專利名稱：基片清潔裝置和基片處理設備的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及一種基片清潔裝置和一種基片處理設備。特別是，本發(fā)明涉及一種用于清潔在顯示屏(例如液晶顯示裝置的液晶顯示屏)中使用的基片(例如玻璃基片等)的基片清潔裝置，還涉及一種包括該基片清潔裝置的基片處理設備。
背景技術：
一般的液晶顯示裝置的液晶顯示屏包括一對透明基片(例如玻璃基片等)。薄膜晶體管(TFT)設置在一個玻璃基片表面上，而濾色器設置在另一玻璃基片表面上。兩個玻璃基片相互安裝。而且，液晶夾在這兩個玻璃基片之間。這樣就制成液晶顯示屏。
在液晶顯示屏的制造廠中，送入工廠的玻璃基片在清潔表面之后供給各個處理步驟。在這些處理步驟中，TFT形成于某些玻璃基片上；濾色器設置在某些玻璃基片上等。在各處理步驟中，玻璃基片的表面在恰好特定處理之前進行清潔。因此，液晶顯示屏制造廠需要多個用于清潔在液晶顯示屏中使用的玻璃基片的表面的裝置。
圖9是表示在液晶顯示裝置的制造廠中用于處理玻璃基片的裝置的示例布局的正視圖。圖10是圖9的裝置的平面圖。
用于在玻璃基片上執(zhí)行預定處理的處理裝置52設置在潔凈室51中。在該潔凈室51的上部，多個高性能過濾器53沿水平方向設置。各高性能過濾器53提供向下流入潔凈室51的清潔空氣。
在潔凈室51中，處理裝置52設有用于運送玻璃基片的裝載裝置55。該裝載裝置55沿處理裝置52并沿直線方向傳送玻璃基片。用于液晶顯示屏的多個玻璃基片送入潔凈室51中，其中，該玻璃基片裝入盒40中。該盒40沿裝載裝置55的運送方向(即縱向方向)設置，并設置在裝載裝置55的一側。用于從玻璃基片上除去灰塵等的清潔裝置56設置成靠近裝載裝置55的端部。
在各盒40中，水平放置的多個玻璃基片豎直堆放并以合適間隔間隔開。裝載裝置55設有玻璃基片吸附手，該玻璃基片吸附手有一對平行的平面型吸附墊，且該玻璃基片吸附手從沿裝載裝置55的側部送入的一個盒40中拾取玻璃基片。該玻璃基片吸附手可以相對于裝載裝置55豎直和縱向運動。
通過裝載裝置55的玻璃基片吸附手拾取的玻璃基片再運送給清潔裝置56，該玻璃基片接著設置于該清潔裝置56中。在清潔裝置56中的玻璃基片的表面通過清潔裝置56來清潔。清潔后的玻璃基片通過裝載裝置55的玻璃基片吸附手從清潔裝置56中取出，并運送至處理裝置52的預定位置。
玻璃基片清潔裝置56的一個實例例如在日本公開文獻No.6-165960中介紹。在該裝置中，要清潔的玻璃基片水平設置于其中；空氣的脈沖波從吹氣噴嘴吹向玻璃基片的表面(上表面)，這樣，附在表面上的灰塵被除去；然后該基片由吸附噴嘴吸附。
近來，顯示屏包括厚度為0.7mm或更小的玻璃基片。隨著顯示屏增大，送入液晶顯示屏制造廠的玻璃基片的尺寸增加至邊長為大約1.3m或更大的矩形玻璃基片。
如上所述，多個清潔裝置56(圖9和10)用于液晶顯示屏制造廠中。當處理具有較大面積的玻璃基片時，清潔裝置56需要增大，這樣，大尺寸的玻璃基片可以水平設置于其中。這時，清潔裝置56的缺點是占據(jù)較大面積。因為液晶顯示屏制造廠需要多個清潔裝置56，因此制造廠需要較大面積，從而可能導致成本效益降低。

發(fā)明內(nèi)容
根據(jù)本發(fā)明的一個方面，提供了一種基片清潔裝置，它包括第一清潔室，該第一清潔室包括用于清潔設置于其中的基片的第一清潔部分；以及第二清潔室，該第二清潔室包括用于清潔設置于其中的基片的第二清潔部分。該第一清潔室疊置在第二清潔室上，這樣，第一清潔室的至少一部分重疊在第二清潔室的至少一部分上。
