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階梯式多級硅料清洗設(shè)備的制作方法

文檔序號:1506905閱讀:278來源:國知局
專利名稱:階梯式多級硅料清洗設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域
本實用新型涉及硅料清洗設(shè)備。
技術(shù)背景在太陽能光伏生產(chǎn)企業(yè)中,拉制硅棒所用硅料必需經(jīng)過多級清洗,以去除附著在 硅料表面的油污、灰塵等附著物,以提高硅棒的純度,目前所用清洗設(shè)備為多級槽式清洗 機,通常含有三級以上清洗槽,待清洗硅料從第一級清洗槽開始逐級清洗后移出,在初級清 洗槽中硅片表面附著的雜質(zhì)最多,以后將逐級減少。在現(xiàn)有的多級清洗槽結(jié)構(gòu)中,每一級清 洗槽有獨立的進(jìn)水和出水系統(tǒng),每級都有廢水排出,各級清洗槽中所排出的污水直接排放, 清洗硅料所需消耗的水量很大,這樣不僅耗水量大,而且還會污染環(huán)境,光伏企業(yè)迫切需要 一種清洗液能循環(huán)使用的硅料清洗設(shè)備
實用新型內(nèi)容
為了克服現(xiàn)有硅料清洗設(shè)備存在的上述不足,本實用新型的目的是提供一種階梯 式多級硅料清洗設(shè)備。本實用新型所采用的技術(shù)方案是所述階梯式多級硅料清洗設(shè)備,包括機架、初級清洗槽、過渡清洗槽、最后清洗槽、 進(jìn)水閥、過濾處理池、循環(huán)泵、分隔網(wǎng)板和污液槽,污液槽、初級清洗槽、過渡清洗槽和最后 清洗槽從左到右依次升高地設(shè)置在機架上,進(jìn)水閥與最后清洗槽相通連,在最后清洗槽與 過渡清洗槽相接壤的側(cè)壁上設(shè)有回流孔;在過渡清洗槽中設(shè)有分隔網(wǎng)板,分隔網(wǎng)板將過渡 清洗槽分隔成清洗室和溢污室,溢污室與最后清洗槽相鄰,分隔網(wǎng)板的高度高于過渡清洗 槽的左側(cè)壁,在過渡清洗槽的左側(cè)壁上也設(shè)有回流孔,回流孔設(shè)置高度與分隔網(wǎng)板相當(dāng);在 初級清洗槽中設(shè)有分隔網(wǎng)板,分隔網(wǎng)板將初級清洗槽分隔成清洗室和溢污室,分隔網(wǎng)板的 高度高于污液槽的左側(cè)壁,在初級清洗槽的清洗室的底部設(shè)有回流孔;所有回流孔均通過 軟管與過濾處理池相通連;在過濾處理池的凈水出口與初級清洗槽的清洗室之間有循環(huán)泵 相連,即循環(huán)泵的吸水口與過濾處理池的凈水出口處相通連,循環(huán)泵的出水口經(jīng)軟管與初 級清洗槽的清洗室相通連。進(jìn)一步,在初級清洗槽和最后清洗槽之間連續(xù)排列2 5個過渡清洗槽。進(jìn)一步,所述過濾處理池包括進(jìn)液腔、凈化腔和凈水腔,在進(jìn)液腔的上端開口處設(shè) 有水平過濾層,在進(jìn)液腔與凈化腔的側(cè)壁處及凈化腔與凈水腔的側(cè)壁處均設(shè)有側(cè)面過濾 層,在過濾處理池的內(nèi)隔板上設(shè)有透液孔,在凈水腔中放有循環(huán)泵。本實用新型的工作過程如下先將所有清洗槽加滿水,最后清洗槽由進(jìn)水閥與自來水管相連接,再將待清洗硅 片放入初級清洗槽中的清洗室中,經(jīng)超聲波或機械振動清洗后,硅料上附帶的油污、塵粒附 著污物絕大多數(shù)都會進(jìn)入清洗液中,經(jīng)過初級清洗槽的初洗后再由機械方式將硅料轉(zhuǎn)放到 過渡清洗槽中進(jìn)行再清洗,過渡清洗槽設(shè)計多少個根據(jù)清洗工藝要求來確定,經(jīng)過渡清洗槽清洗后,最后轉(zhuǎn)入最后清洗槽中進(jìn)行最終漂洗即可。經(jīng)申請人實際使用驗證,采用本實用新型,連續(xù)清洗硅料的用水量是現(xiàn)有清洗機 的1/3 1/10,節(jié)水效果十分顯著,既降低了清洗成本,又減少對水資源的浪費。


