具有改進的等離子噴嘴的等離子體噴槍系統(tǒng)的制作方法
【專利摘要】提供一種用于等離子體噴槍的噴嘴以及利用這種噴嘴的等離子體噴槍系統(tǒng)。一個這種噴嘴可以包括主體，主體具有第一端、第二端、以及從第一端延伸至第二端的通道，第二端具有布置于其中的出口孔，通道適合于使得等離子氣流從第一端，穿過通道至出口孔。大于或等于50％的主體總質(zhì)量相對于主體的縱向長度分布于主體的第二端與中間點之間。
【專利說明】具有改進的等離子噴嘴的等離子體噴槍系統(tǒng)
[0001]相關(guān)申請的交叉引用
[0002]該申請要求了 2011年3月25日申請的，題為“具有增加的前向質(zhì)量的改進的等離子噴嘴設(shè)計”的美國臨時專利申請61/467，448的優(yōu)先權(quán)，其通過引用合并在此。
【背景技術(shù)】
[0003]本發(fā)明通常涉及等離子切割系統(tǒng)，尤其涉及用于這種系統(tǒng)的等離子體噴槍的噴嘴。
[0004]很多當(dāng)前行業(yè)依靠于用于建造各種結(jié)構(gòu)，例如建筑物、橋梁、起重機、車輛等的金屬的操作。由于很多金屬的強度與耐用性，已經(jīng)開發(fā)了各種各樣能夠操作這些材料的系統(tǒng)。一個這種系統(tǒng)為等離子切割系統(tǒng)，其產(chǎn)生用于切割金屬或其他導(dǎo)電材料的等離子體(來自高溫電離氣體)。通常，在等離子切割系統(tǒng)中，電弧將氣體(例如，壓縮氣)轉(zhuǎn)化為等離子體，其足夠熱，以熔解金屬工件，同時，氣體的壓力吹散熔融的金屬。典型地在等離子體噴槍中啟動電弧，并且氣體流過噴槍。如此，使用等離子體噴槍引導(dǎo)并且控制等離子切割。因此，等離子體噴槍典型地包括各種各樣的元件，例如等離子噴嘴或尖端，其將等離子氣體聚焦在收縮電弧中，使得能夠進行該引導(dǎo)與控制。當(dāng)橫跨工件拖動等離子體噴槍的尖端時，熱的等離子體沿氣矩噴嘴的路徑切割工件。因為典型地以該方式使用等離子體噴槍噴嘴，所以經(jīng)常由具有高熱與導(dǎo)電性的金屬，例如，銅加工噴嘴。不幸的是，在操作過程中，當(dāng)前的等離子體噴槍噴嘴受到相當(dāng)大的降解，并且必須在使用過程中替換噴嘴，因此增加了等離子切割過程的貨幣成本以及低效率。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]在一個實施例中，等離子體噴槍的噴嘴包括具有第一端的主體，第二端以及從第一端延伸至第二端的通道，第二端具有布置于其中的出口孔。通道使得等離子氣體穿過通道從第一端流出，并且流至出口孔。大于或等于大約50%的主體總質(zhì)量相對于主體的縱向長度分布于第二端與主體的中間點之間。
[0006]在另一個實施例中，等離子體噴槍的噴嘴包括主體，主體具有第一端以及第二端，第二端具有布置于其中的等離子氣體出口孔。從第一端至主體質(zhì)量的中心的縱向距離大于或等于大約43%的主體的縱向長度。
[0007]在另一個實施例中，等離子體噴槍的噴嘴包括主體，主體具有第一端以及第二端，第二端具有布置于其中的等離子氣體出口孔。從第一端至主體質(zhì)量的中心的縱向距離大于或等于大約48%的主體的縱向長度。
[0008]在另一個實施例中，等離子體噴槍的噴嘴包括主體，主體具有第一端、第二端、從第一端沿主體的縱向長度延伸的第一部分、從第二端沿主體的縱向長度延伸的孔部分，以及布置于第一部分與孔部分之間的中間部分，第二端具有布置于其中的等離子氣體出口孔。由通過孔部分的內(nèi)徑分開的孔部分的平均壁厚限定的開孔率大于或等于大約3.6。由通過中間部分的內(nèi)徑分開的中間部分的平均壁厚限定的中間部分比率大于或等于大約0.27。[0009]在另一個實施例中，等離子體噴槍的噴嘴包括主體，主體具有第一端、第二端、從第二端沿主體的縱向長度延伸的孔部分，以及從第一端沿主體的縱向長度延伸至孔部分的第二部分，第二端具有布置于其中的等離子氣體出口孔。由通過孔部分的內(nèi)徑分開的孔部分的平均壁厚限定的開孔率大于或等于大約3.5。