在本發(fā)明的一個實施例中，基片清潔裝置還包括過濾器，該過濾器設置在第一清潔室和第二清潔室的重疊區(qū)域中。
在本發(fā)明的一個實施例中，第一臺板設置在第一清潔室中，且該第一臺板與設置在第一清潔室中并設置在該第一臺板上的基片一起滑動；第二臺板設置在第二清潔室中，且該第二臺板與設置在第二清潔室中并設置在該第二臺板上的基片一起滑動。
在本發(fā)明的一個實施例中，第一清潔室開口，從而使清潔空氣流入該第一清潔室。
在本發(fā)明的一個實施例中，第一開口部分設置在第一清潔室的側壁上；且第二開口部分設置在第二清潔室的側壁上。
在本發(fā)明的一個實施例中，第一清潔室的、設有第一開口部分的側壁與第二清潔室的、設有第二開口部分的側壁相對。
在本發(fā)明的一個實施例中，第一清潔部分包括第一噴嘴頭，該第一噴嘴頭有用于向設置在第一清潔室中的基片上吹氣的第一吹氣部分以及用于抽吸在該第一清潔室中的氣體的第一抽吸部分；且第二清潔部分包括第二噴嘴頭，該第二噴嘴頭有用于向設置在第二清潔室中的基片上吹氣的第二吹氣部分以及用于抽吸在該第二清潔室中的氣體的第二抽吸部分。
在本發(fā)明的一個實施例中，第一清潔室和第二清潔室設置成這樣，當?shù)谝磺鍧嵤液偷诙鍧嵤彝队暗脚c垂直方向垂直的平面上時，在該平面上圖像重疊區(qū)域的面積最大。
根據(jù)本發(fā)明的另一方面，提供了一種基片處理設備，該基片處理設備包括潔凈室?；鍧嵮b置設置在該潔凈室中。該基片清潔裝置包括第一清潔室，該第一清潔室包括用于清潔設置于其中的基片的第一清潔部分；第二清潔室，該第二清潔室包括用于清潔設置于其中的基片的第二清潔部分。該第一清潔室疊置在第二清潔室上，這樣，第一清潔室的至少一部分重疊在第二清潔室的至少一部分上。
在本發(fā)明的一個實施例中，第一臺板設置在第一清潔室中，且該第一臺板與設置在第一清潔室中并設置在該第一臺板上的基片一起滑動；第二臺板設置在第二清潔室中，且該第二臺板與設置在第二清潔室中并設置在該第二臺板上的基片一起滑動。
在本發(fā)明的一個實施例中，在潔凈室中設有第一裝載裝置和第二裝載裝置，該第一裝載裝置用于將基片設置在第一清潔室的第一臺板上，該第二裝載裝置用于將基片設置在第二清潔室的第二臺板上。
在本發(fā)明的一個實施例中，第一裝載裝置和第二裝載裝置設置在潔凈室中與基片清潔裝置基本在一直線上，該基片清潔裝置夾在第一裝載裝置和第二裝載裝置之間。
因此，這里所述的本發(fā)明可以很好地提供(1)基片清潔裝置，該基片清潔裝置有較小的占地面積，并能夠高效清潔基片；以及(2)基片處理設備，該基片處理設備有較小占地面積，并使用基片清潔裝置，以便高效處理基片。
本領域技術人員通過閱讀和理解下面參考附圖的詳細說明，可以清楚本發(fā)明的這些和其它優(yōu)點。


圖1是表示本發(fā)明實施例的基片清潔裝置實例的正視圖。
圖2是圖1的基片清潔裝置的側視圖。
圖3是圖1的基片清潔裝置的平面圖。
圖4是表示圖1的基片清潔裝置的內(nèi)部的正剖圖。
圖5是表示圖1的基片清潔裝置的內(nèi)部的側剖圖。
圖6是沿圖4的線A-A的平面剖視圖。
圖7是表示本發(fā)明的基片處理設備的示例布局的正視圖。
圖8是表示圖7的基片處理設備的示例布局的平面圖。
圖9是表示傳統(tǒng)基片處理設備的示例布局的正視圖。
圖10是圖9的傳統(tǒng)基片處理設備的平面圖。
具體實施例方式
下面將參考附圖并通過圖示實例來介紹本發(fā)明。
圖1是表示本發(fā)明實施例的基片清潔裝置10的正視圖。圖2和3分別是基片清潔裝置10的側視圖和平面圖。
