專利名稱：電磁波干擾膜制造方法和利用此方法的顯示器模塊以及其制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明是有關(guān)電磁波干擾膜的發(fā)明，特別是，有關(guān)把制造工程簡(jiǎn)單化，可以節(jié)約所需材料的電磁波干擾膜的制造方法和利用此方法的顯示器模塊以及其制造方法的發(fā)明。
背景技術(shù)：
一般來(lái)說(shuō)，顯示畫(huà)像的顯示設(shè)備的整面具有旨在切斷向外部放射電磁波的電磁波干擾膜。這一電磁波干擾膜不僅切斷電磁波，還具有旨在確保顯示設(shè)備要求的可視光透射率的網(wǎng)絲形狀的導(dǎo)電模式。但現(xiàn)有網(wǎng)絲形狀的導(dǎo)電模式存在這樣的問(wèn)題，即，使可視光透射率低下的同時(shí)，引發(fā)網(wǎng)紋干擾現(xiàn)象，使畫(huà)質(zhì)低下。下面，舉個(gè)例一利用氣體放電顯示畫(huà)面的等離子顯示器，將詳細(xì)說(shuō)明現(xiàn)有電磁波干擾膜的疑點(diǎn)。
等離子顯示器根據(jù)數(shù)碼視頻數(shù)據(jù)，調(diào)節(jié)各像素的氣體放電時(shí)間，并以此顯示畫(huà)像。在這樣的等離子顯示器中，最具有代表性的是如圖1所示那樣，具有三電極，并以交流電壓驅(qū)動(dòng)的交流型等離子顯示器。
圖1是表示通常交流型等離子顯示器結(jié)構(gòu)的斜視圖，特別是，表示相當(dāng)于一個(gè)子像素(Sub-Pixel)的放電單元結(jié)構(gòu)。
圖1所示的放電單元具有在上部基板10上依次形成的支撐電極雙12A、12B和具有上部電介質(zhì)層14和保護(hù)膜16的上板15、依次形成在下部基板18上的數(shù)據(jù)電極20、下部電介質(zhì)層22、具有隔墻24和熒光體層26的下板25。
上部基板10和下部基板18被隔墻24平衡偏離。各個(gè)支撐電極雙12A、12B以具有相對(duì)較大的寬度，并旨在透射可視光線的透明電極和具有相對(duì)較小的寬度，并旨在補(bǔ)償透明電極電阻成份的金屬電極組成。這樣的支撐電極雙12A、12B以掃描電極12A和支撐電極12B組成。掃描電極12A主要提供決定數(shù)據(jù)提供時(shí)間的掃描信號(hào)和旨在維持放電的支撐信號(hào)；支撐電極12B主要提供為維持放電的支撐信號(hào)。在上部電介質(zhì)層14和下部電介質(zhì)層22上，積累氣體放電時(shí)產(chǎn)生的電荷。保護(hù)膜16防止等離子濺射導(dǎo)致的上部電介質(zhì)層14的受損，不僅延長(zhǎng)等離子顯示器使用時(shí)間，而且還提高2次電子的放出效果。作為保護(hù)膜16，通常使用氧化鎂(MgO)。這樣的電介質(zhì)層14、22和保護(hù)膜16能夠降低從外部輸入的放電電壓。數(shù)據(jù)電極20與上述支撐電極雙12A、12B交叉形成。這一數(shù)據(jù)電極20提供旨在選擇將要顯示單元的數(shù)據(jù)信號(hào)。隔墻24與上下部基板10、18一起，準(zhǔn)備放電空間的同時(shí)，與數(shù)據(jù)電極20并列形成，防止氣體放電產(chǎn)生的紫外線露出相臨單元。熒光體層26涂抹在下部電介質(zhì)層22和隔墻24的表面，產(chǎn)生紅色、綠色、藍(lán)色中的一種顏色可視光線。放電空間填充旨在氣體放電的He、Ne、Ar、Xe、Kr等不活性氣體和以這些氣體組合的放電氣體或因放電，可以產(chǎn)生紫外線的受澈二聚物(Excimer)氣體。