[0010]在另一個實施例中，等離子體噴槍組件包括主體與布置于主體中，并且適合于接收功率的電極，以在電極與工件之間產(chǎn)生等離子體電弧。等離子體噴槍組件還包括具有噴嘴體的噴嘴，噴嘴體具有第一端與第二端，第二端具有布置于其中的等離子氣體出口孔。從第一端至噴嘴體的質(zhì)量中心的縱向距離大于或等于大約48%的噴嘴體的縱向長度，并且電極的外表面與噴嘴的內(nèi)環(huán)形壁限定了等離子弧室。
[0011]在另一個實施例中，等離子切割系統(tǒng)包括等離子體噴槍，等離子體噴槍具有帶有主體的噴嘴，主體具有第一端與第二端，第二端具有布置于其中的等離子氣體出口孔。從第一端至主體質(zhì)量中心的縱向距離大于或等于大約48%的主體縱向長度。該系統(tǒng)還包括電源，其適合于連接至等離子體噴槍，并且向等離子體噴槍提供電流，用于生成導(dǎo)引電弧并且保持等離子切割弧。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0012]當(dāng)參照附圖閱讀以下詳細說明時，本發(fā)明的這些以及其他特點、方面、以及優(yōu)勢將變得更好理解，貫穿附圖，相同的特征表示相同的零部件，其中:
[0013]圖1為根據(jù)本發(fā)明的實施例的等離子切割系統(tǒng)的透視圖；
[0014]圖2為靠近根據(jù)本發(fā)明的實施例的噴嘴出口孔處具有增加的質(zhì)量集中的等離子體噴槍噴嘴的實施例的橫截面視圖；
[0015]圖3為具有根據(jù)本發(fā)明的實施例的無削尖端部的圖2的等離子體噴槍噴嘴的實施例的橫截面視圖；以及
[0016]圖4為具有根據(jù)本發(fā)明的實施例的基本恒定直徑的內(nèi)環(huán)形壁的圖2的等離子體噴槍噴嘴的實施例的橫截面視圖。
【具體實施方式】
[0017]如以下更加詳細的描述，在此提供等離子體噴槍噴嘴的實施例，該噴嘴靠近噴嘴的出口孔處具有增加的質(zhì)量集中。例如，在特定實施例中，噴嘴可以包括具有朝向噴嘴的出口孔部分分配的，大于或等于大約50%的主體總質(zhì)量的主體。當(dāng)前公開的實施例的前述特征可以提供超過傳統(tǒng)系統(tǒng)的各種優(yōu)勢，傳統(tǒng)系統(tǒng)不包括出口孔附近的增加的質(zhì)量集中。例如，當(dāng)前期望的實施例可以增加噴嘴的局部熱容量，同時降低或消除操作過程中的噴嘴的過熱可能性。也就是說，在等離子切割操作中使用時，可以將噴嘴的正面暴露在由等離子體電弧引起的高溫，以及切割的熔化材料的回吹。通過圍繞出口孔在噴嘴的前部集中主體質(zhì)量，當(dāng)前公開的噴嘴的實施例對由電弧造成的磨損更加魯棒與抵抗，并且比傳統(tǒng)設(shè)計更加噴濺。
[0018]現(xiàn)參照附圖，圖1為示例了便攜式等離子切割系統(tǒng)10的實施例的透視圖。示例的等離子切割系統(tǒng)10包括噴槍供電單元12，其分別經(jīng)由噴槍電纜15與工件電纜17連接至等離子體噴槍14與工件夾16。如以下參照圖2-4進一步描述的，等離子體噴槍14可以包括各種零部件，其提供改進的性能與耐久性以及更長的使用壽命。例如，等離子體噴槍14可以包括噴嘴19，其能夠在等離子切割過程中將等離子氣體聚焦于收縮電弧中。再則，值得注意的是，通過集中出口孔附近的等離子噴嘴的質(zhì)量(即，在操作過程中更加靠近工件)，相比于傳統(tǒng)設(shè)計，可以實現(xiàn)多種改進。
[0019]噴槍供電單元12可以經(jīng)由電力電纜18連接至電源(例如，電網(wǎng)或電機驅(qū)動的發(fā)電機)。如以下進一步描述的，電源可以為噴槍14提供電流，用于啟動，并產(chǎn)生導(dǎo)引電弧，并且用于保持等離子與切割電弧。例如，供電單元12可以配置成提供合適的電壓與電流，以產(chǎn)生起始于單元12的電路，該電路沿電纜15至噴槍14，橫跨噴槍14與工件之間的間隙(例如，電弧)，
[0020]穿過工件至夾具16，穿過電纜17返回至單元12。
