取代的n-(四唑-5-基)-和n-(三唑-5-基)芳基羧酰胺化合物及其作為除草劑的用途
【專利摘要】式(I)的N-(四唑-5-基)-和N-(三唑-5-基)芳基羧酰胺及其作為除草劑的用途。本發(fā)明涉及式(I)的N-(四唑-5-基)-和N-(三唑-5-基)芳基羧酰胺及其作為除草劑的用途。在所述式I中，B表示N或CH，CYC表示下式Cyc-1或Cyc-2的雙環(huán)或三環(huán)基團，而Q和Q'表示稠合碳環(huán)或稠合雜環(huán)以及R、R1、R3、R4和R5表示諸如氫、鹵素或有機基團如烷基或苯基的基團。
【專利說明】取代的N-(四唑-5-基）-和N-(三唑-5-基）芳基羧酰胺 化合物及其作為除草劑的用途
[0001] 本發(fā)明涉及取代的N-(四唑-5-基）-和N-(三唑-5-基）芳基羧酰胺化合物 及其N-氧化物和鹽以及包含這些的組合物。本發(fā)明還涉及N-(四唑-5-基）-和N-(三 唑-5-基）芳基羧酰胺化合物或包含該類化合物的組合物在防治不希望的植物中的用途。 此外，本發(fā)明涉及施用該類化合物的方法。
[0002] 為了防治不希望的植物，尤其是在作物中防治不希望的植物，持續(xù)需要具有高活 性和選擇性以及不對人類和動物具有顯著毒性的新型除草劑。
[0003] WO 2011/035874描述了在苯基環(huán)的2-、3_和4-位帶有3個取代基的 Ν-α，2, 5-P惡二唑-3-基）苯甲酰胺類及其作為除草劑的用途。
[0004] WO 2012/028579描述了在芳基環(huán)的2-、3_和4-位帶有3個取代基的N-(四 唑-4-基）-和N-(三唑-3-基）芳基羧酸酰胺及其作為除草劑的用途。
[0005] 現(xiàn)有技術的化合物通常尤其在低施用率下除草活性不足和/或選擇性并不令人 滿意，導致與農(nóng)作物的相容性低。
[0006] 因此，本發(fā)明的目的是要提供尤其甚至在低施用率下具有強除草活性、對人類和 動物足夠低的毒性和/或與農(nóng)作物的高相容性的其他N-(四唑-5-基）-和N-(三唑-5-基） 芳基羧酰胺化合物。N-(四唑-5-基）-和N-(三唑-5-基）芳基羧酰胺化合物還應對大量 不同的不希望植物顯示出寬活性譜。
[0007] 這些和其他目的由下面所定義的式I化合物及其N-氧化物以及還有其可農(nóng)用鹽 實現(xiàn)。
[0008] 已經(jīng)發(fā)現(xiàn)上述目的可以通過下面所定義的通式I的取代的N-(四唑-5-基）_和 N-(三唑-5-基）芳基羧酰胺化合物一包括其N-氧化物及其鹽，尤其是其可農(nóng)用鹽實現(xiàn)。
[0009] 因此，在第一方面本發(fā)明涉及式I化合物、其N-氧化物或可農(nóng)用鹽：
【權利要求】
1.式I的N-(四唑-5-基）-和N-(三唑-5-基）芳基羧酰胺、其N-氧化物或可農(nóng)用 鹽：
其中 B為N或CH ; R選自氫、C1-C6烷基、C3-C7環(huán)烷基、C 3-C7環(huán)烷基-C1-C4烷基，其中兩個前述基團中的 C3-C7環(huán)烷基未被取代或部分或完全被鹵代，C1-C6鹵代烷基、C 2-C6鏈烯基、C2-C6鹵代鏈烯 基、C 2-C6塊基、C2-C6齒代塊基、C1-C 4燒氧基-C1-C4燒基、C1-C4齒代燒氧基-C 1-C4燒基、 Rb-S (O) ^C1-C3 烷基、Rc-C ( = 0) -C1-C3 烷基、RdO-C ( = 0) -C1-C3 烷基、ReRfN-C ( = 0) -C1-C3 烷基、RgRhN-C1-C3烷基、苯基-Z和雜環(huán)基-Z，其中雜環(huán)基為含有1、2、3或4個選自0、N和S 的雜原子作為環(huán)成員的5或6員單環(huán)或8、9或10員雙環(huán)飽和、部分不飽和或芳族雜環(huán)，其 中苯基和雜環(huán)基未被取代或被1、2、3或4個相同或不同的基團R'取代； CYC表示下式Cyc-I或Cyc-2的雙環(huán)或三環(huán)基團：
