玻璃基板的表面形成透明膜,且在透明膜的表面形成多個凹槽,制得的透明導(dǎo)電玻璃,表面粗糙度增加,能夠減少光線在導(dǎo)電玻璃基板表面的全反射率,增大光線的透過率,從而提高陽極板整體的出光效率。
[0049]下面結(jié)合具體實施例,對本發(fā)明作進一步的闡述。
[0050]實施例1
[0051]一透明導(dǎo)電玻璃的制備方法,包括以下步驟:
[0052]1、將PMMA溶于丙酮中形成PMMA漿料,其中PMMA與丙酮的質(zhì)量比為4:1。
[0053]2、將PMMA漿料涂覆于導(dǎo)電玻璃基板的表面,形成漿料膜,其中,PMMA的折射率為1.49。
[0054]導(dǎo)電玻璃基板的折射率為1.50,厚度為1mm。
[0055]導(dǎo)電玻璃基板表面在形成漿料膜之前先進行表面處理,以除去其表面的雜質(zhì)。具體為:將導(dǎo)電玻璃基板依次用蒸餾水、丙酮、無水乙醇、蒸餾水各超聲波清洗15min。
[0056]采用旋涂法在導(dǎo)電玻璃基板的表面形成漿料膜的步驟包括:將導(dǎo)電玻璃基板放置于涂膠機中,涂膠機的轉(zhuǎn)速為50rpm,在導(dǎo)電玻璃基板表面中心以I滴/秒的速率滴入PMMA漿料5min,后以IOOrpm的速度加速旋轉(zhuǎn)20s,在導(dǎo)電玻璃基板的表面形成漿料膜。
[0057]3、將具有漿料膜的導(dǎo)電玻璃基板進行加熱,以除去漿料膜中的丙酮,形成透明膜。
[0058]具體的,將具有漿料膜的導(dǎo)電玻璃基板置于低溫爐中,以10°C /h的速率將低溫爐升溫至55°C,保溫時間為1.2h,形成厚度為500nm的透明膜PMMA層。
[0059]4、在透明膜的表面形成多個凹槽。
[0060]將含有PMMA層的導(dǎo)電玻璃基板置于真空爐中,以0.5V /min的速率將真空爐升溫至100°c,用表面形成有直徑200nm、高200nm、周期300nm的凸型圓錐體的光滑滾輪以Irpm的轉(zhuǎn)速、5牛頓的壓力滾壓PMMA層,在PMMA層的表面形成多個V型凹槽。
[0061]如圖1所示,由上述方法制得的透明導(dǎo)電玻璃100,其結(jié)構(gòu)為:導(dǎo)電玻璃基板110及形成于導(dǎo)電玻璃基板110表面的PMMA層120,PMMA層120的表面形成有寬度為200nm、深度為200nm、周期為300nm的V型凹槽122。
[0062]實施例2
[0063]一透明導(dǎo)電玻璃的制備方法,包括以下步驟:
[0064]1、將PMMA溶于冰醋酸中形成PMMA漿料,其中PMMA與冰醋酸的質(zhì)量比為4:1。
[0065]2、將PMMA漿料涂覆于導(dǎo)電玻璃基板的表面,形成漿料膜,其中,PMMA的折射率為
1.49。
[0066]導(dǎo)電玻璃基板為超白玻璃,折射率為1.47,厚度為1.5mm。
[0067]導(dǎo)電玻璃基板表面在形成漿料膜之前先進行表面處理,以除去其表面的雜質(zhì)。具體為:將導(dǎo)電玻璃基板依次用蒸餾水、丙酮、無水乙醇、蒸餾水各超聲波清洗25min。
[0068]在導(dǎo)電玻璃基板的表面形成漿料膜的步驟包括:用絲網(wǎng)印刷法把PMMA漿料印刷于導(dǎo)電玻璃基板的表面,形成衆(zhòng)料膜。
[0069]3、將具有漿料膜的導(dǎo)電玻璃基板進行加熱,以除去漿料膜中的冰醋酸,形成透明膜。[0070]具體的,將具有漿料膜的導(dǎo)電玻璃基板置于低溫爐中,以10°C /h的速率將低溫爐升溫至80°C,保溫時間為lh,形成厚度為300nm的透明膜PMMA層。
[0071]4、在透明膜的表面形成多個凹槽。
[0072]將含有透明膜PMMA層的導(dǎo)電玻璃基板置于真空爐中,在PMMA層的表面噴涂丙酮,丙酮在PMMA層表面停留3min,形成深度為30nnT50nm的濃密坑洞。
[0073]5、在純水中超聲波清洗具有透明膜的導(dǎo)電玻璃基板5min,去除剩余的丙酮。
[0074]如圖5所示,由上述方法制得的透明導(dǎo)電玻璃200,其結(jié)構(gòu)為:導(dǎo)電玻璃基板210及形成于導(dǎo)電玻璃基板210表面的PMMA層220,PMMA層220的表面形成有深度為30nnT50nm的濃密坑洞122。
[0075]實施例3
