專利名稱：蝕刻裝置及使用該蝕刻裝置蝕刻基板的方法
技術領域：
本發(fā)明涉及電路板制造技術，尤其涉及一種蝕刻裝置及使用該蝕刻裝置蝕刻基板的方法。
背景技術：
在信息、通訊及消費性電子產業(yè)中，電路板是所有電子產品不可或缺的基本構成要件。隨著電子產品往小型化、高速化方向發(fā)展，電路板也從單面電路板往雙面電路板、多層電路板方向發(fā)展，請參見iTakahashi, A.等人于1992年發(fā)表于IEEE Trans, on Components, Packaging, and Manufacturing Technology 白勺 JC "High density multilayer printed circuit board for HITACM 880，，。單面電路板、雙面電路板及多層電路板均具有用于傳輸信號的導電線路。導電線路一般通過在基板表面噴淋蝕刻液蝕刻銅箔形成。但是，在蝕刻過程中，在蝕刻銅箔表面而在銅箔表面形成凹陷之后，反應后的蝕刻液會易于聚集于這些凹陷之中，從而阻止未反應的銅蝕刻液進入這些凹陷之中以繼續(xù)向下蝕刻凹陷下的銅箔，造成導電線路的蝕刻不足。 另外，這些反應后的蝕刻液長期存積于凹陷之中，可能會可蝕凹陷側面的銅箔，造成導電線路側面蝕刻過度而斷線。這種現象稱為“水池效應”，水池效應會嚴重影響導電線路的制作， 造成導電線路的蝕刻不足或蝕刻過度，這兩個問題都影響了電路板的制作良率。因此，有必要提供一種蝕刻裝置及采用該蝕刻裝置蝕刻基板的方法，以可制作具有較高制作良率的電路板。

發(fā)明內容
以下將以實施例說明一種蝕刻裝置及采用該蝕刻裝置蝕刻基板的方法。一種蝕刻裝置，包括傳送機構、噴淋機構、吸液機構及控制器。傳送機構包括上傳送輥組和與所述上傳送輥組相對的下傳送輥組，所述傳送機構用于傳送位于上傳送輥組和下傳送輥組之間的基板。噴淋機構包括一個第一噴液泵及與第一噴液泵連通的多個上噴嘴。所述多個上噴嘴位于上傳送輥組上方，用于向基板表面噴淋蝕刻液以蝕刻基板。所述第一噴液泵具有開啟狀態(tài)和關閉狀態(tài)，在開啟狀態(tài)下第一噴液泵用于向多個上噴嘴輸送蝕刻液，在關閉狀態(tài)下第一噴液泵停止向多個上噴嘴輸送蝕刻液。吸液機構包括一個第一吸液泵及與第一吸液泵連通的多個上吸嘴。所述多個上吸嘴與下傳送輥組相對，用于靠近基板。 所述第一吸液泵也具有開啟狀態(tài)和關閉狀態(tài)，在開啟狀態(tài)下第一吸液泵使得多個上吸嘴吸取基板表面的蝕刻液，在關閉狀態(tài)下使得多個上吸嘴停止吸取基板表面的蝕刻液。所述第一噴液泵和第一吸液泵均與控制器信號連接，所述控制器用于控制第一噴液泵處于開啟狀態(tài)時第一吸液泵處于關閉狀態(tài)，第一噴液泵處于關閉狀態(tài)時第一吸液泵處于開啟狀態(tài)，并控制第一噴液泵處于開啟狀態(tài)的時間等于第一噴液泵處于關閉狀態(tài)的時間。—種蝕刻基板的方法，包括步驟提供基板及如上所述的蝕刻裝置；將基板放置于上傳送輥組和下傳送輥組之間進行傳送；以及控制器控制第一噴液泵處于開啟狀態(tài)，以使得多個上噴嘴將蝕刻液噴淋至基板表面，在第一噴液泵處于開啟狀態(tài)額定時間后控制器控制第一噴液泵處于關閉狀態(tài)，并控制吸液機構的第一吸液泵處于開啟狀態(tài)額定時間，以使得多個上吸嘴吸取基板表面的蝕刻液。本技術方案的蝕刻裝置中，控制器可以開啟和關閉第一噴液泵和第一吸液泵。本技術方案的蝕刻基板的方法中，控制器控制第一噴液泵開啟定額時間后使得第一吸液泵開啟定額時間。如此，即可使得多個上噴嘴噴淋在基板表面的蝕刻液均基本可以被吸液機構的多個上吸嘴吸取干凈。從而，不會有蝕刻后的蝕刻液殘留于基板表面造成“水池效應”，也就不會對基板表面銅箔的蝕刻造成影響。從而在蝕刻基板的銅箔以制作導電線路的過程中可以具有較高的制作良率。


