專利名稱：有機發(fā)光顯示面板的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及一種顯示面板，特別是一種有機發(fā)光顯示面板。
背景技術：
近年來平面顯示器朝著高亮度、平面化、輕薄以及省能源的趨勢發(fā)展，有鑒于此，有機發(fā)光(OEL)顯示裝置成為目前光電產(chǎn)業(yè)中極欲發(fā)展的方向之一。有機發(fā)光顯示裝置是一種利用有機官能性材料(organic functional materials)的自發(fā)光的特性來達到顯示效果的裝置，依照有機官能性材料的分子量不同，可分為小分子有機發(fā)光顯示裝置(small molecule OLED，SM-OLED)與高分子有機發(fā)光顯示裝置(polymer light-emitting device，PLED)兩大類。
由于有機發(fā)光元件(有機官能性材料)對于水氣與氧氣非常敏感，與大氣接觸后容易產(chǎn)生暗點(Dark Spot)，所以，為了確保有機發(fā)光元件的使用壽命，如圖1所示，目前的封裝方式是利用紫外光硬化樹脂51將封裝外殼52與有機發(fā)光裝置5的基板53相互封合，使有機發(fā)光元件54位于一密閉空間中。然而，此種裝置的體積較大，仍有改善空間，以符合輕、薄、短、小的趨勢，且于有機發(fā)光裝置5中，水氣與氧氣仍然可以經(jīng)由紫外光硬化樹脂51而入侵到裝置內(nèi)部，進而影響有機發(fā)光裝置5的壽命。
反觀另一種目前所使用的封裝方式，是利用濺鍍、電漿輔助化學氣相沉積(PECVD)或是電子束等方式將無機膜(如SixOy)直接沉積在有機發(fā)光元件上。然而，由于有機發(fā)光元件的表面并不平坦，使無機膜產(chǎn)生不連續(xù)的情形，更使得水氣與氧氣經(jīng)由膜層的孔隙入侵到元件內(nèi)部。為避免此一問題，如圖2所示，第一種解決方式是沉積一層厚度非常厚(約0.1微米至10微米)的無機膜61來包覆整個有機發(fā)光元件62，然而過厚的無機膜61其膨脹或是收縮能力會受到限制，因而產(chǎn)生內(nèi)應力，嚴重時更有可能造成無機膜61剝離脫膜的情況。另外，如圖3所示，第二種解決方式是于無機膜61之上蒸鍍或是涂布上一層有機層63當作緩沖層(buffer layer)使用，然而，有機層耐熱能力較差，在高溫環(huán)境下可能會龜裂而導致防水層失效，再者，若是用涂布的方式，未硬化前的有機層63中的溶劑以及水氣有可能會侵蝕有機發(fā)光元件62，且硬化后的有機層63亦有可能發(fā)生除氣(outgassing)的現(xiàn)象。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于克服現(xiàn)有技術的不足與缺陷，提供一種阻止水氣以及氧氣入侵的有機發(fā)光顯示面板。
為達上述目的，依本發(fā)明的一種有機發(fā)光顯示面板，包含一基板、至少一有機發(fā)光區(qū)以及至少一保護層，其中有機發(fā)光區(qū)形成于基板之上，且有機發(fā)光區(qū)具有至少一像素；保護層的至少一層是以光化學氣相沉積法形成于基板與有機發(fā)光區(qū)之上。
為達上述目的，依本發(fā)明的一種有機發(fā)光顯示面板，包含一基板、至少一有機發(fā)光區(qū)、至少一保護層以及至少一阻隔層，其中，有機發(fā)光區(qū)形成于基板之上，且有機發(fā)光區(qū)具有至少一像素；保護層的至少一層是以光化學氣相沉積法形成于基板與有機發(fā)光區(qū)之上；阻隔層形成于保護層之上。