基片清潔裝置10例如設置在液晶顯示屏制造廠的潔凈室中，并用于恰好在對玻璃基片進行特定處理之前清潔玻璃基片。
本發(fā)明的基片清潔裝置10包括在它底部成矩形棱柱形狀的基座部分11。在基座部分11上面的空間完全由側壁12包圍。在基座部分11上面的空間的頂側開口，這樣，清潔空氣從頂板向下流，并進入該空間。
圖4和5分別是表示基片清潔裝置10的內(nèi)部的正剖圖和側剖圖。圖6是沿圖4的線A-A的平面剖視圖。
基座部分11的頂側為水平矩形形狀，并有能夠使兩個要清潔的矩形玻璃基片并排設置的區(qū)域。在基座部分11上面由側壁12包圍的空間為空心矩形棱柱形狀。該矩形棱柱部分分成上部清潔室13和底部清潔室14。因此，上部清潔室13和底部清潔室14豎直疊置，并基本沒有水平錯位。實際上，上部清潔室13和底部清潔室14投影到垂直于豎直軸線的平面上時，調(diào)整豎直疊置的上部清潔室13和底部清潔室14，使它們在該平面上的圖像的重疊區(qū)域最大。
多個高效的特殊空氣過濾器(“HEPA過濾器”)23水平地設置在上部清潔室13和底部清潔室14之間的基本整個區(qū)域中。各HEPA過濾器包括風扇部分。
各HEPA過濾器23包括在它的上部的風扇部分以及在它的底部的過濾器部分。風扇部分從上部清潔室13中吸氣(例如空氣等)，而過濾器部分清潔該氣體，并將該氣體供給底部清潔室14。
底部開口部分12a設置在底部清潔室14的縱向側的側壁12部分上，通過該底部開口部分12a，要清潔的玻璃基片插入底部清潔室14中，同時使該玻璃基片保持水平位置(圖1)。
在底部清潔室14中，滑動臺板15A設置在基座部分11上方，插入的玻璃基片水平設置在該滑動臺板15A上?；瑒优_板15A的上側為矩形形狀，該矩形的面積基本與插入底部清潔室14中的玻璃基片的面積相同。
如圖5所示，滾珠絲杠16Aa沿基座部分的縱向方向(橫向方向)設置在基座部分11的頂側。安裝在滑動臺板15A上的滾珠螺母19Aa通過螺紋連接而與滾珠絲杠16Aa相連。導軌16Ab設置在基座部分11的頂側并平行于滾珠絲杠16Aa。安裝在滑動臺板15A上的滑動導軌19Ab與導軌16Ab滑動嚙合。
馬達17A設置在基座部分11上，它通過使?jié)L珠絲杠16Aa前后旋轉(zhuǎn)而使得滑動臺板15A沿滾珠絲杠16Aa和導軌16Ab往復滑動?；瑒优_板15A通過馬達17A而沿縱向方向從基座部分11的一側滑向另一側，且滑動距離為滑動臺板15A的縱向長度或更長，即1節(jié)距或更多，然后返回待用位置。
噴嘴頭18A設置在底部清潔室14中，該噴嘴頭18A作為用于清潔設置在滑動臺板15A上的玻璃基片表面(頂側)的清潔部分。該噴嘴頭位于滑動臺板15A可以滑動的區(qū)域的中部。噴嘴頭18A在與滑動臺板15A的滑動方向垂直的方向上呈細長狀。該噴嘴頭18A的長度比設置在滑動臺板15A上的玻璃基片沿與滑動臺板15A的滑動方向垂直的方向的長度稍微長些。通過使滑動臺板15A滑動，設置在該滑動臺板15A上的玻璃基片的整個表面可以對著噴嘴頭18A。
噴嘴頭18A有吹氣出口，該吹氣出口在該噴嘴頭對著滑動臺板15A的底側，并沿與滑動臺板15A的滑動方向垂直的方向。空氣通過該吹氣出口吹在玻璃基片的表面上。噴嘴頭18A有吸氣口，該吸氣口設置在吹氣出口附近并與該吹氣出口平行。吹到玻璃基片上的空氣通過該吸氣口來抽吸。吹氣出口和吸氣口基本設置在滑動臺板15A沿與滑動方向垂直的方向的整個長度上。
通過噴嘴頭18A吹向玻璃基片表面的氣體除了可以是空氣外，還可以是惰性氣體(例如氮氣等)、離子化氣體、超聲波振動氣體等。
