專利名稱：清洗裝置及鍍膜料片制造裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種對(duì)用在鍍膜料片(plating-filmed web)制造裝 置中的輥進(jìn)行清洗的清洗裝置，該鍍膜料片制造裝置利用多個(gè)輥 輸送長(zhǎng)而寬的帶狀料片，同時(shí)在料片的導(dǎo)電面形成鍍膜，本發(fā)明 還涉及一種配備有這種清洗裝置的鍍膜料片制造裝置。
背景技術(shù)：
迄今為止，當(dāng)在長(zhǎng)而寬的帶狀料片上連續(xù)地執(zhí)行電鍍時(shí)，料 片橫跨在多個(gè)輥之間，并且通過(guò)輥的旋轉(zhuǎn)沿著某一方向輸送料片 和使其穿過(guò)電鍍液池。當(dāng)通過(guò)多個(gè)輥以這種方式輸送料片時(shí)，所 存在的問(wèn)題在于，電鍍液成分的沉淀劑、污染物等從電鍍液池牢 牢地附著于輥的下游側(cè)。為了清洗輥，例如，日本特開2005-264193號(hào)公報(bào)公開了如下 結(jié)構(gòu)，即，其使得噴射洗滌水的旋轉(zhuǎn)刷子與待清洗的輥接觸。此 外，日本特開平5-279881號(hào)公報(bào)公開了如下方法，g卩，周期性地 噴射低pH值的電鍍液來(lái)去除不斷附著于輥表面上的污物。然而，利用日本特開2005-264193號(hào)公報(bào)所述的結(jié)構(gòu)，需要使 用用于旋轉(zhuǎn)刷子的裝置以及用于噴射洗滌水的裝置，并且其裝備 相當(dāng)大。因此，在任意的輸送輥上布置這些裝置極其困難，并且 系統(tǒng)裝置的內(nèi)部將由于旋轉(zhuǎn)刷子存在噴濺而被弄臟。此外，由于 洗滌水要循環(huán)利用，所以洗漆水在一段時(shí)間后將變臟，并且不能 獲得令人滿意的清洗效果。此外，利用日本特開5-279881號(hào)公報(bào)所述的清洗方法，因?yàn)?不能連續(xù)地使輥保持清潔，所以不斷附著于輥上的污物會(huì)損壞料 片。此外，因?yàn)椴荒芊乐瓜礈焖烊腚婂円褐?，所以電鍍液的?度會(huì)改變，電鍍質(zhì)量也變得不穩(wěn)定。發(fā)明內(nèi)容考慮到目前的情形而提出了本發(fā)明，本發(fā)明的目的在于提供 一種清洗裝置及鍍膜料片制造裝置，當(dāng)執(zhí)行電鍍并通過(guò)輥輸送料 片時(shí)，所述裝置以少量的清洗液有效可靠地將附著于輥上的電鍍 液污物洗掉。為了解決上述問(wèn)題，本發(fā)明的第一方面涉及相對(duì)于電鍍液布 置在下游側(cè)的清洗裝置，在該電鍍液中，料片的導(dǎo)電面與陰極輥 接觸并且在導(dǎo)電面形成鍍膜，所述清洗裝置對(duì)將料片通過(guò)空中朝后續(xù)階段輸送的輥進(jìn)行清洗，并且所述清洗裝置包括清洗液容 池，輥的下部浸漬于其中；以及供給部件，其將清洗液供應(yīng)給清洗液容池。根據(jù)本發(fā)明的第一方面，通過(guò)空中輸送料片的輥的下部浸漬 在清洗液容池的清洗液中。供給部件將清洗液供應(yīng)給清洗液容池。 因此，根據(jù)輥的旋轉(zhuǎn)，用清洗液清洗輥的下部，使輥的表面保持 清潔。此外，因?yàn)榍逑匆簝H僅接觸輥的下部，所以少量的清洗液 就足夠了。因此，利用少量的清洗液便可以有效可靠地將附著于 輥上的諸如電鍍液等污物洗掉。在本發(fā)明第一方面的清洗裝置中，可以在清洗液容池的側(cè)部 設(shè)置溢流堰，該溢流堰使得清洗液容池中的清洗液可以溢出，以根據(jù)這種結(jié)構(gòu)，因?yàn)橐缌餮咴O(shè)置在清洗液容池的側(cè)部，所以 清洗液容池中的清洗液溢出，并且清洗液的量保持恒定。因此， 可以以低成本調(diào)節(jié)清洗液容池中的清洗液的量。在本發(fā)明第一方面的清洗裝置中，供給部件可以包括清洗 液管理池，其中的水位保持恒定；液體供給路徑，在此處，清洗 液管理池和清洗液容池之間的水頭差(head difference)保持恒定； 以及流量調(diào)節(jié)閥，其設(shè)置在液體供給路徑上。根據(jù)這種結(jié)構(gòu)，設(shè)置有水位保持恒定的清洗液管理池，并且 清洗液沿著液體供給路徑供應(yīng)給每個(gè)清洗液容池，正因如此，清 洗液管理池和清洗液容池之間的水頭差保持恒定。