為達上述目的，依本發(fā)明的一種有機發(fā)光顯示面板，包含一基板、至少一有機發(fā)光區(qū)、至少一保護層、一第一阻隔層、一第二阻隔層以及一第三阻隔層，其中，有機發(fā)光區(qū)形成于基板之上，且有機發(fā)光區(qū)具有至少一像素；保護層的至少一層是以光化學氣相沉積法形成于基板與有機發(fā)光區(qū)之上；第一阻隔層形成于保護層之上；第二阻隔層形成于第一阻隔層之上；第三阻隔層形成于第二阻隔層之上，且第二阻隔層的楊氏模數(shù)(Young′s module)小于第一阻隔層與第三阻隔層的楊氏模數(shù)。
為達上述目的，依本發(fā)明的一種有機發(fā)光顯示面板，包含一基板、至少一有機發(fā)光區(qū)、至少一保護層、至少一阻隔層組以及一封合層，其中，有機發(fā)光區(qū)形成于基板之上，且有機發(fā)光區(qū)具有至少一像素；保護層的至少一層是以光化學氣相沉積法形成于基板與有機發(fā)光區(qū)之上；阻隔層組形成于保護層之上，阻隔層組依序包含一第一阻隔層與一第二阻隔層，第一阻隔層的楊氏模數(shù)大于第二阻隔層的楊氏模數(shù)；封合層形成于阻隔層組之上。
承上所述，于本發(fā)明的有機發(fā)光顯示面板中，利用光化學氣相沉積法于基板以及有機發(fā)光區(qū)上形成至少一保護層。與現(xiàn)有技術相比，利用光化學氣相沉積法形成保護層不僅可以在低溫(約300℃以下)下提供足夠的成膜速率，又，由于低溫所形成的膜層結(jié)構(gòu)較為松散，可減低膜層的內(nèi)應力，更可減少膜層剝落的可能性。再者，由于保護層具有防止水氣與氧氣入侵的功能，亦可確保有機發(fā)光顯示面板的使用壽命。另外，保護層具有一平坦表面，擁有平坦化的功能，使得后續(xù)所形成的膜層(如阻隔層)不會因為表面不平整而發(fā)生不連續(xù)的情形。又，本發(fā)明于保護層上更形成有一層或多層的阻隔層，亦可再進一步防止水氣與氧氣入侵到元件內(nèi)部。且，本發(fā)明中的多層阻隔層更可由具有不同楊氏模數(shù)的阻隔層所組成，將具有較低楊氏模數(shù)的阻隔層夾置于具有較高楊氏模數(shù)的阻隔層之間以產(chǎn)生緩沖的作用，以降低阻隔層之間的應力。綜上所述，本發(fā)明的有機發(fā)光顯示面板不僅制程時間短、制程溫度低，且利用光化學氣相沉積法所形成的保護層的內(nèi)應力極低，可以避免剝離脫膜的情況，具有極高的元件可靠度，同時，保護層對于不平坦的有機發(fā)光區(qū)的包覆性亦佳，可有效避免水氣與氧氣入侵到元件內(nèi)部。又，保護層具有平坦化的功能，使后續(xù)形成在保護層上的膜層具有良好的均勻性。另外，本發(fā)明于保護層上更可形成一層或數(shù)層的阻隔層，亦可再進一步防止水氣與氧氣入侵到元件內(nèi)部，以提高有機發(fā)光顯示面板的使用壽命。


圖1為現(xiàn)有有機發(fā)光元件的封裝方式的一實施示意圖；圖2為現(xiàn)有有機發(fā)光元件的封裝方式的另一實施示意圖；圖3為現(xiàn)有有機發(fā)光元件的封裝方式的再一實施示意圖；圖4為本發(fā)明第一實施例中有機發(fā)光顯示面板的一示意圖；圖5為本發(fā)明第二實施例中有機發(fā)光顯示面板的一示意圖；圖6為本發(fā)明第三實施例中有機發(fā)光顯示面板的一示意圖；圖7為本發(fā)明第三實施例中有機發(fā)光顯示面板的另一示意圖；圖8為本發(fā)明第四實施例中有機發(fā)光顯示面板的一示意圖。
圖中符號說明1 有機發(fā)光顯示面板11基板12有機發(fā)光區(qū)121 像素1211 第一電極1212 有機官能層1213 第二電極13保護層14阻隔層2 有機發(fā)光顯示面板21基板22有機發(fā)光區(qū)221 像素2211 第一電極2212 有機官能層2213 第二電極23保護層
24、241、242、243阻隔層3 有機發(fā)光顯示面板31基板32有機發(fā)光區(qū)321 像素3211 第一電極3212 有機官能層3213 第二電極33保護層34第一阻隔層35第二阻隔層36第三阻隔層37第四阻隔層38第五阻隔層39緩沖層4 有機發(fā)光顯示面板41基板42有機發(fā)光區(qū)421 像素4211 第一電極4212 有機官能層4213 第二電極43保護層44阻隔層組441 第一阻隔層442 第二阻隔層45封合層5 有機發(fā)光裝置51紫外光硬化樹脂52封裝外殼
