專利名稱：有機(jī)發(fā)光裝置及其制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種有機(jī)發(fā)光裝置及其制造方法，該裝置使用一種帶有氣體隔離膜的基材。
背景技術(shù)：
場(chǎng)致發(fā)光(EL)板的特征在于具有高能見(jiàn)度、出色的顯示能力以及高速響應(yīng)能力，所以其可以作為未來(lái)電子設(shè)備的顯示器等。因此最近對(duì)用作場(chǎng)致發(fā)光板的有機(jī)發(fā)光裝置的研究也變的積極活躍起來(lái)。
通常，有機(jī)發(fā)光裝置具有這樣的結(jié)構(gòu)，其中包含熒光化合物的有機(jī)發(fā)光層被插入布置于玻璃基材上的正極和負(fù)極之間。當(dāng)電子和空穴被注入有機(jī)發(fā)光層從而重新結(jié)合時(shí)，于是產(chǎn)生激子，然后當(dāng)激子去活化時(shí)就發(fā)出光。
然而，有機(jī)發(fā)光裝置對(duì)于氧、水蒸汽等從外界的滲入是敏感的，由于這類滲入，發(fā)光性能立即降低。當(dāng)前是通過(guò)玻璃基材來(lái)防止氧、水蒸汽等從外面滲入裝置。然而，對(duì)于要求氣體的滲透量為0.01g/m2/24h或更少的(測(cè)量下限或更少)的有機(jī)發(fā)光裝置而言，既使是有玻璃基材也是不夠的。
此外，最近也已經(jīng)考慮用塑料基材代替玻璃基材。這是因?yàn)樗芰匣谋炔ＡЩ母p并且具有更高的強(qiáng)度。然而，塑料基材存在對(duì)于氧、水蒸汽等的透氣性比玻璃基材大的問(wèn)題。目前，將塑料基材用于有機(jī)發(fā)光裝置是非常困難的。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明已經(jīng)解決了上述的傳統(tǒng)問(wèn)題，其目的是提供一種使用具有出色的氣體隔離性能的基材的有機(jī)發(fā)光裝置及其制造方法。
為達(dá)成以上目的，本發(fā)明的有機(jī)發(fā)光裝置使用帶有氣體隔離膜的基材，其中在基材上形成的氣體隔離膜包含無(wú)定形氧化物以及至少兩種選自以下的氧化物氧化硼、磷氧化物、氧化鈉、氧化鉀、鉛氧化物、鈦氧化物、氧化鎂以及氧化鋇。
此外，本發(fā)明制造有機(jī)發(fā)光裝置的方法是使用帶有氣體隔離膜的基材制造有機(jī)發(fā)光裝置的方法，其包括在基材的至少一個(gè)表面上形成氣體隔離膜，所述的氣體隔離膜包含無(wú)定形氧化物以及至少兩種選自以下組的氧化物，該組包含氧化硼、磷氧化物、氧化鈉、氧化鉀、鉛氧化物、鈦氧化物、氧化鎂以及氧化鋇。
此外，本發(fā)明的制造有機(jī)發(fā)光裝置的方法是使用帶有氣體隔離膜的基材制造有機(jī)發(fā)光裝置的方法，其包括在基材的至少一個(gè)表面上形成氣體隔離膜，其包括無(wú)定形氧化物以及至少兩種選自以下組的氧化物，該組包含氧化硼、磷氧化物、氧化鈉、氧化鉀、鉛氧化物、鈦氧化物、氧化鎂以及氧化鋇；然后使氣體隔離膜經(jīng)受熱處理。


圖1是本發(fā)明帶有氣體隔離膜的基材的剖視圖。
圖2是本發(fā)明的有機(jī)發(fā)光裝置的剖視圖。
具體實(shí)施例方式
本發(fā)明的有機(jī)發(fā)光裝置使用帶有氣體隔離膜的基材，其中氣體隔離膜形成于基材上，該氣體隔離膜包含無(wú)定形氧化物以及至少兩種選自以下的氧化物氧化硼、磷氧化物、氧化鈉、氧化鉀、鉛氧化物、鈦氧化物、氧化鎂以及氧化鋇。
對(duì)于所述的無(wú)定形氧化物，可以使用具有網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)的硅氧化物等。