圖1為本技術方案實施例提供的蝕刻裝置的正視示意圖。圖2為本技術方案實施例提供的蝕刻裝置的上傳送輥組、上噴淋機構、上吸液機構的俯視示意圖。圖3為本技術方案實施例提供的蝕刻裝置蝕刻基板時的示意圖。主要元件符號說明蝕刻裝置10蝕亥Ij 槽100傳送機構12噴淋機構14吸液機構16控制器18上傳送輥組122下傳送輥組124上輔助輥組126下輔助輥組128上傳送輥123上傳送軸1230上傳送滾輪1231下傳送輥125下傳送軸1250下傳送滾輪1251壓制輥127支撐輥129上噴淋系統(tǒng)140第一噴液泵141第一輸送管142上噴管143上噴嘴144
下噴淋系統(tǒng)145第二噴液泵146第二輸送管147下噴管148下噴嘴149上吸液系統(tǒng)160第一吸液泵161第一傳輸管162多個上吸嘴163下吸液系統(tǒng)165第二吸液泵166第二傳輸管167下吸嘴168基板200上表面201下表面20具體實施例方式下面將結合附圖及實施例，對本技術方案提供的蝕刻裝置及基板蝕刻方法作進一步的詳細說明。請一并參閱圖1及圖2，本技術方案實施例提供的蝕刻裝置10用于對基板進行蝕亥|J，以形成線路。所述蝕刻裝置10包括蝕刻槽100、傳送機構12、噴淋機構14、吸液機構16 及控制器18。所述蝕刻槽100用于儲存蝕刻液，其位于傳送機構12下方，并與噴淋機構14 相連通。所述傳送機構12包括上傳送輥組122、下傳送輥組124、上輔助輥組1 及下輔助輥組128。所述上傳送輥組122與下傳送輥組IM相對，用于在驅動機構帶動下傳送位于上傳送輥組122與下傳送輥組IM之間的基板。所述上輔助輥組1 和下輔助輥組1 相對，上輔助輥組1 用于壓制基板并用于導流，下輔助輥組1 用于支撐基板，也用于導流。所述上傳送輥組122包括多個平行排列的上傳送輥123，每個上傳送輥123均包括一個上傳送軸1230和多個間隔安裝于上傳送軸1230的上傳送滾輪1231。在本實施例中， 多個上傳送輥123兩兩成組地間隔排列，也就是說，兩個上傳送輥123相靠近，組成一個小組，并與另一個小組的兩個上傳送輥123間隔一段距離。所述下傳送輥組IM包括多個平行排列的下傳送輥125，每個下傳送輥125均包括一個下傳送軸1250和多個間隔安裝于下傳送軸1250的下傳送滾輪1251。所述下傳送輥組IM中，可以是每個下傳送輥125均與一個上傳送輥123相對，也可以是僅部分的下傳送輥125與部分的上傳送輥123相對，其它部分的下傳送輥125與其它部分的上傳送輥123則與噴淋機構14或吸液機構16相對。在本實施例中，多個下傳送輥125也是兩兩成組地間隔排列，也就是說，兩個下傳送輥125相靠近，組成一個小組，并與另一個小組的兩個下傳送輥125間隔一段距離。并且，每個小組的兩個下傳送輥125中，一個下傳送輥125與一個上傳送輥123相對，另一個下傳送輥125與噴淋機構14或吸液機構16相對。上傳送滾輪1231的直徑基本等于下傳送滾輪1251的直徑，一般為30毫米左右。 上傳送軸1230和下傳送軸1250可以由同一個驅動裝置帶動轉動，也可以由多個驅動裝置分別帶動轉動，從而帶動上傳送滾輪1231和下傳送滾輪1251轉動以傳送位于上傳送滾輪 1231和下傳送滾輪1251之間基板。需要說明的是，上傳送軸1230和下傳送軸1250的轉動方向是相反的，并且，上傳送滾輪1231和下傳送滾輪1251轉動的線速度是相同的?；宓膫魉退俣扰c上傳送軸1230、下傳送軸1250的轉速相關，一般來說，可以調節(jié)上傳送軸1230、 下傳送軸1250的轉速以使基板的傳送速度為3米每分鐘。