專利名稱：用于部分皮膚處置的方法和裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本方法和裝置通常涉及皮膚處置程序，特別涉及美容皮膚表面重修和復(fù)原程序。
背景技術(shù)：
部分皮膚表面重修或復(fù)原是近來開發(fā)的皮膚消融技術(shù)。存在著用于消融皮膚的兩種類型的設(shè)備基于激光的設(shè)備和基于RF的設(shè)備。這兩種類型的設(shè)備都消融具有極小直徑的淺孔或淺區(qū)的圖案?？资潜晃刺幹玫钠つw區(qū)域包圍的在顯微鏡下的小處置區(qū)。處置導致非常迅速的愈合或恢復(fù)以及所處置的皮膚的表面重修。在處置區(qū)的愈合過程中，出現(xiàn)新的皮膚層，恢復(fù)新鮮、年輕的膚色。小孔的圖案典型地由X-Y掃描激光束或通過RF能量或電壓的施加而產(chǎn)生。激光聚焦于皮膚上，并且，通常以脈沖模式工作，從而消融皮膚中的微米尺寸的孔?；赗F的部分皮膚處置產(chǎn)生與激光相似的皮膚中的微米尺寸的孔的掃描圖案。 典型地，能量由施加器遞送至皮膚，該施加器由布置成矩陣或陣列的多個電壓至皮膚施加/ 遞送元件或接觸元件的頂端裝備。電壓至皮膚施加元件放置為與將被處置的皮膚段接觸， 并且，由合適的功率和頻率的RF能量源驅(qū)動。向電極施加高壓RF脈沖將相應(yīng)電極下面的皮膚消融形成小孔。在某些實例中，盡管基于個體的經(jīng)驗可能因受試者而異，這樣，痛覺可能因受試者而異，激光或RF電壓脈沖的施加還是對所處置的受試者引起不適且甚至疼痛。在其他實例中，在相同的處置會話由施加器形成的微米的孔的大小可能存在著差異。較大尺寸的孔的愈合可能花費比較小尺寸的孔的愈合過程更長的一段時間，并且，在某些實例中，較大的孔可能傾向于導致引起對皮膚的損傷，而不是產(chǎn)生期望的皮膚效果。為了緩和不適并減少疼痛以及與部分處置相關(guān)聯(lián)的其他副作用，實踐者開始使用外敷的利多卡因乳膏或甚至口服鎮(zhèn)靜劑。部分皮膚處置可應(yīng)用于諸如老化痕跡、皺紋、變色、痤瘡瘢痕、紋身去除以及其他皮膚缺陷的幾乎所有美容皮膚缺陷的校正中?；赗F的產(chǎn)品的成本低于利用激光輻射來操作的產(chǎn)品，并且，如果能夠消除與其使用相關(guān)聯(lián)的不適和偶爾疼痛，則基于RF的產(chǎn)品很可能廣泛使用。相同受讓人的美國專利申請公布No. 2006/0047281和美國專利申請公布 No. 2009/0299361公開基于RF的產(chǎn)品，例如適合于部分皮膚處置的eMatrixTM
發(fā)明內(nèi)容

詞匯在本公開的背景下，“RF電壓”和“RF能量”可交換地使用并具有相同的意思。這兩個參數(shù)之間的數(shù)學關(guān)系是眾所周知的，并且，參數(shù)之一的知識允許容易地確定另一個。在本公開的背景下，“皮膚電阻”和“皮膚阻抗”可交換地使用并具有相同的意思。 這兩個參數(shù)之間的數(shù)學關(guān)系是眾所周知的，并且，參數(shù)之一的知識允許容易地確定另一個。如在本公開中使用的術(shù)語“期望的皮膚效果”意指RF能量施加的結(jié)果，該結(jié)果可以是除皺、脫毛、膠原收縮或破壞、皮膚復(fù)原以及其他美容和皮膚處置。術(shù)語函數(shù)的“穩(wěn)定水平”是函數(shù)具有恒定值的域的一部分。簡要總結(jié)一種用于美容RF皮膚處置的裝置，其中，RF能量供應(yīng)與所處置的受試者隔離，從而在處置的過程中，不期望的電流不流經(jīng)受試者身體。