圖1為階梯式多級硅料清洗設(shè)備的結(jié)構(gòu)示意圖;圖中1_機架;2-初級清洗槽;3-過渡清洗槽;4-最后清洗槽;5-進(jìn)水閥;6_過 濾處理池;7-循環(huán)泵;8-分隔網(wǎng)板;9-污液槽;10-回流孔;11-清洗室;12-溢污室;13-軟 管;61-進(jìn)液腔;62-凈化腔;63-凈水腔;64-水平過濾層;65-側(cè)面過濾層;66-內(nèi)隔板; 67-透液孔。
具體實施方式
本實用新型所述階梯式多級硅料清洗設(shè)備如附圖1所示,它包括機架1、初級清洗 槽2、過渡清洗槽3、最后清洗槽4、進(jìn)水閥5、過濾處理池6、循環(huán)泵7、分隔網(wǎng)板8和污液槽 9,污液槽9、初級清洗槽2、過渡清洗槽3和最后清洗槽4從左到右依次升高地設(shè)置在機架 1上,進(jìn)水閥5與最后清洗槽4相通連,在最后清洗槽4與過渡清洗槽3相接壤的側(cè)壁上 設(shè)有回流孔10,回流孔10通過軟管13與過濾處理池6相通連;在過渡清洗槽3中設(shè)有分 隔網(wǎng)板8,分隔網(wǎng)板8將過渡清洗槽3分隔成清洗室11和溢污室12,溢污室12與最后清洗 槽4相鄰,分隔網(wǎng)板8的高度高于過渡清洗槽3的左側(cè)壁,在過渡清洗槽3的左側(cè)壁上也設(shè) 有回流孔10,回流孔10設(shè)置高度與分隔網(wǎng)板8相當(dāng),回流孔10通過軟管13與過濾處理池 6相通連;在初級清洗槽2中設(shè)有分隔網(wǎng)板8,分隔網(wǎng)板8將初級清洗槽2分隔成清洗室11 和溢污室12,分隔網(wǎng)板8的高度高于污液槽9的左側(cè)壁,在初級清洗槽2的清洗室11的底 部設(shè)有回流孔10,回流孔10通過軟管13與過濾處理池6相通連;在過濾處理池6的凈水 出口與初級清洗槽2的清洗室11之間有循環(huán)泵7相連,即循環(huán)泵7的吸水口與過濾處理池 6的凈水出口處相通連,循環(huán)泵7的出水口經(jīng)軟管13與初級清洗槽2的清洗室11相通連。 所述過濾處理池6包括進(jìn)液腔61、凈化腔62和凈水腔63,在進(jìn)液腔61的上端開口處設(shè)有 水平過濾層64,在進(jìn)液腔61與凈化腔62及凈化腔62與凈水腔63的側(cè)壁處設(shè)有側(cè)面過濾 層65,在過濾處理池6的內(nèi)隔板66上設(shè)有透液孔67,循環(huán)泵7放置在凈水腔63中。清洗過程中清洗液的回收再利用過程如下自來水由進(jìn)水閥5小流量地向最后清洗槽4中補給,最后清洗槽4中含有微量灰 塵的清洗液則經(jīng)左側(cè)板溢流至過渡清洗槽3的溢污室12中,從最后清洗槽4溢出的清洗液 可以作為前道過渡清洗槽3的清洗液,所有溢污室12上表面漂浮的污層水從回流孔10和 連接軟管13流入過濾處理池6的進(jìn)液腔61中,再經(jīng)過凈化腔62流入凈水腔63,凈水腔63 中的清潔水由循環(huán)泵7抽吸送入初級清洗槽2的清洗室11中,初級清洗槽2的清洗室11 上表面漂浮污液從左側(cè)板流入污液槽9中,轉(zhuǎn)送污水處理廠集中處理,而初級清洗槽2的清 洗室11中下層污水則從其底部設(shè)有回流孔10通過軟管13流入過濾處理池6中進(jìn)液腔61 中,由過濾處理池6 二次處理后的清洗液再由循環(huán)泵7輸送到初級清洗槽2的清洗室11中, 作為初級清洗槽2的清洗液。