所述上輔助輥組126包括多個平行排列的壓制輥127，所述下輔助輥組128包括多個平行排列的支撐輥129。所述上輔助輥組126中，每個壓制輥127均可以與一個支撐輥 129相對，也可以是部分的壓制輥127與部分的支撐輥129相對，還可以是壓制輥127均與噴淋機構14或與下傳送輥組124相對。在本實施例中，多個壓制輥127也是兩兩成組的間隔排列，也就是說，兩個壓制輥127相鄰，構成一個小組，且該小組的兩個壓制輥127位于四個上傳送輥123構成的兩個小組之間?？梢哉f，每個壓制輥127均位于相鄰的兩個上傳送輥123之間。多個支撐輥129也是兩兩成組的間隔排列，也就是說，兩個支撐輥129相鄰，構成一個小組，且該小組的兩個支撐輥129位于四個下傳送輥125構成的兩個小組之間?？梢哉f，每個支撐輥129均位于相鄰的兩個下傳送輥125之間。壓制輥127和支撐輥129均為實心的圓輥，其直徑均為15毫米左右，即為上傳送滾輪1231的直徑的一半。壓制輥127 和支撐輥129可以由帶動上傳送輥組122和下傳送輥組124的驅動裝置帶動轉動，也可以由另外的驅動裝置帶動轉動。本領域技術人員可以理解，傳送機構12還可以為其它結構，僅需可以實現傳送基板即可。例如，其可以為由驅動馬達帶動皮帶傳送基板的結構，也可以為包括如上所述上傳送輥組122和下傳送輥組124的結構，而并不需包括上輔助輥組126和下輔助輥組128。并且，即使傳送機構12為如上所述的包括上傳送輥組122、下傳送輥組124、上輔助輥組126 及下輔助輥組128的結構，但多個上傳送輥123、多個下傳送輥125、多個壓制輥127及多個支撐輥129的排列及結構均可以有其它變形。例如，多個上傳送輥123、多個下傳送輥125、 多個壓制輥127及多個支撐輥129均可以等間距排列，或者為其它排列方式。所述噴淋機構14包括相對的上噴淋系統(tǒng)140和下噴淋系統(tǒng)145。所述上噴淋系統(tǒng)140包括一個第一噴液泵141、一個第一輸送管142、多個上噴管 143以及多個上噴嘴144。所述第一噴液泵141浸置于蝕刻槽100儲存的蝕刻液中。第一噴液泵141具有開啟狀態(tài)和關閉狀態(tài)。在開啟狀態(tài)下，第一噴液泵141向第一輸送管142 輸送蝕刻液；在關閉狀態(tài)下，第一噴液泵141停止向第一輸送管142輸送蝕刻液。第一輸送管142連接于第一噴液泵141和多個上噴管143之間，也就是說，每個上噴管143均通過第一輸送管142與第一噴液泵141相連通。多個上噴管143彼此平行地排列于上傳送輥123 上方，且基本平行于上傳送輥123。在本實施例中，多個上噴管143等間距地安裝于第一輸送管142上，每相鄰兩個上噴管143之間的距離約為200毫米。每個上噴管143上均等間距安裝有多個上噴嘴144。一般來說，每個上噴管143上安裝的上噴嘴144的數量為6個至10個，例如為8個。多個上噴嘴144朝向上傳送輥123，用于向傳送機構12傳送的基板噴淋蝕刻液。上噴嘴144與下傳送輥125的間距大于上傳送輥123的直徑，例如可以為180毫米左右。所述下噴淋系統(tǒng)145包括一個第二噴液泵146、一個第二輸送管147、多個下噴管 148以及多個下噴嘴149。所述第二噴液泵146浸置于蝕刻槽100儲存的蝕刻液中。第二噴液泵146具有開啟狀態(tài)和關閉狀態(tài)。在開啟狀態(tài)下，第二噴液泵146向第二輸送管147輸送蝕刻液；在關閉狀態(tài)下，第二噴液泵146停止向第二輸送管147輸送蝕刻液。第二輸送管 147連接于第二噴液泵146和多個下噴管148之間，也就是說，每個下噴管148均通過第二輸送管147與第二噴液泵146相連通。