向吹氣出口供給用于清潔玻璃基片的空氣的供氣導管與噴嘴頭18A連接。排氣導管22A也與噴嘴頭18A連接，該排氣導管22A用于除去已經(jīng)吹在玻璃基片上并通過吸氣口抽吸的清潔空氣。該供氣導管21A和排氣導管22A并排設置，并與噴嘴頭18A沿縱向的中部連接。供氣導管21A和排氣導管22A從該噴嘴頭18A垂直向上延伸，并在上部清潔室13和底部清潔室14之間的區(qū)域中彎曲，沿HEPA過濾器23伸向基片清潔裝置10的外部。
用來插入基片的上部開口部分12b設置在上部清潔室13側部的、在HEPA過濾器23上面的側壁12部分上(圖1)。在側壁12中，上部清潔室13的、設有上部開口部分12b的側部與底部清潔室14的、設有底部開口部分12a的側部相對。玻璃基片通過上部開口部分12b水平插入上部清潔室13。
用來在上面水平設置玻璃基片的滑動臺板15B設置在上部清潔室13中，就象在底部清潔室14中一樣。通過螺紋連接與滾珠絲杠16Ba連接的滾珠螺母19Ba以及與導軌16Bb滑動嚙合的滑動導軌19Bb安裝在滑動臺板15B上，該滾珠螺母19Ba和滑動導軌19Bb設置在HEPA過濾器23上方。滾珠絲杠16Ba可通過馬達17B前后旋轉(zhuǎn)。與在底部清潔室14中的滑動臺板15A一樣，滑動臺板15B通過馬達17B而沿滾珠絲杠16Ba和導軌16Bb往復運動。
與在底部清潔室14中的滑動臺板15A一樣，滑動臺板15B通過馬達17B而沿縱向方向從上部清潔室13的一側滑向另一側，且滑動距離為滑動臺板15B的縱向長度或更長，即1節(jié)距或更多，然后返回待用位置。
與底部清潔室14一樣，上部清潔室13設有噴嘴頭18B，該噴嘴頭18B起到用于清潔設置在滑動臺板15B上的玻璃基片表面(頂側)的清潔部分的作用。噴嘴頭18B的結構與在底部清潔室14中的噴嘴頭18A基本相同。吹氣出口和吸氣口設置在噴嘴頭18B的底側。供氣導管21B和排氣導管22B分別與吹氣出口和吸氣口連接。
上部清潔室13的頂側開口。多個用于使供給的空氣離子化的集塵器24水平設置，并覆蓋了上部清潔室13頂側的一部分。該集塵器24通過使空氣離子化來從供給清潔室內(nèi)的清潔空氣中收集灰塵。
具有上述結構的基片清潔裝置10設置在基片處理設備中，該基片處理設備安裝在液晶顯示屏制造廠中。
圖7是表示本發(fā)明的基片處理設備60的示例布局的正視圖。圖8是表示本發(fā)明的基片處理設備60的示例布局的平面圖。
基片處理設備60有一潔凈室30，多個用于以預定方式處理玻璃基片的處理裝置32設置在該潔凈室30中。本發(fā)明的基片清潔裝置10設置在該潔凈室30中。在圖7中示意表示了有上部清潔室13、底部清潔室14和HEPA過濾器23的基片清潔裝置10。
多個HEPA過濾器31水平并排設置在潔凈室30的上部。由HEPA過濾器31清潔的空氣向下流入潔凈室30中。
在潔凈室30中，設有用于將玻璃基片運送給預定處理裝置32的一對裝載裝置35A和35B。裝載裝置35A和裝載裝置35B設置成與夾在它們之間的基片清潔裝置10基本在一直線上。裝載裝置35A和35B分別運送玻璃基片。裝入各盒40中的多個玻璃基片送入潔凈室30中。該玻璃基片用于液晶顯示屏。多個盒設置成沿裝載裝置35A和35B運送方向在各裝載裝置35A和35B的一側。
在各盒40中，多個水平定向的玻璃基片豎直堆放，并間隔開合適間隔。裝載裝置35A和35B分別提供了玻璃基片吸附手，該玻璃基片吸附手有一對平行的平面吸附墊，該吸附墊從設置在裝載裝置35A和35B側部的一個盒40中拾取玻璃基片。該玻璃基片吸附手可以相對于裝載裝置35A和35B垂直和縱向運動。