這一結(jié)構(gòu)的放電單元被數(shù)據(jù)電極20和掃描電極12A之間的對(duì)向放電選擇后，被支撐電極雙12A、12B之間的表面放電維持放電。于是，放電單元根據(jù)維持放電時(shí)產(chǎn)生的紫外線，熒光體26發(fā)光，以此可視光線向單元外部放射。這時(shí)，放電單元根據(jù)視頻數(shù)據(jù)，調(diào)節(jié)單元放電的維持時(shí)間，即維持放電次數(shù)，體現(xiàn)灰度級(jí)(Gray Scale Level)。
圖2大概表示包括圖1所示的等離子顯示器30在內(nèi)的等離子顯示器套的分解斜視圖。
圖2所示的等離子顯示器套具有盒60、盒60內(nèi)的印刷電路板50、等離子顯示器30、玻璃型整面過(guò)濾器40、包住玻璃型整面過(guò)濾器40的正面外圍部份，并能與盒60合上的罩70。
等離子顯示器30是如圖1所示那樣，粘在上板15和下板25形成。
位于等離子顯示器30背面的印刷電路板50具有形成在等離子顯示器30的支撐電極雙12A、12B和旨在驅(qū)動(dòng)地址電極20的多數(shù)驅(qū)動(dòng)和控制線路。這樣的印刷電路板50和等離子顯示器30之間設(shè)有散放等離子顯示器30和印刷電路板50產(chǎn)生的熱的隔熱板(沒(méi)有圖示)。
玻璃型整面過(guò)濾器40運(yùn)行切斷等離子顯示器30向正面產(chǎn)生的電磁波、防止外部光線的反射、切斷近紅外線、色糾正等功能。為此，如圖3所示那樣，玻璃型整面過(guò)濾器40具有粘在玻璃基板42整面的第1抗反射膜44、依次粘在玻璃基板42背面的電磁波干擾膜46、近紅外線干擾膜48、色糾正膜52、第2抗反射膜54。
玻璃基板42利用強(qiáng)化玻璃，支持玻璃型整面過(guò)濾器40，并保護(hù)整面過(guò)濾器40和等離子顯示器，使其免受外部沖擊受損。第1和第2抗反射(Antireflection)膜44、54防止從外部射入的光重新反射到外部，提高對(duì)比度。電磁波干擾膜46從等離子顯示器30吸收產(chǎn)生的電磁波，切斷其電磁波向外部放射。近紅外線干擾膜48吸收等離子顯示器30產(chǎn)生的約800～1000nm波長(zhǎng)的近紅外線，切斷向外部放射，以此使遙控器等發(fā)出的控制用紅外線(約947nm)不受上述近紅外線的干擾，正常輸入到等離子顯示器套的紅外線接收部。色糾正膜52包括色調(diào)染料(Color Dye)，調(diào)整色澤，以此提高色純度。這樣的多數(shù)薄膜44、46、48、52、54通過(guò)膠合劑或粘合劑，粘在玻璃基板42。
盒60保護(hù)可以與印刷電路板50、玻璃型整面過(guò)濾器40一起裝入的等離子顯示器30，使其免受外部沖擊的同時(shí)，切斷等離子顯示器30的側(cè)面和背面放射的電磁波。另外，使玻璃型整面過(guò)濾器40偏離等離子顯示器30，盒60通過(guò)其背面支持的支撐副材料(沒(méi)有圖示)，與玻璃型整面過(guò)濾器40的電磁波干擾膜46存在電的連接。于是，盒60與玻璃型整面過(guò)濾器40的電磁波干擾膜46一起，連接地線，吸收等離子顯示器30放射的電磁波放電，以此切斷電磁波向外部放射。
罩70包住玻璃型整面過(guò)濾器40正面的外圍部，并能與盒60合上。