53基板54有機發(fā)光元件61無機膜62有機發(fā)光元件63有機層具體實施方式
以下將參照相關附圖，說明依本發(fā)明較佳實施例的有機發(fā)光顯示面板，其中相同的元件將以相同的參照符號加以說明。
第一實施例如圖4所示，依據(jù)本發(fā)明第一實施例的有機發(fā)光顯示面板1，包含一基板11、至少一有機發(fā)光區(qū)12以及至少一保護層13，其中有機發(fā)光區(qū)12形成于基板11之上，且有機發(fā)光區(qū)12具有至少一像素121；保護層13的至少一層是以光化學氣相沉積法形成于基板11與有機發(fā)光區(qū)12之上。
如圖4所示，本實施例的基板11可以是柔性(flexible)基板或是剛性(rigid)基板。另外，基板11亦可以是塑料(plastic)基板或是玻璃基板等等。其中，柔性基板與塑料基板可為聚碳酸酯(polycarbonate，PC)基板、聚酯(polyester，PET)基板、環(huán)烯共聚物(cyclic olefin copolymer，COC)基板或金屬鉻合物基材-環(huán)烯共聚物(metallocene-based cyclic olefin copolymer，mCOC)基板。當然，基板11亦可以是硅基板。
另外，再請參考圖4，像素121依序包含一第一電極1211、至少一有機官能層1212及一第二電極1213，而第一電極1211位于基板11之上。
于本實施例中，第一電極1211是利用濺鍍(sputtering)方式或是離子電鍍(ion plating)方式形成于基板11上。在此，第一電極1211通常作為陽極且其材質(zhì)通常為一透明的可導電的金屬氧化物，例如氧化銦錫(ITO)、氧化鋁鋅(AlZnO)或是氧化銦鋅(IZO)。
另外，有機官能層1212通常包含一電洞注入層、一電洞傳遞層、一發(fā)光層、一電子傳遞層以及一電子注入層(圖中未顯示)。其中，有機官能層1212利用蒸鍍(evaporation)、旋轉(zhuǎn)涂布(spin coating)、噴墨印刷(ink jet printing)或是印刷(printing)等方式形成于第一電極1211上。此外，有機官能層1212所發(fā)射的光線可為藍光、綠光、紅光、白光、其它的單色光或單色光組合成的彩色光。
再請參考圖4，第二電極1213位于有機官能層1212上。于此，第二電極1213是使用蒸鍍或是濺鍍(sputtering)等方法形成于有機官能層1212上。另外，第二電極1213的材質(zhì)可選自但不限定為鋁(Al)、鈣(Ca)、鎂(Mg)、銦(In)、錫(Sn)、錳(Mn)、銀(Ag)、金(Au)及含鎂的合金(例如鎂銀(Mg:Ag)合金、鎂銦(Mg:In)合金、鎂錫(Mg:Sn)合金、鎂銻(Mg:Sb)合金及鎂碲(Mg:Te)合金)等。
接著，再請參考圖4，保護層13的至少一層是以光化學氣相沉積法形成于基板11與有機發(fā)光區(qū)12之上。于此，光化學氣相沉積法為真空紫外光(Vacuum Ultra-Violet，VUV)化學氣相沉積法。由于光化學氣相沉積法利用光子來分解激發(fā)反應氣體，所以反應得以在低溫(約300℃以下)下進行。另外，于本實施例中，由于光化學氣相沉積法所形成的保護層13結(jié)構(gòu)較為松散，可降低膜層的內(nèi)應力，所以能夠避免保護層13剝離脫落。