裝置包括施加器，施加器具有頂端， 該頂端由多個電壓施加的圓頂形狀的元件和電極的集群填充，該電壓施加的圓頂形狀的元件從頂端表面突起并組織成一個共同的集群，該電極的集群約束圓頂形狀元件，并且，具有大于圓頂形狀元件的面積。裝置將具有足以引起期望的皮膚效果的大小的電壓施加至元件。限流器限制RF感應(yīng)電流，從而防止皮膚損傷。裝置連續(xù)地感測所處置的皮膚段的阻抗， 并且，在低的皮膚阻抗時改變RF能量以及/或者在太低或太高的皮膚阻抗的情況下停止脈沖。


統(tǒng)稱為圖I的圖IA和圖IB是用于部分皮膚處置的現(xiàn)有技術(shù)的RF施加器頂端的示意性圖解說明；圖2是用于驅(qū)動用于部分皮膚處置的RF施加器頂端的現(xiàn)有技術(shù)的RF電壓供應(yīng)電路的示意性圖解說明；圖3A至圖3C是用于部分皮膚處置的頂端的等效電路的示意性圖解說明；圖4是用于部分皮膚處置驅(qū)動電路的本頂端的示范性實施例的示意性圖解說明；圖5是用于部分皮膚處置驅(qū)動電路的本頂端的另一示范性實施例的示意性圖解說明；圖6是RF能量脈沖的施加下的皮膚電阻變化的示意性圖解說明；圖7是用于部分皮膚處置控制電路的本頂端的示范性實施例的示意性圖解說明；圖8是用于部分皮膚處置的本RF施加器頂端的示范性實施例的示意性圖解說明。
具體實施例方式參考附圖和在圖中顯示的非限制性的、示范性的實施例的附隨的描述，可以更好地理解方法和裝置的原理和實行。對圖I進行參考，圖I是相同受讓人的美國專利申請公布No. 2009/0299361中公開的用于部分皮膚處置的現(xiàn)有技術(shù)的RF施加器頂端的示意性圖解說明。載體100可以是具有O. 5密耳至6密耳(12. 5微米至150微米)的示范性厚度范圍的由聚酰亞胺薄膜或類似的材料制成的柔性或剛性的物品，在該載體100上形成電壓至皮膚遞送元件或接觸元件。本公開的背景下的術(shù)語“載體”意指具有電壓至皮膚施加元件的陣列、電壓至皮膚施加元件的二維陣列或矩陣的基體?；w104在其表面112之一上具有微型(微觀)離散電壓至皮膚施加元件116的陣列或矩陣，該元件從表面112突起并以圓頂型形狀120終止。布置在基體104的背側(cè)或第二側(cè)上的以折線顯示的導體124和128的圖案實現(xiàn)對所有元件 116、一個集群的元件116或單獨地對每個元件116進行尋址。在其上形成有電壓至皮膚遞送元件的載體100配置為允許快速附接至施加器，并且，在本文獻中被叫作“頂端”或“施加器頂端”。通過在載體104的背側(cè)上形成與在基體104中相應(yīng)的接觸布置連通的接觸點或接觸帶108，從而提供實現(xiàn)連接至射頻電壓源的RF接觸的布置。電壓至皮膚遞送元件116 以對稱圖案布置，所有偶數(shù)排124連接至RF供應(yīng)接觸帶或端口 124中的一個，而所有奇數(shù)排128連接至另一個或第二接觸帶或RF供應(yīng)端口 128。圖2是用于驅(qū)動RF施加器頂端以進行部分皮膚處置的現(xiàn)有技術(shù)的RF電壓供應(yīng)電路的示意性圖解說明。RF電壓源200可以位于獨立殼體204中?？商娲?，RF電壓源可以位于以折線顯示的施加器外殼208中。該源通過屏蔽線束220而將RF電壓提供至施加器頂端212，特別是提供至電壓至皮膚遞送元件216。屏蔽體224以折線和點線示意性地顯示。 線束220的長度被選擇為實現(xiàn)方便的照顧者操作，并且，可以是例如一至兩米長。