這樣，現(xiàn)有等離子顯示器套使用切斷電磁波的同時(shí)，旨在糾正光學(xué)特點(diǎn)的玻璃型整面過(guò)濾器40。但因玻璃型整面過(guò)濾器40包括相對(duì)較厚的玻璃基板，即強(qiáng)化玻璃42，不僅成為等離子顯示器套的厚度和重量增加的主要原因，還具有制造成本較高的短處。
于是，如圖4所示那樣，提出了消除玻璃基板的膠片型整面過(guò)濾器。圖4所示的膠片型整面過(guò)濾器60具有等離子顯示器30的上板15依次粘上的色糾正膜68、近紅外線切斷膜66、電磁波干擾膜64、抗反射膜62。
抗反射膜62防止從外部射入的光線再次反射到外部。電磁波干擾膜64吸收等離子顯示器30產(chǎn)生的電磁波放電，以此切斷電磁波向外部放射。近紅外線干擾膜66吸收等離子顯示器30產(chǎn)生的近紅外線，切斷向外部的放射。色糾正膜68包括色調(diào)染料，調(diào)整色澤，以此提高色純度。這樣的多數(shù)薄膜62、64、66、68通過(guò)膠合劑或粘合劑，粘在等離子顯示器30的上板15。
這樣，圖3所示的玻璃型整面過(guò)濾器40和膠片型整面過(guò)濾器60具有為切斷等離子顯示器30產(chǎn)生的電磁波的電磁波干擾膜46、64。電磁波干擾膜46、64為了確保透射率，如圖5和圖6所示那樣，具有導(dǎo)電性網(wǎng)絲74、支持導(dǎo)電性網(wǎng)絲74的幀72、形成導(dǎo)電性網(wǎng)絲74和幀72的片基76。
就圖5和圖6，導(dǎo)電性網(wǎng)絲74以利用銀、銅等金屬的照相平版印刷術(shù)(Photolithography)工程和蝕刻工程進(jìn)行制定模式而形成。詳細(xì)說(shuō)明的話，片基上形成金屬薄膜，并把光致抗蝕劑(Photo Resist)涂抹在金屬薄膜上。接著，利用掩膜(Mask)，對(duì)光致抗蝕劑進(jìn)行制定模式，以此形成幀和網(wǎng)絲形狀的光致抗蝕劑模式。把這樣的光致抗蝕劑模式利用掩膜，對(duì)金屬薄膜進(jìn)行制定模式，以此如圖6所示那樣，幀72和導(dǎo)電性網(wǎng)絲74形成在片基76上。另外，以剝離工程消除幀72和導(dǎo)電性網(wǎng)絲74上殘留的光致抗蝕劑模式。
如上所述，現(xiàn)有電磁波干擾膜制造方法包括旨在形成光致抗蝕劑模式的照相平版印刷術(shù)工程和對(duì)金屬薄膜，旨在進(jìn)行制定模式的蝕刻工程。于是，現(xiàn)有電磁波干擾膜制造方法不僅因其所需工程數(shù)量多，變得復(fù)雜，還因照相平版印刷術(shù)工程和蝕刻工程，材料損失也較多。

發(fā)明內(nèi)容于是，本發(fā)明的目的在于，提供可以減少工程數(shù)和材料損失的電磁波干擾膜制造方法、利用此方法的顯示器模塊及其制造方法。
為了實(shí)現(xiàn)上述目的，根據(jù)本發(fā)明的電磁波干擾膜制造方法是包括準(zhǔn)備片基的步驟、在上述片基上，利用絲網(wǎng)印刷法和噴墨法中的一個(gè)，形成導(dǎo)電性模式的步驟為特點(diǎn)。
形成上述導(dǎo)電性模式的步驟是包括在上述片基上，把金屬漿糊(Paste)形成為所愿意模式的步驟和燒成上述形成金屬漿糊的步驟為特點(diǎn)。
形成上述導(dǎo)電性模式的步驟是包括形成導(dǎo)電性網(wǎng)絲的步驟為特點(diǎn)。
形成上述導(dǎo)電性模式的步驟是追加包括形成從外圍支持上述導(dǎo)電性網(wǎng)絲的幀的步驟為特點(diǎn)。
追加包括形成上述導(dǎo)電性模式之前，在上述片基上，形成透明導(dǎo)電膜的步驟為特點(diǎn)。