再請參考圖4，本實施例中的保護層13具有防水以及防氧的功能，可保護有機發(fā)光區(qū)12不受水氣與氧氣的影響。再者，保護層13亦用以包覆不平坦的有機發(fā)光區(qū)12，作為平坦化之用，使后續(xù)形成于保護層13上的膜層(如圖4中的阻隔層14)具有較佳的均勻性，而不會發(fā)生不連續(xù)的情形。同時，保護層13更可包覆制程中所存在的微塵粒子。于此，保護層13為無機材質(zhì)，且保護層13選自氧化硅(SiOx)、氮化硅(SiNx)、氮氧化硅(SiOxNy)、三氧化二鋁(Al2O3)以及類鉆石薄膜(Diamond Like Carbon，DLC)至少其中之一。
另外，再請參照圖4，本實施例的有機發(fā)光顯示面板1更包含至少一阻隔層14，阻隔層14形成于保護層13之上。其中，阻隔層14的至少一層可以光化學氣相沉積法形成。當然，阻隔層14的至少一層亦可以濺鍍法形成。
請參照圖4，本實施例的阻隔層14為無機材質(zhì)，其中，阻隔層14選自氧化硅、氮化硅、氮氧化硅、三氧化二鋁、類鉆石薄膜及金屬(包括但不限于鋁、銅、金以及銀)至少其中之一。于此，阻隔層14具有防水性，可進一步提高有機發(fā)光顯示面板1的可靠度。
第二實施例另外，如圖5所示，依據(jù)本發(fā)明第二實施例的有機發(fā)光顯示面板2，包含一基板21、至少一有機發(fā)光區(qū)22、至少一保護層23以及至少一阻隔層24，其中，有機發(fā)光區(qū)22形成于基板21之上，且有機發(fā)光區(qū)22具有至少一像素221；保護層23的至少一層是以光化學氣相沉積法形成于基板21與有機發(fā)光區(qū)22之上；阻隔層24形成于保護層23之上。
本實施例中的像素221依序包含一第一電極2211、至少一有機官能層2212及一第二電極2213，而第一電極2211位于基板21之上。
本實施例中的基板21、有機發(fā)光區(qū)22、像素221、第一電極2211、有機官能層2212、第二電極2213以及保護層23的特征與功能與第一實施例中的相同元件相同，在此不再贅述。
另外，如圖5所示，數(shù)個阻隔層24形成于保護層23之上。于此，阻隔層24的至少一層是以光化學氣相沉積法制成。當然，阻隔層24的至少一層亦可以濺鍍法制成。
于本實施例中，阻隔層24為無機材質(zhì)，其中，阻隔層24選自氧化硅、氮化硅、氮氧化硅、三氧化二鋁、類鉆石薄膜及金屬(包括但不限于鋁、銅、金以及銀)至少其中之一。
再者，本實施例的阻隔層24可同時具有防水性以及緩沖功能。例如如圖5所示，阻隔層241、243(材質(zhì)如氮化硅、氮氧化硅、三氧化二鋁、類鉆石薄膜及金屬(例如鋁、銅、金以及銀))具有極高的防水性，能夠有效防止水氣以及氧氣的入侵；而位于阻隔層241、243之間的阻隔層242(材質(zhì)如氧化硅)則具有較小的機械強度，使其具有緩沖功能，能夠有效地降低阻隔層24的內(nèi)應力。此種多層次結(jié)構(gòu)能夠錯開阻隔層24之間孔隙的位置，有效地補償膜層的缺陷，另外更使得水氣的穿透路徑增長，進一步加強防水的效果。
第三實施例另外，如圖6所示，依據(jù)本發(fā)明第三實施例的有機發(fā)光顯示面板3，包含一基板31、至少一有機發(fā)光區(qū)32、至少一保護層33、一第一阻隔層34、一第二阻隔層35以及一第三阻隔層36，其中，有機發(fā)光區(qū)32形成于基板31之上，且有機發(fā)光區(qū)32具有至少一像素321；保護層33的至少一層是以光化學氣相沉積法形成于基板31與有機發(fā)光區(qū)32之上；第一阻隔層34形成于保護層33之上；第二阻隔層35形成于第一阻隔層34之上；第三阻隔層36形成于第二阻隔層35之上，且第二阻隔層35的楊氏模數(shù)(Young′s module)小于第一阻隔層34與第三阻隔層36的楊氏模數(shù)。
本實施例中的像素321包含一第一電極3211、至少一有機官能層3212以及一第二電極3213，而第一電極3211位于基板31之上。
本實施例中的基板31、有機發(fā)光區(qū)32、像素321、第一電極3211、有機官能層3212、第二電極3213以及保護層33的特征與功能與第一實施例中的相同元件相同，在此亦不再贅述。