流量調(diào)節(jié)閥設(shè) 置在液體供給路徑上，并且供應(yīng)給清洗液容池的清洗液的量保持 恒定。因此，不必對(duì)供應(yīng)給清洗液容池的清洗液進(jìn)行儲(chǔ)存。在本發(fā)明第一方面的清洗裝置中，可以在清洗液容池的清洗 液中設(shè)置柔性刀片，該柔性刀片抵接輥的外圍面。根據(jù)這種結(jié)構(gòu)，設(shè)置有柔性刀片，該柔性刀片在清洗液容池 的清洗液中抵接輥的外圍面。該柔性刀片將附著于輥上的污物去 除，并且抑制電鍍液的沉淀劑存在于輥表面上。本發(fā)明第二方面的鍍膜料片制造裝置包括電鍍液，在該電 鍍液中，料片的導(dǎo)電面與陰極輥接觸并且在導(dǎo)電面形成鍍膜；輥， 其相對(duì)于電鍍液布置在下游側(cè)，用于將料片通過(guò)空中朝后續(xù)階段 輸送；以及本發(fā)明第一方面的清洗裝置，其用于清洗輥。根據(jù)本發(fā)明的第二方面，用于將料片通過(guò)空中朝后續(xù)階段輸 送的輥設(shè)置在電鍍液的下游側(cè)，并且本發(fā)明第一方面的清洗裝置 對(duì)該輥進(jìn)行清洗。因此，利用少量的清洗液便可以有效可靠地將 附著于輥上的諸如電鍍液等污物洗掉。如上所述構(gòu)造的本發(fā)明可以在輸送長(zhǎng)而寬的帶狀料片和連續(xù) 地執(zhí)行電鍍的同時(shí)，利用少量的清洗液有效可靠地將附著于輥上 的電鍍液、污染物等洗掉。


圖1是示出本發(fā)明實(shí)施方式的鍍膜料片制造裝置的示意性縱 剖視圖。圖2是示出輥清洗裝置的示意性剖視圖，該輥清洗裝置布置 在圖1所示制造裝置所使用的電鍍裝置處。圖3是示出圖2所示輥清洗裝置的清洗液容池的附近部位的 局部放大圖。
具體實(shí)施方式
現(xiàn)在將基于附圖來(lái)描述本發(fā)明的實(shí)施方式。本文中，所有附 圖中具有大致相同功能的構(gòu)件采用相同的附圖標(biāo)記，并且省略重 復(fù)性描述。圖1是示出鍍膜料片(例如鍍覆薄膜等)制造裝置10的示意 性結(jié)構(gòu)圖，有關(guān)本發(fā)明實(shí)施方式的清洗裝置200A安裝在該鍍膜料 片制造裝置上。如圖1所示，鍍膜料片制造裝置10構(gòu)造成具有曝光裝置12、 顯影裝置14、設(shè)置有清洗裝置70A的電鍍裝置16、后處理裝置 17以及巻取裝置19。首先描述曝光裝置12。曝光裝置12是在輸送透光的感光料片 18的同時(shí)執(zhí)行所需的微線圖案(例如柵格圖案、蜂窩圖案等)曝 光的裝置。感光料片18由長(zhǎng)而寬的帶狀料片(例如，長(zhǎng)而寬的帶狀膜)構(gòu)成，該料片用作待電鍍的材料，含有銀鹽的層設(shè)置在該 料片上。通過(guò)這種圖案曝光，帶有圖案的微線狀金屬銀部分形成于感光料片18的含銀鹽層的曝光部分上。多個(gè)輸送輥對(duì)20沿著透光的感光料片18的輸送路徑設(shè)置在 曝光裝置12中。輸送輥對(duì)20構(gòu)造為具有驅(qū)動(dòng)輥和夾持輥。供給部分設(shè)置在曝光裝置12中的沿著輸送方向的最上游的部 位處。料盒22安裝在供給部分。料盒22提供已纏繞到輥上的長(zhǎng) 而寬的透光的帶狀感光料片18。抽拉輥22A設(shè)置在透光的感光料 片18處，用于將透光的感光料片18抽出和輸送到下游側(cè)。曝光單元24設(shè)置在從供給部分開始的輸送方向下游側(cè)。曝光 單元24在透光的感光料片18上執(zhí)行曝光。曝光單元24可以是使 用光掩模的連續(xù)面曝光單元，并且可以是利用激光束的掃描曝光 單元。優(yōu)選的是，這種掃描曝光單元可以使用如下掃描曝光系統(tǒng)， 即，其利用氣體激光器、發(fā)光二極管、半導(dǎo)體激光器或者單頻高 密度光等，例如如下的二次諧波發(fā)生(SHG)光源，艮卩，其中半 導(dǎo)體激光器或者利用半導(dǎo)體激光器用作激發(fā)光源的固態(tài)激光器與 非線性光學(xué)晶體結(jié)合。此外，該掃描曝光單元還可以使用利用KrF 受激準(zhǔn)分子激光器、ArF受激準(zhǔn)分子激光器、F2S激光器等的掃描 曝光系統(tǒng)。此外，為了使掃描曝光單元更緊湊和便宜，其光源可以使用 半導(dǎo)體激光器或者如下二次諧波發(fā)生(SHG)光源，即，其中半 導(dǎo)體激光器或者固態(tài)激光器與非線性光學(xué)晶體結(jié)合。