技術(shù)編號：1529448
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明涉及一種清洗裝置，特別涉及一種提供給工藝設(shè)備(制程設(shè)備)使用的清洗裝置，其中前述的工藝設(shè)備還使用一工藝用液體。背景技術(shù)傳統(tǒng)的工藝設(shè)備，例如旋轉(zhuǎn)涂布設(shè)備，通常包含許多引導(dǎo)工藝用流體的管路。圖I表示一個與排液管P2及排出管Pl連接的公知的旋轉(zhuǎn)涂布設(shè)備C，在如光微影工藝的半導(dǎo)體工藝中，可將一基板S裝設(shè)于旋轉(zhuǎn)涂布設(shè)備C的夾盤上。如圖I中的箭號A1、A2所示，當基板S開始轉(zhuǎn)動時，含有光阻劑和清洗劑(例如光阻稀釋劑)的流體會被沖離基板S的表面，并經(jīng)由排出管Pl排...
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