另外，如圖6所示，本實施例的有機發(fā)光顯示面板3更包含一第四阻隔層37，第四阻隔層37形成于第三阻隔層36之上，且第四阻隔層37的楊氏模數(shù)小于第三阻隔層36的楊氏模數(shù)。
另外，如圖6所示，本實施例的有機發(fā)光顯示面板3更包含一第五阻隔層38，第五阻隔層38形成于第四阻隔層37之上，且第五阻隔層38的楊氏模數(shù)大于第四阻隔層37的楊氏模數(shù)。
于本實施例中，第一阻隔層34、第二阻隔層35、第三阻隔層36、第四阻隔層37與第五阻隔層38的其中至少一層是以光化學氣相沉積法制成。當然，阻隔層34、35、36、37、38的其中至少一層亦可以濺鍍法制成。
另外，于本實施例中，阻隔層34、35、36、37、38為無機材質(zhì)，其中，阻隔層34、35、36、37、38選自氧化硅、氮化硅、氮氧化硅、三氧化二鋁、類鉆石薄膜及金屬(包括但不限于鋁、銅、金以及銀)至少其中之一。
再者，本實施例的阻隔層34、35、36、37、38具有防水性，而具有較小楊氏膜數(shù)的第二阻隔層35與第四阻隔層37亦具有緩沖性。例如如圖6所示，阻隔層34、36、38(材質(zhì)如氮化硅、氮氧化硅、三氧化二鋁、類鉆石薄膜及金屬(例如鋁、銅、金以及銀))具有極高的防水性，能夠有效防止水氣以及氧氣的入侵；而夾置于阻隔層34、36、38之間的阻隔層35、37(材質(zhì)如氧化硅)則具有較小的機械強度，使其具有緩沖功能，能夠有效地降低阻隔層34、36、38的內(nèi)應力。此種多層次結(jié)構(gòu)能夠錯開阻隔層34、35、36、37、38之間孔隙的位置，有效地補償膜層的缺陷，另外更使得水氣的穿透路徑增長，進一步加強防水的效果。
另外，如圖7所示，本實施例的有機發(fā)光面板3更包含一緩沖層39，緩沖層39位于保護層33與第一阻隔層34之間，可用以降低第一阻隔層34與保護層33之間的應力。
第四實施例另外，如圖8所示，依據(jù)本發(fā)明第四實施例的有機發(fā)光顯示面板4包含一基板41、至少一有機發(fā)光區(qū)42、至少一保護層43、至少一阻隔層組44以及一封合層45，其中；有機發(fā)光區(qū)42形成于基板41之上，且有機發(fā)光區(qū)42具有至少一像素421；保護層43的至少一層是以光化學氣相沉積法形成于基板41與有機發(fā)光區(qū)42之上；阻隔層組44形成于保護層43之上，阻隔層組44依序包含一第一阻隔層441與一第二阻隔層442，第一阻隔層441的楊氏模數(shù)大于第二阻隔層442的楊氏模數(shù)；封合層45形成于阻隔層組44之上。
本實施例中的像素421包含一第一電極4211、至少一有機官能層4212以及一第二電極4213，而第一電極4211位于基板41之上。
于本實施例中，基板41、有機發(fā)光區(qū)42、像素421、第一電極4211、有機官能層4212、第二電極4213、保護層43的特征與功能與第一實施例中的相同元件相同，在此亦不再贅述。
如圖8所示，阻隔層組44依序包含第一阻隔層441與第二阻隔層442，第一阻隔層441的楊氏模數(shù)大于第二阻隔層442的楊氏模數(shù)。于此，阻隔層組可以是一層或是數(shù)層(兩層，如圖8中所示)。另外，阻隔層組44為無機材質(zhì)，且第一阻隔層441與第二阻隔層442分別選自氧化硅、氮化硅、氮氧化硅、三氧化二鋁、類鉆石薄膜及金屬(包括但不限定為鋁、銅、金及銀)至少其中之一。
同時，第一阻隔層441與第二阻隔層442具有防水性，且第一阻隔層441與第二阻隔層442的其中至少一層是以光化學氣相沉積法形成。當然，第一阻隔層441與第二阻隔層442的其中至少一層亦可以濺鍍法形成。