根據(jù)本發(fā)明一個(gè)特點(diǎn)的顯示器模塊具有顯示器、形成在上述顯示器的上面，并包括旨在防止上述顯示器電磁波放射的導(dǎo)電性模式的電磁波干擾膜以及粘在上述電磁波干擾膜上的膠片型光學(xué)過(guò)濾器。
根據(jù)本發(fā)明另一個(gè)特點(diǎn)的顯示器模塊具有顯示器、形成在上述顯示器上面，并包括旨在防止上述顯示器電磁波放射的導(dǎo)電性模式的電磁波干擾膜以及在上述電磁波干擾膜上，偏離地安裝的玻璃型光學(xué)過(guò)濾器。
上述導(dǎo)電性模式具有導(dǎo)電性網(wǎng)絲為特點(diǎn)。
上述導(dǎo)電性模式追加具有從外圍支持上述導(dǎo)電性網(wǎng)絲的幀為特點(diǎn)。
上述電磁波干擾膜追加具有上述導(dǎo)電性模式和上述顯示器之間形成的片基和透明導(dǎo)電膜中的至少一個(gè)為特點(diǎn)。
根據(jù)本發(fā)明特點(diǎn)的顯示器制造方法包括準(zhǔn)備顯示器的步驟、在上述顯示器的上面，形成包括旨在防止上述顯示器電磁波放射的導(dǎo)電性模式的電磁波干擾膜的步驟、在上述電磁波干擾膜上，粘上膠片型光學(xué)過(guò)濾器的步驟。
根據(jù)本發(fā)明另一個(gè)特點(diǎn)的顯示器模塊制造方法包括如下步驟準(zhǔn)備顯示器的步驟；在上述顯示器上面，形成包括旨在防止上述顯示器電磁波放射的導(dǎo)電性模式的電磁波干擾膜的步驟；在上述電磁波干擾膜上，偏離地安裝玻璃型光學(xué)過(guò)濾器的步驟。
形成上述電磁波干擾膜的步驟是包括如下步驟為特點(diǎn)利用上述絲網(wǎng)印刷法和噴墨法中的一個(gè)，把金屬漿糊形成在上述顯示器上面的步驟；燒成上述形成的金屬漿糊，形成上述導(dǎo)電性模式的步驟。
形成上述電磁波干擾膜的步驟是包括形成導(dǎo)電性網(wǎng)絲的步驟為特點(diǎn)。
形成上述電磁波干擾膜的步驟是追加包括形成從外圍支持上述導(dǎo)電性網(wǎng)絲的幀的步驟為特點(diǎn)。
形成上述電磁波干擾膜的步驟是追加包括形成上述導(dǎo)電性模式之前，在上述顯示器的上面，形成片基和透明導(dǎo)電膜中至少一個(gè)的步驟為特點(diǎn)。
除了上述目的以外，本發(fā)明的其它目的和特點(diǎn)可以通過(guò)參照附圖的實(shí)施例說(shuō)明，將能更清楚地理解。
如上所述，根據(jù)本發(fā)明的電磁波干擾膜制造方法是利用絲網(wǎng)印刷法或噴墨法，形成導(dǎo)電性模式，以此不僅能夠使制造工程簡(jiǎn)單化，而且不包括照相平版印刷術(shù)工程和蝕刻工程，可以減少材料損失。
另外，根據(jù)本發(fā)明的顯示器模塊和其制造方法是利用上述電磁波干擾膜的制造方法，把電磁波干擾膜直接形成在顯示器上，以此可以使制造工程簡(jiǎn)單化，也可以減少材料損失。

圖1是表示現(xiàn)有三電極交流表面放電型等離子顯示器(Plasma DisplayPanelPDP)結(jié)構(gòu)的斜視圖。
圖2是包括圖1所示的等離子顯示器的等離子顯示器套的分解斜視圖。
圖3是表示圖2所示的玻璃型整面過(guò)濾器和等離子顯示器的垂直結(jié)構(gòu)的截面圖。
圖4是表示現(xiàn)有的粘上膠片型整面過(guò)濾器的等離子顯示器垂直結(jié)構(gòu)的截面圖。
圖5是表示圖3和圖4所示的電磁波干擾膜具體結(jié)構(gòu)的平面圖。
圖6是把圖5所示的電磁波干擾膜沿著A-A’線切斷的截面圖。
圖7是步驟性地說(shuō)明根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的電磁波干擾膜制造方法的流程圖。
