1.一種保護(hù)玻璃，其包含玻璃板和層疊在所述玻璃板的至少一個表面上的無機(jī)膜，其中，
所述玻璃板的厚度為1mm以下；
所述無機(jī)膜為下述層疊膜：所述層疊膜通過將包含高折射率材料的膜和包含低折射率材料的膜交替層疊6層以上而得到，所述高折射率材料的波長632nm下的折射率為1.80以上，所述低折射率材料的所述折射率小于1.80，
所述包含高折射率材料的膜和所述包含低折射率材料的膜各自的單層膜的厚度為5nm～250nm，且所述層疊6層以上而得到的合計厚度為850nm～6000nm；并且
所述玻璃板單獨的翹曲量與層疊有所述無機(jī)膜的保護(hù)玻璃的翹曲量的翹曲變化量為30％以下。
2.如權(quán)利要求1所述的保護(hù)玻璃，其中，所述高折射率材料為氮化硅。
3.如權(quán)利要求1或2所述的保護(hù)玻璃，其中，所述低折射率材料為氧化硅。
4.如權(quán)利要求1或2所述的保護(hù)玻璃，其中，所述包含低折射率材料的膜的單層膜的厚度比所述包含高折射率材料的膜的單層膜的厚度薄。
5.如權(quán)利要求1或2所述的保護(hù)玻璃，其中，在所述玻璃板的最外表面上隔著所述包含低折射率材料的膜層疊有所述包含高折射率材料的膜。
6.如權(quán)利要求1或2所述的保護(hù)玻璃，其中，所述無機(jī)膜的合計厚度為850nm～3000nm。
7.如權(quán)利要求1或2所述的保護(hù)玻璃，其中，所述玻璃板為在表層具有壓應(yīng)力層的化學(xué)強(qiáng)化玻璃板。
8.如權(quán)利要求1或2所述的保護(hù)玻璃，其中，在所述無機(jī)膜的表面還具有防污膜。
9.如權(quán)利要求1或2所述的保護(hù)玻璃，其用于電子終端。
10.一種保護(hù)玻璃，其包含玻璃板和層疊在所述玻璃板的至少一個表面上的無機(jī)膜，其中，
所述玻璃板的厚度為1mm以下，
所述無機(jī)膜通過將包含高折射率材料的膜和包含低折射率材料的膜交替層疊6層以上而得到，所述高折射率材料的波長632nm下的折射率為1.80以上，所述低折射率材料的所述折射率小于1.80，
所述包含高折射率材料的膜和所述包含低折射率材料的膜各自的單層膜的厚度為5nm～250nm，所述無機(jī)膜的合計厚度為850nm～6000nm，并且
將所述保護(hù)玻璃載置在水平的平臺上使得所述保護(hù)玻璃的一個主平面與水平的平臺接觸，并使用測隙規(guī)在20℃下測定所述保護(hù)玻璃的翹起、即所述保護(hù)玻璃的四角處的自平臺起的翹曲量時，翹曲量的平均值為400μm以下。
11.如權(quán)利要求10所述的保護(hù)玻璃，其中，所述高折射率材料為氮化硅。
12.如權(quán)利要求10或11所述的保護(hù)玻璃，其中，所述低折射率材料為氧化硅。
13.如權(quán)利要求10或11所述的保護(hù)玻璃，其中，所述包含低折射率材料的膜的單層膜的厚度比所述包含高折射率材料的膜的單層膜的厚度薄。
14.如權(quán)利要求10或11所述的保護(hù)玻璃，其中，在所述玻璃板的最外表面上隔著所述包含低折射率材料的膜層疊有所述包含高折射率材料的膜。
15.如權(quán)利要求10或11所述的保護(hù)玻璃，其中，所述無機(jī)膜的合計厚度為850nm～3000nm。
16.如權(quán)利要求10或11所述的保護(hù)玻璃，其中，所述玻璃板為在表層具有壓應(yīng)力層的化學(xué)強(qiáng)化玻璃板。
17.如權(quán)利要求10或11所述的保護(hù)玻璃，其中，在所述無機(jī)膜的表面還具有防污膜。
18.如權(quán)利要求10或11所述的保護(hù)玻璃，其用于電子終端。
19.一種玻璃層疊體，其包含玻璃板和層疊在所述玻璃板的至少一個表面上的無機(jī)膜，其中，
所述無機(jī)膜通過將包含高折射率材料的膜和包含低折射率材料的膜交替層疊6層以上而得到，所述高折射率材料的波長632nm下的折射率為1.80以上，所述低折射率材料的所述折射率小于1.80，
所述包含高折射率材料的膜和所述包含低折射率材料的膜各自的單層膜的厚度為5nm～250nm，所述無機(jī)膜的合計厚度為850nm～6000nm，并且
所述無機(jī)膜的合計厚度與所述無機(jī)膜的合計應(yīng)力值相乘而得到的值的絕對值為220×103nm·MPa以下。
20.如權(quán)利要求19所述的玻璃層疊體，其中，所述高折射率材料為氮化硅。
21.如權(quán)利要求19或20所述的玻璃層疊體，其中，所述包含高折射率材料的膜的應(yīng)力值的絕對值小于所述包含低折射率材料的膜的應(yīng)力值的絕對值。
22.如權(quán)利要求19或20所述的玻璃層疊體，其中，所述包含高折射率材料的膜的應(yīng)力值大于所述包含低折射率材料的膜的應(yīng)力值。
23.如權(quán)利要求19或20所述的玻璃層疊體，其中，所述無機(jī)膜的合計厚度與所述無機(jī)膜的合計應(yīng)力值相乘而得到的值的絕對值為100×103nm·MPa以下。
24.如權(quán)利要求19或20所述的玻璃層疊體，其中，所述包含高折射率材料的膜各自的單層膜的應(yīng)力值的絕對值為30MPa～250MPa。
