專利名稱：一種真空鍍膜成圖方法、專用設(shè)備及制品的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及工藝品制造技術(shù)，具體的涉及制備各種工藝品的一種真空鍍膜成圖方
法、專用設(shè)備及制品。
背景技術(shù)：
目前，現(xiàn)有的在塑料、玻璃等制品表面鍍膜并獲得圖案方法，一般是先對(duì)制品表面 進(jìn)行完全鍍膜，然后再采用印刷、腐蝕等方法值得圖案。如中國(guó)200610170656. 3號(hào)專利申 請(qǐng)，即公開了一種利用在基材表面形成激光圖案的真空鍍膜設(shè)備、方法及制成品，其主要是 將聚碳酸酯基材或壓克力基材放入真空鍍膜設(shè)備中，將氧化硅及氧化鈦蒸鍍?cè)诨谋砻嫘?成鍍膜層，再將已蒸鍍完成的基材，以印刷方式布設(shè)圖樣層在基材另一表面，并在鍍膜層上 布設(shè)一顏色層；由上述方法所完成的產(chǎn)品，當(dāng)基材透過光線照射，因鍍膜層將光線折射，而 會(huì)呈現(xiàn)不同的色彩變化及光影折射的視覺效果。這種方法，不能快速、精確、環(huán)保地獲得鏤 空?qǐng)D案。 在目前常用的蒸鍍、濺鍍、分子束外延等真空鍍膜方法鍍膜方法中，其鍍膜設(shè)備通 常大多使用單一固定的鍍膜源，然而，這種設(shè)備一次僅能加工一個(gè)制品，其加工效率很低， 不能滿足大批量生產(chǎn)的需要。 現(xiàn)有的激光蝕刻技術(shù)，其一般是直接導(dǎo)入圖案數(shù)據(jù)就進(jìn)行蝕刻，而根據(jù)制品表面 的曲度、粗糙度等數(shù)據(jù)，對(duì)該圖案數(shù)據(jù)進(jìn)行運(yùn)算、調(diào)整，因而制得的圖案會(huì)發(fā)生一些形變，精 度較低、效果較差。 采用現(xiàn)有技術(shù)獲得的制品，其鍍膜層一般存在于制品的外側(cè)表面，而在其內(nèi)側(cè)表 面上鍍膜、并在該鍍膜上鏤空成圖的制品，還沒有發(fā)現(xiàn)。

發(fā)明內(nèi)容
針對(duì)現(xiàn)有鍍膜及成圖技術(shù)所存在的上述不足，本發(fā)明目的之一在于，提供兩種成 圖精度高、藝術(shù)效果好的真空鍍膜成圖方法。 本發(fā)明的目的之二在于，提供一種用來實(shí)現(xiàn)前述的真空鍍膜成圖方法的設(shè)備，該 設(shè)備可以大幅高生產(chǎn)效率。 本發(fā)明的目的還在于，提供一種采用前所述的真空鍍膜成圖方法的制品，其為一 燭臺(tái)。 本發(fā)明為實(shí)現(xiàn)上述目的，所提供的技術(shù)方案是 第一種真空鍍膜成圖方法，其是在現(xiàn)有貼膜成圖技術(shù)中，增加成圖預(yù)處理步驟，該
步驟包括需要鍍膜成圖的胚體表面均勻噴涂蠟層，再鍍膜，再將該蠟層去除，成圖。 第二種真空鍍膜成圖方法，其是在現(xiàn)有激光蝕刻技術(shù)中，使激光束從外部穿透所
述玻璃胚體并直接掃描其內(nèi)側(cè)表面上設(shè)置的鍍膜層，使其恢復(fù)透明，成圖。 進(jìn)一步的，其還包括了在胚體內(nèi)部預(yù)設(shè)一可阻斷激光束的物體或涂層，以阻斷穿
