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玻璃基片表面磷酸基硅烷-稀土納米薄膜的制備方法

文檔序號(hào):1948595閱讀:644來(lái)源:國(guó)知局
專利名稱:玻璃基片表面磷酸基硅烷-稀土納米薄膜的制備方法
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種納米復(fù)合薄膜的制備方法,尤其涉及一種玻璃基片表面自組裝磷酸基硅烷-稀土納米薄膜的制備方法。屬于薄膜制備技術(shù)領(lǐng)域。
背景技術(shù)
現(xiàn)代機(jī)械科學(xué)的發(fā)展出現(xiàn)機(jī)電一體化、超精密化和微型化的趨勢(shì),許多高新技術(shù)裝置的摩擦副間隙常處于納米量級(jí),由于微型機(jī)械受到尺寸效應(yīng)的影響,故微摩擦磨損和納米薄膜潤(rùn)滑已成為關(guān)鍵問(wèn)題,目前可以通過(guò)自組裝方法在玻璃表面制備自組裝膜,來(lái)研究稀土改善基片表面的減摩抗磨性。自組裝有機(jī)-無(wú)機(jī)復(fù)合薄膜是通過(guò)把適當(dāng)?shù)幕捉牒杏袡C(jī)物的溶液中,主要由化學(xué)吸附作用而生成一種有機(jī)二維分子薄膜,然后將附有有機(jī)薄膜的基片置入配制好的含有稀土的組裝溶液中,在一定的條件下進(jìn)行組裝,得到有機(jī)-無(wú)機(jī)復(fù)合薄膜。得到的自組裝膜結(jié)構(gòu)致密、穩(wěn)定性高,并且具有高度有序性和取向性。有序分子膜的摩擦性能的研究已經(jīng)成為摩擦學(xué)領(lǐng)域的前沿課題之一。
經(jīng)文獻(xiàn)檢索發(fā)現(xiàn),公開號(hào)為CN1403494的中國(guó)發(fā)明專利申請(qǐng)公開了一種自組裝超薄聚合物膜的制備方法,首先通過(guò)自由基共聚合合成膜材料,利用自組裝技術(shù)制備了具有各種表面性質(zhì)的超薄聚合物膜。制備的聚合物超薄膜具有減摩、抗磨效果,可用于微型機(jī)電系統(tǒng)的潤(rùn)滑與防護(hù)。該方法是將摩爾比為0.1~10%硅烷偶聯(lián)劑與單體以偶氮二異丁腈以引發(fā)劑共聚合反應(yīng),純化得到自組裝聚合物;在潔凈基底上自組裝成膜,并且在惰性氣體中于100℃~200℃進(jìn)行熱處理10~24小時(shí)。該方法制備的自組裝薄膜的工藝條件相對(duì)比較繁瑣,熱處理的時(shí)間也較長(zhǎng),并且該方法制備的薄膜是有機(jī)薄膜,不是無(wú)機(jī)稀土復(fù)合薄膜。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)的不足,提供一種玻璃基片表面磷酸基硅烷-稀土納米薄膜的制備方法,用于解決微機(jī)械系統(tǒng)的摩擦問(wèn)題,制備工藝簡(jiǎn)單,自組裝成的薄膜具有良好的減摩性能。