在屏蔽體 224以及RF電流導線240和244的每個之間存在有某個寄生電容232和236。所處置的受試者還具有某個電容248。對于皮膚處置，頂端212放置為與將被處置的皮膚段228接觸。 作為被組織成偶數(shù)排124和奇數(shù)排128或集群的電壓至皮膚遞送元件216與將被處置的該皮膚段228的不均勻接觸的結(jié)果，可能形成不期望的RF電流路徑252。該電流通過受試者 228，并且，可能引起痛覺，甚至引起對受試者的電擊。圖3是與所處置的該皮膚段接觸的用于部分皮膚處置的頂端212的等效電路的示意性圖解說明。圖3A示意性地顯示頂端212，位于頂端212的奇數(shù)排1、3、5和7中的所有接觸元件330共同地標記為302并顯示為連接至RF電壓源306的第一 RF端口，并且，位于偶數(shù)排2、4、6和8中的所有接觸元件共同地標記為310并顯示為連接至RF電壓源306的第二 RF端口。所有接觸元件都與例如具有相對較低的電導率的角質(zhì)層的上皮膚層320接觸， 其中，數(shù)字324標記真皮層以及與角質(zhì)層相比而具有相對較高的電導率的甚至更深的皮膚層。參考圖3B，從每個接觸元件通過低電導皮膚層的電通道表示為電阻器(為了解釋的簡單，忽略通道電容)。高電導率真皮表示為普通電阻器Rs。在圖3C中顯示進一步的等效電方案簡化，其中，所有奇數(shù)電阻器已被等效電阻器Ru取代而偶數(shù)排電阻器由Re取代。 典型地，單個接觸元件電阻器中的每個是50K-100K歐姆，因此，Ru和Re各自是大約2K歐姆，然而，Rs是較小的大約200歐姆的數(shù)量級，并且，出于討論的目的而忽略。由于不是所有電壓至皮膚遞送元件或接觸元件330(圖3A)都可以適當?shù)馗浇又疗つw，并且，某些元件可能承受來自先前的處置的一些污垢和其他殘渣，并且，不同的皮膚段可能具有不同的電阻，因此對通過每個接觸元件并相應(yīng)地通過接觸元件形成的集群(偶數(shù)或奇數(shù)集群)的電流的電阻存在著差異。如果RF電壓或能量流入Ru或Re電阻器中的任何一個，則增加其電阻，生成正反饋，在該正反饋下，較大的電阻器得到比較小的電阻器更多的能量，其電阻更迅速地增加，因此，得到甚至更多能量等。最終結(jié)果是，Ru或Re集群中最初具有較大的值一個最后獲取大部分能量并在皮膚上留下不同的痕跡(例如，僅位于偶數(shù)或奇數(shù)排中的接觸元件可以留下痕跡)。這降低處置的療效并生成不期望的皮膚效果、 過度疼痛以及甚至電擊。為了解決該問題，如在轉(zhuǎn)讓至相同受讓人的美國專利申請序號12/324,932中所公開的，有可能單獨地對每個接觸元件或管腳(Pin)進行尋址，并且，將每個接觸元件或管腳通過大阻抗而連接至電壓源，該大阻抗能夠是電阻器、小電容、大電感器或所有這些的組合。這使至每個個體通道的RF感應(yīng)電流穩(wěn)定，從而降低接觸元件和接觸元件的集群之間的 “競爭”。出于滅菌和衛(wèi)生的目的，一次性頂端的使用優(yōu)選為可再用頂端的使用。然而，對每個個體接觸元件的尋址使這樣的頂端復(fù)雜化并增加制造這樣的頂端的成本。使每個接觸元件的電阻或阻抗相等并降低痛覺和至所處置的受試者的潛在電擊的另一個方式是通過某個初步處置而使皮膚處于例如可以是大約3000歐姆的最優(yōu)且更均勻的電阻值。然而，總是存在著電阻低的皮膚段且任何輕微出汗都可能將皮膚帶至更低的阻抗。圖4是本頂端驅(qū)動電路的示范性實施例的示意性圖解說明。圖4的實施例消除或至少大大地降低可能影響所處置的受試者的痛覺和電擊。