具體地說(shuō)， 為了設(shè)計(jì)出緊湊、便宜、耐用和穩(wěn)定性高的裝置，可以使用半導(dǎo) 體激光器。具體地說(shuō)，作為掃描曝光單元的激光光源，可以優(yōu)選使用波長(zhǎng)為430 nm到460 nm的藍(lán)色半導(dǎo)體激光器(由日亞公司在2001 年3月的日本應(yīng)用物理科學(xué)及相關(guān)科學(xué)協(xié)會(huì)(Japan Society of Applied Physics and Related Societies)的第48次會(huì)議上提出)、波 長(zhǎng)為大約530 nm的綠色激光器(其中，發(fā)射波長(zhǎng)為大約1060 nm 的半導(dǎo)體激光被具有波導(dǎo)式反演疇結(jié)構(gòu)的LiNb03的SHG晶體進(jìn) 行波長(zhǎng)變換并發(fā)射)、波長(zhǎng)為大約685 nm的紅色半導(dǎo)體激光器(日 立公司型號(hào)No. HL6738MG)，以及波長(zhǎng)為大約650 nm的紅色半 導(dǎo)體激光器(日立公司型號(hào)No.HL6501MG)等。曝光裝置12不限于上述的結(jié)構(gòu)。還可以使用用于銀鹽照相膠 片、打印紙、制版膜和乳膠光掩模等的普通曝光裝置。接下來(lái)將描述顯影裝置14。顯影裝置14布置在曝光裝置12 的輸送方向下游側(cè)，并且該顯影裝置對(duì)已經(jīng)經(jīng)過(guò)所需的微線圖案 曝光的透光的感光料片18執(zhí)行顯影、定影和清洗。顯影裝置14從輸送方向的上游側(cè)按順序設(shè)置有顯影槽26、漂 白定影槽28，以及沖洗槽30。沖洗槽30包括第一沖洗槽30A、 第二沖洗槽30B、第三沖洗槽30C和第四沖洗槽30D。例如，在 顯影槽26中，以預(yù)定量?jī)?chǔ)存有顯影液26L;在漂白定影槽28中， 以預(yù)定量?jī)?chǔ)存有漂白定影液28L;以及在沖洗槽30A至30D中， 以預(yù)定量?jī)?chǔ)存有清洗液30L。感光料片18經(jīng)由處理槽26至30中 的輥和導(dǎo)向裝置輸送于各個(gè)處理槽26至30的液體中。因此，感 光料片18將經(jīng)過(guò)顯影、定影和清洗等各種處理。在顯影槽26的 最上游側(cè)設(shè)置有進(jìn)給輥對(duì)32，該進(jìn)給輥對(duì)32包括驅(qū)動(dòng)輥32A和 根據(jù)驅(qū)動(dòng)輥32A的旋轉(zhuǎn)而旋轉(zhuǎn)的輥32B。該進(jìn)給輥對(duì)32將從曝光 裝置12出來(lái)的感光料片18引導(dǎo)至顯影液26L中。此處，可以使用用于銀鹽照相膠片、制版膜和乳膠光掩模等 的普通顯影及處理方法進(jìn)行顯影、定影和清洗等各種處理。以此為基礎(chǔ)還可以適當(dāng)?shù)厥褂蔑@影液26L、漂白定影液28L和清洗液 30L。例如，不特別局限于顯影液26L，還可以使用PQ顯影液、 MQ顯影液和MAA顯影液等。例如，可以使用配套組合的諸如富 士膠片公司制造的CN-16、 CR-56、 CP45X、 FD-3或者PAPITOL， 柯達(dá)公司制造的C-41、 E-6R、 RA-4、 D-19或者D-72等顯影液， 或者使用諸如D-85等高反差顯影液。此處，為了去除和穩(wěn)定銀鹽 的未曝光部分，執(zhí)行定影處理。為了改進(jìn)圖像的質(zhì)量，顯影液26L中還可以包括圖像質(zhì)量改 進(jìn)劑。例如，圖像質(zhì)量改進(jìn)劑可以是諸如苯并三唑等含氮雜環(huán)化 合物。此外，在使用高反差顯影液的情形下，特別優(yōu)選的是使用 聚乙二醇。穿過(guò)顯影裝置14的各個(gè)處理槽26至30的感光料片18未經(jīng) 過(guò)干燥便離開了顯影裝置14。接下來(lái)將描述電鍍裝置16。電鍍裝置16是一種如下裝置，即， 其對(duì)經(jīng)過(guò)曝光和顯影處理而形成微線狀金屬銀部分的感光料片18 執(zhí)行電鍍處理，并且形成鍍層(導(dǎo)電金屬部分)，在該鍍層上導(dǎo)電 微粒由金屬銀部分支撐。在電鍍裝置16中，用于從穿過(guò)沖洗槽30的感光料片18去除 水分的除濕裝置40A布置在感光料片18的輸送方向下游側(cè)。在除 濕裝置40A中，氣刀裝置42和44分別布置在感光料片18的兩側(cè)。 