權(quán)利要求一種階梯式多級硅料清洗設(shè)備,其特征是它包括機架(1)、初級清洗槽(2)、過渡清洗槽(3)、最后清洗槽(4)、進(jìn)水閥(5)、過濾處理池(6)、循環(huán)泵(7)、分隔網(wǎng)板(8)和污液槽(9),污液槽(9)、初級清洗槽(2)、過渡清洗槽(3)和最后清洗槽(4)從左到右依次升高地設(shè)置在機架(1)上,進(jìn)水閥(5)與最后清洗槽(4)相通連,在最后清洗槽(4)與過渡清洗槽(3)相接壤的側(cè)壁上設(shè)有回流孔(10);在過渡清洗槽(3)中設(shè)有分隔網(wǎng)板(8),分隔網(wǎng)板(8)將過渡清洗槽(3)分隔成清洗室(11)和溢污室(12),溢污室(12)與最后清洗槽(4)相鄰,分隔網(wǎng)板(8)的高度高于過渡清洗槽(3)的左側(cè)壁,在過渡清洗槽(3)的左側(cè)壁上也設(shè)有回流孔(10),回流孔(10)設(shè)置高度與分隔網(wǎng)板(8)相當(dāng);在初級清洗槽(2)中設(shè)有分隔網(wǎng)板(8),分隔網(wǎng)板(8)將初級清洗槽(2)分隔成清洗室(11)和溢污室(12),分隔網(wǎng)板(8)的高度高于污液槽(9)的左側(cè)壁,在初級清洗槽(2)的清洗室(11)的底部設(shè)有回流孔(10);所有回流孔(10)均通過軟管(13)與過濾處理池(6)相通連;在過濾處理池(6)的凈水出口與初級清洗槽(2)的清洗室(11)之間有循環(huán)泵(7)相連,循環(huán)泵(7)的吸水口與過濾處理池(6)的凈水出口處相通連,循環(huán)泵(7)的出水口經(jīng)軟管(13)與初級清洗槽(2)的清洗室(11)相通連。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述階梯式多級硅料清洗設(shè)備,其特征是在初級清洗槽(1)和最 后清洗槽(4)之間連續(xù)排列2 5個過渡清洗槽(3)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述階梯式多級硅料清洗設(shè)備,其特征是所述過濾處理池(6) 包括進(jìn)液腔(61)、凈化腔(62)和凈水腔(63),在進(jìn)液腔(61)的上端開口處設(shè)有水平過濾 層(64),在進(jìn)液腔(61)與凈化腔(62)及凈化腔(62)與凈水腔(63)的側(cè)壁處設(shè)有側(cè)面過 濾層(65),在過濾處理池(6)的內(nèi)隔板(66)上設(shè)有透液孔(67),在凈水腔(63)中設(shè)有循 環(huán)泵(7)。
專利摘要一種階梯式多級硅料清洗設(shè)備,包括初級清洗槽、過渡清洗槽、最后清洗槽、進(jìn)水閥、過濾處理池、循環(huán)泵、分隔堤和污液槽,在每個初級清洗槽和過濾清洗槽中都設(shè)有分隔網(wǎng)板,將清洗槽分隔成清洗室和溢污室,后道清洗槽溢出的清洗液流入上道清洗槽中作為清洗液的補充,溢污室上表面漂浮的污水經(jīng)軟管流入過濾處理池進(jìn)行二次處理,經(jīng)處理過的清洗液再由循環(huán)泵抽送到初級清洗槽中,作為初級清洗槽的清洗液。經(jīng)申請人實際使用驗證,采用本實用新型的階梯式多極硅料清洗設(shè)備,每噸硅片清洗的耗水量只需3噸,比現(xiàn)有清洗機節(jié)水5噸以上,節(jié)水效果十分顯著,避免了因清洗槽獨立用水而造成的水資源浪費。
文檔編號B08B3/12GK201684745SQ201020022310
公開日2010年12月29日 申請日期2010年1月20日 優(yōu)先權(quán)日2010年1月20日
發(fā)明者蔣新民 申請人:常州億晶光電科技有限公司
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