本發(fā)明實施例涉及顯示面板，尤其涉及一種顯示面板及其制備方法及顯示裝置。

背景技術(shù)：

1、隨著顯示技術(shù)的發(fā)展，有源矩陣有機(jī)發(fā)光二極體(active-matrix?organiclight-emitting?diode，amoled)顯示屏的應(yīng)用越來越廣泛。

2、目前，手機(jī)必不可少的需要攝像頭，當(dāng)前多采用挖孔屏技術(shù)實現(xiàn)攝像頭的設(shè)置。然而，對顯示屏進(jìn)行挖孔會影響封裝效果。

技術(shù)實現(xiàn)思路

1、本發(fā)明提供一種顯示面板及其制備方法及顯示裝置，以實現(xiàn)有效封裝，改善屏幕因水氧入侵而失效的問題。

2、根據(jù)本發(fā)明的一方面，提供了一種顯示面板，包括開孔區(qū)和環(huán)繞所述開孔區(qū)的隔斷區(qū)；所述顯示面板還包括：

3、襯底；

4、多個隔離柱，設(shè)置于所述襯底的一側(cè)，并設(shè)置于所述隔斷區(qū)，各所述隔離柱環(huán)繞所述開孔區(qū)；相鄰的所述隔離柱之間具有預(yù)設(shè)間距，且至少兩個所述預(yù)設(shè)間距不相等。

5、可選地，各所述預(yù)設(shè)間距均不相等；

6、優(yōu)選的，各所述預(yù)設(shè)間距的大小沿所述開孔區(qū)至所述隔斷區(qū)的方向逐漸增大或逐漸減小；

7、優(yōu)選的，相鄰兩個所述預(yù)設(shè)間距之間的差值均相等。

8、可選地，多個所述隔離柱包括至少兩個隔離柱組，所述隔離柱組包括至少三個所述隔離柱；

9、位于同一所述隔離柱組中對應(yīng)的所述預(yù)設(shè)間距均相等，不同的所述隔離柱組對應(yīng)的所述預(yù)設(shè)間距不相等；

10、或者，沿所述開孔區(qū)至所述隔斷區(qū)的方向，位于同一所述隔離柱組中對應(yīng)的所述預(yù)設(shè)間距逐漸增大或逐漸減小，相鄰的所述隔離柱組對應(yīng)的所述預(yù)設(shè)間距變化趨勢相反。

11、可選地，該顯示面板還包括：環(huán)繞所述開孔區(qū)設(shè)置的第一封裝柱；

12、所述第一封裝柱設(shè)置于各所述隔離柱靠近所述開孔區(qū)的一側(cè)；

13、優(yōu)選的，所述第一封裝柱的高度大于所述隔離柱的高度；

14、優(yōu)選的，所述顯示面板還包括顯示區(qū)，所述顯示區(qū)位于所述隔斷區(qū)遠(yuǎn)離所述開孔區(qū)的一側(cè)；所述顯示面板還包括第二封裝柱，所述第二封裝柱位于各所述隔離柱靠近所述顯示區(qū)的一側(cè)；

15、優(yōu)選的，所述第二封裝柱的高度大于所述隔離柱的高度；

16、優(yōu)選的，所述第二封裝柱和相鄰的所述隔離柱之間的間距與各所述預(yù)設(shè)間距不完全相等。

17、可選地，沿所述襯底的厚度方向，所述隔離柱包括層疊設(shè)置的隔離部和檐部；所述檐部在所述襯底上的正投影覆蓋所述隔離部在所述襯底上的正投影；

18、優(yōu)選的，在所述隔離部和所述檐部相接的位置處，在所述開孔區(qū)至所述隔斷區(qū)的連線方向上，所述隔離部的尺寸小于所述檐部的尺寸，使所述隔離部與所述檐部之間具有尺寸差。

19、可選地，所述隔離部的厚度大于所述檐部的厚度；

20、優(yōu)選的，所述隔離部包括在所述襯底的厚度方向上相對設(shè)置的第一表面和第二表面，在所述開孔區(qū)至所述隔斷區(qū)的連線方向上，所述第二表面的尺寸小于所述第一表面的尺寸；

21、優(yōu)選的，所述隔離部的剖面形狀為正梯形。

22、可選地，至少兩個不同的所述隔離柱中，所述隔離部與所述檐部相接的位置處的所述尺寸差不相等；

23、優(yōu)選的，靠近所述開孔區(qū)的所述隔離柱的所述尺寸差大于或等于遠(yuǎn)離所述開孔區(qū)的所述隔離柱的所述尺寸差。

24、可選地，該顯示面板還包括：在所述襯底的一側(cè)層疊設(shè)置的陽極層和有機(jī)發(fā)光層，所述陽極層和所述有機(jī)發(fā)光層位于所述隔斷區(qū)和所述開孔區(qū)；

25、所述陽極層用于在刻蝕過程中調(diào)控所述隔離部與所述檐部之間的所述尺寸差；

26、所述有機(jī)發(fā)光層在各所述隔離柱的所述檐部的邊緣斷開；

27、優(yōu)選的，所述顯示面板還包括顯示區(qū)，所述陽極層和所述有機(jī)發(fā)光層還位于所述顯示區(qū)；

28、優(yōu)選的，所述顯示面板還包括所述襯底和所述陽極層之間的多層金屬層，所述隔離柱與至少一層所述金屬層位于同層。

29、根據(jù)本發(fā)明的另一方面，提供了一種顯示面板制備方法，包括：

30、提供襯底；

31、在所述襯底的一側(cè)表面形成多個隔離柱；其中，顯示面板包括開孔區(qū)和環(huán)繞所述開孔區(qū)的隔斷區(qū)；多個所述隔離柱設(shè)置于所述隔斷區(qū)，且環(huán)繞所述開孔區(qū)；相鄰的所述隔離柱之間具有預(yù)設(shè)間距，且至少兩個所述預(yù)設(shè)間距不相等；