例如4pF至IOpF的低電容隔離變壓器404定位成緊挨著具有電壓至皮膚遞送元件216的頂端212。在操作的過程中，變壓器404降低或完全地消除由于在屏蔽體224和每個RF導線420和424之間由受試者皮膚 320,324和地面形成的寄生電容408和412而導致的流經(jīng)受試者身體的電流。管理所有裝置設(shè)備的操作的控制器432可以位于殼體204中。控制器432可以具有對于控制處置過程而言必要的處理器、存儲器以及其他設(shè)備。圖5是消除或大大地降低可能影響所處置的受試者的痛覺和電擊的本頂端212驅(qū)動電路的另外的示范性實施例的示意性圖解說明。除了低電容變壓器404之外，位于電流路徑中并串行連接至電極216的一個或多個電容502和504形成高通濾波器。在裝置操作的過程中，高通濾波器將低頻電流濾出，所處置的受試者對該低頻電流的敏感性高，該低頻電流由與皮膚320、324接觸的電壓至皮膚遞送元件216處形成的等離子體生成，并且，在裝置/施加器操作的過程中通過受試者身體而流動?？梢詤⒖糋uidelines for Limiting Exposure to Time-Varying Electric, Magnetic, and Electromagnetic Fields up to 300GHz ;International Commission on Non-Ionizing Radiation Protection,第 10 頁。皮膚的電阻因受試者而異，并且，使用于美容皮膚處置的適當?shù)腞F能量值選擇和 RF能量的施加復(fù)雜化。進一步說，在RF能量的施加下，受試者的電阻可能變化。圖6是以脈沖模式進行的RF能量的施加下的皮膚電阻變化的示意性圖解說明。線602和606標記 RF能量脈沖下的不同的皮膚行為，并且，線610和614標記導致期望的皮膚效果的皮膚電阻上限和皮膚電阻下限或阻抗值，盡管由于所處置的受試者皮膚性質(zhì)的大的變化性，但可能需要實驗性地設(shè)置匹配特定的受試者性質(zhì)的其他值。如稍后所解釋的，脈沖的長度可能從幾毫秒變化至幾百毫秒或甚至秒。為了在處置之前建立適當?shù)奶幹脜?shù)，系統(tǒng)操作者或用戶能夠校準裝置，并且，作為校準的結(jié)果而導出的操作處置參數(shù)載入到可以存儲在控制器432的存儲器中的查找表 (LUT)中。出于校準的目的，對受試者和頂端行為進行建模的已知的可變電阻代替受試者而連接至RF電壓源。在一個校準中，記錄在不同的RF電壓和不同的電阻值下流入電路的電流，并且，在另一個校準中，記錄對不同的皮膚阻抗進行建模的施加至可變電阻的RF能量。當皮膚濕時，其電阻低，并且，隨著RF能量的施加，電阻繼續(xù)下降(線606)。在不被具體理論約束的情況下，人們認為，施加至皮膚的大部分RF能量最初被浪費來干燥皮膚，并且，當RF能量的影響下的皮膚變干時，皮膚電阻開始增長至更高的值。電阻增加被認為是與汽化相聯(lián)系，伴隨著或跟隨有組織消融。它被認為是當在電極下面的組織中創(chuàng)建消融時的良好的處置(期望的皮膚效果)。已經(jīng)實驗性地確定，導致期望的皮膚效果的處置發(fā)生在受試者的皮膚的電阻在R低和R高之間時，其中，具體值取決于頂端中的電極的數(shù)量和電極的布置，并且，取決于皮膚性質(zhì)。對于具有64個電極且每個250 μ m的直徑的圖I中所示的典型的頂端，R低是大約1500歐姆，并且，R高是大約4000歐姆。