為實(shí)現(xiàn)這一目的,本發(fā)明的技術(shù)方案中,采用表面經(jīng)過(guò)羥基化處理的玻璃基片作為基底材料,將基片浸入氨基硅烷溶液中,在基片表面組裝氨基硅烷薄膜,然后將表面組裝了氨基硅烷的基片置入含有三氯氧化磷和2,3,5-三甲基吡啶的氰化甲烷溶液中,在薄膜表面組裝上磷酸基團(tuán),最后將表面附有磷酸基硅烷薄膜的基片置入由乙醇、稀土化合物、乙二胺四乙酸、氯化銨、尿素、硝酸配制的稀土自組裝溶液中,獲得磷酸基硅烷-稀土納米薄膜。
本發(fā)明的方法具體如下首先進(jìn)行玻璃基片的預(yù)處理,玻璃基片采用羥基化處理。處理方法將玻璃基片置于體積比98%濃硫酸∶30%H2O2=1∶1的溶液中于室溫下處理1小時(shí),再用去離子水超聲清洗20分鐘,放在一個(gè)防塵裝置內(nèi)在烘箱中干燥,干燥溫度沒(méi)有特殊要求。這樣的時(shí)間和溫度下處理出來(lái)的玻璃基片表面帶負(fù)電而且玻璃基底很平整,沒(méi)有被腐蝕。將處理后的玻璃基片浸入配制好的氨基硅烷溶液中,靜置12小時(shí),取出后分別用無(wú)水甲醇、去離子水沖洗,然后用氮?dú)獯蹈芍糜诤腥妊趸缀?,3,5-三甲基吡啶的氰化甲烷溶液中反應(yīng)20分鐘,取出后用大量去離子水沖洗,得到表面組裝上了磷酸基團(tuán)的薄膜基片。再將表面附有磷酸基團(tuán)的薄膜基片置入配制好的稀土自組裝溶液中,在80℃下進(jìn)行組裝12小時(shí),即獲得磷酸基硅烷-稀土納米薄膜。
本發(fā)明采用的氨基硅烷溶液中氨基硅烷的體積百分比為0.5~2%,溶劑為無(wú)水甲醇。本發(fā)明采用的氰化甲烷溶液的組分體積百分比為三氯氧化磷15~25%,2,3,5-三甲基吡啶15~25%,氰化甲烷50~70%。
本發(fā)明采用的稀土自組裝溶液的組分重量百分比為乙醇55~80%,稀土化合物4.5~7%,乙二胺四乙酸(EDTA)1~4%,氯化銨2~5%,尿素12~25%,硝酸0.5~1.5%。
本發(fā)明所述的稀土化合物為氯化鑭、氯化鈰、氧化鑭或氧化鈰中的一種。
本發(fā)明采用在稀土改性劑中在羥基化的玻璃基片上自組裝磷酸基硅烷-稀土納米復(fù)合薄膜,由于玻璃基片表面已經(jīng)進(jìn)行羥基化處理,氨基硅烷分子中含有可水解的活性基團(tuán),能夠通過(guò)化學(xué)建Si-O與具有活性基團(tuán)Si-OH的基底材料相結(jié)合,在基底表面形成一層帶有氨基基團(tuán)的硅烷自組裝薄膜;將表面組裝了氨基硅烷的基片置入含有三氯氧化磷和2,3,5-三甲基吡啶的氰化甲烷溶液中,靜置一段時(shí)間后,薄膜表面將組裝上磷酸基團(tuán)。最后再將其置入稀土溶液中,由于磷酸基團(tuán)不僅有可以與稀土金屬陽(yáng)離子交換的質(zhì)子,而且還有可以與稀土金屬配位的P=O基,從而在硅烷表面又形成一層稀土納米薄膜。
本發(fā)明中的稀土自組裝溶液配置簡(jiǎn)單,自組裝成的磷酸基硅烷-稀土納米薄膜具有分布均勻,成膜致密等優(yōu)點(diǎn)。在玻璃基片表面制備的稀土自組裝膜具有十分明顯的減摩作用,并且還具有良好的抗磨損性能,有望成為微型機(jī)械理想的邊界潤(rùn)滑膜。
具體實(shí)施例方式
以下通過(guò)具體的實(shí)施例對(duì)本發(fā)明的技術(shù)方案作進(jìn)一步描述。以下實(shí)施例不構(gòu)成對(duì)本發(fā)明的限定。