再請參照圖8，本實施例中的封合層45用以阻絕水氣與氧氣入侵有機發(fā)光區(qū)42。于此，封合層45為無機材質(zhì)且選自氧化硅、氮化硅、氮氧化硅、三氧化二鋁、類鉆石薄膜及金屬(包括但不限定為鋁、銅、金及銀)至少其中之一。另外，封合層45具有防水性，且封合層45可以光化學氣相沉積法或濺鍍法形成。
本實施例的有機發(fā)光顯示面板4更包含一緩沖層(未示于圖中)，位于保護層43與第一阻隔層441之間。于此，緩沖層可用以降低第一阻隔層441與保護層43之間的應力。
于本發(fā)明的有機發(fā)光顯示面板中，利用光化學氣相沉積法于基板以及有機發(fā)光區(qū)上形成至少一保護層。與現(xiàn)有技術相比，利用光化學氣相沉積法形成保護層不僅可以在低溫(約300℃以下)環(huán)境提供足夠的成膜速率，又，由于低溫所形成的膜層結(jié)構(gòu)較為松散，可減低膜層的內(nèi)應力，更可減少膜層剝落的可能性。再者，由于保護層具有防止水氣與氧氣入侵的功能，亦可確保有機發(fā)光顯示面板的使用壽命。另外，保護層具有一平坦表面，擁有平坦化的功能，使得后續(xù)所形成的膜層(如阻隔層)不會因為表面不平整而發(fā)生不連續(xù)的情形。又，本發(fā)明于保護層上更形成有一層或多層的阻隔層，亦可再進一步防止水氣與氧氣入侵到元件內(nèi)部。且，本發(fā)明中的多層阻隔層更可由具有不同楊氏模數(shù)的阻隔層所組成，將具有較低楊氏模數(shù)的阻隔層夾置于具有較高楊氏模數(shù)的阻隔層之間以產(chǎn)生緩沖的作用，以降低阻隔層之間的應力。綜上所述，本發(fā)明的有機發(fā)光顯示面板不僅制程時間短、制程溫度低，且利用光化學氣相沉積法所形成的保護層的內(nèi)應力極低，可以避免剝離脫膜的情況，具有極高的元件可靠度，同時，保護層對于不平坦的有機發(fā)光區(qū)的包覆性亦佳，可有效避免水氣與氧氣入侵到元件內(nèi)部。又，保護層具有平坦化的功能，使后續(xù)形成在保護層上的膜層具有良好的均勻性。另外，本發(fā)明于保護層上更可形成一層或數(shù)層的阻隔層，亦可再進一步防止水氣與氧氣入侵到元件內(nèi)部，以提高有機發(fā)光顯示面板的使用壽命。
以上所述僅為舉例性，而非為限制性。任何未脫離本發(fā)明的精神與范疇，而對其進行的等效修改或變更，均應包含于權(quán)利要求書的范圍中。
權(quán)利要求
1.一種有機發(fā)光顯示面板，其特征在于，包含一基板；至少一有機發(fā)光區(qū)，形成于基板之上，且有機發(fā)光區(qū)具有至少一像素；以及至少一保護層，保護層的至少一層是以光化學氣相沉積法形成于基板與有機發(fā)光區(qū)之上。
2.如權(quán)利要求1所述的有機發(fā)光顯示面板，其中，像素依序包含一第一電極、至少一有機官能層及一第二電極。
3.如權(quán)利要求1所述的有機發(fā)光顯示面板，其中，保護層為無機材質(zhì)。
4.如權(quán)利要求3所述的有機發(fā)光顯示面板，其中，保護層選自氧化硅、氮化硅、氮氧化硅、三氧化二鋁及類鉆石薄膜至少其中之一。
5.如權(quán)利要求1所述的有機發(fā)光顯示面板，更包含至少一阻隔層，其形成于保護層之上。
6.如權(quán)利要求5所述的有機發(fā)光顯示面板，其中，阻隔層為無機材質(zhì)。
7.如權(quán)利要求6所述的有機發(fā)光顯示面板，其中，阻隔層選自氧化硅、氮化硅、氮氧化硅、三氧化二鋁、類鉆石薄膜及金屬至少其中之一。
8.如權(quán)利要求7所述的有機發(fā)光顯示面板，其中，金屬包括但不限定為鋁、銅、金及銀。
9.如權(quán)利要求5所述的有機發(fā)光顯示面板，其中，阻隔層具有防水性。
10.如權(quán)利要求5所述的有機發(fā)光顯示面板，其中，阻隔層的至少一層是以光化學氣相沉積法或是以濺鍍法形成。
11.一種有機發(fā)光顯示面板，其特征在于，至少包含一基板；至少一有機發(fā)光區(qū)，形成于基板之上，且有機發(fā)光區(qū)具有至少一像素；至少一保護層，保護層的至少一層是以光化學氣相沉積法形成于基板與有機發(fā)光區(qū)之上；以及至少一阻隔層，形成于保護層之上。