透所述胚體內(nèi)側(cè)表面鍍膜后的激光束，射向胚體其它部位，避免其留下不應(yīng)有的痕跡或損傷。 上述兩種方法的鍍膜層為鍍鋁膜層，其厚度為0. 001 0. 01毫米，這一厚度范圍 內(nèi)可以更好的達(dá)到加工要求，并產(chǎn)生更好的藝術(shù)效果。 —種實(shí)現(xiàn)前述真空鍍膜成圖方法的專用設(shè)備，其特點(diǎn)在于，其設(shè)有復(fù)數(shù)個(gè)鍍膜電 加熱架，可以同時(shí)對(duì)多數(shù)個(gè)胚體進(jìn)行鍍膜加工。 —種采用前述的真空鍍膜成圖方法的制品，其為一燭臺(tái)，其內(nèi)側(cè)表面上設(shè)有一置 有鏤空?qǐng)D案的鍍膜層；該鍍膜層為鍍鋁膜層，其厚度為0. 001 0. 01毫米。這一厚度，可以 保證制品的藝術(shù)效果，且使用時(shí)該鍍膜層不易被損壞。 本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)在于由于本發(fā)明提供的兩種方法，可以直接在鍍膜層上獲得圖案， 且獲得的圖案精度高、效果好；本發(fā)明提供的專用設(shè)備，可以一次同時(shí)對(duì)多個(gè)制品進(jìn)行鍍膜 操作，生產(chǎn)效率高；本發(fā)明提供的制品，其藝術(shù)效果好、耐用，鏤空?qǐng)D案立體感強(qiáng)、仿真度高， 且不易變形或損壞。 下面結(jié)結(jié)合附圖與實(shí)施例，對(duì)本發(fā)明進(jìn)一步說明。


圖1是本發(fā)明實(shí)施例1提供的專用設(shè)備的全剖結(jié)構(gòu)示意圖；
圖2是本發(fā)明實(shí)施例1提供的制品的全剖結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施例方式實(shí)施例1 :本實(shí)施例提供的第一種真空鍍膜成圖方法，其包括如下步驟 (1)制備、清潔玻璃胚體；該玻璃胚體可以是杯形、碟型或其它任意形狀之一，本
實(shí)施例中，選擇的是透明杯形胚體； (11)在所述玻璃胚體表面涂覆一層電鍍油； (2)在該玻璃胚體需要成圖的內(nèi)側(cè)表面部位，進(jìn)行成圖預(yù)處理 (21)制備帶有鏤空?qǐng)D案的薄膜，并將其附著在胚體內(nèi)側(cè)表面上； (22)將所述薄膜及胚體內(nèi)側(cè)表面均勻噴涂蠟層，使其覆蓋所述鏤空?qǐng)D案； (23)除去所述薄膜； (3)將胚體真空鍍膜，在玻璃胚體內(nèi)側(cè)表面上制得鍍膜層； (4)將胚體成圖部位鏤空，即將噴涂在所述胚體上的蠟層加熱移除，附著在該蠟層 上的鍍膜也隨著移除，該部位鏤空成圖。 (41)清理所述胚體，并在所述電鍍層外部涂覆一層有色透明保護(hù)層；該有色透明 保護(hù)層，可以改變鍍膜層原有的色彩，從而使胚體鍍膜層達(dá)到仿金、綠寶石、藍(lán)寶石等色澤 效果。 所述的鍍膜層為鍍鋁膜層，其厚度為0. 001 0. 01毫米。加工時(shí)，該鍍膜用鋁，是 采用高純度鋁絲。本實(shí)施例中，該鍍鋁膜層平均厚度約為0. 001 0. 005毫米。