實(shí)施例1首先進(jìn)行玻璃基片的預(yù)處理,玻璃基片采用羥基化處理。處理方法將玻璃基片置于體積比98%濃硫酸∶30%H2O2=1∶1的溶液中于室溫下處理1小時(shí),再用去離子水超聲清洗20分鐘,放在一個(gè)防塵裝置內(nèi)在烘箱中干燥,干燥溫度沒(méi)有特殊要求。將處理后的玻璃基片浸入配制好的氨基硅烷溶液中,靜置12小時(shí),取出后分別用無(wú)水甲醇、去離子水沖洗后,用氮?dú)獯蹈珊笾糜诤腥妊趸缀?,3,5-三甲基吡啶的氰化甲烷溶液中反應(yīng)20分鐘,取出后用大量去離子水沖洗,這樣在薄膜表面就組裝上了磷酸基團(tuán)。再將表面附有磷酸基團(tuán)的薄膜基片置入配制好的稀土自組裝溶液中,在80℃下進(jìn)行組裝12小時(shí),即獲得磷酸基硅烷-稀土自組裝納米薄膜。
其中采用的氨基硅烷溶液中氨基硅烷的體積百分比為0.5%,溶劑為無(wú)水甲醇;氰化甲烷溶液的組分體積百分比為三氯氧化磷15%,2,3,5-三甲基吡啶15%,氰化甲烷70%。稀土自組裝溶液的組分重量百分比為乙醇含量60%,稀土化合物5%,乙二胺四乙酸(EDTA)4%,氯化銨5%,尿素25%,硝酸1%。
采用SPM-9500原子力顯微鏡、L116E型橢圓偏振光測(cè)量?jī)x和PHI-5702型X-光電子能譜儀(XPS)來(lái)表征薄膜的表面形貌、厚度和化學(xué)成分。采用點(diǎn)接觸純滑動(dòng)微摩擦性能測(cè)量?jī)x測(cè)量薄膜摩擦系數(shù)。
結(jié)果表明在玻璃基片上自組裝成的有機(jī)薄膜的膜厚在5~7nm之間,復(fù)合薄膜膜厚在15~40nm之間。XPS測(cè)試圖表明在玻璃基片表面成功地組裝了氨基硅烷薄膜;將氨基硅烷薄膜置入到含有三氯氧化磷和2,3,5-三甲基吡啶的氰化甲烷溶液中反應(yīng)一段時(shí)間后,通過(guò)XPS觀察到薄膜表面有磷元素,說(shuō)明薄膜表面被組裝上了磷酸基團(tuán);將附有磷酸基團(tuán)的有機(jī)硅烷薄膜的基片在稀土溶液中組裝后得到的薄膜中含有稀土元素,且其與有機(jī)硅烷表面的基團(tuán)發(fā)生了絡(luò)合反應(yīng)。表面觀察不到二氧化硅以及磷酸基的指標(biāo),因此玻璃基片的表面都覆蓋了稀土納米復(fù)合薄膜。在點(diǎn)接觸純滑動(dòng)微摩擦性能測(cè)量?jī)x上分別測(cè)量干凈玻璃基片和玻璃基片表面自組裝稀土膜的摩擦系數(shù)。在玻璃基片表面制備的稀土自組裝膜可以將摩擦系數(shù)從無(wú)膜時(shí)的0.8降低到0.08左右,具有十分明顯的減摩作用。
實(shí)施例2首先進(jìn)行玻璃基片的預(yù)處理,玻璃基片采用羥基化處理。處理方法將玻璃基片置于體積比98%濃硫酸∶30%H2O2=1∶1的溶液中于室溫下處理1小時(shí),再用去離子水超聲清洗20分鐘,放在一個(gè)防塵裝置內(nèi)在烘箱中干燥,干燥溫度沒(méi)有特殊要求。將處理后的玻璃基片浸入配制好的氨基硅烷溶液中,靜置12小時(shí),取出后分別用無(wú)水甲醇、去離子水沖洗后,用氮?dú)獯蹈珊笾糜诤腥妊趸缀?,3,5-三甲基吡啶的氰化甲烷溶液中反應(yīng)20分鐘,取出后用大量去離子水沖洗,這樣在薄膜表面就組裝上了磷酸基團(tuán)。再將表面附有磷酸基團(tuán)的薄膜基片置入配制好的稀土自組裝溶液中,在80℃下進(jìn)行組裝12小時(shí),即獲得磷酸基硅烷-稀土自組裝納米薄膜。