圖8是表示根據(jù)本發(fā)明制造方法的電磁波干擾膜的截面圖。
圖9是步驟性地說(shuō)明根據(jù)本發(fā)明另一個(gè)實(shí)施例的電磁波干擾膜制造方法的流程圖。
圖10是表示具有根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的膠片型光學(xué)過(guò)濾器的等離子顯示器模塊的截面圖。
圖11是步驟性地說(shuō)明圖10所示的等離子顯示器模塊制造方法的流程圖。
圖12a至圖12c是步驟性地表示圖11所示流程圖的等離子顯示器模塊制造方法的截面圖。
圖13是表示具有根據(jù)本發(fā)明另一個(gè)實(shí)施例的玻璃型光學(xué)過(guò)濾器的等離子顯示器模塊的截面圖。
圖14是步驟性地說(shuō)明圖13所示的等離子顯示器模塊制造方法的流程圖。
圖15a至圖15c是步驟性地表示根據(jù)圖14所示流程圖的等離子顯示器模塊制造方法的圖紙。
具體實(shí)施方式下面將參照?qǐng)D7至圖15c，對(duì)本發(fā)明的理想實(shí)施例進(jìn)行詳細(xì)說(shuō)明。
圖7是步驟性地說(shuō)明根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的電磁波干擾膜制造方法的流程圖；圖8是表示根據(jù)圖7所示的制造方法形成的電磁波干擾膜的截面圖。
首先，在步驟10-S10，準(zhǔn)備片基82。之后，在步驟12-S12，利用片基82上的絲網(wǎng)印刷法，以幀或網(wǎng)絲形狀印刷金屬漿糊。在這里，金屬漿糊包括鋁、銅、銀、鎳、金或納米碳管的納米粒子或粉末。另外，在步驟14-S14，燒成印刷的金屬漿糊，以此如圖7所示那樣，形成以導(dǎo)電性網(wǎng)絲84和幀86組成的導(dǎo)電性模式。這時(shí)，在片基82上，有可能形成不具備幀86，僅以導(dǎo)電性網(wǎng)絲84組成的導(dǎo)電性模式。另外，形成上述導(dǎo)電性模式84、86之前，透明導(dǎo)電膜通過(guò)濺射之類的粘合方法，有可能追加涂抹在片基82上。
圖9是步驟性地說(shuō)明根據(jù)本發(fā)明另一個(gè)實(shí)施例的電磁波干擾膜制造方法的流程圖。
首先，在步驟20-S20，準(zhǔn)備片基82。之后，在步驟22-S22，以噴墨法把金屬漿糊噴射在準(zhǔn)備的片基82特定領(lǐng)域，以此形成幀或網(wǎng)絲形狀的金屬漿糊。在這里，金屬漿糊包括鋁、銅、銀、鎳、金或納米碳管的納米粒子或粉末。另外，在步驟24-S24，燒成形成的金屬漿糊，以此如圖7所示那樣，形成以導(dǎo)電性網(wǎng)絲84和幀86組成的導(dǎo)電性模式。這時(shí)，在片基82上，有可能形成不具備幀86，僅以導(dǎo)電性網(wǎng)絲84組成的導(dǎo)電性模式。另外，形成上述導(dǎo)電性模式84、86之前，透明導(dǎo)電膜通過(guò)濺射之類的粘合方法，有可能追加涂抹在片基82上。
這樣，根據(jù)本發(fā)明的電磁波干擾膜80的制造方法是利用絲網(wǎng)印刷法或噴墨法，在片基82上形成導(dǎo)電性的模式。于是，根據(jù)本發(fā)明的電磁波干擾膜制造方法因其工程數(shù)減少的同時(shí)，還不包括照相平版印刷術(shù)工程和蝕刻工程，可以減少材料損失。
這樣的電磁波干擾膜80包括在玻璃型整面過(guò)濾器，設(shè)在等離子顯示器或包括在膠片型整面過(guò)濾器，粘在等離子顯示器。