其中 #表示該雙環(huán)基團與羰基的連接點， Q、Q'相互獨立地表示稠合5、6、7、8、9或10員碳環(huán)或稠合5、6、7、8、9或10員雜環(huán)，其 中稠合雜環(huán)具有1、2、3或4個選自0、S和N的雜原子作為環(huán)成員，其中稠合碳環(huán)和稠合雜 環(huán)是單環(huán)或雙環(huán)的且其中稠合碳環(huán)和稠合雜環(huán)未被取代或帶有1、2、3、4、5、6、7、8、9或10 個基團R 2 ; Cyc-I中的R1選自氰基-Z1、鹵素、硝基、C1-C8烷基、C 2-C8鏈烯基、C2-C8炔基、C1-C 8鹵 代烷基、C1-C8烷氧基、C1-C4烷氧基-C 1-C4烷基、C1-C4烷氧基-C1-C 4烷氧基-Z1、C1-C4烷硫 基-C 1-C4烷基、C1-C4烷硫基-C1-C 4烷硫基-Z1、C2-C6鏈烯氧基、C2-C 6炔氧基、C1-C6鹵代烷 氧基、C1-C 4齒代燒氧基-C1-C4燒基、C1-C4齒代燒氧基-C 1-C4燒氧基-Z1 ARlb-S(O)k-Z^苯氧 基-Z1和雜環(huán)氧基-Z 1，其中雜環(huán)氧基為含有1、2、3或4個選自0、N和S的雜原子作為環(huán)成 員的氧鍵合的5或6員單環(huán)或8、9或10員雙環(huán)飽和、部分不飽和或芳族雜環(huán)，其中苯氧基 和雜環(huán)氧基中的環(huán)狀基團未被取代或被1、2、3或4個相同或不同的基團R 11取代； R2 選自鹵素、ΟΗ-Ζ2、Ν02-Ζ2、氰基-Z2、氧代（=0)、R 22-N =、C1-C4 烷基、C1-C4 鹵代烷 基、C2-C4鏈稀基、C2-C4塊基、C 1-C4燒氧基-Z2X1-C4燒氧基-C 1-C4燒氧基-C1-C4燒基、C1-C 4 烷硫基、C1-C4鹵代烷硫基、C1-C4鹵代烷氧基-z 2、C3-Cltl環(huán)烷基-z2、C3-C ltl環(huán)烷基-z2-o、 (三-C1-C4 烷基）甲硅烷基-Z2、R2b-S(0)k-Z2、R 2c;-C( = 0)-Z2、R2gR2hN-Z2 和苯基-z2,其中苯 基-Z2中的苯基未被取代或被1、2、3或4個相同或不同的基團R21取代； 式Cyc-2中的R3選自氫、鹵素、ΟΗ-Ζ3、Ν02-Ζ3、氰基-Z 3、C1-C6烷基、C2-C8鏈烯基、C 2-C8 炔基、C3-Cltl環(huán)烷基-Z3、C3-C ltl環(huán)烷氧基-Z3,其中兩個上述基團中的C3-Cltl環(huán)烷基未被取 代或部分或完全被鹵代，C 1-C8鹵代烷基、C1-C8烷氧基-Z3、C 1-C8鹵代烷氧基-Z3、C1-C4烷氧 基-C 1-C4烷氧基-z3、C1-C4烷硫基-C 1-C4烷硫基-z3、C2-C8鏈烯氧基-z 3、C2-C8炔氧基-Z3、 C2-C8齒代鏈烯氧基-Z3X2-C8齒代塊氧基-Z 3X1-C4齒代燒氧基-C1-C4燒氧基-Z 3、（二-C1-C4 烷基）甲硅烷基-z3、R3b-S (O) k-z3、R3c-C ( = 0)-Z3、R3dO-C ( = 0)-Z3、R3eR3fN-C ( = 0)-Z3、 