參見圖l，一種實(shí)現(xiàn)前述的真空鍍膜成圖方法的設(shè)備，其包括相互扣合的上殼體 2、下殼體l，下殼體1上設(shè)有電插座，該殼體中部設(shè)置有一水平托板3，該托板3上開有復(fù)數(shù) 個(gè)通孔4 ;下殼體1底部設(shè)有一絕緣電路板7，該電路板7上端面對(duì)應(yīng)所述通孔位置，分別 設(shè)有復(fù)數(shù)個(gè)鍍膜電加熱架6，且每一鍍膜電加熱架6均穿過所述通孔4并向上伸出；所述各
5鍍膜電加熱架6的上部為一鎢絲5，其兩端分別連接電源的一極，并聯(lián)后連接在所述電插座 上。上殼體2或下殼體1上，還設(shè)有一用來抽真空的開口 ；上殼體2或下殼體1之間的扣合 面上，還設(shè)有密封圈8。 工作時(shí)，將高純度鋁絲段放置在各鎢絲5上，然后將復(fù)數(shù)個(gè)經(jīng)過成圖預(yù)處理的玻 璃胚體逐一倒置套設(shè)在各鍍膜電加熱架6上，閉合上殼體2、下殼體1后抽真空，將各鎢絲瞬 間同時(shí)通電，其將鋁絲加熱升華或蒸發(fā)為氣體，彌漫在胚體內(nèi)，遭遇到胚體內(nèi)側(cè)表面及凝結(jié) 為鍍鋁膜層；切斷電源，將各胚體取出。采用本設(shè)備，可以大大提高生產(chǎn)效率，并可以提高產(chǎn) 品的一致性，使其保持品質(zhì)的穩(wěn)定。 參見圖2，一種采用前所述真空鍍膜成圖方法的制品，其包括一玻璃胚體，其特征
在于，其為一燭臺(tái)，所述玻璃胚體10為一多面體，其表面為曲面和/或毛面；在其內(nèi)側(cè)表面
上，設(shè)有一置有鏤空?qǐng)D案的鍍膜層12 ;在所述玻璃胚體的內(nèi)側(cè)表面上，由內(nèi)向外依次設(shè)有
電鍍油層11、鍍膜層12(含鏤空?qǐng)D案)、保護(hù)層13;其中鍍膜層12為鍍鋁膜層，其厚度為
0. 001 0. 01毫米；其保護(hù)層13為有色油漆等有機(jī)化合物涂層。
實(shí)施例2 :本發(fā)明提供的第二種真空鍍膜成圖方法，其包括如下步驟 (1)制備、清潔玻璃胚體1 ; (2)在該玻璃胚體需要成圖的內(nèi)側(cè)表面部位，進(jìn)行成圖預(yù)處理
(21)編程，將基本圖案信息輸入計(jì)算機(jī)；
(22)將該基本圖案信息轉(zhuǎn)換為矢量信息； (23)根據(jù)胚體1曲度及粗糙度，對(duì)該基本圖案數(shù)據(jù)進(jìn)行運(yùn)算、調(diào)整； (3)將所述胚體1杯口向下，將胚體內(nèi)側(cè)表面真空鍍膜，在該玻璃胚體1內(nèi)側(cè)表面
鍍膜制得鍍膜層12 ;所述的鍍膜層12為鍍鋁膜層，其厚度為0. 001 0. 01毫米； (4)預(yù)先在胚體1內(nèi)部設(shè)置一阻斷激光束穿透的物體或涂層，以阻斷穿透所述胚
體內(nèi)側(cè)面的激光束射向其它部位； 根據(jù)步驟(23)獲得的數(shù)據(jù)，控制與計(jì)算機(jī)聯(lián)機(jī)的激光蝕刻設(shè)備，使激光束穿透所
述玻璃胚體1并掃描其內(nèi)側(cè)表面，熔融或氣化所述鍍膜，使玻璃胚體1恢復(fù)透明，成圖。 所述的步驟(4)，預(yù)先設(shè)置的物體或涂層，該物體為吸光物或遮光物，例如紙筒、紙