其中采用的氨基硅烷溶液中氨基硅烷的體積百分比為1.5%,溶劑為無(wú)水甲醇;氰化甲烷溶液的組分體積百分比為三氯氧化磷20%,2,3,5-三甲基吡啶20%,氰化甲烷60%。稀土自組裝溶液的組分重量百分比為乙醇含量80%,稀土化合物4.5%,乙二胺四乙酸(EDTA)1%,氯化銨2%,尿素12%,硝酸0.5%。
采用實(shí)施例1中的表征手段對(duì)薄膜質(zhì)量進(jìn)行評(píng)價(jià)。
結(jié)果表明在玻璃基片上自組裝成的有機(jī)薄膜的膜厚在5~10nm之間,復(fù)合薄膜膜厚在15~45nm之間。XPS測(cè)試圖表明在玻璃基片表面成功地組裝了氨基硅烷薄膜;將氨基硅烷薄膜置入到含有三氯氧化磷和2,3,5-三甲基吡啶的氰化甲烷溶液中反應(yīng)一段時(shí)間后,通過(guò)XPS觀察到薄膜表面有磷元素,說(shuō)明薄膜表面被組裝上了磷酸基團(tuán);將附有磷酸基團(tuán)的有機(jī)硅烷薄膜的基片在稀土溶液中組裝后得到的薄膜中含有稀土元素,且其與有機(jī)硅烷表面的基團(tuán)發(fā)生了絡(luò)合反應(yīng)。表面觀察不到二氧化硅以及磷酸基的指標(biāo),因此玻璃基片的表面都覆蓋了稀土納米復(fù)合薄膜。
實(shí)施例3首先進(jìn)行玻璃基片的預(yù)處理,玻璃基片采用羥基化處理。處理方法將玻璃基片置于體積比98%濃硫酸∶30%H2O2=1∶1的溶液中于室溫下處理1小時(shí),再用去離子水超聲清洗20分鐘,放在一個(gè)防塵裝置內(nèi)在烘箱中干燥,干燥溫度沒(méi)有特殊要求。將處理后的玻璃基片浸入配制好的氨基硅烷溶液中,靜置12小時(shí),取出后分別用無(wú)水甲醇、去離子水沖洗后,用氮?dú)獯蹈珊笾糜诤腥妊趸缀?,3,5-三甲基吡啶的氰化甲烷溶液中反應(yīng)20分鐘,取出后用大量去離子水沖洗,這樣在薄膜表面就組裝上了磷酸基團(tuán)。再將表面附有磷酸基團(tuán)的薄膜基片置入配制好的稀土自組裝溶液中,在80℃下進(jìn)行組裝12小時(shí),即獲得磷酸基硅烷-稀土自組裝納米薄膜。
其中采用的氨基硅烷溶液中氨基硅烷的體積百分比為2%,溶劑為無(wú)水甲醇;氰化甲烷溶液的組分體積百分比為三氯氧化磷25%,2,3,5-三甲基吡啶25%,氰化甲烷50%。稀土自組裝溶液的組分重量百分比為乙醇含量70%,稀土化合物5%,乙二胺四乙酸(EDTA)4%,氯化銨5%,尿素15%,硝酸1%。