R3gR3hN-Z3、苯基-Z3a和雜環(huán)基-Z 3a，其中雜環(huán)基為含有1、2、3或4個選自0、N和S的雜原子 作為環(huán)成員的5或6員單環(huán)或8、9或10員雙環(huán)飽和、部分不飽和或芳族雜環(huán)，其中苯基-Z 3a 和雜環(huán)基-Z3a中的環(huán)狀基團未被取代或被1、2、3或4個相同或不同的基團R31取代； R4選自氫、齒素、氰基、硝基、C1-C4烷基和C1-C 4齒代烷基； R5選自氫、齒素、C1-C4烷基和C1-C 4齒代烷基； η為0、1或2 ; k為0、1或2 ; R'、R11、R21、R31相互獨立地選自鹵素、N02、CN、C 1-C6烷基、C3-C7環(huán)烷基、C3-C 7鹵代環(huán)烷 基、C1-C6鹵代烷基、C2-C6鏈烯基、C 2-C6鹵代鏈烯基、C2-C6炔基、C2-C 6鹵代炔基、C1-C6烷氧 基、C1-C 4燒氧基-C1-C4燒基、C1-C4燒硫基 -C1-C4燒基、C1-C4 1?'代燒氧基-C1-C4燒基、C1-C 4 烷氧基-C1-C4烷氧基X3-C7環(huán)烷氧基和C 1-C6鹵代烷氧基；或者兩個連位基團R'、Rn、R21或 R31 -起可以形成基團=〇 ; R22選自C1-C4烷氧基、C1-C4鹵代烷氧基和未被取代或部分或完全被鹵代的C 3-C7環(huán)烷 氧基； Z、Z1、Z2、Z3相互獨立地選自共價鍵和C1-C 4鏈烷二基； Z3a選自共價鍵、C1-C4鏈烷二基、O-C1-C 4鏈烷二基、C1-C4鏈烷二基-〇和C1-C4鏈烷二 基-O-C1-C4鏈烷二基； Rb、Rlb、R2b、R3b相互獨立地選自C 1-C6烷基、C3-C7環(huán)烷基、C1-C 6鹵代烷基、C2-C6鏈烯基、 C2-C6鹵代鏈烯基、C2-C6炔基、C 2-C6鹵代炔基、苯基和雜環(huán)基，其中雜環(huán)基為含有1、2、3或 4個選自0、N和S的雜原子作為環(huán)成員的5或6員單環(huán)飽和、部分不飽和或芳族雜環(huán)，其中 苯基和雜環(huán)基未被取代或被1、2、3或4個相同或不同且選自鹵素、C 1-C4烷基、C1-C4鹵代烷 基、C 1-C4烷氧基和C1-C4鹵代烷氧基的基團取代； Re、R' R3e相互獨立地選自氫、C1-C6烷基、C3-C 7環(huán)烷基、C3-C7環(huán)烷基-C1-C4烷基，其中 兩個前述基團中的C3-C7環(huán)烷基未被取代或部分或完全被鹵代，C1-C 6鹵代烷基、C2-C6鏈烯 基、C2-C 6鹵代鏈烯基、C2-C6炔基、C2-C6鹵代炔基、C 1-C4烷氧基-C1-C4烷基、苯基、芐基和雜 環(huán)基，其中雜環(huán)基為含有1、2、3或4個選自0、N和S的雜原子作為環(huán)成員的5或6員單環(huán) 飽和、部分不飽和或芳族雜環(huán)，其中苯基、芐基和雜環(huán)基未被取代或被1、2、3或4個相同或 不同且選自鹵素、C 1-C4烷基、C1-C4鹵代烷基、C1-C 4烷氧基和C1-C4鹵代烷氧基的基團取代； Rd、R3d相互獨立地選自C1-C6烷基、C 3-C7環(huán)烷基、C3-C7環(huán)烷基-C1-C 4烷基，其中兩個前 述基團中的C3-C7環(huán)烷基未被取代或部分或完全被鹵代，C 1-C6鹵代烷基、C2-C6鏈烯基X2-C 6 鹵代鏈烯基、C2-C6炔基、C2-C6鹵代炔基、C 1-C4烷氧基-C1-C4烷基、苯基和芐基，其中苯基和 芐基未被取代或被1、2、3或4個相同或不同且選自鹵素、C 