1.一種像素界定層制備方法，其特征在于：
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的像素界定層制備方法，其特征在于：在所述后曝光步驟，照射50mj/cm2至1000mj/cm2光化射線。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的像素界定層制備方法，其特征在于：所述后烘處理步驟以200至300℃實(shí)施。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的像素界定層制備方法，其特征在于：所述顯影步驟實(shí)施時(shí)間為30至60秒。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的像素界定層制備方法，其特征在于：在所述曝光步驟，照射70mj/cm2至140mj/cm2光化射線。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的像素界定層制備方法，其特征在于：所述預(yù)烘烤步驟的熱板溫度為80℃至150℃。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的像素界定層制備方法，其特征在于：所述預(yù)烘烤步驟的實(shí)施時(shí)間為60秒至180秒。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的像素界定層制備方法，其特征在于：所述顯影步驟后，half-tone厚度為1.25μm至2.20μm。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的像素界定層制備方法，其特征在于：所述顯影步驟后，full-tone厚度為3.20μm至3.42μm。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的像素界定層制備方法，其特征在于：所述感光性組合物包含著色劑。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的像素界定層制備方法，其特征在于：所述著色劑包含無(wú)機(jī)染料、有機(jī)染料、無(wú)機(jī)顏料及有機(jī)顏料中一種以上。
12.根據(jù)權(quán)利要求10所述的像素界定層制備方法，其特征在于：感光性組合物的總量中，所述著色劑的含量為1至40重量％。
13.根據(jù)權(quán)利要求10所述的像素界定層制備方法，其特征在于：所述著色劑利用分散劑；或水溶性無(wú)機(jī)鹽及潤(rùn)濕劑；進(jìn)行預(yù)處理。
14.根據(jù)權(quán)利要求10所述的像素界定層制備方法，其特征在于：所述著色劑的平均粒徑為20nm至110nm。
15.根據(jù)權(quán)利要求1所述的像素界定層制備方法，其特征在于：所述感光性組合物包含光刻用樹脂，該光刻用樹脂包含丙烯酸系粘結(jié)劑樹脂、cardo系粘結(jié)劑樹脂或其等的組合。
16.根據(jù)權(quán)利要求15所述的像素界定層制備方法，其特征在于：所述丙烯酸系粘結(jié)劑樹脂的重量平均分子量為3,000g/mol至150,000g/mol。
17.根據(jù)權(quán)利要求1所述的像素界定層制備方法，其特征在于：所述感光性組合物包含：在其總量中含量為1至40重量％的反應(yīng)性不飽和化合物。
18.一種根據(jù)權(quán)利要求1制備而成的像素界定層。
19.一種包括權(quán)利要求18所述像素界定層的有機(jī)發(fā)光顯示裝置。
20.一種電子裝置，其特征在于：包括權(quán)利要求19所述顯示裝置以及用于驅(qū)動(dòng)所述顯示裝置的控制部。