對于圖8的非對稱頂端，R低是大約600歐姆，并且，R高是大約1600歐姆。當皮膚電阻(或阻抗)下降至低于下限時，大部分施加至皮膚的RF能量被浪費在干燥皮膚，而不是引起期望的皮膚效果。通常，皮膚電阻上限在角質(zhì)層電阻的上下而下限對應(yīng)于濕的皮膚。如折線610和614所示，當皮膚電阻處于所指示的電阻界限內(nèi)時，通過電壓至皮膚遞送元件而進行的RF至皮膚的施加導致期望的皮膚效果。RF脈沖期間對皮膚阻抗的連續(xù)或偽連續(xù)監(jiān)測使得能夠控制遞送至皮膚的能量。例如，當電阻下降至低于例如600歐姆的預(yù)設(shè)的閾值時，可以通過控制而增加 RF脈沖的時間，直到控制單元識別或檢測到電阻開始增加的為止。從檢測到電阻開始增加的時間起，所遞送的能量的量是固定的或考慮高達該點的所遞送的能量，從而允許或確保適當?shù)钠つw效果。也有可能在皮膚阻抗低于預(yù)設(shè)的阻抗或電阻值時切斷RF脈沖并通知操作者，以排除無效的脈沖。另一個可能性是通知操作者低值皮膚電阻和需要干燥皮膚。也有可能將裝置設(shè)置為將預(yù)設(shè)的量的能量遞送至皮膚。有可能將RF脈沖下的皮膚行為概括成至少兩個典型的情況，盡管可能存在這些情況和其他皮膚行為的混合a)在所有RF脈沖施加時間期間，皮膚電阻保持為高；和《皮膚電阻下落至低于電阻下限，并且，在達到(函數(shù)達到)穩(wěn)定水平之后，開始上升。因此，通過監(jiān)測流入電壓至皮膚遞送元件電路的電流，從而有可能設(shè)置導致期望的皮膚效果且不引起諸如疼痛、燒傷及其他的不良副作用的適當?shù)奶幹脜?shù)。發(fā)現(xiàn)高于R高的電阻與臟的頂端對應(yīng)且/或由頂端至皮膚的不適當?shù)母浇右稹Ｔ谶@兩種情況下，脈沖都可能引起不期望的疼痛。為了降低疼痛，在電阻高于某個預(yù)設(shè)的閾值時，限流器704(圖7)或控制系統(tǒng)立即切斷脈沖?？刂茖⑼ㄖ僮髡邫z查頂端至皮膚的適當?shù)母浇忧?或清潔頂端。圖7是消除可能影響所處置的受試者的痛覺和電擊的用于部分處置驅(qū)動電路的本頂端的另一示范性實施例的示意性圖解說明。感測元件700感測最接近用于部分皮膚處置電路的頂端流動的電流。感測和采樣可以是連續(xù)的或以非常短的時間間隔執(zhí)行，例如每隔幾十微秒。操作過程中的快速響應(yīng)RF感應(yīng)限流器704對流入皮膚中的電流設(shè)定最大值。 立刻，隨著電流增加至高于預(yù)設(shè)值，操作快速開關(guān)708以閉合電路從而將電流引導至能量吸收元件712，能量吸收元件712將過多的能量作為熱而耗散。RF能量吸收元件712可以被封裝或甚至是限流器704的一部分。開關(guān)可以是雙極晶體管、MOSFET開關(guān)、IGBT開關(guān)或任何其他快速開關(guān)。如果在模擬的方式下操作開關(guān)，則能夠使電流穩(wěn)定在預(yù)設(shè)的最大值或低于該值。能量吸收元件712可以是一堆電阻器、二極管橋或類似的設(shè)備。這保護受試者免受電擊、皮膚燒傷以及其他潛在的處置副作用。圖I圖解說明現(xiàn)有技術(shù)的頂端，該頂端基本上是包括偶數(shù)和奇數(shù)陣列的電極的對稱頂端。圖8是消除或顯著降低頂端電極之間的“競爭”的用于部分皮膚處置的本RF施加器頂端的示范性實施例的示意性圖解說明。盡管頂端800是用于雙極處置，但它是非對稱頂端。頂端800具有位于基體808的周圍區(qū)域并連接至一個RF輸出端口的一個或多個(集群)大的“接地”電極804。