25.如權(quán)利要求19或20所述的玻璃層疊體，其中，所述低折射率材料為氧化硅。
26.如權(quán)利要求19或20所述的玻璃層疊體，其中，所述包含低折射率材料的膜各自的單層膜的應(yīng)力值的絕對值為100MPa～300MPa。
27.如權(quán)利要求19或20所述的玻璃層疊體，其中，所述包含低折射率材料的膜的單層膜的厚度比所述包含高折射率材料的膜的單層膜的厚度薄。
28.如權(quán)利要求19或20所述的玻璃層疊體，其中，在所述玻璃板的最外表面上隔著所述包含低折射率材料的膜層疊有所述包含高折射率材料的膜。
29.如權(quán)利要求19或20所述的玻璃層疊體，其中，所述無機(jī)膜的合計厚度為850nm～3000nm。
30.如權(quán)利要求19或20所述的玻璃層疊體，其中，所述無機(jī)膜的合計應(yīng)力值的絕對值為35MPa以下。
31.如權(quán)利要求19或20所述的玻璃層疊體，其中，所述無機(jī)膜的合計應(yīng)力值的絕對值為25MPa以下。
32.如權(quán)利要求19或20所述的玻璃層疊體，其中，所述包含高折射率材料的膜的波長632nm下的折射率為1.90以上。
33.如權(quán)利要求19或20所述的玻璃層疊體，其中，所述包含低折射率材料的膜的波長632nm下的折射率小于1.50。
34.如權(quán)利要求19或20所述的玻璃層疊體，其中，所述玻璃板為在表層具有壓應(yīng)力層的化學(xué)強(qiáng)化玻璃板。
35.如權(quán)利要求19或20所述的玻璃層疊體，其中，在所述無機(jī)膜的表面還具有防污膜。
36.如權(quán)利要求19或20所述的玻璃層疊體，其用于電子終端。
37.如權(quán)利要求19或20所述的玻璃層疊體，其用作保護(hù)玻璃。
38.一種玻璃層疊體，其包含玻璃板和層疊在所述玻璃板的至少一個表面上的無機(jī)膜，其中，
所述無機(jī)膜通過將包含高折射率材料的膜和包含低折射率材料的膜交替層疊6層以上而得到，所述高折射率材料的波長632nm下的折射率為1.80以上，所述低折射率材料的所述折射率小于1.80，
所述包含高折射率材料的膜和所述包含低折射率材料的膜各自的單層膜的厚度為5nm～250nm，所述無機(jī)膜的合計厚度為850nm～6000nm，并且
所述無機(jī)膜的合計應(yīng)力值的絕對值為80MPa以下。
39.如權(quán)利要求38所述的玻璃層疊體，其中，所述高折射率材料為氮化硅。
40.如權(quán)利要求38或39所述的玻璃層疊體，其中，所述包含高折射率材料的膜的應(yīng)力值的絕對值小于所述包含低折射率材料的膜的應(yīng)力值的絕對值。
41.如權(quán)利要求38或39所述的玻璃層疊體，其中，所述包含高折射率材料的膜的應(yīng)力值大于所述包含低折射率材料的膜的應(yīng)力值。
42.如權(quán)利要求38或39所述的玻璃層疊體，其中，所述無機(jī)膜的合計厚度與所述無機(jī)膜的合計應(yīng)力值相乘而得到的值的絕對值為100×103nm·MPa以下。
43.如權(quán)利要求38或39所述的玻璃層疊體，其中，所述包含高折射率材料的膜各自的單層膜的應(yīng)力值的絕對值為30MPa～250MPa。
44.如權(quán)利要求38或39所述的玻璃層疊體，其中，所述低折射率材料為氧化硅。
45.如權(quán)利要求38或39所述的玻璃層疊體，其中，所述包含低折射率材料的膜各自的單層膜的應(yīng)力值的絕對值為100MPa～300MPa。
46.如權(quán)利要求38或39所述的玻璃層疊體，其中，所述包含低折射率材料的膜的單層膜的厚度比所述包含高折射率材料的膜的單層膜的厚度薄。
47.如權(quán)利要求38或39所述的玻璃層疊體，其中，在所述玻璃板的最外表面上隔著所述包含低折射率材料的膜層疊有所述包含高折射率材料的膜。
48.如權(quán)利要求38或39所述的玻璃層疊體，其中，所述無機(jī)膜的合計厚度為850nm～3000nm。
49.如權(quán)利要求38或39所述的玻璃層疊體，其中，所述無機(jī)膜的合計應(yīng)力值的絕對值為35MPa以下。
50.如權(quán)利要求38或39所述的玻璃層疊體，其中，所述無機(jī)膜的合計應(yīng)力值的絕對值為25MPa以下。
51.如權(quán)利要求38或39所述的玻璃層疊體，其中，所述包含高折射率材料的膜的波長632nm下的折射率為1.90以上。
52.如權(quán)利要求38或39所述的玻璃層疊體，其中，所述包含低折射率材料的膜的波長632nm下的折射率小于1.50。
53.如權(quán)利要求38或39所述的玻璃層疊體，其中，所述玻璃板為在表層具有壓應(yīng)力層的化學(xué)強(qiáng)化玻璃板。
54.如權(quán)利要求38或39所述的玻璃層疊體，其中，在所述無機(jī)膜的表面還具有防污膜。
55.如權(quán)利要求38或39所述的玻璃層疊體，其用于電子終端。
56.如權(quán)利要求38或39所述的玻璃層疊體，其用作保護(hù)玻璃。