多個下噴管148彼此平行排列地位于下傳送輥125 下方，且基本平行于下傳送輥125。在本實施例中，多個下噴管148等間距地安裝于第二輸送管147上，每相鄰兩個下噴管148之間的距離約為200毫米。每個下噴管148上均等間距安裝有多個下噴嘴149，多個下噴嘴149朝向下傳送輥125，用于向傳送機構12傳送的基板噴淋蝕刻液。下噴嘴149與上傳送輥123的間距大于下傳送輥125的直徑，例如可以為 180毫米。或者可以說，上噴嘴144與下噴嘴149之間的間距大于上傳送輥123的直徑與下傳送輥125的直徑的加和，在本實施例中，上噴嘴144與下噴嘴149的間距約為360毫米。第一噴液泵141和第二噴液泵146可以為加壓泵。本領域技術人員可以理解，所述噴淋機構14也可以為其它的結構，僅需可以實現對基板表面的噴淋即可。例如，噴淋機構14可以為包括第一輸送管142、與第一輸送管142連通的第二輸送管147、一個安裝于第一輸送管142或第二輸送管147的噴液泵、多個安裝于第一輸送管142的多個上噴嘴144 以及多個安裝于第二輸送管147的多個下噴嘴149的結構，噴液泵可以同時向多個上噴嘴 144和多個下噴嘴149輸送蝕刻液。除包括一個噴液泵和兩個噴液泵外，噴淋機構14還可以包括三個以上同時向多個上噴嘴144和多個下噴嘴149輸送蝕刻液的噴液泵。所述吸液機構16包括相對的上吸液系統(tǒng)160和下吸液系統(tǒng)165。所述上吸液系統(tǒng)160包括一個第一吸液泵161、一個第一傳輸管162以及多個上吸嘴163。多個上吸嘴163相互平行地安裝于第一傳輸管162，且每個上吸嘴163均位于下傳送輥125上方，且靠近下傳送輥125。在本實施例中，多個上吸嘴163兩兩成組地安裝于第一傳輸管162，且每兩個成組的上吸嘴163均設置于相鄰的兩個上噴管143之間，且位于兩個構成小組的壓制輥127之間?？梢哉f，每個上吸嘴163均位于兩個壓制輥127之間。每個上吸嘴163均呈長條狀，均具有一個沿其長度方向開設的長條形的開口。每個上吸嘴163 均基本平行于下傳送輥125設置，且其開口靠近下傳送輥125，也就是說，靠近傳送機構12 傳送的基板。上吸嘴163的橫截面形狀可以為倒梯形，其最大寬度一般為10毫米左右。所述第一吸液泵161安裝于第一傳輸管162。第一吸液泵161具有開啟狀態(tài)和關閉狀態(tài)。在開啟狀態(tài)下，第一吸液泵161降低第一傳輸管162及多個上吸嘴163內的壓強，從而使得多個上吸嘴163的開口可以吸取基板表面的蝕刻液。在關閉狀態(tài)下，第一吸液泵161不再降低第一傳輸管162及多個上吸嘴163內的壓強，從而使得多個上吸嘴163的開口不再吸取基板表面的蝕刻液。所述下吸液系統(tǒng)165包括一個第二吸液泵166、一個第二傳輸管167以及多個下吸嘴168。多個下吸嘴168相互平行地安裝于第二傳輸管167，且每個下吸嘴168均位于上傳送輥123下方，且靠近上傳送輥123。在本實施例中，多個下吸嘴168兩兩成組地安裝于第二傳輸管167，且每兩個成組的下吸嘴168均設置于相鄰的兩個下噴管148之間，且位于兩個構成小組的支撐輥1 之間。可以說，每個下吸嘴168均位于兩個支撐輥1 之間。每個下吸嘴168均呈長條狀，均具有一個沿其長度方向開設的長條形的開口。每個下吸嘴168 均基本平行于上傳送輥123設置，且其開口靠近上傳送輥123，也就是說，靠近傳送機構12 傳送的基板。下吸嘴168的橫截面形狀可以為倒梯形，其最大寬度一般為10毫米左右。所述第二吸液泵166安裝于第二傳輸管167。第二吸液泵166具有開啟狀態(tài)和關閉狀態(tài)。