此外，在上述無(wú)定形氧化物中所包含的其它氧化物需要能閉合具有網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)的無(wú)定形氧化物的無(wú)規(guī)的孔穴，并且優(yōu)選組合使用至少兩種如下的氧化物具有大原子半徑的元素的氧化物和具有小原子半徑的元素的氧化物。具有大原子半徑的元素的氧化物的例子包括氧化鉀、鈦氧化物、氧化鋇和鉛氧化物等。具有小原子半徑的元素的氧化物的例子包括氧化硼、氧化鈉、氧化鎂和磷氧化物等。
在本發(fā)明中所用的基材可以由玻璃或塑料形成。就塑料而言，可以使用丙烯酸樹(shù)脂、環(huán)氧樹(shù)脂、硅樹(shù)酯、聚酰亞胺樹(shù)脂、聚碳酸酯樹(shù)脂、聚乙烯醇樹(shù)脂、聚乙烯樹(shù)脂等以及它們的共聚物。塑料優(yōu)選為輻射可硬化的樹(shù)脂，并且塑料的玻璃化轉(zhuǎn)變溫度優(yōu)選為150℃或更高。
本發(fā)明的制造有機(jī)發(fā)光裝置的方法是使用帶有氣體隔離膜的基材制造有機(jī)發(fā)光裝置的方法。依據(jù)這種方法，在基材的至少一個(gè)表面上形成氣體隔離膜，該氣體隔離膜包含無(wú)定形氧化物以及至少兩種選自以下的氧化物氧化硼、磷氧化物、氧化鈉、氧化鉀、鉛氧化物、鈦氧化物、氧化鎂以及氧化鋇。其后，如果需要，氣體隔離膜可以經(jīng)受熱處理。熱處理的溫度優(yōu)選等于或高于氣體隔離膜的成膜溫度，并且等于或低于基材的玻璃化轉(zhuǎn)變溫度。
在下文中，本發(fā)明的具體實(shí)施方案將參考附圖加以闡述。
實(shí)施方案1圖1是本發(fā)明的帶有氣體隔離膜的基材的剖視圖。在圖1中，附圖標(biāo)記1表示氣體隔離膜，2表示基材，而3表示帶有氣體隔離膜的基材。此外，圖2是本發(fā)明的有機(jī)發(fā)光裝置的剖視圖。在圖2中，附圖標(biāo)記24表示負(fù)極，25表示有機(jī)發(fā)光層，26表示空穴傳輸層，而27表示正極。
首先，氣體隔離膜1(厚度150埃)由硅氧化物、氧化硼和鈦氧化物組成，其中硅氧化物是無(wú)定形氧化物，該氣體隔離膜通過(guò)使用射頻磁控濺射形成于由玻璃制成的基材2的一個(gè)表面上，由此制得帶有氣體隔離膜的基材3。所述的射頻磁控濺射是在如下的條件下實(shí)施的，將氧化硼和鈦氧化物的微粒放置于由硅氧化物制成的靶上，并保持基材2恒溫。
其中，帶有氣體隔離膜的基材3的氧氣滲透量測(cè)定為0.01g/m2/24h或更少(測(cè)量下限或更少)。
制備兩個(gè)如上所述形成的帶有氣體隔離膜的基材3后，將負(fù)極24、有機(jī)發(fā)光層25、空穴傳輸層26和正極27以通常的方法置于帶有氣體隔離膜的基材3之間，每一個(gè)基材3均使氣體隔離膜1處于外側(cè)，由此制得有機(jī)發(fā)光裝置。
在本實(shí)施方案的氣體隔離膜中，氧化硼和鈦氧化物閉合了由硅氧化物構(gòu)成的網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)的間隙，以便抑止氣體的滲透。因此，在使用本實(shí)施方案的帶有氣體隔離膜的基材的有機(jī)發(fā)光裝置中，氧、水蒸汽等不能從外面滲入該裝置，由此不發(fā)生發(fā)光故障。
實(shí)施方案2以與實(shí)施方案1相同的方法制造一種有機(jī)發(fā)光裝置，其與實(shí)施方案1的區(qū)別在于使用磷氧化物和鉛氧化物代替氧化硼和鈦氧化物。帶有氣體隔離膜的基材的氧氣滲透量測(cè)定為0.01g/m2/24h或更少(測(cè)量下限或更少)。
在本實(shí)施方案的氣體隔離膜中，磷氧化物和鉛氧化物閉合了由硅氧化物構(gòu)成的網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)的間隙，以便抑止氣體滲透。因此，在使用本實(shí)施方案的帶有氣體隔離膜的基材的有機(jī)發(fā)光裝置中，氧、水蒸汽等不能從外面滲入該裝置，由此不發(fā)生發(fā)光故障。