32、優(yōu)選的，所述隔離柱包括層疊設(shè)置的隔離部和檐部；所述在所述襯底的一側(cè)表面形成多個隔離柱之后，還包括：

33、在所述襯底靠近所述隔離柱的一側(cè)表面形成陽極層；

34、采用濕刻工藝對所述隔斷區(qū)的所述陽極層進(jìn)行刻蝕，以調(diào)控所述隔離部與所述檐部之間的尺寸差；

35、在所述陽極層遠(yuǎn)離所述襯底的一側(cè)表面形成有機(jī)發(fā)光層；其中，所述有機(jī)發(fā)光層在各所述隔離柱的所述檐部的邊緣斷開。

36、根據(jù)本發(fā)明的另一方面，還提供了一種顯示裝置，包括如第一方面任意實施例所述的顯示面板。

37、本發(fā)明實施例提供的顯示面板設(shè)置有開孔區(qū)和環(huán)繞開孔區(qū)的隔斷區(qū)，在隔斷區(qū)設(shè)置有多個隔離柱。隔離柱用于將沉積于開孔區(qū)與像素單元之間的連續(xù)的蒸鍍材料膜層斷開，防止形成水氧傳輸路徑，有效阻隔了外界的水氧由開孔區(qū)進(jìn)入并沿連續(xù)膜層傳輸至像素單元。各隔離柱環(huán)繞開孔區(qū)以同心圓形式間隔設(shè)置，且各相鄰隔離柱之間具有不完全相等的預(yù)設(shè)間距。如此設(shè)置可在相應(yīng)的隔離柱位置，延長或縮短膜層覆蓋隔離柱的側(cè)面之前的緩沖距離，使膜層在隔離柱的側(cè)面具有一定的覆蓋面積和厚度，以在后續(xù)沉積有機(jī)發(fā)光材料之前對覆蓋在隔離柱側(cè)面的膜層進(jìn)行刻蝕時，使不同位置的隔離柱的側(cè)邊形成相應(yīng)的刻蝕尺寸，滿足依據(jù)實際需求確定的側(cè)邊刻蝕尺寸的設(shè)計要求，保證隔離柱的刻蝕形貌，從而有利于有效封裝，并改善外界水氧入侵導(dǎo)致顯示面板失效的問題。

38、應(yīng)當(dāng)理解，本部分所描述的內(nèi)容并非旨在標(biāo)識本發(fā)明的實施例的關(guān)鍵或重要特征，也不用于限制本發(fā)明的范圍。本發(fā)明的其它特征將通過以下的說明書而變得容易理解。

技術(shù)特征：

1.一種顯示面板，其特征在于，包括開孔區(qū)和環(huán)繞所述開孔區(qū)的隔斷區(qū)；所述顯示面板還包括：

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示面板，其特征在于，各所述預(yù)設(shè)間距均不相等；

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示面板，其特征在于，多個所述隔離柱包括至少兩個隔離柱組，所述隔離柱組包括至少三個所述隔離柱；

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示面板，其特征在于，還包括：環(huán)繞所述開孔區(qū)設(shè)置的第一封裝柱；

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示面板，其特征在于，沿所述襯底的厚度方向，所述隔離柱包括層疊設(shè)置的隔離部和檐部；所述檐部在所述襯底上的正投影覆蓋所述隔離部在所述襯底上的正投影；

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的顯示面板，其特征在于，所述隔離部的厚度大于所述檐部的厚度；

7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的顯示面板，其特征在于，至少兩個不同的所述隔離柱中，所述隔離部與所述檐部相接的位置處的所述尺寸差不相等；

8.根據(jù)權(quán)利要求5所述的顯示面板，其特征在于，還包括：在所述襯底的一側(cè)層疊設(shè)置的陽極層和有機(jī)發(fā)光層，所述陽極層和所述有機(jī)發(fā)光層位于所述隔斷區(qū)；

9.一種顯示面板制備方法，其特征在于，包括：

10.一種顯示裝置，其特征在于，包括如權(quán)利要求1-8任一項所述的顯示面板。

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明公開了一種顯示面板及其制備方法及顯示裝置。該顯示面板包括開孔區(qū)和環(huán)繞開孔區(qū)的隔斷區(qū)；該顯示面板還包括：襯底；多個隔離柱，設(shè)置于襯底的一側(cè)，并設(shè)置于隔斷區(qū)，各隔離柱環(huán)繞開孔區(qū)；相鄰的隔離柱之間具有預(yù)設(shè)間距，且至少兩個預(yù)設(shè)間距不相等。本發(fā)明實施例的技術(shù)方案有利于實現(xiàn)有效封裝，改善屏幕因水氧入侵而失效的問題。

技術(shù)研發(fā)人員：吳振剛
受保護(hù)的技術(shù)使用者：合肥維信諾科技有限公司
技術(shù)研發(fā)日：
技術(shù)公布日：2024/12/19