專(zhuān)利名稱(chēng)：清洗系統(tǒng)、清洗裝置及使用清洗裝置的方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種清洗裝置，特別涉及一種提供給工藝設(shè)備(制程設(shè)備)使用的清洗裝置，其中前述的工藝設(shè)備還使用一工藝用液體。
背景技術(shù)：
傳統(tǒng)的工藝設(shè)備，例如旋轉(zhuǎn)涂布設(shè)備，通常包含許多引導(dǎo)工藝用流體的管路。圖I表示一個(gè)與排液管P2及排出管Pl連接的公知的旋轉(zhuǎn)涂布設(shè)備C，在如光微影工藝的半導(dǎo)體工藝中，可將一基板S裝設(shè)于旋轉(zhuǎn)涂布設(shè)備C的夾盤(pán)上。如圖I中的箭號(hào)A1、A2所示，當(dāng)基板S開(kāi)始轉(zhuǎn)動(dòng)時(shí)，含有光阻劑和清洗劑(例如光阻稀釋劑)的流體會(huì)被沖離基板S的表面，并經(jīng)由排出管Pl排出旋轉(zhuǎn)涂布設(shè)備C。一般來(lái)說(shuō)，排液管P2可經(jīng)由管夾裝置P12而與旋轉(zhuǎn)涂布設(shè)備C的排出管Pl相連。然而，由于排液管P2很長(zhǎng)，光阻劑往往會(huì)在管內(nèi)結(jié)晶及沉淀，如此將容易造成排液管P2在圖I中的區(qū)域Rl的阻塞。在排液管P2內(nèi)剩余的液體隨后流入排泄槽T，并經(jīng)由一彎管P3排入管路設(shè)備系統(tǒng)。然而，光阻劑仍可能在彎管P3內(nèi)產(chǎn)生結(jié)晶及沉淀，進(jìn)而造成彎管P3在區(qū)域R2的阻塞。有鑒于此，本發(fā)明針對(duì)工藝設(shè)備提供了一種清洗裝置，以改善前述管路內(nèi)所產(chǎn)生的阻塞問(wèn)題。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供一種清洗裝置，包括一上層部、一中層部以及一底層部。前述上層部具有一第一開(kāi)口，前述中層部連接上層部，并具有一入口、一環(huán)狀通道以及一第二開(kāi)口，其中入口設(shè)置于中層部的一側(cè)邊，環(huán)狀通道與入口相連通，且第二開(kāi)口與第一開(kāi)口相連通。前述底層部連接中層部，并具有一貯液池以及一第三開(kāi)口，其中第三開(kāi)口與第二開(kāi)口以及貯液池相連通。在一實(shí)施例中，前述中層部還具有多個(gè)通孔，其中所述通孔連接環(huán)狀通道，通孔彼此分開(kāi)，且環(huán)狀通道的寬度大于每個(gè)通孔的直徑。前述貯液池具有一基座以及形成于基座上的環(huán)狀壩體，其中環(huán)狀壩體形成一與第三開(kāi)口相連通的開(kāi)孔，且環(huán)狀壩體具有一傾斜面，該傾斜面環(huán)繞開(kāi)孔。前述的上層部、中層部以及底層部可通過(guò)焊接或黏合方式相連。本發(fā)明還提出一種清洗系統(tǒng)，包括一上層部、一中層部、一下層部、一貯液池，一閥體以及一控制器。前述上層部具有一第一開(kāi)口，前述中層部連接上層部，并具有一入口、一環(huán)狀通道以及一第二開(kāi)口，其中入口設(shè)置于中層部的一側(cè)邊，環(huán)狀通道與入口相連通，且第二開(kāi)口與第一開(kāi)口相連通。前述底層部連接中層部，并具有一貯液池以及一第三開(kāi)口，其中第三開(kāi)口與第二開(kāi)口以及貯液池相連通。前述閥體連接溶劑槽以及中層部的入口，前述控制器連接閥體。此外，前述清洗系統(tǒng)還具有一流量計(jì)，其中流量計(jì)與溶劑槽相連。本發(fā)明還提出一種使用清洗裝置的方法，包括以下步驟。裝配清洗裝置至一工藝