氣刀裝置42和44從感光料片18的兩側(cè)吹出氣刀，從而去除附著 于感光料片18上的水分。如圖2所示，穿過(guò)除濕裝置40A的感光料片18經(jīng)由支撐輥 46、 48引導(dǎo)和輸送至陰極輥50A，該陰極輥50A在接觸感光料片 18的金屬銀部分的同時(shí)供應(yīng)電流。彈性輥52A布置在與陰極輥 50A相對(duì)的位置處，感光料片18夾在它們之間，并且彈性輥52A 使得感光料片18的金屬銀部分與陰極輥50A接觸。在彈性輥52A 處，由橡膠等形成的彈性層設(shè)置在被旋轉(zhuǎn)支撐的中心件的外圍面 上。可以將聚氨酯橡膠等用于彈性層?？梢酝ㄟ^(guò)使彈性輥52A壓 靠在陰極輥50A上而使得感光料片18與陰極輥50A緊密接觸。在相對(duì)于陰極輥50A而言的感光料片18的輸送方向下游側(cè)， 布置著裝有電鍍液61的電鍍池60A。在這一階段，己經(jīng)接觸陰極 輥50A的感光料片18的金屬銀部分經(jīng)由電鍍池60A的電鍍液中 的水下輥62A輸送。疊層地裝有銅球的容器64A用作陽(yáng)極，陰極 輥50A用作陰極，由DC電源(整流器)66A供應(yīng)電流，從而在 感光料片18上形成層狀鍍層。在該實(shí)施方式中，DC電源66A將 電流從陰極輥50A供應(yīng)到作為陽(yáng)極的容器64A，并且感光料片18 上的電流密度設(shè)定為0.2至10A/dn^以形成鍍層。對(duì)于這種電鍍處理，可以使用例如用于印刷電路板等的電鍍 方法。優(yōu)選的是，采用電解鍍銅法來(lái)進(jìn)行電鍍。在該實(shí)施方式中， 采用電解鍍銅液作為電鍍液61。電解鍍銅液可以是硫酸銅溶液、 焦磷酸銅溶液、氟硼酸銅溶液等?？梢园陔娊忮冦~溶液中的 化學(xué)品種類包括硫酸銅、氯化銅等；硫酸鹽，其使得電鍍液的 穩(wěn)定性和導(dǎo)電性增強(qiáng)，并獲得更均勻的電沉積；氯氣，其作用在 于促進(jìn)陽(yáng)極溶解和輔助添加劑；聚環(huán)氧乙垸，其用作提高溶液穩(wěn) 定性和鍍層精度的添加劑；聯(lián)吡啶；等等。無(wú)論如何，在這種結(jié)構(gòu)中，循環(huán)管與電鍍池60A的下部連通。電鍍池60A中的電鍍液61供應(yīng)到循環(huán)管，穿過(guò)過(guò)濾器以去除電鍍 液61中的雜質(zhì)，并返回到電鍍池60A中。如圖2所示，清洗裝置70A相對(duì)于電鍍池60A布置在感光料 片18的輸送方向下游側(cè)。清洗裝置70A裝有用于清洗感光料片 18的洗滌水71。用于通過(guò)空中輸送感光料片18的兩個(gè)輥74和76 基本水平地布置在電鍍池60A和清洗裝置70A的上部之上。輥74 和76根據(jù)感光料片18的運(yùn)動(dòng)而旋轉(zhuǎn)。此外，清洗裝置70A中設(shè) 置有水下輥72A。因此，感光料片18穿過(guò)電鍍池60A中的電鍍液 61，并經(jīng)由兩個(gè)輥74和76引導(dǎo)，然后輸送到清洗裝置70A的洗 滌水71中。已經(jīng)穿過(guò)清洗裝置70A的感光料片18經(jīng)由水下輥72A 和設(shè)置在水下輥72A上方的支撐輥80引導(dǎo)和輸送。壓靠在感光料片18的前部和后部上的一對(duì)液體吸取輥82在 相對(duì)于輥74的輸送方向上游側(cè)布置在電鍍池60A的上部。此外， 壓靠在感光料片18的前部和后部上的一對(duì)液體吸取輥84在相對(duì) 于支撐輥80的輸送方向上游側(cè)布置在清洗裝置70A的上部。液體 吸取輥82和84根據(jù)感光料片18的運(yùn)動(dòng)而旋轉(zhuǎn)。液體吸取輥82 的外圍面與電鍍液61接觸，而液體吸取輥84的外圍面與洗滌水 71接觸。因此，液體吸取輥82和84持續(xù)用于濕態(tài)下。液體吸取 輥82和84由例如PVA (聚乙烯醇)構(gòu)成。利用這種結(jié)構(gòu)，附著 于感光料片18上的電鍍液61經(jīng)由液體吸取輥82擠壓掉，附著于 感光料片18上的洗滌水71經(jīng)由液體吸取輥84擠壓掉。分別用于清洗輥74和76的清洗裝置200A和202A設(shè)置在輥 74和76的下方。清洗裝置200A和202A左右對(duì)稱地布置，并且 由各自匹配的構(gòu)件構(gòu)成。此處，將基于圖3描述清洗裝置202A的 實(shí)施例。