在開啟狀態(tài)下，第二吸液泵166降低第二傳輸管167及多個下吸嘴168內的壓強，從而使得多個下吸嘴168的開口可以吸取基板表面的蝕刻液。在關閉狀態(tài)下，第二吸液泵166不再降低第二傳輸管167及多個下吸嘴168內的壓強，從而使得多個下吸嘴168的開口不再吸取基板表面的蝕刻液。由于長條狀的壓制輥127可以引導基板表面的蝕刻液聚集成長條狀，也就是說壓制輥127具有導流作用，從而可以有利于位于兩個壓制輥127之間的上吸嘴163對基板表面的蝕刻液的吸取。同樣地，位于兩個支撐輥129之間的下吸嘴168也可以很方便地吸取基板表面的蝕刻液。并且，由于上吸液系統(tǒng)160和下吸液系統(tǒng)165相對設置，上吸嘴163對基板向上的吸力與下吸嘴168對基板向下的吸力平衡，從而上吸嘴163和下吸嘴168不會造成基板的變形或皺褶。第一吸液泵161和第二吸液泵166可以為真空泵。本領域技術人員可以理解，所述吸液機構16也可以具有其它的結構。例如，可以為省略下吸液系統(tǒng)165，而僅包括上吸液系統(tǒng)160的結構。即使為如前所述包括上吸液系統(tǒng)160和下吸液系統(tǒng)165的結構，也可以具有其它變形的結構。例如，吸液機構16可以包括一個吸液泵、第一傳輸管162、第二傳輸管 167、多個安裝于第一傳輸管162的上吸嘴163及多個安裝于第二傳輸管167的下吸嘴168， 僅需使得第一傳輸管162和第二傳輸管167相連通，而吸液泵安裝于第一傳輸管162或第二傳輸管167即可，從而使用一個吸液泵即可同時降低多個上吸嘴163和多個下吸嘴168 內的壓強。吸液機構16也可以包括三個以上同時降低多個上吸嘴163和多個下吸嘴168 內壓強的噴液泵。另外，除吸液泵和傳輸管外，吸液機構16的多個上吸嘴163和多個下吸嘴168也可以有其它變形。例如，吸液機構16的上吸液系統(tǒng)160可以包括一個第一吸液泵 161、一個與第一吸液泵161連通的第一傳輸管162以及多個安裝于第一傳輸管162的相互平行排列的上吸管的結構，僅需每個上吸管安裝于相鄰的兩個上噴管143之間，且每個上吸管朝向基板的一側均等間距安裝有多個圓錐狀、柱狀、管狀或其它形狀的上吸嘴即可。如此，多個上吸嘴同樣可以實現吸取基板表面蝕刻液的作用。吸液機構16的下吸液系統(tǒng)165 也可以有類似變形，即也可以由安裝有多個圓錐狀、柱狀、管狀或其它形狀的下吸嘴的多個下吸管來代替長條形的下吸嘴168。所述控制器18可以為中央處理器，其與第一噴液泵141、第二噴液泵146、第一吸液泵161及第二吸液泵166信號連接，用于控制第一噴液泵141、第二噴液泵146、第一吸液泵161及第二吸液泵166的開啟狀態(tài)和關閉狀態(tài)。具體而言，控制器18用于控制第一噴液泵141和第二噴液泵146開啟定額時間后被關閉，在關閉第一噴液泵141和第二噴液泵146 的同時開啟第一吸液泵161和第二吸液泵166，并在維持第一吸液泵161和第二吸液泵166 的開啟狀態(tài)同樣的定額時間后關閉第一吸液泵161和第二吸液泵166，在關閉第一吸液泵 161和第二吸液泵166的同時開啟第一噴液泵141和第二噴液泵146。第一噴液泵141和第二噴液泵146開啟的定額時間一般為1-3秒。也就是說，控制器18用于控制第一噴液泵 141和第二噴液泵146處于開啟狀態(tài)的時間等于第一噴液泵141和第二噴液泵146處于關閉狀態(tài)的時間，并使得第一噴液泵141和第二噴液泵146處于開啟狀態(tài)時，第一吸液泵161 和第二吸液泵166處于關閉狀態(tài)，使得第一噴液泵141和第二噴液泵146處于關閉狀態(tài)時， 第一吸液泵161和第二吸液泵166處于開啟狀態(tài)。