從基體表面突起并以圓頂型形狀終止的所有微型離散電壓至皮膚施加元件812 —起連接至RF輸出變壓器的其他端口。特定的頂端具有64個元件，盡管具有不同數(shù)量的元件的其他設(shè)計是可能的。該解決方案的進一步的優(yōu)點是，電阻變化可以更明顯，因為在位于偶數(shù)和奇數(shù)的接觸帶中的電極之間不存在競爭，因而防止皮膚上的不期望的部分痕跡和伴隨的疼痛。電壓至皮膚施加元件804的面積大體上大于由圓頂型形狀元件812終止的面積。頂端800擁有實現(xiàn)頂端至施加器和RF電壓連接元件(未顯示)的迅速移除和附接的機構(gòu)820。上面公開的電方案和頂端結(jié)構(gòu)消除電擊感覺，降低或消除與處置相關(guān)聯(lián)的疼痛并增加處置療效。隔離變壓器定位成非常接近施加頂端，以降低通過寄生電容的接地電流。 位于至電極的路徑中的串聯(lián)電容器將由在電極處形成的等離子體產(chǎn)生的低頻電流濾出，并且，快速限流器對流入皮膚中的電流設(shè)置最大值。裝置的典型的操作參數(shù)是高阻抗負載上的電壓850Vp_p電流50-400mA脈沖長度10-150msec每個脈沖的能量(遞送至皮膚的實際能量)0. 5-4J，更典型的1-2J。RF的頻率1MHz，盡管可以考慮IOOkHz高至IOMHz。對于64個管腳且每個250微米的非對稱頂端的典型的控制參數(shù)用于切斷脈沖以便降低疼痛的高電阻界限> 1600歐姆(對于64管腳的非對稱頂端)用于切斷低效脈沖的低電阻界限··< 200歐姆(對于64管腳的非對稱頂端)控制添加能量以干燥皮膚的電阻的范圍200-600歐姆(對于64管腳的非對稱頂端)
權(quán)利要求
1.一種用于部分RF皮膚處置的非對稱頂端，所述頂端包括至少一個大電壓至皮膚施加元件(804)和微型離散電壓至皮膚施加元件(812)矩陣。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的頂端，其中，所述大電壓至皮膚施加元件(804)和所述微型離散電壓至皮膚施加元件(812)矩陣形成在基體(808)上。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的頂端，其中，所述大電壓至皮膚施加元件(804)位于基體 (808)的周圍區(qū)域中。
4.根據(jù)權(quán)利要求I所述的頂端，其中，所述大電壓至皮膚施加元件(804)的面積大體上大于所述微型離散電壓至皮膚施加元件(812)矩陣的面積。
5.根據(jù)權(quán)利要求I所述的頂端，其中，所述大電壓至皮膚施加元件(804)連接到RF輸出變壓器的一個端口，并且所述微型離散電壓至皮膚施加元件(812)矩陣連接到所述RF輸出變壓器的另一端口。
6.根據(jù)權(quán)利要求I所述的頂端，其中，所述微型離散電壓至皮膚施加元件(812)矩陣的各元件位于偶數(shù)和奇數(shù)排中。
7.根據(jù)權(quán)利要求I所述的頂端，其中，所述頂端是一次性頂端。