實(shí)施方案3以與實(shí)施方案1相同的方法制造一種有機(jī)發(fā)光裝置，其與實(shí)施方案1的區(qū)別在于使用氧化鈉和氧化鋇代替氧化硼和鈦氧化物。帶有氣體隔離膜的基材的氧氣滲透量測(cè)定為0.01g/m2/24h或更少(測(cè)量下限或更少)。
在本實(shí)施方案的氣體隔離膜中，氧化鈉和氧化鋇閉合了由硅氧化物構(gòu)成的網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)的間隙，以便抑止氣體滲透。因此，在使用本實(shí)施方案的帶有氣體隔離膜的基材的有機(jī)發(fā)光裝置中，氧、水蒸汽等不能從外面滲入該裝置，由此不發(fā)生發(fā)光故障。
實(shí)施方案4以與實(shí)施方案1相同的方法制造一種有機(jī)發(fā)光裝置，其與實(shí)施方案1的區(qū)別在于使用氧化鎂和氧化鉀代替氧化硼和鈦氧化物。帶有氣體隔離膜的基材的氧氣滲透量測(cè)定為0.01g/m2/24h或更少(測(cè)量下限或更少)。
在本實(shí)施方案的氣體隔離膜中，氧化鎂和氧化鉀閉合了由硅氧化物構(gòu)成的網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)的間隙，以便抑止氣體滲透。因此，在使用本實(shí)施方案的帶有氣體隔離膜的基材的有機(jī)發(fā)光裝置中，氧、水蒸汽等不能從外面滲入該裝置，由此不發(fā)生發(fā)光故障。
實(shí)施方案5以與實(shí)施方案1相同的方法制造一種有機(jī)發(fā)光裝置，其與實(shí)施方案1的區(qū)別在于進(jìn)一步增加鉛氧化物到氧化硼和鈦氧化物中。帶有氣體隔離膜的基材的氧氣滲透量測(cè)定為0.01g/m2/24h或更少(測(cè)量下限或更少)。
在本實(shí)施方案的氣體隔離膜中，氧化硼、鈦氧化物和鉛氧化物閉合了由硅氧化物構(gòu)成的網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)的間隙，以便抑制氣體的滲透。因此，在使用本實(shí)施方案的帶有氣體隔離膜的基材的有機(jī)發(fā)光裝置中，氧、水蒸汽等不能從外面滲入該裝置，由此不發(fā)生發(fā)光故障。
在本實(shí)施方案中，因?yàn)樵诠柩趸镏邪N其它的氧化物，所以硅氧化物組成的網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)的間隙更完全地閉合，由此氣體滲透被進(jìn)一步抑止。
如上所述，盡管在上述實(shí)施方案1-5中僅在玻璃基材的一個(gè)表面上提供氣體隔離膜，然而，在玻璃基材兩個(gè)表面上提供氣體隔離膜更為有效。
此外，盡管玻璃用作帶有氣體隔離膜的基材材料，然而塑料也可以使用。假若這樣，與玻璃相比塑料具有更高的氣體滲透率，因此優(yōu)選在塑料基材的兩個(gè)表面上提供氣體隔離膜。此外，通過(guò)在塑料基材的兩個(gè)表面上形成氣體隔離膜，由于熱膨脹系數(shù)差異所導(dǎo)致的基材的應(yīng)變可以減少。
工業(yè)實(shí)用性如上所述，按照本發(fā)明，通過(guò)使用帶有氣體隔離膜的基材，其中形成于基材的表面上的氣體隔離膜包含無(wú)定形氧化物以及至少兩種選自以下的氧化物氧化硼、磷氧化物、氧化鈉、氧化鉀、鉛氧化物、鈦氧化物、氧化鎂以及氧化鋇，由無(wú)定形氧化物構(gòu)成的網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)的間隙可以用所述的氧化物閉合，由此氣體滲透被抑止。因此，當(dāng)帶有氣體隔離膜的基材被用于有機(jī)發(fā)光裝置時(shí)，可以獲得下列有益效果可以阻止氧、水蒸汽等從外面滲入該裝置，并且不會(huì)發(fā)生發(fā)光故障。
權(quán)利要求