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設(shè)備中。當(dāng)工藝設(shè)備中的一工藝用液體開(kāi)始供給時(shí)，工藝設(shè)備傳送一第一信號(hào)至一控制器。由控制器傳送一第二信號(hào)以開(kāi)啟一閥體。從一溶劑槽引導(dǎo)一溶劑通過(guò)閥體至清洗裝置。在一實(shí)施例中，前述方法還包括以下步驟。當(dāng)工藝用液體開(kāi)始供給時(shí)，將溶劑浸潤(rùn)一排液管，其中排液管連接清洗裝置。引導(dǎo)溶劑經(jīng)過(guò)多個(gè)通孔至一貯液池。當(dāng)溶劑超過(guò)貯液池的容量時(shí)，引導(dǎo)多余的溶劑經(jīng)由一傾斜面至一排液管。借助溶劑可間歇地清洗一排液管。借助溶劑所揮發(fā)的溶劑蒸氣浸潤(rùn)清洗裝置以及工藝設(shè)備的一排出管。溶劑包括一光阻稀釋劑或者一稀釋劑。提供一流量計(jì)，用以監(jiān)測(cè)溶劑的流量，且可調(diào)整流量計(jì)以控制溶劑的流量。


圖I表示一公知管夾裝置的示意圖，其中該管夾裝置連接一工藝設(shè)備(例如旋轉(zhuǎn)涂布設(shè)備)的排出管以及排液管；圖2表示本發(fā)明的一實(shí)施例的清洗裝置的示意圖，其中該清洗裝置連接一旋轉(zhuǎn)涂布設(shè)備的排出管以及排液管；圖3表示本發(fā)明的一實(shí)施例的清洗裝置剖視圖；圖4表示圖3中的上層部的剖視圖以及俯視圖；圖5表示圖3中的中層部的剖視圖以及俯視圖；圖6表示圖3中的底層部的剖視圖以及俯視圖；圖7表示本發(fā)明的一實(shí)施例的清洗裝置設(shè)置于一清洗系統(tǒng)的示意圖；圖8表示本發(fā)明的一實(shí)施例的溶劑向下流動(dòng)并清洗排液管以及彎管的示意圖；以及圖9表示本發(fā)明的一實(shí)施例的溶劑在一清洗裝置內(nèi)產(chǎn)生溶劑蒸氣的示意圖。其中，附圖標(biāo)記說(shuō)明如下清洗系統(tǒng) I ;清洗裝置 100 ；上層部 10 ；第一開(kāi)口 101;中層部 20 ；側(cè)邊 20a；控制器 200 ；第二開(kāi)口 201;入口 21;環(huán)狀通道 22 ；通孔 23;底層部 30 ；溶劑槽 300 ；第三開(kāi)口 301;流量計(jì) 310 ;貯液池 30a ；
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圓形底座 31 ；開(kāi)孔 31a；環(huán)狀壩體 32 ；傾斜面 321 ；閥體 400;旋轉(zhuǎn)涂布設(shè)備 C ；夾盤(pán) Cl ；直徑 D ；第二信號(hào) E ；第一信號(hào) F ；溶劑 L ；溶劑蒸氣 P ;排出管 Pl;管夾裝置 P12 ；排液管 P2;內(nèi)表面 P21;彎管 P3;區(qū)域 R1、R2;基板 S ；排泄槽 T ；寬度 W。
具體實(shí)施例方式請(qǐng)參考圖2，本發(fā)明的一實(shí)施例的清洗裝置100連接旋轉(zhuǎn)涂布設(shè)備C的排出管Pl與排液管P2，其中前述清洗裝置100可與圖I中的管夾裝置P12裝設(shè)在同一個(gè)位置，然而其裝設(shè)位置并不受限于此。在一個(gè)半導(dǎo)體工藝中，例如光微影工藝時(shí)，一基板S裝設(shè)在旋轉(zhuǎn)涂布設(shè)備C的夾盤(pán)Cl上，當(dāng)基板S開(kāi)始轉(zhuǎn)動(dòng)時(shí)，含有光阻劑和清洗劑(例如光阻稀釋劑)的流體會(huì)被沖離基板S的表面，并經(jīng)由排出管Pl排出。