[0021]在示例的實施例中，供電單元12包括外殼20，其限定出一般封閉的容積，以支撐各種電路、傳感器零件、控制零件、以及供氣零件(例如，空氣壓縮機)。例如,系統(tǒng)10可以包括傳感器與控制器，以考慮各種條件而調(diào)節(jié)供電單元10，例如，高度、溫度、壓力等。示例的系統(tǒng)10還可以包括外殼20頂側(cè)上的手柄22，以使得系統(tǒng)10的運輸更加容易。示例的系統(tǒng)10還可以包括鎖止機構(gòu)24，其可以固定噴槍14、電纜17、夾具16和/或電纜18。外殼20還可以包括通風(fēng)口 28，以釋放系統(tǒng)10內(nèi)側(cè)的熱量和/或壓力。值得注意的是，在其他實施例中，另外的通風(fēng)口可以位于外殼20的其他面板上。
[0022]在示例的系統(tǒng)10中，控制面板38包含在供電單元12的一端?？刂泼姘?8可以包括各種控制輸入、指示器、顯示器、電輸出、出氣量等。在實施例中，用戶輸入40可以包括按鈕、旋鈕或開關(guān)，其配置成選擇操作模式(例如，等離子切割、圓鑿等)、通電/斷電、輸出電流水平、氣體(例如,空氣)流速、氣體(例如,空氣)壓力、氣體類型、工件類型、控制類型(例如，手動或自動反饋控制)、或其組合。控制面板34還可以包括各種指示器42，以提供用戶反饋。例如，指示器42可以包括一個或多個發(fā)光二極管(LED)和/或液晶顯示器(LCD)，以顯示開啟/關(guān)閉狀態(tài)、電流水平、電壓水平、氣體(例如，空氣)壓力、氣體(例如，空氣)流、環(huán)境條件(例如，高度、溫度、壓力等)、或任意其他參數(shù)。此外，指示器42可以包括LED或LCD，如果系統(tǒng)10存在問題，則其顯示問題或警告指示?？刂泼姘?8的實施例可以包括任意數(shù)量的輸入與輸出，例如焊接方法、空氣壓縮機設(shè)置、油壓、油溫、以及系統(tǒng)功率。
[0023]進一步，用戶輸出40與指示器42可以電連接至控制電路，并且使得用戶設(shè)置與監(jiān)控各種系統(tǒng)10的參數(shù)。例如，指示器42可以顯示環(huán)境條件(例如，高度、溫度、壓力等)，其提示用戶手動調(diào)節(jié)電流、電壓、氣體流速、氣壓、或其他操作參數(shù)、或其組合。
[0024]等離子體噴槍14包括手柄44與具有防護裝置的觸發(fā)器46以及噴嘴19，其可以符合各種特定于實現(xiàn)的零件，如以下參照圖2-4描述的。夾具16包括具有示例的手柄50的導(dǎo)電材料夾緊部分48。電纜18包括用于連接至電源的插頭52，以及壁式插座或電機驅(qū)動的發(fā)電機。插頭52可以配置成與各種插座或出口一起工作，并且系統(tǒng)10可以接收不同的電源，例如AC50/60Hz、400Hz、單相或三相120V、230V、400V、460V、575V、這些電壓之間的任意電壓、超過上限電壓的電壓、在下限電壓之下的電壓等。
[0025]值得注意的是，示例的等離子切割系統(tǒng)10僅是例子，在其他實施例中，系統(tǒng)10受到各種特定于實現(xiàn)的修改，如本領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)該理解的。例如，在某些實施例中，供電單元12可以配置成固定的，而不是便攜式的單元。此外，控制面板38可以包括更少或額外的按鈕、旋鈕等，如給定應(yīng)用的需求所制定的。實際上，目前預(yù)期的是，此處所示并且描述的等離子體噴槍噴嘴能夠與和任意等離子切割系統(tǒng)相關(guān)聯(lián)的任意等離子切割噴槍一起使用。
[0026]圖2為具有根據(jù)目前公開的實施例的改進的質(zhì)量分配的等離子體噴槍噴嘴19的實施例的橫截面視圖。如示例的，噴嘴19包括具有第一端62與第二端64的主體。如所示的，出口孔66布置于主體60的第二端64中，其具有錐形邊緣67。內(nèi)部通道68從第一端62延伸至第二端64。在示例的實施例中，噴嘴19的內(nèi)環(huán)形壁70限定出一系列沿主體60的縱向長度72的部分，其具有由中點長度75限定的中點73。