各裝載裝置35A和35B的玻璃基片吸附手將從盒40中拾取的玻璃基片運送給基片清潔裝置10，并將該玻璃基片設置在基片清潔裝置10的上部清潔室13或底部清潔室14中的滑動臺板15A或15B上。玻璃基片通過基片清潔裝置10來清潔，然后通過裝載裝置35A或35B的玻璃基片吸附手而從上部清潔室13或底部清潔室14中取出。
多個用于對玻璃基片進行預定處理的處理裝置32設置在裝載裝置35A和35B中與設有盒40的一側相對的另一側。通過裝載裝置35A或35B的玻璃基片吸附手而從基片清潔裝置10的上部清潔室13或底部清潔室14中取出的玻璃基片設置在該裝載裝置35A或35B側部的處理裝置32中的預定位置處。
處理裝置32可以為對通過裝載裝置35A或35B供給的玻璃基片執(zhí)行預定處理的任何裝置，它設置在裝載裝置35A或35B側部。該預定處理并沒有特別限制。在裝載裝置35A和35B側部的處理裝置并不必須有相同功能。多個用于執(zhí)行相同或不同處理的處理裝置32可以設置在裝載裝置35A和35B的側部。
在具有上述結構的潔凈室30中，通過一個裝載裝置(例如裝載裝置35B)的玻璃基片吸附手從盒40中取出的玻璃基片通過在基片清潔裝置10的上部清潔室13的側部的上部開口部分12b運送到上部清潔室13內(nèi)，并設置在上部清潔室13的滑動臺板15B上。
另一方面，通過另一裝載裝置(例如裝載裝置35A)的玻璃基片吸附手從盒40中取出的玻璃基片通過在基片清潔裝置10的底部清潔室14的側部的底部開口部分12a運送到底部清潔室14內(nèi)，并設置在底部清潔室14的滑動臺板15a上。
當玻璃基片設置在上部清潔室13中的滑動臺板15B上時，滑動臺板15B從待用位置開始沿水平方向滑動。因此，設置在滑動臺板15B上的玻璃基片通過在上部清潔室13的噴嘴頭18B下面的區(qū)域。
噴嘴頭18B吹出空氣，該空氣從供氣導管21B通過在噴嘴頭底側的吹氣出口而供給。該空氣吹在經(jīng)過噴嘴頭18B底部的玻璃基片上。而且，吹在玻璃基片上的空氣通過噴嘴頭18B的吸氣口抽吸，并通過排氣導管22B排出上部清潔室13的外部。
噴嘴頭18B對著在它下面滑動的玻璃基片的整個上表面，且該面對的方向垂直于滑動方向。通過使玻璃基片沿水平方向滑動距離為1個節(jié)距或更多，可以清潔玻璃基片的整個表面。在整個玻璃基片已經(jīng)通過噴嘴頭18B下面之后，滑動臺板15B沿相反方向滑動，以便再次清潔玻璃基片。
設置在底部清潔室14中的滑動臺板15A有基本與設置在上部清潔室13中的滑動臺板15B相同的功能。
當玻璃基片設置在底部清潔室14的滑動臺板15A上時，滑動臺板15A從待用位置開始沿水平方向滑動。因此，設置在滑動臺板15A上的玻璃基片通過在底部清潔室14的噴嘴頭18A下面的區(qū)域。
噴嘴頭18A吹出空氣，該空氣從供氣導管21A通過在噴嘴頭底側的吹氣出口而供給。該空氣吹在經(jīng)過噴嘴頭18A底部的玻璃基片上。而且，吹在玻璃基片上的空氣通過噴嘴頭18B的吸氣口抽吸，并通過排氣導管22A排出底部清潔室14的外部。
噴嘴頭18A對著在它下面滑動的玻璃基片的整個上表面，且該面對的方向垂直于滑動方向。通過使玻璃基片沿水平方向滑動距離為1個節(jié)距或更多，可以清潔玻璃基片的整個表面。在整個玻璃基片已經(jīng)通過噴嘴頭18A下面之后，滑動臺板15A沿相反方向滑動，以便再次清潔玻璃基片。
在基片處理設備60中，由設置在潔凈室30頂部的HEPA過濾器31清潔的空氣直接或通過集塵器24流入上部清潔室13中。因此，基本沒有在上部清潔室13中的滑動臺板15B上的玻璃基片由流入上部清潔室13中的空氣污染的危險。因此，能夠可靠清潔玻璃基片。