巻、布巻、膠塞、軟木塞等等；也可是或吸光、遮光涂層，如蠟層、油層等。 本實(shí)施例中，所述的吸光物或遮光物，是噴涂在該胚體上的蠟層。 所述的玻璃胚體1為一透明的多面杯形，所述的成圖部位為其內(nèi)側(cè)表面；其它實(shí)
施例中，也可以為其它形狀的玻璃制品。 本實(shí)施例提供的實(shí)現(xiàn)前述真空鍍膜成圖方法的專用設(shè)備，其結(jié)構(gòu)與實(shí)施例1相 同，其工作過程也基本相同，其不同之處在于，其是在鍍膜取出所述胚體后，在采用激光束 蝕刻的方法，在該胚體鍍膜層上成圖。 本實(shí)施例所提供的采用前述真空鍍膜成圖方法的制品，其結(jié)構(gòu)與實(shí)施例1基本相 同，其不同之處在于，其鍍鋁膜層12的平均厚度為0. 005 0. 01毫米。其它實(shí)施例中，其 厚度也可以是0. 001 0. 01毫米之間的其它任意數(shù)值。 如本發(fā)明上述實(shí)施例所述，具備與本實(shí)施例相同或相似技術(shù)特征的真空鍍膜成圖 方法、設(shè)備及制品，均在本發(fā)明保護(hù)范圍內(nèi)。
權(quán)利要求
一種真空鍍膜成圖方法，其特征在于，其包括如下步驟(1)制備、清潔玻璃胚體；(2)在該玻璃胚體需要成圖的內(nèi)側(cè)表面部位，進(jìn)行成圖預(yù)處理；(21)制備帶有鏤空?qǐng)D案的薄膜，并將其附著在胚體上；(22)將所述薄膜及胚體表面均勻噴涂蠟層，使其覆蓋所述鏤空?qǐng)D案；(23)除去所述薄膜；(3)將胚體真空鍍膜，在玻璃胚體表面制得鍍膜層；(4)將胚體成圖部位鏤空，將噴涂在所述胚體上的蠟層加熱移除，成圖。所述的鍍膜層為鍍鋁膜層，其厚度為0.001～0.01毫米。
2. 根據(jù)權(quán)利要求l所述的真空鍍膜成圖方法，其特征在于，所述的步驟(1)還包括如下步驟(11)在所述玻璃胚體表面涂覆一層電鍍油； 所述的步驟(4)，還包括如下步驟(41)清理所述胚體，并在所述電鍍層外部涂覆一層有色透明保護(hù)層。
3. —種真空鍍膜成圖方法，其特征在于，其包括如下步驟(1) 制備、清潔玻璃胚體；(2) 在該玻璃胚體需要成圖的內(nèi)側(cè)表面部位，進(jìn)行成圖預(yù)處理；(21) 編程，將基本圖案信息輸入計(jì)算機(jī)；(22) 將該基本圖案信息轉(zhuǎn)換為矢量信息；(23) 根據(jù)胚體曲度及粗糙度，對(duì)該基本圖案數(shù)據(jù)進(jìn)行運(yùn)算、調(diào)整。(3) 將胚體內(nèi)側(cè)表面真空鍍膜，在該玻璃胚體表面制得鍍膜層；(4) 根據(jù)步驟(23)獲得的數(shù)據(jù)，控制與計(jì)算機(jī)聯(lián)機(jī)的激光蝕刻設(shè)備，使激光束從外部 射入，穿透所述玻璃胚體并掃描其內(nèi)側(cè)表面，熔融或氣化所述內(nèi)側(cè)表面上設(shè)置的鍍膜層，使 其恢復(fù)透明，成圖。所述的鍍膜層為鍍鋁膜層，其厚度為0. 001 0. 01毫米。
4. 據(jù)權(quán)利要求3的真空鍍膜成圖方法，其特征在于，所述的步驟(4)，其還包括如下步驟在胚體內(nèi)部預(yù)設(shè)一可阻斷激光束的物體或涂層，以阻斷穿透所述胚體內(nèi)側(cè)表面鍍膜后 的激光束，射向胚體其它部位。