8.一種用于消除部分RF皮膚處置中的部分痕跡的頂端，所述頂端包括至少一個大電壓至皮膚施加元件(804)，其連接到一個RF輸出變壓器端口 ；以及微型離散電壓至皮膚施加元件(812)矩陣，所述微型離散電壓至皮膚施加元件(812) 位于偶數(shù)和奇數(shù)排中并連接到所述RF輸出變壓器的另一端口 ；并且其中，所述電壓至皮膚施加元件連接消除位于偶數(shù)和奇數(shù)排中的所述電壓至皮膚施加元件之間的競爭，并且所述處置不導致皮膚上不期望的部分痕跡以及伴隨的疼痛。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的頂端，其中，所述大電壓至皮膚施加元件(804)和所述微型離散電壓至皮膚施加元件(812)矩陣形成在共同基體(808)上，并且其中，所述大電壓至皮膚施加元件(804)位于基體(808)的周圍區(qū)域中。
10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的頂端，其中，所述大電壓至皮膚施加元件(804)的面積大體上大于所述微型離散電壓至皮膚施加元件(812)矩陣的面積。
11.一種用于部分RF皮膚處置的施加器，所述施加器包括非對稱頂端，其包括至少一個大電壓至皮膚施加元件(804)和微型離散電壓至皮膚施加元件(812)矩陣；隔離RF變壓器，其定位成緊挨著具有電壓至皮膚遞送元件的所述頂端；并且其中，所述大電壓至皮膚施加元件(804)連接到一個RF輸出變壓器端口，并且所述微型離散電壓至皮膚施加元件(812)矩陣連接到所述隔離RF輸出變壓器的另一端口。
12.一種用于部分RF皮膚處置的施加器的一次性頂端，所述頂端包括-基體，其具有位于其上的至少一個大電壓至皮膚施加元件，其連接到一個RF變壓器輸出端口 ；以及電壓至皮膚施加元件矩陣，其從所述基體的表面突起，并且所述元件的面積大體上小于所述至少一個大電壓至皮膚施加元件的面積。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的頂端，其中，所述基體是柔性或剛性基體。
14.一種用于防止部分RF皮膚處置中的電壓至皮膚施加元件矩陣中的電壓至皮膚施加元件之間的競爭的方法，所述方法包括將非對稱頂端(800)放置為與皮膚段接觸，所述頂端包括至少一個大電壓至皮膚施加元件(804)，其連接到一個RF變壓器輸出端口 ；以及微型離散電壓至皮膚施加元件(812)矩陣，其連接到另一 RF變壓器輸出端口，所述微型離散電壓至皮膚施加元件(812)位于偶數(shù)和奇數(shù)接觸帶中；提供RF能量至所述電壓至皮膚施加元件(804，812);并且其中，消除位于所述偶數(shù)和奇數(shù)接觸帶中的所述電壓至皮膚施加元件之間的競爭，并且所述處置不導致皮膚上不期望的部分痕跡以及伴隨的疼痛。
15.一種用于消除部分RF皮膚處置中的皮膚上的部分痕跡的方法，所述方法包括 將非對稱頂端(800)放置為與皮膚段接觸，所述頂端包括至少一個大電壓至皮膚施加元件(804)，其連接到一個RF輸出變壓器端口 ；以及微型離散電壓至皮膚施加元件(812)矩陣，所述微型離散電壓至皮膚施加元件(812) 連接到所述RF輸出變壓器的另一端口 ；提供RF能量至所述電壓至皮膚施加元件(804，812);并且其中，所述電壓至皮膚施加元件連接消除(位于偶數(shù)和奇數(shù)接觸帶中的)所述電壓至皮膚施加元件之間的競爭，并且所述處置不導致皮膚上不期望的部分痕跡以及伴隨的疼
全文摘要
用于美容RF皮膚處置的裝置，其中，RF能量供應(yīng)與所處置的患者隔離，從而在處置的過程中，不期望的電流不流經(jīng)受試者身體。
文檔編號A61B18/12GK102599974SQ201210096438
公開日2012年7月25日 申請日期2010年7月12日 優(yōu)先權(quán)日2009年7月20日
發(fā)明者A·羅森貝格, B·萊維納, G·納赫肖恩, Y·O·阿達尼 申請人:賽諾龍醫(yī)療公司