1-C4烷基、C1-C4鹵代烷基、C1-C 4 烷氧基和C1-C4鹵代烷氧基的基團取代； R% Rf相互獨立地選自氫、C1-C6烷基、C3-C 7環(huán)烷基、C3-C7環(huán)烷基-C1-C4烷基，其中兩個 前述基團中的C3-C7環(huán)烷基未被取代或部分或完全被鹵代，C1-C 6鹵代烷基、C2-C6鏈烯基、 C2-C6鹵代鏈烯基、C2-C6炔基、C 2-C6鹵代炔基、C1-C4烷氧基-C1-C 4烷基、苯基和芐基，其中苯 基和芐基未被取代或被1、2、3或4個相同或不同且選自鹵素、C1-C 4烷基、C1-C4鹵代烷基、 C1-C4烷氧基和C1-C4鹵代烷氧基的基團取代，或者 R%Rf與它們所鍵合的氮原子一起可以形成可以帶有選自〇、S和N的另一雜原子作為環(huán) 成員且未被取代或可以帶有1、2、3或4個相同或不同且選自鹵素、C1-C4烷基、C1-C 4鹵代烷 基、C1-C4烷氧基和C1-C 4鹵代烷氧基的基團的5、6或7員飽和或不飽和N-鍵合雜環(huán)基團； R' R3f相互獨立地具有對R% Rf所給含義； Rg選自氫、C1-C6烷基、C3-C7環(huán)烷基、C 3-C7環(huán)烷基-C1-C4烷基，其中兩個前述基團中的 C3-C7環(huán)烷基未被取代或部分或完全被鹵代，C1-C6鹵代烷基、C 2-C6鏈烯基、C2-C6鹵代鏈烯 基、C 2-C6炔基、C2-C6鹵代炔基、C1-C 4烷氧基-C1-C4烷基、苯基和芐基，其中苯基和芐基未被 取代或被1、2、3或4個相同或不同且選自鹵素、C 1-C4烷基、C1-C4鹵代烷基、C1-C 4烷氧基和 C1-C4鹵代烷氧基的基團取代； Rh選自氫、C1-C6烷基、C3-C7環(huán)烷基、C 3-C7環(huán)烷基-C1-C4烷基，其中兩個前述基團中的 C3-C7環(huán)烷基未被取代或部分或完全被鹵代，C1-C6鹵代烷基、C 2-C6鏈烯基、C2-C6鹵代鏈烯 基、C 2-C6炔基、C2-C6鹵代炔基、C1-C 4烷氧基-C1-C4烷基、基團C( = 0)-Rk、苯基和芐基，其 中苯基和芐基未被取代或被1、2、3或4個相同或不同且選自鹵素、C1-C 4烷基、C1-C4鹵代烷 基、C1-C 4烷氧基和C1-C4鹵代烷氧基的基團取代，或者 Rg、Rh與它們所鍵合的氮原子一起可以形成可以帶有選自〇、S和N的另一雜原子作為 環(huán)成員且未被取代或可以帶有1、2、3或4個相同或不同且選自=0、鹵素、C1-C4烷基、C 1-C4 鹵代烷基、C1-C4烷氧基和C1-C4鹵代烷氧基的基團的5、6或7員飽和或不飽和N-鍵合雜環(huán) 基團； R2g、R2h相互獨立地具有對Rg、Rh所給含義； R3g、R3h相互獨立地具有對Rg、Rh所給含義； Rk具有對Rci所給含義。
2. 根據(jù)權利要求1的化合物，其中R選自C1-C4烷基、C1-C4烷氧基-C 1-C4烷基、C3-C7環(huán) 燒基、CfC 4 1?'代燒基、Rti-C ( = 0)-CfC2 燒基、RdO-C ( = 0)-CfC2 燒基、ReRfN-C ( = 0)-CfC2 烷基和Rk-C( = C^NH-C1-C2烷基，其中 K為C1-C4烷基或C1-C4鹵代烷基， Rd為C1-C4烷基， Re為氫或C1-C4烷基， Rf為氫或C1-C4燒基，或 R% Rf與它們所鍵合的氮原子一起可以形成可以帶有選自〇、S和N的另一雜原子作為 環(huán)成員且未被取代或可以帶有1、2、3或4個甲基的5、6或7員飽和N-鍵合雜環(huán)基團， Rk為C1-C4烷基。