另外，根據(jù)本發(fā)明的電磁波干擾膜也可以利用上述絲網(wǎng)印刷法或噴墨法，直接形成在等離子顯示器的上面。下面，對(duì)上面具有直接形成的電磁波干擾膜的等離子顯示器模塊和其制造方法進(jìn)行詳細(xì)說(shuō)明。
圖10是表示具有根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的膠片型整面過(guò)濾器的等離子顯示器模塊的截面圖。
圖10所示的等離子顯示器模塊具有相互粘合的上板92和下板94、形成在上板92上面的具有電磁波干擾膜88的等離子顯示器90、粘在等離子顯示器90的電磁波干擾膜88上的膠片型光學(xué)過(guò)濾器100。
包括在等離子顯示器90的上板92和下板94內(nèi)部準(zhǔn)備氣體放電空間，并粘在一起，還利用氣體放電，顯示畫(huà)像。
在上板92的上面，電磁波干擾膜88具有通過(guò)上述的絲網(wǎng)印刷法或噴墨法，直接形成的導(dǎo)電性網(wǎng)絲和幀或?qū)щ娦跃W(wǎng)絲之類的導(dǎo)電性模式，切斷等離子顯示器90的電磁波向外放射。上述導(dǎo)電性模式形成之前，這樣的電磁波干擾膜88有可能追加具有上板92上形成的片基或透明導(dǎo)電膜或片基和透明導(dǎo)電膜。
膠片型光學(xué)過(guò)濾器100具有旨在吸收等離子顯示器90放射的近紅外線的近紅外線吸收劑、包括旨在調(diào)節(jié)色澤的色調(diào)染料在內(nèi)的近紅外線干擾膜96、粘在近紅外線干擾膜96上，防止外部光線反射的抗反射膜98。具有這一構(gòu)成的膠片型光學(xué)過(guò)濾器100通過(guò)膠合劑或粘合劑，與等離子顯示器90的上板92上形成的電磁波干擾膜88粘在一起。
圖11是步驟性地說(shuō)明圖10所示的等離子顯示器模塊制造方法的流程圖；圖12a至圖12c是步驟性地表示其制造方法的截面圖。
首先，在步驟30-S30，如圖12a所示那樣，準(zhǔn)備上板92和下板94粘合的等離子顯示器90。
接著，在步驟32-S32，如圖12b所示那樣，在等離子顯示器90的上板92，通過(guò)上述的絲網(wǎng)印刷法或噴墨法，把金屬漿糊形成為具有導(dǎo)電性模式的電磁波干擾膜88。這時(shí)，導(dǎo)電性模式只具有旨在透射可視光線和旨在切斷電磁波的導(dǎo)電性網(wǎng)絲或追加具有從外圍支持導(dǎo)電性網(wǎng)絲的幀。另外，上述導(dǎo)電性模式形成之前，電磁波干擾膜88也有可能追加具有上板92上形成的片基或透明導(dǎo)電膜或片基和透明導(dǎo)電膜。
在下一個(gè)步驟34-S34，如圖12c所示那樣，準(zhǔn)備具有近紅外線干擾膜96和抗反射膜98的膠片型光學(xué)過(guò)濾器90，通過(guò)膠合劑或粘合劑粘在等離子顯示器90的電磁波干擾膜88。
圖13是表示根據(jù)本發(fā)明另一個(gè)實(shí)施例的具有玻璃型整面過(guò)濾器的等離子顯示器模塊的截面圖。
圖13所示的等離子顯示器模塊具有相互粘合的上板92和下板94、形成在上板92上的具有電磁波干擾膜88的等離子顯示器90、偏離地安裝在等離子顯示器90的玻璃型光學(xué)過(guò)濾器100。
等離子顯示器90包括的上板92和下板94在內(nèi)部準(zhǔn)備氣體放電空間，并相互粘合，還利用氣體放電，顯示畫(huà)像。