[0027]特別地，示例的主體60包括靠近第一端62，并且包含在第一端部78中的部分74、中間部分76、以及靠近第二端64的孔部分77。通過孔部分長度87限定的孔部分77的長度，通過中間部分長度89限定的中間部分76的長度、以及由第一端部長度91限定的第一端部78的長度。進一步，基本上垂直的環(huán)形臺階80包含在第一端部78中，同時，將嵌入式環(huán)形或成角度的臺階82設(shè)置在中間部分76中。如此，在示例的實施例中，前述結(jié)構(gòu)限定出主體60的第一內(nèi)徑84、第二內(nèi)徑86、以及第三內(nèi)徑88。
[0028]如上面看到的，在特定實施例中，提供的等離子體噴槍噴嘴19可以包括一個或多個零件，其導(dǎo)致靠近噴嘴主體60的出口孔66質(zhì)量集中的增加，并且因此，改進了在等離子切割操作中使用時對噴嘴19的熱的魯棒性與電阻率。特別地，在一個實施例中，相比于傳統(tǒng)設(shè)計，可以改進主體60的平均壁厚與特定部分的內(nèi)徑的比率。更特別地，孔部分77的平均壁厚可以通過由孔長度87分開的圖2中的陰影部分97指示的橫截面積給出。孔部分77的該平均壁厚隨后可以由孔部分77的內(nèi)徑分開，以給出平均壁厚與內(nèi)徑的開孔率。在一個實施例中，開孔率可以大于或等于大約3.25。在另一實施例中，開孔率可以大于或等于大約
3.6。進一步，在其他實施例中，開孔率可以大于或等于大約3.25與大約4之間。
[0029]相似地，中間部分76的平均壁厚可以通過由中間部分長度89分開的圖2中的陰影部分99指示的橫截面積給出。中間部分76的該平均壁厚隨后可以由中間部分76的內(nèi)徑分開，以給出平均壁厚與內(nèi)徑的中間部分比率。在一個實施例中，中間部分比率大于或等于大約0.25。在另一實施例中，開孔率可以大于或等于大約0.27。
[0030]如圖2中的虛線93所指示的，噴嘴19包括質(zhì)心，其位于沿噴嘴主體60的長度的72的質(zhì)量中心93。因此，從主體60的第一端62至主體60的質(zhì)量中心93限定質(zhì)量中心距離95。在特定實施例中，質(zhì)量中心93可以位于縱向中點73或其附近。例如，在一個實施例中，質(zhì)量中心距離95可以大于或等于主體長度72的大約43 %。在另一實施例中，質(zhì)量中心距離95可以大于或等于主體長度72的大約48%。進一步，在其他實施例中，質(zhì)量中心距離95可以大于或等于主體長度72的大約45 %與大約55 %之間。通過朝向第一端62，而不是第二端64移動質(zhì)量中心93，目前公開的實施例可以增加圍繞出口孔66的噴嘴的局部熱容量，同時減少或消除操作過程中噴嘴19過熱的可能性。也就是說，通過在噴嘴主體的前部以及圍繞出口孔66集中主體的質(zhì)量，噴嘴19目前公開的實施例可以比傳統(tǒng)設(shè)計更加魯棒，并且更加抵抗來自電弧與噴濺的磨損。
[0031]在某些實施例中，大于或等于大約50%的噴嘴主體60總質(zhì)量相對于噴嘴主體60的縱向長度72分布于第二端64與主體60的中間點73之間。如此，在這些實施例中，環(huán)繞出口孔66的材料的厚度可以相比于傳統(tǒng)噴嘴增加。如上提及的，在正常等離子切割事件以及將噴嘴19用作散熱器的瞬時事件過程中，前述特征可以提供各種優(yōu)勢。例如，在導(dǎo)引電弧過程中，噴嘴19可以用作臨時陽極，為了完成次級電路，電弧連接至臨時陽極。因為，陽極在切割過程中承受來自電弧的大部分熱量，具有大于50%的主體質(zhì)量分布在噴嘴19的第二端64附近，導(dǎo)引電弧與之固定，可以增加噴嘴19的壽命。
[0032]進一步，在反向傳遞事件過程中，當(dāng)噴嘴19可以進入電路，以變成臨時陽極時，電源14將減少輸出電流，以導(dǎo)引電流水平，降低或防止將要發(fā)生在噴嘴19上的損害的可能性。然而，在特定情況中，電源可以不改變切割電流，以足夠快地導(dǎo)引，并且噴嘴19可以因此不得不在一定時間周期內(nèi)導(dǎo)通大于導(dǎo)引電流量的電流。在這種情況中，主體60的質(zhì)量在第二端64附近的集中可以使得更好地吸收并且耗散在這些瞬時過電流事件過程中產(chǎn)生的熱，這種過電流事件典型地在反向傳遞事件過程中發(fā)生。