本領域技術人員可以理解，不論噴淋機構14的噴液泵的數量為多少，均與控制器 18信號連接；不論吸液機構16的吸液泵的數量為多少，均與控制器18信號連接；并且，控制器18控制所有的噴液泵均同時開啟、同時關閉，控制所有的吸液泵均同時開始、同時關閉。請一并參閱圖1至圖3，本技術方案實施例還提供一種使用如上所述的蝕刻裝置 10蝕刻基板的方法，包括步驟第一步，提供基板200及如上所述的蝕刻裝置10。所述基板200為用于制作電路板的基材，可以為單面覆銅基材，雙面覆銅基材，或已形成內部線路、未制作外部線路的多層基材。在本實施例中，所述基板200為雙面覆銅基材?；?00具有相對的上表面201 和下表面202，上表面201和下表面202均為待蝕刻制成線路的銅箔。第二步，將基板200放置于上傳送輥組122和下傳送輥組IM之間進行傳送，即， 使得基板200位于上傳送輥123、壓制輥127與下傳送輥125、支撐輥1 之間。多個上傳送輥123和多個下傳送輥125轉動從而可以帶動基板200沿垂直于上傳送輥123的軸線方向傳送?；?00的上表面201與上傳送輥組122、上輔助輥組126、上噴淋系統(tǒng)140及上吸液系統(tǒng)160相對?；?00的下表面202與下傳送輥組124、下輔助輥組128、下噴淋系統(tǒng)145及下吸液系統(tǒng)165相對。第三步，控制器18控制噴淋機構14的第一噴液泵141和第二噴液泵146處于開啟狀態(tài)定額時間，以使得多個上噴嘴144將蝕刻液噴淋至基板200的上表面201從而蝕刻上表面201的銅箔，使得多個下噴嘴149將蝕刻液噴淋至基板200的下表面202從而蝕刻下表面202的銅箔，第一噴液泵141和第二噴液泵146處于開啟狀態(tài)定額時間后控制器18控制第一噴液泵141和第二噴液泵146處于關閉狀態(tài)，并使得吸液機構16的第一吸液泵161 和第二吸液泵166處于開啟狀態(tài)定額時間，以使得多個上吸嘴163吸取基板200上表面201 蝕刻后的蝕刻液，使得多個下吸嘴168吸取基板200下表面202蝕刻后的蝕刻液。第一噴液泵141和第二噴液泵146處于開啟狀態(tài)的定額時間一般為1-3秒，第一噴液泵141和第二噴液泵146處于開啟狀態(tài)的定額時間等于第一吸液泵161和第二吸液泵166處于開啟狀態(tài)的定額時間。如是重復，在基板200傳送的過程中，控制器18控制第一噴液泵141和第二噴液泵146間隔開啟，并在關閉第一噴液泵141和第二噴液泵146時開啟第一吸液泵161 和第二吸液泵166。如此，每次開啟第一噴液泵141和第二噴液泵146后，噴淋在基板200 的上表面201和下表面202的蝕刻液均基本可以被吸液機構16的多個上吸嘴163和多個下吸嘴168吸取干凈。從而，不會有蝕刻后的蝕刻液殘留于基板200的上表面201或下表面202造成“水池效應”，也就不會對基板200上表面201或下表面202的銅箔的蝕刻造成影響。從而在蝕刻基板200的銅箔以制作導電線路的過程中可以具有較高的制作良率。本領域技術人員可以理解，可以根據基板200的傳送速度，定額時間的長短，調節(jié)第一噴液泵141和第二噴液泵146的噴壓從而提高或降低多個上噴嘴144和多個下噴嘴 149的噴壓，以調節(jié)噴淋到基板200上表面201和下表面202的蝕刻液的量，以保證基板200 的導電線路的制作良率和制作效果。