如圖3所示，在位于輥76下側(cè)的部分處，清洗裝置202A設(shè) 置有充滿洗滌水205的溝狀清洗液容池204，并且輥76的下部浸 漬在洗滌水205中。清洗液容池204沿著輥76的長(zhǎng)度方向布置， 并且具有容納輥76全長(zhǎng)的長(zhǎng)度。在清洗液容池204的側(cè)部設(shè)置有 溢流堰206。溢流堰206的上部形成有缺口 206A。利用這種結(jié)構(gòu)， 可以使清洗液容池204中的洗滌水205在該缺口 206A處溢出，并 且洗滌水205的量保持恒定。輥76設(shè)置為其直徑的十分之三浸漬 在洗滌水205中。在與清洗液容池204的溢流堰206相鄰的側(cè)面部分設(shè)置有排 水槽208。溢出的洗滌水205流入排水槽208。排水管210與排水 槽208的底部相連，并且洗滌水205流過(guò)排水管210而排出。在清洗液容池204內(nèi)的下側(cè)部分，設(shè)置有抵接輥76的外圍面 (長(zhǎng)度方向的表面)的柔性刀片(flexible blade) 212。柔性刀片 212布置為相對(duì)于輥76的旋轉(zhuǎn)方向朝向上游側(cè)傾斜，并且以恒定 壓力壓靠在輥76上。柔性刀片212在洗漆水205內(nèi)抵接輥76的 外圍面，并且構(gòu)造為將附著于輥76外圍面上的污物、膠粘體等刮 掉。柔性刀片212由例如樹脂、橡膠等構(gòu)成。如圖2所示，供應(yīng)洗滌水205的供給管216與清洗液容池204 相連。清洗液管理池220布置在清洗液容池204的上方的部位。 洗滌水205儲(chǔ)存在清洗液管理池220中，并且由于溢流管226而 保持預(yù)定水位(隨后將對(duì)其進(jìn)行描述)。單根流入管218與清洗液 管理池220的底部相連。多根供給管216從流入管218分叉，并 且與各個(gè)清洗液容池204相連。流入管218和供給管216構(gòu)造為 使得清洗液管理池220和各個(gè)清洗液容池204之間的水頭差保持 恒定。因此，利用清洗液管理池220和每個(gè)清洗液容池204之間的水頭差，清洗液管理池220中的洗滌水205流過(guò)流入管218和 供給管216而供應(yīng)到每個(gè)清洗液容池204中。流量調(diào)節(jié)閥222設(shè) 置在供給管216上，并且調(diào)節(jié)為使得供應(yīng)到清洗液容池204中的 洗滌水205的流量大致保持恒定。因此，可以避免對(duì)供應(yīng)到清洗 液容池204中的洗滌水205進(jìn)行儲(chǔ)存。并且，因?yàn)椴恍枰髁坑?jì)， 所以降低了成本。在其中儲(chǔ)存洗滌水205的清洗液儲(chǔ)存池224沿對(duì)角方向布置 在清洗液管理池220的下側(cè)。溢流管226與清洗液管理池220的 側(cè)壁相連，而溢流管226的另一端與清洗液儲(chǔ)存池224相連。因 此，洗滌水205從清洗液管理池220流過(guò)溢流管226而排放到清 洗液儲(chǔ)存池224中，并且清洗液管理池220中的洗滌水205的水 位保持恒定。供應(yīng)新鮮洗滌水205的供給管228與清洗液儲(chǔ)存池224相連。 流量調(diào)節(jié)閥230和232設(shè)置在供給管228上。用于自動(dòng)檢測(cè)洗滌 水205水面的傳感器234設(shè)置在清洗液儲(chǔ)存池224中。水面由傳 感器234檢測(cè)，同時(shí)流量調(diào)節(jié)閥230由控制部分236控制。因此， 洗滌水205的液面水位受到調(diào)節(jié)。用于將洗滌水205供應(yīng)給清洗液管理池220的供給管238與 清洗液儲(chǔ)存池224的底部相連。泵240和流量調(diào)節(jié)閥242設(shè)置在 供給管238上。因此，儲(chǔ)存在清洗液儲(chǔ)存池224中的洗滌水205 流過(guò)供給管238而輸送到清洗液管理池220中。在具有上述結(jié)構(gòu)的電鍍裝置16中，首先，沿著箭頭的方向輸 送長(zhǎng)而寬的感光料片18，并且通過(guò)氣刀裝置42和44去除附著于 感光料片18上的水分。然后，在陰極輥50A和彈性輥52A之間的夾持部分處，使感光料片18的金屬銀部分與陰極輥50A接觸， 此后將感光料片18輸送至電鍍池60A中。此處，其中疊層地裝有 銅球的容器64A用作陽(yáng)極，陰極輥50A用作陰極，同時(shí)由DC電 源66A供應(yīng)電流。