[0033]目前預(yù)期的等離子體噴槍噴嘴19的實施例可以由各種類型合適的材料制成。例如，噴嘴19可以局部或全部形成于金屬材料，例如銅、或任意其他所需的導(dǎo)電材料。進一步，此處描述的噴嘴19的實施例可以是一次性的，而不是重復(fù)使用的，并且同樣的，可以配置成等離子體噴槍組件的消耗元件。
[0034]圖3與4示例了圖2中所示的等離子體噴槍噴嘴19的另外的實施例。特別地，圖3示例了具有靠近主體60的第二端64的非錐形或非帶角邊緣90的噴嘴19的實施例的橫截面視圖。也就是說，相比于圖2的實施例，在該實施例中，圍繞出口孔66集中了額外的主體質(zhì)量。再則，大于或等于大約50%的噴嘴主體60總質(zhì)量相對于噴嘴主體60的縱向長度72分布于相對于第二端64與主體60的中間點73之間。
[0035]在圖4的示例的實施例中，噴嘴主體60包括具有孔長度87的孔部分77與具有部分長度105的部分94，但不包括階梯式部分82。如此，在該實施例中，主體60僅包括兩個內(nèi)徑84與86，其替代圖2與3的實施例中的三個內(nèi)徑。如所示例的，在該實施例中，部分76與78為單個部分94。再則，孔部分77的平均壁厚可以由孔部分77的內(nèi)徑分開，以給出平均壁厚與內(nèi)徑的開孔率，并且開孔率可以大于或等于大約3.6。值得注意的是，當(dāng)在圖2與3的實施例中，電極可以由階梯式部分82容納，在圖4的實施例中，可以提供可替換的容納機構(gòu)，并且電極可以例如靠在主體60的部分94中。
[0036]此處僅已經(jīng)示例并且描述了本發(fā)明的特定特征，本領(lǐng)域技術(shù)人員將作出很多修改與改變。因此，應(yīng)該理解的是，所附權(quán)利要求旨在覆蓋落入本發(fā)明真實精神范圍內(nèi)的所有這些修改與改變。
【權(quán)利要求】
1.一種等離子體噴槍的噴嘴，包括: 主體，其包括第一端、第二端，以及從所述第一端延伸至所述第二端的通道，所述第二端具有布置于其中的出口孔，所述通道配置成使得等離子氣流從所述第一端，穿過所述通道至所述出口孔；并且 其中，大于或等于大約50%的所述主體總質(zhì)量相對于所述主體的縱向長度分布于所述第二端部與所述主體的中間點之間。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的噴嘴,其中,所述主體包括金屬材料。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的噴嘴，其中，所述金屬材料包括銅。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的噴嘴，其中，所述通道包括具有第一直徑的第一部分與具有小于所述第一直徑的第二直徑的第二部分，并且其中，所述第一部分與所述第二部分經(jīng)由階梯式部分連接。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的噴嘴，其中，所述主體包括具有階梯式直徑的環(huán)形內(nèi)壁。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的噴嘴，其中，所述主體包括靠近所述第一端的第一部分，靠近所述第二端的第二部分，以及在所述第一部分與所述第二部分之間延伸，并且經(jīng)由基本上垂直的臺階連接至所述第一部分，經(jīng)由帶角度的臺階連接至所述第二部分的中間部分。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的噴嘴，其中，大于或等于大約25%的所述主體總質(zhì)量貫穿所述第二部分分布。
8.一種等離子體噴槍的噴嘴，包括: 主體，其包括第一端與第二端，所述第二端具有布置于其中的等離子氣體出口孔，其中，從所述主體的所述第一端至質(zhì)量中心的縱向距離大于或等于大約43%的所述主體的縱向長度。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的噴嘴，其中，從所述主體的所述第一端至質(zhì)量中心的所述縱向距離大于或等于大約48%的所述主體的縱向長度。