3. 根據(jù)權利要求1的化合物，其中R為苯基或雜環(huán)基，其中雜環(huán)基為含有1、2、3或4個 選自0、N和S的雜原子作為環(huán)成員的5或6員單環(huán)或8、9或10員雙環(huán)飽和、部分不飽和或 芳族雜環(huán)，其中苯基和雜環(huán)基未被取代或被1、2、3或4個基團R'取代，其中R'選自鹵素、 甲基、乙基、甲氧基和三氟甲基。
4. 根據(jù)權利要求1的化合物，其中R為Rb-S (O)n-C1-C2烷基，其中Rb為C 1-C6烷基、C1-C6 鹵代烷基、C2-C6鏈烯基、C2-C6鹵代鏈烯基、C 2-C6炔基、C3-C7環(huán)烷基、苯基和雜環(huán)基，其中雜 環(huán)基為具有1或2個氮原子作為環(huán)成員的6員芳族雜環(huán)基團。
5. 根據(jù)前述權利要求中任一項的化合物，其中R2選自氧代、鹵素、C1-C4烷基、C 1-C4烷 氧基、C1-C4燒氧基-C 1-C4燒基、C1-C4燒氧基-C1-C 4燒氧基-C1-C4燒基、C1-C4燒硫基、C 1-C4 鹵代烷基、C1-C4鹵代烷氧基、C1-C4鹵代烷硫基、C 3-C4鏈烯基X3-C4炔基和R22-N =，其中R22 為C1-C4燒氧基。
6. 根據(jù)前述權利要求中任一項的化合物，其中R2選自氧代、鹵素、C1-C4烷基、C 1-C4烷 氧基、C1-C4齒代烷基、C 1-C4齒代烷氧基，C3-C4鏈烯基和R22-N =，其中R22為C1-C4烷氧基。
7. 根據(jù)前述權利要求中任一項的化合物，其中R4選自氫、CN、CHF2、CF3、CH 3、NO2和鹵 素。
8. 根據(jù)前述權利要求中任一項的化合物，其中R5選自氫、鹵素、CHF2和CF3。
9. 根據(jù)前述權利要求中任一項的化合物，其中R4和R5為氫。
10. 根據(jù)前述權利要求中任一項的化合物，其中CYC為基團Cyc-I。
11. 根據(jù)權利要求10的化合物，其中Q表示稠合5或6員單環(huán)雜環(huán)或稠合7、8、9或10 員螺雙環(huán)雜環(huán)，其中稠合單環(huán)雜環(huán)具有1或2個選自0、S和N的雜原子作為環(huán)成員且未被 取代或帶有1、2、3、4、5、6、7或8個基團R 2,其中稠合螺雙環(huán)雜環(huán)具有1、2、3或4個選自0、 S和N的雜原子作為環(huán)成員且未被取代或帶有1、2、3、4、5、6、7、8、9或10個基團R2。
12. 根據(jù)權利要求10或11的化合物，其中式Cyc-I中的R1選自氰基、鹵素、硝基X1-C 6 燒基、C2-C6鏈稀基、C2-C6塊基、C 1-C6齒代燒基X1-C6燒氧基X1-C 4燒氧基-C1-C4燒基、C1-C4 鹵代烷氧基-C1-C4烷基、C1-C4烷氧基-C 1-C4烷氧基-Z1、C1-C4烷硫基-C 1-C4烷基、C1-C4烷 硫基-C1-C 4烷硫基-Z1、C2-C6鏈烯氧基、C2-C 6炔氧基、C1-C6鹵代烷氧基、C1-C4鹵代烷氧 基-C 1-C4烷氧基和Rlb-S (0) k，其中k和Z1如權利要求1所定義且其中Rlb選自C1-C 4烷基和 C1-C4鹵代烷基。
13. 根據(jù)權利要求10-12中任一項的化合物，其中R1選自鹵素、C1-C4烷基、C 1-C4鹵代 燒基、C1-C4燒氧基-C 1-C4燒基、C1-C4燒氧基-C1-C 4燒氧基-C1-C4燒基、C1-C4燒氧基、C 1-C4 鹵代烷氧基、C1-C4烷硫基、C1-C4鹵代烷硫基和C 1-C4烷基磺?；?br> 14. 根據(jù)權利要求10-13中任一項的化合物，其中Cyc-I選自下列基團Cyc-Ia至 Cyc-Ih ：