在上板92的上面，磁波干擾膜88具有通過(guò)上述的絲網(wǎng)印刷法或噴墨法，形成的導(dǎo)電性網(wǎng)絲和幀或?qū)щ娦跃W(wǎng)絲之類的導(dǎo)電性模式，切斷等離子顯示器90向外放射電磁波。上述導(dǎo)電性模式形成之前，這樣的電磁波干擾膜88也有可能追加具有上板92上形成的片基或透明導(dǎo)電膜或片基和透明導(dǎo)電膜。
玻璃型光學(xué)過(guò)濾器110具有支持玻璃型整面過(guò)濾器110的玻璃基板106、粘在玻璃基板106的一個(gè)側(cè)面，為吸收等離子顯示器90放射的近紅外線的近紅外線干擾膜104、粘在近紅外線干擾膜104，并包括為調(diào)節(jié)色澤的色調(diào)染料的色糾正膜102、各自粘在玻璃基板106和色糾正膜102上，防止外部光線反射的第1和第2抗反射膜108、109。具有這一構(gòu)成的玻璃型光學(xué)過(guò)濾器110與形成電磁波干擾膜88的等離子顯示器90隔著一定距離，設(shè)在等離子顯示器套準(zhǔn)備的單獨(dú)的支持副材料(沒(méi)有圖示)。
圖14是步驟性地說(shuō)明圖13所示的等離子顯示器模塊制造方法的流程圖；圖15a至圖15c是步驟性地表示這一制造方法的截面圖。
首先，在步驟40-S40，如圖15a所示那樣，準(zhǔn)備上板92和下板94粘合的等離子顯示器90。
接著，在步驟42-S42，如圖15b所示那樣，在等離子顯示器90的上板92，通過(guò)上述的絲網(wǎng)印刷法或噴墨法，把金屬漿糊形成為具有導(dǎo)電性模式的電磁波干擾膜88。這時(shí)，導(dǎo)電性模式只具有旨在透射可視光線和旨在切斷電磁波的導(dǎo)電性網(wǎng)絲或追加具有從外圍支持導(dǎo)電性網(wǎng)絲的幀。另外，上述導(dǎo)電性模式形成之前，電磁波干擾膜88也有可能追加具有上板92上形成的片基或透明導(dǎo)電膜或片基和透明導(dǎo)電膜。
在下一個(gè)步驟44-S44，如圖15c所示那樣，具有第2抗反射膜109、色糾正膜102、近紅外線干擾膜104、玻璃基板106、第1抗反射膜108依次重疊結(jié)構(gòu)的玻璃型光學(xué)過(guò)濾器110與形成電磁波干擾膜88的等離子顯示器90隔著一定距離，設(shè)在等離子顯示器套準(zhǔn)備的單獨(dú)的支持副材料(沒(méi)有圖示)上。
通過(guò)上述說(shuō)明的內(nèi)容，相關(guān)工作人員完全可以在不偏離本項(xiàng)發(fā)明技術(shù)思想的范圍內(nèi)，進(jìn)行多樣的變更以及修改。因此，本項(xiàng)發(fā)明的技術(shù)性范圍并不局限于說(shuō)明書(shū)上的內(nèi)容，必須要根據(jù)權(quán)利范圍來(lái)確定其技術(shù)性范圍。
權(quán)利要求
1.電磁波干擾膜制造方法，包括準(zhǔn)備片基；在上述片基上，利用絲網(wǎng)印刷法或噴墨法中的一個(gè)，形成導(dǎo)電性模式。
2.如權(quán)利要求1所述的電磁波干擾膜制造方法，其特征在于，形成上述導(dǎo)電性模式的步驟包括在上述片基上，把金屬漿糊形成為所愿意模式，和燒成上述形成的金屬漿糊。
3.如權(quán)利要求1所述的電磁波干擾膜制造方法，其特征在于，形成上述導(dǎo)電性模式的步驟包括形成導(dǎo)電性網(wǎng)絲。
4.如權(quán)利要求1所述的電磁波干擾膜制造方法，其特征在于，形成上述導(dǎo)電性模式的步驟是追加包括形成從外圍支持上述導(dǎo)電性網(wǎng)絲的幀。
5.如權(quán)利要求1所述的電磁波干擾膜制造方法，其特征在于，追加包括形成上述導(dǎo)電性模式之前，在上述片基上，形成透明導(dǎo)電膜。
