專利名稱：一種擴散爐的制作方法
技術領域：
本實用新型涉及一種擴散爐。
背景技術：
擴散爐是一種用于半導體材料處理的工藝設備，擴散爐主要用于參雜工藝，特別在晶體硅太陽能電池PN結生成過程中起關鍵性的作用，對轉換效率的提高起到?jīng)Q定性的作用。通常包括加熱爐、凈化臺及氣源組成，加熱爐帶有爐腔，爐口方向朝向凈化臺方向，在加熱爐內另設計有放置硅片的石英舟?，F(xiàn)有的擴散爐中，存在以下不足之處:1、擴散爐在裝載硅片時，會有一些粉塵、顆粒附在硅片表面，這些粉塵、顆粒將隨硅片送入到爐口內部高溫區(qū)域后，會擴散到硅片中從而影響其質量。2、擴散爐在卸載硅片時，硅片和石英舟的溫度較高，不利于人員的拿取，并且硅片出爐后，又接觸到粉塵、顆粒和不利的雜質，在較高的溫度下繼續(xù)擴散到硅片中，從而影響硅片的質量。3、擴散爐在卸載硅片時，硅片和石英舟上會附著大量擴散工藝的殘留氣體(P2O5)和廢氣(Cl2)。若遇到溫度較低的冷空氣，其中的水與P2O5生成偏磷酸、與Cl2生成鹽酸。偏磷酸和鹽酸對人體都能造成嚴重傷害，玻璃狀的偏磷酸對后續(xù)工藝產(chǎn)生不利影響，偏磷酸還易潮解生成磷酸，磷酸和鹽酸對設備儀器產(chǎn)生腐蝕，影響其使用壽命和工作性能。
發(fā)明內容本實用新型的目的在于，針對現(xiàn)有技術的不足，提供一種擴散爐，能夠全方位吹掃掉硅片上的粉塵，有效地提高擴散爐的擴散工藝，從而提高太陽能電池的光電轉換效率。本實用新型的技術方案為，一種擴散爐，包括加熱爐、凈化臺和置于加熱爐與凈化臺之間的廢氣排氣室，所述廢氣排氣室內設有用于清潔進入廢氣排氣室內硅片的吹掃機構。所述吹掃機構包括一端連接送氣單元的螺旋狀圓形管體，并在靠近硅片的圓形管體外壁上開有多個孔。所述排氣室內設有抽氣機構。圓形管體通過卡套固定在廢氣排氣室靠近凈化臺端開口的內側壁上。所述圓形管體螺旋狀直徑比圓形爐門直徑大，小孔的朝向垂直于石英舟。因為硅片是以垂直方向放在石英舟上，并從廢氣排氣室端部將硅片送入爐體內的。本實用新型通過在加熱爐爐口設置一個螺旋狀的圓形管體作為吹掃機構，從而使擴散爐在裝載硅片時，螺旋風面可以全方位的吹掃硅片上的粉塵、顆粒，這樣可以避免硅片上的粉塵、顆粒在高溫時擴散到硅片中，影響PN結、減反膜的質量；卸載硅片時，螺旋風面可以全方位的吹掃硅片上的殘留氣體，在擴散爐中可以避免硅片擴散后，硅片和石英舟上附帶的殘留氣體遇到水蒸氣發(fā)生化學反應，生成偏磷酸和鹽酸形成的污染；同時卸載硅片時可是硅片快速冷卻，可以避免硅片出爐后接觸到粉塵、顆粒和不利的雜質，在較高的溫度下繼續(xù)擴散到硅片中，從而影響硅片的質量。該吹掃機構還可用在與擴散爐同領域的PECVD設備中。

圖1為本實用新型一種實施例的結構示意圖。
具體實施方式
如圖1所示，一種擴散爐，包括加熱爐1、凈化臺8和置于加熱爐I與凈化臺8之間的廢氣排氣室7，廢氣排氣室7內設有用于清潔進入廢氣排氣室7內硅片4的吹掃機構。吹掃機構包括一端連接送氣單元的螺旋狀圓形管體5，并在靠近硅片4的圓形管體5外壁上開有多個孔6。排氣室7內設有抽氣機構，抽氣機構采用氣泵等常規(guī)抽氣設備。
權利要求1.一種擴散爐，包括加熱爐(I)、凈化臺(8 )和置于加熱爐(I)與凈化臺(8 )之間的廢氣排氣室(7)，其特征是，所述廢氣排氣室(7)內設有用于清潔進入廢氣排氣室(7)內的硅片(4)的吹掃機構。
2.根據(jù)權利要求1所述擴散爐，其特征是，所述吹掃機構包括一端連接送氣單元的螺旋狀圓形管體(5)，并在靠近硅片(4)的圓形管體(5)外壁上開有多個孔(6)。
3.根據(jù)權利要求2所述擴散爐，其特征是，所述排氣室(7)內設有抽氣機構。
專利摘要本實用新型涉及一種擴散爐，包括加熱爐、凈化臺和置于加熱爐與凈化臺之間的廢氣排氣室，所述廢氣排氣室內設有用于清潔進入廢氣排氣室內硅片的吹掃機構。該擴散爐能夠全方位吹掃掉硅片上的粉塵，有效地提高擴散爐的擴散工藝，從而提高太陽能電池的光電轉換效率。
文檔編號C30B31/16GK203159745SQ20132005808
公開日2013年8月28日 申請日期2013年2月1日 優(yōu)先權日2013年2月1日
發(fā)明者樊坤, 劉良玉, 禹慶榮, 楊彬, 張寶鋒 申請人:中國電子科技集團公司第四十八研究所