在流入上部清潔室14中的空氣流入底部清潔室14中之前，通過設置在上部清潔室13和底部清潔室14之間的HEPA過濾器23從該空氣中收集灰塵。因此，基本沒有由在上部清潔室13中的滑動臺板15B、滾珠絲杠16Ba等產(chǎn)生的灰塵流入底部清潔室14的危險。因此，在滑動臺板15A上的玻璃基片在底部清潔室14的清潔空氣中進行清潔。因此，玻璃基片能夠可靠地在底部清潔室14中進行清潔。
因此，當滑動臺板15A往復運動并返回待用位置時，設置在滑動臺板15A上的玻璃基片通過在底部清潔室14的側部的底部開口部分12a而由裝載裝置35A的玻璃基片吸附手從該底部清潔室14中取出。然后，該玻璃基片通過設置在與處理裝置32相對應的預定位置而運送到在裝載裝置35A側部的預定處理裝置32中。
同樣，當滑動臺板15B往復運動并返回待用位置時，設置在滑動臺板15A上的玻璃基片通過在上部清潔室13的側部的上部開口部分12b而由裝載裝置35B的玻璃基片吸附手從該上部清潔室13中取出。然后，該玻璃基片通過設置在與處理裝置32相對應的預定位置而運送到在裝載裝置35B側部的預定處理裝置32中。
如上所述，上部清潔室13和底部清潔室14在基片清潔裝置10中豎直疊置，因此，由基片清潔裝置10占據(jù)的面積可以減小。特別是，即使當要處理的玻璃基片的面積增加時，也能抑制由基片清潔裝置10占據(jù)的面積增加。因此，顯示屏例如液晶顯示屏等的制造廠的占地面積可以減小。
而且，玻璃基片可以在豎直設置的上部清潔室13和底部清潔室14中同時進行清潔，因此，明顯提供了清潔玻璃基片的效率。
上述基片清潔裝置10包括豎直設置的兩個清潔室(上部清潔室13和底部清潔室14)。不過，本發(fā)明并不局限于該結構。例如，上述基片清潔裝置10可以包括三個或更多清潔室，其中的至少兩個清潔室豎直疊置。這時，基片清潔裝置的占地面積可以減小。
在上述基片清潔裝置10中，上部清潔室13和底部清潔室14在水平方向沒有錯位的情況下垂直設置。本發(fā)明并不局限于該結構。也可選擇，上部清潔室13和底部清潔室14可以沿水平方向相互偏移，這樣，該上部清潔室13和底部清潔室14彼此局部重疊。當基片清潔裝置10包括三個或更多清潔室時，垂直設置的至少兩個清潔室可以相互偏移，從而彼此局部重疊。
通過使兩個或更多清潔室垂直設置并彼此重疊，基片清潔裝置的占地面積可以減小。
當豎直設置的兩個清潔室沿水平方向彼此偏移時，過濾器(例如HEPA過濾器23等)可以只設置在兩個清潔室重疊的區(qū)域中。這時，沿水平方向相對于上部清潔室偏移且與該上部清潔室部分重疊的底部清潔室向上面空間開口，除了設置有HEPA過濾器23的重疊區(qū)域外。清潔空氣在沒有過濾器等的情況下通過該開口部分直接流入底部清潔室。
根據(jù)本發(fā)明，提供了一種基片清潔裝置，該基片清潔裝置包括至少兩個清潔室，清潔室包含用于清潔基片表面的清潔部分。清潔室豎直疊置，同時至少部分彼此重疊。因此，基片清潔裝置的占地面積可以減小。而且，基片可以高效清潔。過濾器設置在豎直疊置的兩個清潔室的重疊區(qū)域中，從而基本消除了在上部清潔室中產(chǎn)生的灰塵等流入底部清潔室的危險。
根據(jù)本發(fā)明，提供了具有較小占地面積并能夠高效處理基片的基片處理設備。
在不脫離本發(fā)明的精神和范圍的情況下，本領域技術人員可以很容易知道各種其它變化形式。因此，不應該將權利要求的范圍局限于這里的所述說明，而是應該作寬泛的解釋。
權利要求