6.顯示器模塊，包括顯示器；形成在上述顯示器上面，防止上述顯示器電磁波放射的導(dǎo)電性模式的電磁波干擾膜；粘在上述電磁波干擾膜上的膠片型光學(xué)過(guò)濾器。
7.顯示器模塊，包括顯示器；形成在上述顯示器上面，防止上述顯示器電磁波放射的導(dǎo)電性模式的電磁波干擾膜；偏離地設(shè)在上述電磁波干擾膜上的玻璃型光學(xué)過(guò)濾器。
8.如權(quán)利要求項(xiàng)6或7中的任何一項(xiàng)所述的顯示器模塊，其特征在于，上述導(dǎo)電性模式是具有導(dǎo)電性網(wǎng)絲。
9.如權(quán)利要求項(xiàng)6或7中的任何一項(xiàng)所述的顯示器模塊，其特征在于，上述導(dǎo)電性模式是追加具有從外圍支持上述導(dǎo)電性網(wǎng)絲的幀。
10.如權(quán)利要求項(xiàng)6或7中的任何一項(xiàng)所述的顯示器模塊，其特征在于，上述電磁波干擾膜是至少追加具有上述導(dǎo)電性模式和上述顯示器之間形成的片基和透明導(dǎo)電膜中的一個(gè)。
11.顯示器模塊制造方法，包括準(zhǔn)備顯示器；在上述顯示器的上面，形成包括旨在防止上述顯示器電磁波放射的導(dǎo)電性模式的電磁波干擾膜；在上述電磁波干擾膜上，粘上膠片型光學(xué)過(guò)濾器。
12.顯示器模塊制造方法，包括準(zhǔn)備顯示器；在上述顯示器上面，形成包括旨在防止上述顯示器電磁波放射的導(dǎo)電性模式的電磁波干擾膜；在上述電磁波干擾膜上，偏離地安裝玻璃型光學(xué)過(guò)濾器。
13.如權(quán)利要求項(xiàng)11或12中的任何一項(xiàng)所述的顯示器模塊制造方法，其特征在于，上述形成電磁波干擾膜的步驟包括利用上述絲網(wǎng)印刷法和噴墨法中的一個(gè)，把金屬漿糊形成在上述顯示器上面；燒成上述形成的金屬漿糊，形成上述導(dǎo)電性模式。
14.如權(quán)利要求項(xiàng)11或12中的任何一項(xiàng)所述的顯示器模塊制造方法，其特征在于，上述形成電磁波干擾膜的步驟包括形成導(dǎo)電性網(wǎng)絲。
15.如權(quán)利要求項(xiàng)14所述的顯示器模塊制造方法，其特征在于，上述形成電磁波干擾膜的步驟進(jìn)一步包括形成從外圍支持上述導(dǎo)電性網(wǎng)絲的幀。
16.如權(quán)利要求項(xiàng)11或12中的任何一項(xiàng)所述的顯示器模塊制造方法，其特征在于，上述形成電磁波干擾膜的階段步驟進(jìn)一步包括上述導(dǎo)電生模式之前，在上述顯示器的上面，至少形成片基和透明導(dǎo)電膜中一個(gè)。
全文摘要
本發(fā)明是提供可以減少工程數(shù)和所需材料損失的電磁波干擾膜制造方法和利用此方法的顯示器模塊以及其制造方法。本發(fā)明的電磁波干擾膜制造方法是包括準(zhǔn)備片基(Base Film)的步驟、在上述片基上，利用絲網(wǎng)印刷(Screen Printing)法和噴墨(Ink Jet)法中的一個(gè)，形成導(dǎo)電性模式的步驟為特點(diǎn)。
文檔編號(hào)G12B17/02GK1756473SQ20041006691
公開(kāi)日2006年4月5日 申請(qǐng)日期2004年9月30日 優(yōu)先權(quán)日2004年9月30日
發(fā)明者林鐘來(lái) 申請(qǐng)人:南京Lg同創(chuàng)彩色顯示系統(tǒng)有限責(zé)任公司