在本實(shí)施例中，前述流體自清洗裝置100經(jīng)由排液管P2而流入排泄槽T，排出的液體會(huì)依序地經(jīng)由彎管P3流入管路設(shè)備系統(tǒng)(未圖標(biāo))。請(qǐng)一并參閱圖3 6，本實(shí)施例中的清洗裝置100主要包括一上層部10、一底層部30以及一與上層部10、底層部30相連的中層部20。舉例而言，上層部10、中層部20以及底層部30可以通過(guò)焊接或黏合方式來(lái)裝配，然而清洗裝置100也可以一體成型的方式制造。請(qǐng)參考圖3及圖4，上層部10具有一圓筒狀結(jié)構(gòu)并形成一第一開(kāi)口 101。此第一開(kāi)口101可與對(duì)應(yīng)的排出管Pl相接而達(dá)到排出流體的功能。如圖3至圖5所示，清洗裝置100內(nèi)的中層部20與上層部10連接，并包括一個(gè)與第一開(kāi)口 101相連通的第二開(kāi)口 201，其中排出管Pl設(shè)置在第一開(kāi)口 101、第二開(kāi)口 201內(nèi)。此外，中層部20的側(cè)邊20a形成有一入口 21，含有光阻稀釋劑或其他稀釋劑的溶劑L可經(jīng)由入口 21進(jìn)入清洗裝置100。在本實(shí)施例中，中層部20還包括了多個(gè)通孔23以及與通孔23相連通的環(huán)狀通道22。此環(huán)狀通道22的寬度為W，且通孔23彼此分開(kāi)，其中每個(gè)通孔23的直徑為D，且環(huán)狀通道22的寬度W大于每個(gè)通孔23的直徑D。前述溶劑L可依序地流過(guò)入口 21、環(huán)狀通道22及通孔23至底層部30，其中經(jīng)由前述通孔23可以減低流速并平均分配溶劑L至底層部30。如圖3及圖6所示，清洗裝置100的底層部30與中層部20相連，且底層部30形成有一第三開(kāi)口 301，前述第三開(kāi)口 301與第二開(kāi)口 201相連通。在本實(shí)施例中，排液管P2設(shè)置于底層部30的第三開(kāi)口 301內(nèi)，因此排出管Pl及排液管P2可通過(guò)前述清洗裝置100中的第一開(kāi)口 101、第二開(kāi)口 201、第三開(kāi)口 301而互相連通。需特別說(shuō)明的是，前述底層部30另形成有一貯液池30a以保持溶劑L的供給，此貯液池包括一圓形底座31及一形成于圓形底座31上的環(huán)狀壩體32。具體來(lái)說(shuō)，環(huán)狀壩體32位于圓形底座31的中心，并形成一位于貯液池30a的中央的開(kāi)孔31a，其中環(huán)狀壩體32形成有一傾斜面321，前述傾斜面321環(huán)繞前述開(kāi)孔31a，且開(kāi)孔31a與第三開(kāi)口 301相連通。由于溶劑L的劑量可能會(huì)超過(guò)貯液池30a的容量，在此情況下，多余的溶劑L可沿著傾斜面321平順地通過(guò)開(kāi)孔31a。隨后，多余的溶劑L便可進(jìn)入與排液管P2相連的第三開(kāi)口301，以達(dá)到排出流體的功能。如圖3所示，溶劑L可通過(guò)入口 21及環(huán)狀通道22，并經(jīng)由位于中層部20的通孔23而進(jìn)入貯液池30a。當(dāng)溶劑L超過(guò)貯液池30a的容量時(shí)，多余的溶劑L會(huì)溢出環(huán)狀壩體32及其傾斜面321，進(jìn)而平順地流入排液管P2。如此一來(lái)，排液管P2的內(nèi)表面P21可被預(yù)先浸潤(rùn)以防止光阻劑的結(jié)晶與沉淀。