5. 根據(jù)權(quán)利要求4所述的真空鍍膜成圖方法，其特征在于，所述阻斷激光束的物體或 涂層，包括吸光或遮光物及涂層。
6. 根據(jù)權(quán)利要求4所述的真空鍍膜成圖方法，其特征在于，包括阻斷激光束的物體或 涂層，是噴涂在所述胚體上的蠟層。
7. 根據(jù)權(quán)利要求1或3所述的真空鍍膜成圖方法，其特征在于，所述的胚體為一透明的 多面杯形，所述的成圖部位為其內(nèi)側(cè)表面。所述步驟(3)，是將所述胚體杯口向下，對(duì)其內(nèi)側(cè)表面鍍膜獲得鍍膜層；所述的鍍膜層 為鍍鋁膜層，其厚度為0. 001 0. 01毫米。
8. —種實(shí)現(xiàn)權(quán)利要求1或3所述的真空鍍膜成圖方法的專用設(shè)備，其包括相互扣合的 上、下殼體，下殼體上設(shè)有電插座，其特征在于，該殼體中部設(shè)置有一水平托板，該托板上開有復(fù)數(shù)個(gè)通孔；下殼體底部設(shè)有一絕緣電路板，該電路板上端面對(duì)應(yīng)所述通孔位置，分別設(shè) 有復(fù)數(shù)個(gè)鍍膜電加熱架，且每一鍍膜電加熱架均穿過所述通孔并向上伸出；所述各電鍍加 熱架的兩端分別連接電源的一極，并聯(lián)后連接在所述電插座上。
9. 根據(jù)權(quán)利要求8所述的實(shí)現(xiàn)真空鍍膜成圖方法的專用設(shè)備，其特征在于，所述的上 或下殼體上，還設(shè)有一用來抽真空的開口 ；所述的上或下殼體之間的扣合面上，還設(shè)有密封 圈。
10. —種采用權(quán)利要求1或3之一所述真空鍍膜成圖方法的制品，其包括一玻璃胚體， 其特征在于，其為一燭臺(tái)，所述玻璃胚體為一多面體，其表面為曲面和/或毛面；在該表面 上，設(shè)有至少一置有鏤空?qǐng)D案的鍍膜層；在所述玻璃胚體的表面上，由內(nèi)向外依次設(shè)有電鍍 油層、鍍膜層、保護(hù)層；其鍍膜層為鍍鋁膜層，其厚度為0. 001 0. 01毫米。
全文摘要
本發(fā)明公開了兩種真空鍍膜成圖方法，其中方法一包括如下步驟(1)制備玻璃胚體；(2)在該玻璃胚體需要成圖的內(nèi)側(cè)表面部位進(jìn)行成圖預(yù)處理；(21)制備帶有鏤空?qǐng)D案的薄膜，并將其附著在胚體上；(22)將所述薄膜及胚體表面均勻噴涂蠟層，使其覆蓋所述鏤空?qǐng)D案；(23)除去所述薄膜；(3)將胚體真空鍍膜，在玻璃胚體表面制得鍍膜層；(4)將胚體成圖部位鏤空，將噴涂在所述胚體上的蠟層加熱移除，成圖。本發(fā)明還提供了實(shí)現(xiàn)前述方法的設(shè)備及采用前述方法的制品。本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)在于由于本發(fā)明提供的方法，可以直接在鍍膜層上獲得圖案，且獲得的圖案精度高、效果好；本發(fā)明提供的專用設(shè)備，生產(chǎn)效率高；本發(fā)明提供的制品，其藝術(shù)效果好。
文檔編號(hào)C03C17/06GK101746958SQ20081018353
公開日2010年6月23日 申請(qǐng)日期2008年12月18日 優(yōu)先權(quán)日2008年12月18日
發(fā)明者溫晉奕 申請(qǐng)人:溫晉奕