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用于電子裝置的光發(fā)射減少膜的制作方法

文檔序號:12139006閱讀:來源:國知局
技術(shù)總結(jié)
提供了用于裝置202的屏蔽件200。在一個實施方案中,用于裝置202的屏蔽件200包含聚合物基體。屏蔽件200還可包含分散在聚合物基體內(nèi)的吸收劑1002。屏蔽件200還可使光的紫外線范圍的透射率降低至少90%,其中所述光的紫外線范圍包括380納米至400納米的范圍,并且其中屏蔽件200還使高能可見光范圍的透射率降低至少10%,其中所述高能可見光范圍包括415納米至555納米的范圍,并且其中所述屏蔽件還使紅光范圍的透射率降低至少10%,其中所述紅光范圍包括625納米至740納米的范圍。此外,屏蔽件200還可被配置成使足夠的由裝置202產(chǎn)生的光透過,使得由裝置202產(chǎn)生的圖像基本上不被屏蔽件200改變。

技術(shù)研發(fā)人員:史蒂文·D·莫;博尼·G·西蒙斯
受保護的技術(shù)使用者:健康有限責任公司
文檔號碼:201580040377
技術(shù)研發(fā)日:2015.05.22
技術(shù)公布日:2017.03.22

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