因此，通過(guò)對(duì)感光料片18的金屬銀部分進(jìn)行電 鍍而形成銅鍍膜。然后，在感光料片18穿過(guò)電鍍池60A之后，輥 74和76將感光料片18引導(dǎo)和輸送到清洗裝置70A,洗滌水71將 附著于感光料片18上的電鍍液洗掉。此外，電鍍裝置16設(shè)置有用于清洗輥74和76的清洗裝置 200A和202A。對(duì)于清洗裝置200A和202A而言，通過(guò)供給管228 將新鮮的洗滌水205供應(yīng)給清洗液儲(chǔ)存池224，并且儲(chǔ)存在清洗液 儲(chǔ)存池224中的洗滌水205流過(guò)供給管238而暫時(shí)儲(chǔ)存在清洗液 管理池220中。在清洗液管理池220處，洗滌水205由于溢流管 226而保持預(yù)定水位。然后，利用清洗液管理池220和清洗液容池 204之間的落差，清洗液管理池220中的洗滌水205流過(guò)流入管 218和供給管216而供應(yīng)到每個(gè)清洗液容池204中。這時(shí)，通過(guò)流 量調(diào)節(jié)閥222將供應(yīng)到每個(gè)清洗液容池204中的洗滌水205的流 量調(diào)節(jié)為大致恒定。在清洗液容池204中，洗滌水205的量由于溢流堰206而保 持恒定，并且旋轉(zhuǎn)輥74或者76的下部被分別浸漬。因此，洗滌 水205清洗輥74或者76的外圍面，并且將附著于輥74或者76 的外圍面上的電鍍液、污染物等去除。此外，柔性刀片212抵接 輥74或者76的外圍面，并且將附著于輥74或者76外圍面上的 污染物刮掉。因此，輥74和76的外圍面一直保持清潔。經(jīng)由溢流堰206從清洗液容池204溢出的洗滌水205流過(guò)排水槽208，并經(jīng)由排水管210排出。利用這些清洗裝置200A和202A,用少量的洗滌水205便可 以有效可靠地將附著于輥74和76上的電鍍液、污染物等洗掉。 因此，可以抑制由于污染物和電鍍液成分的沉淀劑而在感光料片 18上出現(xiàn)刮痕。在電鍍裝置16中，設(shè)置有多個(gè)配備有除濕裝置40A、陰極輥 50A、電鍍池60A和清洗裝置70A的單元(該實(shí)施方式是八個(gè)單 元)，并且上述步驟要重復(fù)多次。從而，在感光料片18上形成具 有預(yù)定厚度的銅鍍層。此外，在感光料片18的輸送方向下游側(cè)，設(shè)置有多個(gè)用于鍍 鎳的單元(該實(shí)施方式是八個(gè)單元)，該單元配備有除濕裝置40B、 陰極輥50B、電鍍池60B和清洗裝置70B。該單元重復(fù)多次地執(zhí) 行與上述步驟相同的步驟。因此，在感光料片18上形成具有預(yù)定 厚度的鎳鍍層。此后，如圖l所示，感光料片18穿過(guò)能檢測(cè)該料片張力的輥 125，穿過(guò)含有用于去除電鍍液的洗滌水115的清洗部分114、含 有用于保護(hù)鍍膜的防銹處理液117的防銹處理部分116，以及含有 用于去除過(guò)量防銹處理液的洗滌水119的清洗部分118，穿過(guò)具有 用于去除水分的干燥扇的干燥臺(tái)部分120，穿過(guò)速度調(diào)節(jié)部分121， 還穿過(guò)平衡輥部分122，并且張力得以調(diào)節(jié)。然后，感光料片18 穿過(guò)積聚器123，并形成料片巻124。采用這種方式獲得鍍膜的料 片。優(yōu)選的是，實(shí)際的料片輸送張力至少為5 N/m,至多為200N/m。實(shí)際上，如果張力小于5N/m，料片將開始彎曲，并且將難 以控制輸送路徑。如果張力超過(guò)200N/m，料片上形成的鍍膜金屬 將具有內(nèi)應(yīng)力，因此將存在諸如成品中出現(xiàn)巻曲等問(wèn)題。對(duì)于輸送張力的控制，可以利用張力傳感輥125檢測(cè)輸送張 力，并且可以執(zhí)行反饋控制以增加/減小速度調(diào)節(jié)部分121的速度， 從而保持張力值恒定。采用這種方式，在感光料片18的微線金屬銀部分形成鍍層(導(dǎo) 電金屬部分)。通過(guò)這些步驟可以獲得鍍膜的料片。此處，根據(jù)所需鍍層厚度(導(dǎo)電金屬部分的厚度)，可以將電 鍍裝置16的電鍍池?cái)?shù)目增加至多于八組。根據(jù)電鍍池的數(shù)目，可 以容易地獲得所需鍍層厚度(導(dǎo)電金屬部分的厚度)。接下來(lái)將描述感光料片18。