10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的噴嘴，其中，所述主體包括銅。
11.一種等離子體噴槍的噴嘴，包括: 主體，其包括第一端以及第二端，所述第二端具有布置于其中的等離子氣體出口孔，其中，從所述主體的所述第一端至質(zhì)量中心的縱向距離大于或等于大約48%的所述主體的縱向長度。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的噴嘴，其中，所述主體包括靠近所述第一端的第一部分，靠近所述第二端的孔部分，以及在所述第一部分與所述孔部分之間延伸的中間部分，并且其中，所述孔部分的平均壁厚與所述孔部分的內(nèi)徑的比率大于或等于大約3.6。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的噴嘴，其中，所述中間部分的平均壁厚與所述中間部分的內(nèi)徑的比率大于或等于大約0.27。
14.一種等離子體噴槍的噴嘴，包括: 主體，其包括第一端，第二端，從所述第一端沿所述主體的縱向長度延伸的第一部分，從所述第二端沿所述主體的縱向長度延伸的孔部分，以及布置于所述第一部分與所述孔部分之間的中間部分，所述第二端具有布置于其中的等離子氣體出口孔； 其中，通過由所述孔部分的內(nèi)徑分開的所述孔部分的平均壁厚限定的開孔率大于或等于大約3.6，并且通過由所述中間部分的內(nèi)徑分開的所述中間部分的平均壁厚限定的中間部分比率大于或等于大約0.27。
15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的噴嘴，其中，所述孔部分包括環(huán)形錐形邊緣。
16.根據(jù)權(quán)利要求14所述的噴嘴，其中， 從所述主體的所述第一端至質(zhì)量中心的縱向距離大于或等于大約48%的所述主體的所述縱向長度。
17.一種等離子體噴槍的噴嘴，包括: 主體，其包括第一端，第二端，從所述第二端沿所述主體的縱向長度延伸的孔部分，從所述第一端沿所述主體的縱向長度延伸的第二部分，所述第二端具有布置于其中的等離子氣體出口孔； 其中，通過由所述孔部分的內(nèi)徑分開的所述孔部分的平均壁厚限定的開孔率大于或等于大約3.5。
18.根據(jù)權(quán)利要求17所述的噴嘴，其中，所述主體包括銅。
19.一種等離子體噴槍組件，包括: 主體； 電極，其布置于所述主體中，并且配置成接收功率，以使得在所述電極與所述工件之間產(chǎn)生等離子電弧；以及 噴嘴，其包括噴嘴主體，包括第一端與第二端，所述第二端具有布置于其中的等離子氣體出口孔，其中，從所述主體的所述第一端至質(zhì)量中心的縱向距離大于或等于大約48%的所述噴嘴主體的縱向長度，并且其中，所述電極的外表面與所述噴嘴的內(nèi)環(huán)形壁限定出等離子電弧腔。
20.根據(jù)權(quán)利要求19所述的組件，其中，所述噴嘴的所述內(nèi)環(huán)形壁包括嵌入式的階梯式部分，所述電極的所述外表面包括第二階梯式部分，其與所述第一階梯式部分互補，并且其中，所述嵌入式階梯式部分配置成容納所述第二階梯式部分。
21.—種等尚子切割系統(tǒng),包括: 等離子體噴槍，其包括噴嘴，所述噴嘴包括主體，所述主體具有第一端與第二端，所述第二端具有布置于其中的等離子氣體出口孔，其中，從所述主體的所述第一端至質(zhì)量中心的縱向距離大于或等于大約48%的所述主體的縱向長度；以及 電源，其配置成連接至所述等離子體噴槍，并且向所述等離子體噴槍提供電流，用于產(chǎn)生導(dǎo)引電弧，并且用于保持等離子切割電弧。
22.根據(jù)權(quán)利要求21所述的系統(tǒng)，其中，所述等離子體噴槍包括布置于所述噴嘴的所述主體中的電極，并且其中，所述電極的外表面與所述噴嘴的內(nèi)環(huán)形壁現(xiàn)定出等離子電弧腔。
【文檔編號】H05H1/34GK103563491SQ201280025321
【公開日】2014年2月5日 申請日期:2012年3月23日 優(yōu)先權(quán)日:2011年3月25日
【發(fā)明者】內(nèi)森·杰拉爾德·雷特利茲 申請人:伊利諾斯工具制品有限公司