本技術方案的蝕刻裝置10中，控制器18可以開啟和關閉第一噴液泵141、第二噴液泵146、第一吸液泵161和第二吸液泵166。本技術方案的蝕刻基板的方法中，控制器18 控制第一噴液泵141和第二噴液泵146開啟定額時間后使得第一吸液泵161和第二吸液泵 166開啟定額時間。如此，即可使得多個上噴嘴144和多個下噴嘴149噴淋在基板200的上表面201和下表面202的蝕刻液均基本可以被吸液機構16的多個上吸嘴163和多個下吸嘴168吸取干凈。從而，不會有蝕刻后的蝕刻液殘留于基板200的上表面201或下表面 202造成“水池效應”，也就不會對基板200上表面201或下表面202的銅箔的蝕刻造成影響。從而在蝕刻基板200的銅箔以制作導電線路的過程中可以具有較高的制作良率。可以理解的是，對于本領域的普通技術人員來說，可以根據本發(fā)明的技術構思做出其它各種相應的改變與變形，而所有這些改變與變形都應屬于本發(fā)明權利要求的保護范圍。
權利要求
1.一種蝕刻裝置，包括傳送機構，其包括上傳送輥組和與所述上傳送輥組相對的下傳送輥組，所述傳送機構用于傳送位于上傳送輥組和下傳送輥組之間的基板；噴淋機構，其包括一個第一噴液泵及與第一噴液泵連通的多個上噴嘴，所述多個上噴嘴位于上傳送輥組上方，用于向基板表面噴淋蝕刻液以蝕刻基板，所述第一噴液泵具有開啟狀態(tài)和關閉狀態(tài)，在開啟狀態(tài)下第一噴液泵用于向多個上噴嘴輸送蝕刻液，在關閉狀態(tài)下第一噴液泵停止向多個上噴嘴輸送蝕刻液；吸液機構，其包括一個第一吸液泵及與第一吸液泵連通的多個上吸嘴，所述多個上吸嘴與下傳送輥組相對，用于靠近基板，所述第一吸液泵也具有開啟狀態(tài)和關閉狀態(tài)，在開啟狀態(tài)下第一吸液泵使得多個上吸嘴吸取基板表面的蝕刻液，在關閉狀態(tài)下使得多個上吸嘴停止吸取基板表面的蝕刻液；以及控制器，所述第一噴液泵和第一吸液泵均與控制器信號連接，所述控制器用于控制第一噴液泵處于開啟狀態(tài)時第一吸液泵處于關閉狀態(tài)，第一噴液泵處于關閉狀態(tài)時第一吸液泵處于開啟狀態(tài)，并控制第一噴液泵處于開啟狀態(tài)的時間等于第一噴液泵處于關閉狀態(tài)的時間。
2.如權利要求1所述的蝕刻裝置，其特征在于，所述噴淋機構還包括多個平行排列的上噴管，每個上噴管均與第一噴液泵連通，每個上噴管均安裝有多個所述上噴嘴，每個上吸嘴均沿上噴管的軸線方向延伸，每個上吸嘴均位于兩個相鄰的上噴管之間。
3.如權利要求2所述的蝕刻裝置，其特征在于，所述上傳送輥組包括多個相互平行的上傳送輥，所述下傳送輥組包括多個平行排列的下傳送輥，所述多個上噴管、多個上吸嘴及多個下傳送輥均與所述多個上傳送輥平行。
4.如權利要求1所述的蝕刻裝置，其特征在于，所述噴淋機構還包括與第一噴液泵連通的多個下噴嘴，所述多個下噴嘴位于下傳送輥組下方，用于向基板表面噴淋蝕刻液以蝕刻基板，所述吸液機構還包括與第一吸液泵連通的多個下吸嘴，所述多個下吸嘴與上傳送輥組相對，并靠近上傳送輥組，用于在第一吸液泵處于開啟狀態(tài)時吸取基板表面的蝕刻液。
5.如權利要求4所述的蝕刻裝置，其特征在于，所述蝕刻裝置還包括蝕刻槽，所述蝕刻槽用于存儲蝕刻液，所述第一噴液泵為加壓泵，且浸置于所述蝕刻槽的蝕刻液中，所述第一吸液泵為真空泵。
6.如權利要求1所述的蝕刻裝置，其特征在于，所述噴淋機構還包括一個第二噴液泵和與所述第二噴液泵相連通的多個下噴嘴，所述第二噴液泵具有開啟狀態(tài)和關閉狀態(tài)，在開啟狀態(tài)下第二噴液泵用于向多個下噴嘴輸送蝕刻液，在關閉狀態(tài)下第二噴液泵停止向多個下噴嘴輸送蝕刻液，所述多個下噴嘴位于下傳送輥組下方，用于在第二噴液泵處于開啟狀態(tài)下向基板表面噴淋蝕刻液以蝕刻基板；所述吸液機構還包括一個第二吸液泵和與第二吸液泵連通的多個下吸嘴，所述多個下吸嘴與上傳送輥組相對，用于靠近基板，所述第二吸液泵也具有開啟狀態(tài)和關閉狀態(tài)，在開啟狀態(tài)下第二吸液泵使得多個下吸嘴吸取基板表面的蝕刻液，在關閉狀態(tài)下使得多個下吸嘴停止吸取基板表面的蝕刻液；所述第二噴液泵和第二吸液泵均與控制器信號連接，所述控制器還用于控制第一噴液泵和第二噴液泵同時處于開啟狀態(tài)或同時處于關閉狀態(tài)，第一吸液泵和第二吸液泵同時處于開啟狀態(tài)或同時處于關閉狀態(tài)。