1.一種使用帶有氣體隔離膜的基材的有機(jī)發(fā)光裝置，其中所述的氣體隔離膜形成于基材的表面上，該氣體隔離膜包含無(wú)定形氧化物以及至少兩種選自以下的氧化物氧化硼、磷氧化物、氧化鈉、氧化鉀、鉛氧化物、鈦氧化物、氧化鎂以及氧化鋇。
2.如權(quán)利要求1所述的有機(jī)發(fā)光裝置，其中所選的至少兩種氧化物是具有大原子半徑的元素的氧化物和具有小原子半徑的元素的氧化物的組合。
3.如權(quán)利要求1所述的有機(jī)發(fā)光裝置，其中基材是由玻璃或塑料制成。
4.如權(quán)利要求3所述的有機(jī)發(fā)光裝置，其中所述的塑料是至少一種選自下組的樹(shù)脂，該組包含丙烯酸樹(shù)脂、環(huán)氧樹(shù)脂、硅樹(shù)酯、聚酰亞胺樹(shù)脂、聚碳酸酯樹(shù)酯、聚乙烯醇樹(shù)脂和聚乙烯樹(shù)脂以及它們的共聚物。
5.一種制造有機(jī)發(fā)光裝置方法，該裝置使用帶有氣體隔離膜的基材，該方法包括在基材的至少一個(gè)表面上形成氣體隔離膜，該氣體隔離膜包含無(wú)定形氧化物以及至少兩種選自以下的氧化物氧化硼、磷氧化物、氧化鈉、氧化鉀、鉛氧化物、鈦氧化物、氧化鎂以及氧化鋇。
6.如權(quán)利要求5所述的制造有機(jī)發(fā)光裝置的方法，其中所選的至少兩種氧化物是具有大原子半徑的元素的氧化物和具有小原子半徑的元素的氧化物的組合。
7.如權(quán)利要求5所述的制造有機(jī)發(fā)光裝置的方法，其中基材是由玻璃或塑料制成的。
8.如權(quán)利要求7所述制造有機(jī)發(fā)光裝置的方法，其中所述的塑料是至少一種選自下組的樹(shù)脂，該組包含丙烯酸樹(shù)脂、環(huán)氧樹(shù)脂、硅樹(shù)酯、聚酰亞胺樹(shù)脂、聚碳酸酯樹(shù)酯、聚乙烯醇樹(shù)脂和聚乙烯樹(shù)脂以及它們的共聚物。
9.一種制造有機(jī)發(fā)光裝置的方法，該裝置使用帶有氣體隔離膜的基材，該方法包括在基材的至少一個(gè)表面上形成氣體隔離膜，該氣體隔離膜包含無(wú)定形氧化物以及至少兩種選自以下的氧化物氧化硼、磷氧化物、氧化鈉、氧化鉀、鉛氧化物、鈦氧化物、氧化鎂以及氧化鋇；然后，使氣體隔離膜經(jīng)受熱處理
10.如權(quán)利要求9所述的制造有機(jī)發(fā)光裝置的方法，其中熱處理的溫度等于或高于氣體隔離膜的成膜溫度，并且等于或低于基材的玻璃化轉(zhuǎn)變溫度。
11.如權(quán)利要求9所述的制造有機(jī)發(fā)光裝置的方法，其中所選的至少兩種氧化物是具有大原子半徑的元素的氧化物和具有小原子半徑的元素的氧化物的組合。
12.如權(quán)利要求9所述的制造有機(jī)發(fā)光裝置的方法，其中基材由玻璃或塑料制成。
13.如權(quán)利要求12所述的制造有機(jī)發(fā)光裝置的方法，其中所述的塑料是至少一種選自下組的樹(shù)脂，該組包含丙烯酸樹(shù)脂、環(huán)氧樹(shù)脂、硅樹(shù)酯、聚酰亞胺樹(shù)脂、聚碳酸酯樹(shù)酯、聚乙烯醇樹(shù)脂和聚乙烯樹(shù)脂以及它們的共聚物。
全文摘要
一種使用帶有氣體隔離膜的基材的有機(jī)發(fā)光裝置，其中氣體隔離膜形成于基材的表面上，該氣體隔離膜包含無(wú)定形氧化物以及至少兩種選自以下的氧化物氧化硼、磷氧化物、氧化鈉、氧化鉀、鉛氧化物、鈦氧化物、氧化鎂以及氧化鋇。所選的至少兩種氧化物是具有大原子半徑的元素的氧化物和具有小原子半徑的元素的氧化物的組合?；氖怯刹ＡЩ蛩芰现瞥傻?。結(jié)果，提供了使用具有出色的氣體隔離性能的基材的有機(jī)發(fā)光裝置，該裝置能夠防止氧、水蒸汽等從外面的滲入。
文檔編號(hào)C03C17/02GK1623350SQ0282853
公開(kāi)日2005年6月1日 申請(qǐng)日期2002年3月29日 優(yōu)先權(quán)日2002年3月13日
發(fā)明者佐谷裕司 申請(qǐng)人:松下電器產(chǎn)業(yè)株式會(huì)社