[0076]一透明導(dǎo)電玻璃的制備方法,包括以下步驟:
[0077]1、將PC溶于乙醇中形成PC漿料,其中PC與乙醇的質(zhì)量比為4:1。
[0078]2、將PC漿料涂覆于導(dǎo)電玻璃基板的表面,形成漿料膜,其中,PC的折射率為1.58。
[0079]導(dǎo)電玻璃基板的折射率為1.50,厚度為3mm。
[0080]導(dǎo)電玻璃基板表面在形成漿料膜之前先進行表面處理,以除去其表面的雜質(zhì)。具體為:將導(dǎo)電玻璃基板依次用蒸餾水、丙酮、無水乙醇、蒸餾水各超聲波清洗20min。
[0081]在導(dǎo)電玻璃基板的表面形成漿料膜的步驟包括:用絲網(wǎng)印刷法把PC漿料印刷于導(dǎo)電玻璃基板的表面,形成漿料膜。
[0082]3、將具有漿料膜的導(dǎo)電玻璃基板進行加熱,以除去漿料膜中的乙醇,形成透明膜。
[0083]具體的,將具有漿料膜的導(dǎo)電玻璃基板置于低溫爐中,以10°C /h的速率將低溫爐升溫至50°C,保溫時間為0.8h,形成厚度為300nm的透明膜PC層。
[0084]4、在透明膜的表面形成多個凹槽。
[0085]將含有PC層的導(dǎo)電玻璃基板置于真空爐中,以5°C /min的速率將真空爐升溫至150°C,用表面形成有直徑lOOnm、高lOOnm、周期IOOnm的凸型圓柱體的光滑滾輪以3rpm的轉(zhuǎn)速、5牛頓的壓力滾壓PC層,在PC層的表面形成多個U型凹槽。
[0086]如圖6所示,由上述方法制得的透明導(dǎo)電玻璃300,其結(jié)構(gòu)為:導(dǎo)電玻璃基板310及形成于導(dǎo)電玻璃基板310表面的PC層320,PC層320的表面形成有寬度lOOnm、深度lOOnm、周期為IOOnm的U型凹槽322。
[0087]實施例4
[0088]一透明導(dǎo)電玻璃的制備方法,包括以下步驟:
[0089]1、將PC溶于丙酮中形成PC漿料,其中PC與丙酮的質(zhì)量比為4:1。
[0090]2、將PC漿料涂覆于導(dǎo)電玻璃基板的表面,形成漿料膜,其中,PC的折射率為1.58。
[0091]導(dǎo)電玻璃基板的折射率為1.50,厚度為2_。
[0092]導(dǎo)電玻璃基板表面在形成漿料膜之前先進行表面處理,以除去其表面的雜質(zhì)。具體為:將導(dǎo)電玻璃基板依次用蒸餾水、丙酮、無水乙醇、蒸餾水各超聲波清洗15min。
[0093]在導(dǎo)電玻璃基板的表面形成漿料膜的步驟包括:將導(dǎo)電玻璃基板放置于涂膠機中,涂膠機的轉(zhuǎn)速為50rpm,在導(dǎo)電玻璃基板表面中心以I滴/秒的速率滴入PC漿料4min,后以IOOrpm的速度加速旋轉(zhuǎn)15s,在導(dǎo)電玻璃基板的表面形成漿料膜。
[0094]3、將具有漿料膜的導(dǎo)電玻璃基板進行加熱,以除去漿料膜中的丙酮,形成透明膜。[0095]具體的,將具有漿料膜的導(dǎo)電玻璃基板置于低溫爐中,以10°C /h的速率將低溫爐升溫至60°C,保溫時間為lh,形成厚度為400nm的透明膜PC層。
[0096]4、在透明膜的表面形成多個凹槽。
[0097]將含有透明膜PC層的導(dǎo)電玻璃基板置于真空爐中,在PC層的表面噴涂質(zhì)量分?jǐn)?shù)為30%的乙醚,乙醚在PC層表面停留5min,形成深度為50nnT80nm的濃密坑洞。
[0098]5、在純水中超聲波清洗具有透明膜的導(dǎo)電玻璃基板5min,去除剩余的乙醚。
[0099]上述方法制得的陽極板用導(dǎo)電玻璃,其結(jié)構(gòu)為:導(dǎo)電玻璃基板及形成于導(dǎo)電玻璃基板表面的PC層,PC層表面形成有深度為50nnT80nm的濃密坑洞。
[0100]以上實施例僅表達了本發(fā)明的幾種實施方式,其描述較為具體和詳細(xì),但并不能因此而理解為對本發(fā)明專利范圍的限制。應(yīng)當(dāng)指出的是,對于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說,在不脫離本發(fā)明構(gòu)思的前提下,還可以做出若干變形和改進,這些都屬于本發(fā)明的保護范圍。因此,本發(fā)明專利的保護范圍應(yīng)以所附權(quán)利要求為準(zhǔn)。