用作待電鍍材料的感光料片18 是例如由感光材料構(gòu)成的長(zhǎng)而寬的柔性基材，該感光材料在透光 支撐體上設(shè)置有包含銀鹽(例如，鹵化銀)的含銀鹽層。還可以 在含銀鹽層上設(shè)置保護(hù)層。該保護(hù)層是例如由明膠、高分子量聚 合物等粘合劑構(gòu)成的層。該保護(hù)層形成于含銀鹽層上，以便實(shí)現(xiàn) 優(yōu)良的防刮擦性、機(jī)械性能等效果。保護(hù)層的厚度優(yōu)選為0.02至 20pm，更優(yōu)選的是0.1至10 |im，甚至更優(yōu)選的是0.3至3 pm。關(guān)于含銀鹽層、保護(hù)層等的組成，可以適當(dāng)?shù)厥褂糜糜阢y鹽 照相膠片、打印紙、制版膜和乳膠光掩模等的鹵化銀乳膠層(含 銀鹽層)、保護(hù)層等。特別的是，優(yōu)選銀鹽照相膠片(即，銀鹽感光材料)作為感 光料片18 (即，感光材料)，并且單色銀鹽感光膠片(單色銀鹽感光材料)是最優(yōu)選的。此外，作為用在含銀鹽層中的銀鹽，卣化 銀尤其是優(yōu)良的。同時(shí)，作為透光支撐體，可以使用單層塑料膜或者兩層或多 層塑料膜組合而成的多層膜。作為塑料膜的原材料，例如，可以 使用下列材料諸如聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚萘二甲酸乙二醇酯等聚酯；諸如聚乙烯(PE)、聚丙烯(PP)、聚苯乙烯、 EVA等聚烯烴；諸如聚氯乙烯、聚偏二氯乙烯等乙烯基樹脂；作 為選擇，聚醚醚酮(PEEK)、聚砜(PSF)、聚醚砜(PES)、聚碳 酸酯(PC)、聚酰胺、聚酰亞胺、丙烯酸樹脂、三醋酸纖維素(TAC) 等等。在這些材料中，考慮到透明度、耐熱性、易于處理和成本， 用作支撐體的塑料膜優(yōu)選為通常用于銀鹽照相膠片(銀鹽感光材 料)的聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯膜、三乙酸纖維素膜等，或者作為 選擇為聚酰亞胺膜。特別的是，聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯膜是最優(yōu) 選的。此外，在用于顯示的電磁波防護(hù)構(gòu)件的情形下，因?yàn)橐笸?明度，所以令人期望的是，支撐件的透明度較高。在這種情形下， 透光支撐件的透光率在整個(gè)可見波長(zhǎng)范圍內(nèi)優(yōu)選為70%至100%, 更優(yōu)選的是85%至100%，特別優(yōu)選的是90%至100%。感光料片18的寬度可以為例如50cm或者更寬，厚度可以為 50至200 ,。在感光料片18經(jīng)過(guò)曝光和顯影之后，在曝光部分形成金屬銀 部分。該金屬銀部分所包含的金屬銀的質(zhì)量相對(duì)于曝光之前曝光部分所包含的銀的質(zhì)量?jī)?yōu)選為至少50%的質(zhì)量含量比，更優(yōu)選的 是按質(zhì)量計(jì)至少80%。如果曝光部分所包含的銀的質(zhì)量相對(duì)于曝 光之前曝光部分所包含的銀的質(zhì)量按質(zhì)量計(jì)為50%或者更多，那 么可以在隨后的電鍍處理中提供高導(dǎo)電性，因此這是優(yōu)選的。為了使經(jīng)由曝光和顯影處理形成的金屬銀部分具有導(dǎo)電性， 通過(guò)上述電鍍裝置16執(zhí)行電鍍處理以使得導(dǎo)電金屬微粒由金屬銀 部分支撐。也就是說(shuō)，在鍍膜料片制造裝置10中，具有含銀鹽層 的透光的感光料片18用作待電鍍的材料，對(duì)該料片的含銀鹽層執(zhí) 行曝光和顯影處理，并且形成所需的微線狀金屬銀部分作為待電 鍍的部分。因?yàn)檫@種微線狀金屬銀部分是通過(guò)對(duì)含金屬鹽層執(zhí)行 曝光和顯影處理而形成的，所以該微線狀金屬銀部分形成有最精 細(xì)的微線圖案。當(dāng)對(duì)該透光的感光料片18執(zhí)行電鍍處理時(shí)，導(dǎo)電 微粒支撐在微線狀金屬銀部分上，從而形成導(dǎo)電金屬部分。因此， 所提供的電磁波防護(hù)構(gòu)件的特征在于，帶有最精細(xì)的微線圖案的 微線狀金屬部分以及大表面積的透光部分。在如此構(gòu)成的鍍膜料片制造裝置10中，因?yàn)榍逑囱b置200A 和202A用于對(duì)輸送感光料片18的輥74和76進(jìn)行清洗，所以抑 制了從電鍍池60A中輸送感光料片18后電鍍液附著于輥74和76 上，還抑制了電鍍液成分發(fā)生沉淀和固化。