1.一種基片清潔裝置，包括第一清潔室，包括用于清潔放于其中的基片的第一清潔部分；以及第二清潔室，包括用于清潔放于其中的基片的第二清潔部分；其中，所述第一清潔室疊置在所述第二清潔室上，使所述第一清潔室的至少一部分重疊在所述第二清潔室的至少一部分上。
2.根據(jù)權利要求1所述的基片清潔裝置，還包括一過濾器，該過濾器設置在所述第一清潔室和所述第二清潔室的重疊區(qū)域中。
3.根據(jù)權利要求1所述的基片清潔裝置，其中在所述第一清潔室中設置有一第一臺板，且該第一臺板與設置在所述第一清潔室中并放在該第一臺板上的基片一起滑動；以及在所述第二清潔室中設置有一第二臺板，且該第二臺板與設置在所述第二清潔室中并放在該第二臺板上的基片一起滑動。
4.根據(jù)權利要求1所述的基片清潔裝置，其中所述第一清潔室是開口的，清潔空氣能夠流入該第一清潔室。
5.根據(jù)權利要求1所述的基片清潔裝置，其中在所述第一清潔室的側壁上設置有一第一開口部分；以及在所述第二清潔室的側壁上設置有一第二開口部分。
6.根據(jù)權利要求5所述的基片清潔裝置，其中所述第一清潔室的設有所述第一開口部分的所述側壁與所述第二清潔室的設有所述第二開口部分的所述側壁相對。
7.根據(jù)權利要求1所述的基片清潔裝置，其中所述第一清潔部分包括第一噴嘴頭，該第一噴嘴頭具有用于向放置在所述第一清潔室中的基片上吹氣的第一吹氣部分以及用于抽吸所述第一清潔室中的氣體的第一抽吸部分；以及所述第二清潔部分包括第二噴嘴頭，該第二噴嘴頭具有用于向放置在所述第二清潔室中的基片上吹氣的第二吹氣部分以及用于抽吸所述第二清潔室中的氣體的第二抽吸部分。
8.根據(jù)權利要求1所述的基片清潔裝置，其中所述第一清潔室和所述第二清潔室設置成這樣，當所述第一清潔室和所述第二清潔室投影到與豎直方向垂直的平面上時，各清潔室在該平面上圖像的重疊區(qū)域的面積最大。
9.一種基片處理設備，包括一潔凈室，其中在該潔凈室中設有一基片清潔裝置，該基片清潔裝置包括第一清潔室，包括用于清潔放于其中的基片的第一清潔部分；以及第二清潔室，包括用于清潔放于其中的基片的第二清潔部分；其中，所述第一清潔室疊置在所述第二清潔室上，使所述第一清潔室的至少一部分重疊在所述第二清潔室的至少一部分上。
10.根據(jù)權利要求9所述的基片處理設備，其中在所述第一清潔室中設置有一第一臺板，且該第一臺板與設置在所述第一清潔室中并放在該第一臺板上的基片一起滑動；以及在所述第二清潔室中設置有一第二臺板，且該第二臺板與設置在所述第二清潔室中并放在該第二臺板上的基片一起滑動。
11.根據(jù)權利要求10所述的基片處理設備，其中在所述潔凈室中設有第一裝載裝置和第二裝載裝置，該第一裝載裝置用于將基片設置在所述第一清潔室的所述第一臺板上，該第二裝載裝置用于將基片設置在所述第二清潔室的所述第二臺板上。
12.根據(jù)權利要求10所述的基片處理設備，其中所述第一裝載裝置和所述第二裝載裝置設置在所述潔凈室中與所述基片清潔裝置基本在一直線上，該基片清潔裝置夾置在所述第一裝載裝置和所述第二裝載裝置之間。
全文摘要
本發(fā)明提供了一種基片清潔裝置，它包括第一清潔室，該第一清潔室包括用于清潔設置于其中的基片的第一清潔部分；以及第二清潔室，該第二清潔室包括用于清潔設置于其中的基片的第二清潔部分。該第一清潔室疊置在第二清潔室上，這樣，第一清潔室的至少一部分重疊在第二清潔室的至少一部分上。
文檔編號B08B5/02GK1517161SQ20041000188
公開日2004年8月4日 申請日期2004年1月15日 優(yōu)先權日2003年1月21日
發(fā)明者吉澤武德 申請人:夏普株式會社