請(qǐng)參考圖7，前述清洗裝置100可設(shè)置于一清洗系統(tǒng)I中，前述清洗系統(tǒng)I包括有一控制器200、一溶劑槽300、一流量計(jì)310以及一閥體400。在此實(shí)施例中，當(dāng)工藝用液體(如光阻劑)供給至旋轉(zhuǎn)涂布設(shè)備的基板S時(shí)，旋轉(zhuǎn)涂布設(shè)備C會(huì)傳送一第一信號(hào)F至控制器200，且控制器200會(huì)傳送一第二信號(hào)E至閥體400使其開(kāi)啟，此時(shí)溶劑L可從溶劑槽300被引導(dǎo)通過(guò)流量計(jì)310及閥體400至清洗裝置100。具體來(lái)說(shuō)，在清洗裝置100中的溶劑L會(huì)被引導(dǎo)經(jīng)過(guò)多個(gè)通孔23而到達(dá)貯液池30a，當(dāng)溶劑L超過(guò)貯液池的容量時(shí)，多余的溶劑可經(jīng)由傾斜面321流向與清洗裝置100相連的排液管P2。如此一來(lái)，當(dāng)工藝用液體開(kāi)始供給時(shí)，排液管P2便可預(yù)先被溶劑浸潤(rùn)，且能通過(guò)流量計(jì)310監(jiān)控并調(diào)整溶劑L的流量。在工藝過(guò)程中，閥體400可在預(yù)設(shè)的期間內(nèi)以間歇的方式開(kāi)啟，當(dāng)閥體400長(zhǎng)時(shí)間開(kāi)啟時(shí)，溶劑L可直接往下方流動(dòng)并沖洗排液管P2及彎管P3 (如圖8的箭號(hào)所示)，由此可防止光阻劑在排液管P2以及彎管P3處產(chǎn)生結(jié)晶及沉淀。當(dāng)工藝過(guò)程完成后，控制器200會(huì)發(fā)送一個(gè)停止信號(hào)至閥體400，此時(shí)閥體400會(huì)關(guān)閉并禁止溶劑L進(jìn)入清洗裝置100。在此情況下，貯液池30a內(nèi)的溶劑L仍會(huì)持續(xù)揮發(fā)成溶劑蒸氣P，以浸潤(rùn)清洗裝置100附近的排出管Pl及排液管P2(如圖9所示)。由于溶劑蒸氣P可清除管路內(nèi)的結(jié)晶及沉淀，因此能防止阻塞，并促使管路暢通。在本實(shí)施例中，清洗裝置100并不受限于與旋轉(zhuǎn)涂布設(shè)備C 一起裝配，也可與使用工藝用液體的其他不同工藝設(shè)備結(jié)合。此外，當(dāng)工藝用液體供給至工藝設(shè)備的基板S時(shí)，控制器200會(huì)從該工藝設(shè)備接收到第一信號(hào)F并送出第二信號(hào)E至閥體400，使溶劑L從溶劑槽300經(jīng)由閥體400流入清洗裝置100。雖然本發(fā)明以前述的實(shí)施例揭露如上，然其并非用以限定本發(fā)明。本發(fā)明所屬技
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術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員，在不脫離本發(fā)明的精神和范圍內(nèi)，當(dāng)可做許多更動(dòng)與變動(dòng)。因此本發(fā)明的保護(hù)范圍當(dāng)以隨附權(quán)利要求書(shū)所界定的保護(hù)范圍為準(zhǔn)。
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權(quán)利要求
1.一種清洗裝置，包括一上層部，具有一第一開(kāi)口 ；一中層部，連接該上層部，具有一入口、一環(huán)狀通道以及一第二開(kāi)口，其中該入口設(shè)置于該中層部的一側(cè)邊，該環(huán)狀通道與該入口相連通，且該第二開(kāi)口與該第一開(kāi)口相連通；以及一底層部，連接該中層部，具有一貯液池以及一第三開(kāi)口，其中該第三開(kāi)口與該第二開(kāi)口以及該貯液池相連通。