7.如權利要求6所述的蝕刻裝置，其特征在于，所述蝕刻裝置還包括蝕刻槽，所述蝕刻槽用于存儲蝕刻液，所述第一噴液泵和第二噴液泵均為加壓泵，且均浸置于所述蝕刻槽的蝕刻液中，所述第一吸液泵和第二吸液泵均為真空泵。
8.如權利要求4或6所述的蝕刻裝置，其特征在于，所述傳送機構還包括上輔助輥組和下輔助輥組，所述上輔助輥組包括多個平行排列的壓制輥，所述下輔助輥組包括多個平行排列的支撐輥，每個上吸嘴均位于兩個相鄰的壓制輥之間，每個下吸嘴均位于兩個相鄰的支撐輥之間。
9.如權利要求7所述的蝕刻裝置，其特征在于，所述上傳送輥組包括多個相互平行的上傳送輥，至少部分上傳送輥彼此間隔排列，兩個彼此間隔的上傳送輥之間設置有一個上噴嘴或設置有兩個壓制輥，該兩個壓制輥之間設置有兩個上吸嘴；所述下傳送輥組包括多個平行排列的下傳送輥，至少部分下傳送輥彼此間隔排列，兩個彼此間隔的下傳送輥之間設置由一個下噴嘴或設置有兩個支撐輥，該兩個支撐輥之間設置有兩個下吸嘴。
10.一種蝕刻基板的方法，包括步驟提供基板及如權利要求1所述的蝕刻裝置；將基板放置于上傳送輥組和下傳送輥組之間進行傳送；以及控制器控制第一噴液泵處于開啟狀態(tài)，以使得多個上噴嘴將蝕刻液噴淋至基板表面， 在第一噴液泵處于開啟狀態(tài)額定時間后控制器控制第一噴液泵處于關閉狀態(tài)，并控制吸液機構的第一吸液泵處于開啟狀態(tài)額定時間，以使得多個上吸嘴吸取基板表面的蝕刻液。
11.如權利要求10所述的蝕刻基板的方法，其特征在于，基板的傳送速度為3米每分鐘，所述額定時間為1至3秒。
12.如權利要求10所述的蝕刻基板的方法，其特征在于，所述基板具有相對的上表面和下表面；所述蝕刻裝置的噴淋機構還包括位于下傳送輥組下方的多個下噴嘴，所述噴淋機構的多個上噴嘴用于在第一噴液泵處于開啟狀態(tài)時向基板上表面噴淋蝕刻液以蝕刻基板的上表面，所述多個下噴嘴用于在第一噴液泵處于開啟狀態(tài)時向基板下表面噴淋蝕刻液以蝕刻基板的下表面；所述蝕刻裝置的吸液機構還包括多個下吸嘴，所述吸液機構的多個上吸嘴用于在第一吸液泵處于開啟狀態(tài)時吸取基板上表面的蝕刻液，所述多個下吸嘴與上傳送輥組相對，并靠近上傳送輥組，用于在第一吸液泵處于開啟狀態(tài)時吸取基板下表面的蝕刻液。
全文摘要
本發(fā)明提供一種蝕刻裝置，其包括傳送機構、噴淋機構、吸液機構及控制器。傳送機構包括上傳送輥組和下傳送輥組，用于傳送基板。噴淋機構包括第一噴液泵及多個上噴嘴。所述多個上噴嘴位于上傳送輥組上方，用于向基板表面噴淋蝕刻液。所述第一噴液泵在開啟狀態(tài)下第一噴液泵向多個上噴嘴輸送蝕刻液。吸液機構包括第一吸液泵及多個上吸嘴。所述多個上吸嘴與下傳送輥組相對，且靠近基板。第一吸液泵在開啟狀態(tài)下使得多個上吸嘴吸取基板表面的蝕刻液。第一噴液泵和第一吸液泵均與控制器信號連接，控制器用于控制第一噴液泵處于開啟狀態(tài)定額時間后控制第一吸液泵處于開啟狀態(tài)定額時間。本發(fā)明還提供一種使用該蝕刻裝置蝕刻基板的方法。
文檔編號H05K3/06GK102453915SQ201010517860
公開日2012年5月16日 申請日期2010年10月27日 優(yōu)先權日2010年10月27日
發(fā)明者鄭建邦 申請人:富葵精密組件(深圳)有限公司, 臻鼎科技股份有限公司