因此，感光料片18沒(méi) 有刮痕，也沒(méi)有由于輥74和76表面上的沉淀劑引起的粉末狀固 體等附著物，并且可以獲得高質(zhì)量的鍍層。此外，采用清洗裝置200A和202A,僅用少量洗滌水205便 可以有效可靠地連續(xù)清洗輥74、 76和感光料片18。因此，大大減 少了電鍍時(shí)清洗處理等負(fù)擔(dān)，可以提高生產(chǎn)效率，并且可以以更低的成本提供成品。無(wú)論如何，在該實(shí)施方式中，其中浸漬有輥74或者76的清 洗液容池204的洗滌水205要溢出以便排泄。然而，還可以采用 如下結(jié)構(gòu)，即，其中浸漬有輥76的下游側(cè)清洗液容池204循環(huán)地 使用洗滌水205。此外，在該實(shí)施方式中，采用洗滌水205作為清洗液，但是 清洗液不限于水。可以采用另一種清洗液，例如堿性清洗液、酸 性清洗液等。
權(quán)利要求
1、一種清洗裝置，包括清洗液容池；以及供給部件，其將清洗液供應(yīng)給清洗液容池；其中，所述清洗裝置相對(duì)于電鍍液布置在下游側(cè)，在所述電鍍液處，料片的導(dǎo)電面與陰極輥接觸并且在導(dǎo)電面形成鍍膜，所述清洗裝置對(duì)將料片通過(guò)空中朝后續(xù)階段輸送的輥進(jìn)行清洗；并且所述輥的下部浸漬在清洗液容池的清洗液中。
2、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的清洗裝置，其特征在于，在清洗液 容池的側(cè)部設(shè)置有溢流堰，所述溢流堰使得清洗液容池中的清洗 液可以溢出，以保持清洗液的量恒定。
3、 根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的清洗裝置，其特征在于，所述 供給部件包括-清洗液管理池，其中的水位保持恒定；液體供給路徑，在此處，清洗液管理池和清洗液容池之間的 水頭差保持恒定；以及流量調(diào)節(jié)閥，其設(shè)置在液體供給路徑上。
4、 根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一所述的清洗裝置，其特征在于， 在清洗液容池的下部設(shè)置有柔性刀片，所述柔性刀片在清洗液中 抵接輥的外圍面。
5、 一種鍍膜料片制造裝置，包括-電鍍液，在所述電鍍液處，料片的導(dǎo)電面與陰極輥接觸并且在導(dǎo)電面形成鍍膜；輥，其相對(duì)于電鍍液布置在下游側(cè)，用于將料片通過(guò)空中朝 后續(xù)階段輸送；以及清洗裝置，其用于清洗輥，所述清洗裝置包括清洗液容池；和供給部件，其將清洗液供應(yīng)給清洗液容池； 其中，所述清洗裝置相對(duì)于電鍍液布置在下游側(cè)；并且 所述輥的下部浸漬在清洗液容池的清洗液中。
6、 根據(jù)權(quán)利要求5所述的鍍膜料片制造裝置，其特征在于， 在清洗液容池的側(cè)部設(shè)置有溢流堰，所述溢流堰使得清洗液容池 中的清洗液可以溢出，以保持清洗液的量恒定。
7、 根據(jù)權(quán)利要求5或6所述的鍍膜料片制造裝置，其特征在 于，所述供給部件包括清洗液管理池，其中的水位保持恒定；液體供給路徑，在此處，清洗液管理池和清洗液容池之間的 水頭差保持恒定；以及流量調(diào)節(jié)閥，其設(shè)置在液體供給路徑上。
8、 根據(jù)權(quán)利要求5至7中任一所述的鍍膜料片制造裝置，其 特征在于，在清洗液容池的下部設(shè)置有柔性刀片，所述柔性刀片 在清洗液中抵接輥的外圍面。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種清洗裝置，其設(shè)置有清洗液容池和將清洗液供應(yīng)給清洗液容池的部件。在電鍍液處，使料片的導(dǎo)電面與陰極輥接觸，并且在導(dǎo)電面形成鍍膜。所述清洗裝置布置在電鍍液的下游側(cè)。并且，所述清洗裝置對(duì)將料片通過(guò)空中朝后續(xù)階段輸送的輥進(jìn)行清洗。所述輥的下部浸漬在清洗液容池的清洗液中。
文檔編號(hào)B08B3/04GK101331248SQ200780000756
公開日2008年12月24日 申請(qǐng)日期2007年3月20日 優(yōu)先權(quán)日2006年3月31日
發(fā)明者齋藤浩一 申請(qǐng)人:富士膠片株式會(huì)社