其中#、R1、R2和R4如前述權利要求中任一項所定義，其中R 5為氫或鹵素且其中R23和 R24為氫或具有對R2所給含義之一。
15.根據(jù)權利要求10-14中任一項的化合物，其中Cyc-I選自下列基團Cyc-la'至 Cyc-lh' 和 Cyc-lf":
其中 R2p、R2tl相互獨立地為氫、C1-C4烷基或C 1-C4烷氧基，尤其是R2p為H或CH3 ;R2<1為H、CH3 或 OCH3 ; R2"、R2s相互獨立地為氫或鹵素，尤其是氫、氟或氯； R2t為C1-C4齒代烷氧基，尤其是OCH2CH 2F ; R2u為C1-C4烷氧基，尤其是OCH3或OCH 2CH3 ; R2v 為 C1-C4 烷基或 C3-C4 鏈烯基，尤其是 CH3、CH2CH3、CH2CH2CH 3、CH (CH3) 2 或 CH2CH = CH2。
16. 根據(jù)權利要求1-9中任一項的化合物，其中CYC為基團Cyc-2。
17. 根據(jù)權利要求16的化合物，其中Q'表示稠合5或6員單環(huán)雜環(huán)或稠合7、8、9或 10員雙環(huán)雜環(huán)，其中稠合單環(huán)雜環(huán)具有1或2個選自0、S和N的雜原子作為環(huán)成員且未被 取代或帶有1、2、3、4、5、6、7或8個基團R 2,其中稠合雙環(huán)雜環(huán)具有1、2、3、4、5、6、7、8、9或 10個基團R2。
18. 根據(jù)權利要求16或17的化合物，其中R3選自氫、氰基、齒素、硝基X1-C4烷基、C 1-C4 齒代燒基、C1-C4燒氧基、C1-C4 1?'代燒氧基、C2-C4鏈稀基、C2-C4塊基、C 2-C4鏈稀氧基、C2-C4 炔氧基和R3b-S (O)k。
19. 根據(jù)權利要求16-18中任一項的化合物，其中R3選自氫、鹵素、ClNOyC1-C4烷基、 C1-C4鹵代烷基、C1-C4烷氧基、C 1-C4鹵代烷氧基、C1-C4烷硫基、C1-C 4鹵代烷硫基、C1-C4烷 基-S (0) 2和C1-C4鹵代烷基-S (0) 2。
20. 根據(jù)權利要求16-19中任一項的化合物，其中Cyc-2選自下列基團Cyc-2a至 Cyc-2d ：
其中#、R2、R3和R4如前述權利要求中任一項所定義且p為0、1、2或3。
21. 根據(jù)權利要求20的化合物，其中p為0且R4為氫。
22. 根據(jù)權利要求20或21的化合物，其中R3選自氫、鹵素 X1-C4烷基、C1-C4鹵代烷基 和C 1-C4烷氧基，尤其是R3選自F、Cl、Br、CH3、CF 3和OCH3。
23. -種組合物，包含至少一種根據(jù)權利要求1-22中任一項的化合物和至少一種常用 于配制作物保護化合物的助劑。
24. 根據(jù)權利要求1-22中任一項的化合物或權利要求23的組合物在防止不希望的植 物中的用途。
25. -種防治不希望的植物的方法，包括使除草有效量的至少一種根據(jù)權利要求1-22 中任一項的化合物或權利要求22的組合物作用于植物、其種子和/或其生長地。
【文檔編號】A01N43/713GK104395304SQ201380034197
【公開日】2015年3月4日 申請日期:2013年4月16日 優(yōu)先權日:2012年4月27日
【發(fā)明者】H·克羅斯, M·維切爾, T·塞茨, T·W·牛頓, L·帕拉拉帕多, K·克羅伊茨, J·赫茨勒, M·帕斯特納克, J·萊爾希爾, R·R·埃萬斯 申請人:巴斯夫歐洲公司