2.如權(quán)利要求I所述的清洗裝置，其中該中層部還具有多個(gè)通孔，所述通孔彼此分開(kāi)并與該環(huán)狀通道相連通，且該環(huán)狀通道的寬度大于所述通孔的直徑。
3.如權(quán)利要求I所述的清洗裝置，其中該貯液池具有一底座以及一環(huán)狀壩體，該環(huán)狀壩體設(shè)置于該底座，且該環(huán)狀壩體具有一開(kāi)孔，該開(kāi)孔與該第三開(kāi)口相連通，該環(huán)狀壩體還形成有一傾斜面，且該傾斜面環(huán)繞該開(kāi)孔。
4.如權(quán)利要求I所述的清洗裝置，其中該上層部、該中層部以及該底層部可通過(guò)焊接或黏合方式相連。
5.一種清洗系統(tǒng)，包括一上層部，具有一第一開(kāi)口 ；一中層部，連接該上層部，具有一入口、一環(huán)狀通道以及一第二開(kāi)口，其中該入口設(shè)置于該中層部的一側(cè)邊，該環(huán)狀通道與該入口相連通，且該第二開(kāi)口與該第一開(kāi)口相連通；一底層部，連接該中層部，具有一貯液池以及一第三開(kāi)口，其中該第三開(kāi)口與該第二開(kāi)口以及該貯液池相連通；一溶劑槽；一閥體，連接該溶劑槽以及該中層部的該入口 ；一控制器，連接該閥體；以及一流量計(jì)，該流量計(jì)與該溶劑槽相連。
6.一種使用清洗裝置的方法，包括裝配該清洗裝置至一工藝設(shè)備中；當(dāng)該工藝設(shè)備中的一工藝用液體開(kāi)始供給時(shí)，該工藝設(shè)備傳送一第一信號(hào)至一控制器；由該控制器傳送一第二信號(hào)以開(kāi)啟一閥體；以及從一溶劑槽弓I導(dǎo)一溶劑通過(guò)該閥體至該清洗裝置。
7.如權(quán)利要求6所述的使用清洗裝置的方法，還包括當(dāng)該工藝用液體開(kāi)始供給時(shí)，將該溶劑浸潤(rùn)一排液管，其中該排液管連接該清洗裝置；由該溶劑間歇地清洗該排液管；以及由該溶劑所揮發(fā)的溶劑蒸氣浸潤(rùn)該清洗裝置以及該工藝設(shè)備的一排出管。
8.如權(quán)利要求6所述的使用清洗裝置的方法，其中該溶劑包括一光阻稀釋劑或者一稀釋劑。
9.如權(quán)利要求6所述的使用清洗裝置的方法，還包括提供一流量計(jì)，用以監(jiān)測(cè)該溶劑的流量；以及調(diào)整該流量計(jì)以控制該溶劑的流量。
10.如權(quán)利要求6所述的使用清洗裝置的方法，還包括引導(dǎo)該溶劑經(jīng)過(guò)多個(gè)通孔至一貯液池；以及當(dāng)該溶劑超過(guò)該貯液池的容量時(shí)，引導(dǎo)多余的該溶劑經(jīng)由一傾斜面至一排液管，其中該排液管連接至該清洗裝置。
全文摘要
本發(fā)明提供一種清洗裝置、清洗裝置及使用清洗裝置的方法，該清洗裝置包括一上層部、一中層部以及一底層部。前述上層部具有一第一開(kāi)口，前述中層部連接上層部，具有一入口、一環(huán)狀通道以及一第二開(kāi)口，其中入口位于中層部的一側(cè)邊，環(huán)狀通道與入口相連通，且第二開(kāi)口與第一開(kāi)口相連通，前述底層部連接中層部，具有一貯液池以及一第三開(kāi)口，其中第三開(kāi)口與第二開(kāi)口以及貯液池相連通。
文檔編號(hào)B08B9/22GK102909202SQ201210041578
公開(kāi)日2013年2月6日 申請(qǐng)日期2012年2月20日 優(yōu)先權(quán)日2011年8月2日
發(fā)明者彭彥韶, 薛家皓, 鄧國(guó)星 申請(qǐng)人:采鈺科技股份有限公司