【權(quán)利要求】
1.一種透明導(dǎo)電玻璃,其特征在于,包括導(dǎo)電玻璃基板及形成于所述導(dǎo)電玻璃基板表面的透明膜; 其中,所述透明膜的表面形成有多個凹槽; 所述透明膜的材料為光學(xué)樹脂。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的透明導(dǎo)電玻璃,其特征在于,所述透明膜的厚度為200nm^500nm ;所述凹槽的深度為30nnT"200nm。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的透明導(dǎo)電玻璃,其特征在于,所述光學(xué)樹脂為聚甲基丙烯酸甲酯及聚碳酸酯中的至少一種。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的透明導(dǎo)電玻璃,其特征在于,所述凹槽為V型凹槽、U型凹槽或坑洞。
5.一種透明導(dǎo)電玻璃的制備方法,其特征在于,包括以下步驟: 將光學(xué)樹脂溶于有機溶劑中形成光學(xué)樹脂漿料,其中所述光學(xué)樹脂與所述有機溶劑的質(zhì)量比為4:1 ; 將所述光學(xué)樹 脂漿料涂覆于導(dǎo)電玻璃基板的表面,形成漿料膜; 將具有所述漿料膜的所述導(dǎo)電玻璃基板進行加熱,以除去所述漿料膜中的所述有機溶劑,形成透明膜;及 在所述透明膜的表面形成多個凹槽。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的透明導(dǎo)電玻璃的制備方法,其特征在于,所述光學(xué)樹脂為聚甲基丙烯酸甲酯及聚碳酸酯中的至少一種,其中,所述聚甲基丙烯酸甲酯溶于有機溶劑丙酮或冰醋酸中,所述聚碳酸酯溶于有機溶劑乙醇或丙酮中。
7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的透明導(dǎo)電玻璃的制備方法,其特征在于,采用旋涂法或絲網(wǎng)印刷法,在所述導(dǎo)電玻璃基板的表面形成所述漿料膜;采用壓印法及濕法腐蝕法中的至少一種,在所述透明膜的表面形成所述多個凹槽。
8.根據(jù)權(quán)利要求5所述的透明導(dǎo)電玻璃的制備方法,其特征在于,采用旋涂法在所述導(dǎo)電玻璃基板的表面形成所述漿料膜的步驟包括:將所述導(dǎo)電玻璃基板放置于涂膠機中,所述涂膠機的轉(zhuǎn)速為40rpm-T60rpm,在所述導(dǎo)電玻璃基板表面中心以f 2滴/秒的速率滴入所述光學(xué)樹脂衆(zhòng)料4min-5min,后以80rpm-Tl00rpm的速度加速旋轉(zhuǎn)15s~20s,在所述導(dǎo)電玻璃基板的表面形成所述漿料膜。
9.根據(jù)權(quán)利要求5所述的透明導(dǎo)電玻璃的制備方法,其特征在于,加熱除去所述漿料膜中的有機溶劑形成所述透明膜的步驟包括:將具有所述漿料膜的所述導(dǎo)電玻璃基板置于低溫爐中,以5°C ATKTC /h的速率將所述低溫爐升溫至50°C~80°C,保溫時間為30min^90min,形成的所述透明膜的厚度為200nnT500nm。
10.根據(jù)權(quán)利要求5所述的透明導(dǎo)電玻璃的制備方法,其特征在于,采用壓印法在所述透明膜的表面形成所述多個凹槽的步驟包括:將含有所述透明膜的所述導(dǎo)電玻璃基板置于真空爐中,以0.5°C /min的速率將所述真空爐升溫至85°C ~150°C,用表面形成有與所述多個凹槽的形狀相對應(yīng)的凸起的滾輪以0.8rpnT3rpm的轉(zhuǎn)速、4牛頓~5牛頓的壓力滾壓所述透明膜,在所述透明膜的表面形成所述多個凹槽。
【文檔編號】B32B17/06GK103770402SQ201210395049
【公開日】2014年5月7日 申請日期:2012年10月17日 優(yōu)先權(quán)日:2012年10月17日
【發(fā)明者】周明杰, 梁艷馨, 陳貴堂 申請人:海洋王照明科技股份有限公司, 深圳市海洋王照明技術(shù)有限公司, 深圳市海洋王照明工程有限公司
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