采用實(shí)施例1中的實(shí)驗(yàn)儀器對(duì)薄膜進(jìn)行評(píng)價(jià),結(jié)果表明在玻璃基片上自組裝成的有機(jī)薄膜的膜厚在5~10nm之間,復(fù)合薄膜膜厚在15~50nm之間。XPS測(cè)試圖表明在玻璃基片表面成功地組裝了氨基硅烷薄膜;將氨基硅烷薄膜置入到含有三氯氧化磷和2,3,5-三甲基吡啶的氰化甲烷溶液中反應(yīng)一段時(shí)間后,通過(guò)XPS觀察到薄膜表面有磷元素,說(shuō)明薄膜表面被組裝上了磷酸基團(tuán);將附有磷酸基團(tuán)的有機(jī)硅烷薄膜的基片在稀土溶液中組裝后得到的薄膜中含有稀土元素,且其與有機(jī)硅烷表面的基團(tuán)發(fā)生了絡(luò)合反應(yīng)。表面觀察不到二氧化硅以及磷酸基的指標(biāo),因此玻璃基片的表面部覆蓋了稀土納米復(fù)合薄膜。
權(quán)利要求
1.一種玻璃基片表面磷酸基硅烷—稀土納米薄膜的制備方法,其特征在于將玻璃基片置于體積比98%濃硫酸∶30%H2O2=1∶1的溶液中于室溫下處理1小時(shí),再用去離子水超聲清洗20分鐘,放在一個(gè)防塵裝置內(nèi)在烘箱中干燥;將處理后的玻璃基片浸入配制好的氨基硅烷溶液中,靜置12小時(shí),取出后分別用無(wú)水甲醇、去離子水沖洗,然后用氮?dú)獯蹈芍糜诤腥妊趸缀?,3,5-三甲基吡啶的氰化甲烷溶液中反應(yīng)20分鐘,取出后用去離子水沖洗,得到表面組裝上了磷酸基團(tuán)的薄膜基片;再將表面附有磷酸基團(tuán)的薄膜基片置入配制好的稀土自組裝溶液中,在80℃下進(jìn)行組裝12小時(shí),即獲得磷酸基硅烷—稀土納米薄膜;其中,所述氨基硅烷溶液中氨基硅烷的的體積百分比為0.5~2%,溶劑為無(wú)水甲醇;所述氰化甲烷溶液的組分體積百分比為三氯氧化磷15~25%,2,3,5-三甲基吡啶15~25%,氰化甲烷50~70%;所述稀土自組裝溶液的組分重量百分比為乙醇55~80%,稀土化合物4.5~7%,乙二胺四乙酸1~4%,氯化銨2~5%,尿素12~25%,硝酸0.5~1.5%。
2.如權(quán)利要求1的玻璃基片表面磷酸基硅烷—稀土納米薄膜的制備方法,其特征在于所述的稀土化合物為氯化鑭、氯化鈰、氧化鑭、氧化鈰中的一種。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種玻璃基片表面磷酸基硅烷-稀土納米薄膜的制備方法,采用表面經(jīng)過(guò)羥基化處理的玻璃基片作為基底材料,將基片浸入氨基硅烷溶液中,在基片表面組裝氨基硅烷薄膜,然后將表面組裝了氨基硅烷的基片置入含有三氯氧化磷和2,3,5-三甲基吡啶的氰化甲烷溶液中,靜置一段時(shí)間后,薄膜表面將組裝上磷酸基團(tuán),最后將表面附有磷酸基硅烷薄膜的基片置入由乙醇、稀土化合物、乙二胺四乙酸、氯化銨、尿素、硝酸配制的稀土自組裝溶液中,獲得磷酸基硅烷-稀土自組裝納米薄膜。本發(fā)明工藝方法簡(jiǎn)單,在玻璃基片表面制備的稀土自組裝膜有明顯減摩、耐磨和抗粘著作用。
文檔編號(hào)C03C17/30GK1830857SQ200610024978
公開日2006年9月13日 申請(qǐng)日期2006年3月23日 優(yōu)先權(quán)日2006年3月23日
發(fā)明者程先華, 顧勤林, 白濤, 蔣喆 申請(qǐng)人:上海交通大學(xué)
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