12.如權(quán)利要求11所述的有機發(fā)光顯示面板，其中，像素依序包含一第一電極、至少一有機官能層及一第二電極。
13.如權(quán)利要求11所述的有機發(fā)光顯示面板，其中，保護層為無機材質(zhì)。
14.如權(quán)利要求13所述的有機發(fā)光顯示面板，其中，保護層選自氧化硅、氮化硅、氮氧化硅、三氧化二鋁及類鉆石薄膜至少其中之一。
15.如權(quán)利要求11所述的有機發(fā)光顯示面板，其中，阻隔層為無機材質(zhì)。
16.如權(quán)利要求15所述的有機發(fā)光顯示面板，其中，阻隔層選自氧化硅、氮化硅、氮氧化硅、三氧化二鋁、類鉆石薄膜及金屬至少其中之一。
17.如權(quán)利要求16所述的有機發(fā)光顯示面板，其中，金屬包括但不限定為鋁、銅、金及銀。
18.如權(quán)利要求11所述的有機發(fā)光顯示面板，其中，阻隔層具有防水性。
19.如權(quán)利要求11所述的有機發(fā)光顯示面板，其中，阻隔層的至少一層是以光化學氣相沉積法或是以濺鍍法形成。
20.一種有機發(fā)光顯示面板，其特征在于，至少包含一基板；至少一有機發(fā)光區(qū)，形成于基板之上，且有機發(fā)光區(qū)具有至少一像素；至少一保護層，保護層的至少一層是以光化學氣相沉積法形成于基板與有機發(fā)光區(qū)之上；至少一阻隔層組，形成于保護層之上，阻隔層組依序包含一第一阻隔層與一第二阻隔層，第一阻隔層的楊氏模數(shù)大于第二阻隔層的楊氏模數(shù)；以及一封合層，形成于阻隔層組之上。
21.如權(quán)利要求20所述的有機發(fā)光顯示面板，其中，封合層的楊氏模數(shù)大于第二阻隔層的楊氏模數(shù)。
22.如權(quán)利要求20所述的有機發(fā)光顯示面板，其中，像素依序包含一第一電極、至少一有機官能層及一第二電極。
23.如權(quán)利要求20所述的有機發(fā)光顯示面板，其中，保護層為無機材質(zhì)。
24.如權(quán)利要求23所述的有機發(fā)光顯示面板，其中，保護層選自氧化硅、氮化硅、氮氧化硅、三氧化二鋁及類鉆石薄膜至少其中之一。
25.如權(quán)利要求20所述的有機發(fā)光顯示面板，其中，阻隔層組與封合層為無機材質(zhì)。
26.如權(quán)利要求25所述的有機發(fā)光顯示面板，其中，阻隔層組與封合層分別選自氧化硅、氮化硅、氮氧化硅、三氧化二鋁、類鉆石薄膜及金屬至少其中之一。
27.如權(quán)利要求26所述的有機發(fā)光顯示面板，其中，金屬包括但不限定為鋁、銅、金及銀。
28.如權(quán)利要求20所述的有機發(fā)光顯示面板，其中，阻隔層組與封合層具有防水性。
29.如權(quán)利要求20所述的有機發(fā)光顯示面板，其中，第一阻隔層、第二阻隔層與封合層的其中至少一層是以光化學氣相沉積法或是以濺鍍法形成。
30.如權(quán)利要求20所述的有機發(fā)光顯示面板，更包含一緩沖層，位于保護層與第一阻隔層之間。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種有機發(fā)光顯示面板，包含一基板、至少一有機發(fā)光區(qū)以及至少一保護層，其中有機發(fā)光區(qū)形成于基板之上，且有機發(fā)光區(qū)具有至少一像素；保護層的至少一層是以光化學氣相沉積法形成于基板與有機發(fā)光區(qū)之上。
文檔編號H05B33/04GK1612651SQ200310104418
公開日2005年5月4日 申請日期2003年10月29日 優(yōu)先權(quán)日2003年10月29日
發(fā)明者楊富祥, 李欣真, 吳志豪, 張毅 申請人:錸寶科技股份有限公司